JP3039684B2

JP3039684B2 - 「磁気記録媒体」

Info

Publication number: JP3039684B2
Application number: JP8503006A
Authority: JP
Inventors: 佃　　明光; 和祐米山; 伸明伊藤
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1994-06-23
Filing date: 1995-06-21
Publication date: 2000-05-08
Anticipated expiration: 2015-05-08

Description

【発明の詳細な説明】技術分野本発明は、磁気記録媒体、特に走行性、耐久性、出力
特性の優れた磁気記録媒体に関するものである。

背景技術近年、ビデオカメラの屋外での使用の増加、あるいは
小型化、記録時間の長時間化の要請により、またコンピ
ュータの外部メモリとして使用するため、薄膜で、過酷
な条件での耐久性、走行性、出力特性に優れた高密度磁
気記録媒体の要求が強くなってきている。

従来、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム
に酸化物塗布型磁性層やメタル塗布型磁性層を設けてな
る磁気記録媒体が知られている（例えば特開昭61-26933
号公報、特開昭60-66319号公報など）。また芳香族ポリ
アミドについては長手方向と幅方向のヤング率の異なる
フィルムの磁気記録媒体への応用例が特開昭62-62424号
公報に示されている。

しかしながら、上記ポリエステルフィルムベースある
いは芳香族ポリアミドベースからなる磁気記録媒体で
は、常温では問題ないが高温条件下で使用すると走行性
や、出力特性が悪化したり、また、繰り返し走行におい
てドロップアウトが発生するという問題が出てきてい
る。これは基材フィルムの耐熱性が不十分であったり、
表面性、走行性が十分ではないためであると考えられ
る。

また非磁性体の表面粗大突起を規定した磁気記録媒体
用の例としては特開平6-195679号公報に示されるよう
に、フィルムバックコート側の粗大突起数H2≦50個/100
cm²に規定した例がある。また特開昭63-146941号公報に
はH2≦100個/25cm²、特開昭59-203232号公報には（H3−
H2）≦200個／mm²の例が示されている。

しかしながら、特開平6-195679号公報においては、フ
ィルムバックコート面側の粗大突起数を規定したもので
あり、磁性面側の粗大突起数は規定されておらず十分な
出力特性、走行性を達成するには不十分である。また特
開昭63-146941号公報、特開昭59-203232号公報において
は、基材フィルムがポリエステルフィルムに限定されて
おり、また粗大突起数レベルが高く、高温条件下で使用
したときの走行性、出力特性が悪化するという欠点があ
る。

また90℃でのヤング率E90と室温でのヤング率ERTとの
比を1.0≧E90/ERT≧0.6に規定した基体を用いた磁気記
録媒体が特開昭64-53330号公報に示されているが、該基
体の表面突起数についての規定はなく、高密度磁気記録
媒体として十分な出力特性が得られない。

また特開昭63-28695号公報に1kg/mm²荷重下での200
℃、５分での寸法変化率が５％以下のアラミドフィルム
が示されているが、カーボンブラックを10〜40％含有し
ており、また用途が感熱記録転写体であるため本願の目
的とは大きく異なる。

本発明者らは、これらの欠点の発生する原因を検討し
た結果、基材フィルムの耐熱性と磁性層が形成される
側、および非磁性層側の表面での表面粗大突起個数が原
因であることを突き止め、本発明に至った。

発明の開示本発明はこうした問題点を解決し、芳香族ポリアミド
あるいは芳香族ポリイミドの優れた耐熱性、高剛性を活
かし、かつ表面特性を規定することにより高温下、繰り
返し走行などの厳しい条件下でも走行性、耐久性、出力
特性の優れた磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。

即ち、本発明は芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリ
イミドからなる基材フィルムの片面に磁性層を設けてな
る磁気記録媒体であって、該基材フィルムの磁性層が形
成される側の表面での表面粗大突起個数H2、非磁性層側
の表面での表面粗大突起個数H3が、 H2≦50 ２≦H3≦100 を充たし、かつ該基材フィルムの20℃における少なくと
も一方向の引張りヤング率E20と、100℃における同方向
の引張りヤング率E100が、 E20≧800kg/mm² 0.5≦E100/E20 を充たすことを特徴とする磁気記録媒体に関するもので
ある。

発明を実施するための最良の形態本発明の芳香族ポリアミドとは、次の一般式（Ｉ）お
よび／または一般式（II）で表わされる繰り返し単位を
50モル％以上含むものが好ましく、70モル％以上からな
るものがより好ましい。

HN−Ar₁−NHCO−Ar₂−CO （Ｉ） HN−Ar₃−CO （II）ここで、Ar₁、Ar₂、Ar₃は例えば、などが挙げられ、Ｘ、Ｙは、 −Ｏ−，−CH₂−，−CO−，−SO₂−，−Ｓ−，−C(CH
₃)₂−等から選ばれるが、これに限定されるものではな
い。更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、ハロゲ
ン基（特に塩素）、ニトロ基、C₁〜C₃のアルキル基（特
にメチル基）、C₁〜C₃のアルコキシ基などの置換基で置
換されているものも含み、また、重合体を構成するアミ
ド結合中の水素が他の置換基によって置換されているも
のも含む。

特性面からは上記の芳香環がパラ位で結合されたもの
が、全芳香環の50％以上、好ましくは75％以上を占める
重合体が、フィルムの剛性が高く耐熱性も良好となるた
め好ましい。また吸湿率を小さくする点からは、芳香環
上の水素原子の一部がハロゲン基（特に塩素）で置換さ
れた芳香環が全体の30％以上である重合体が好ましい。

本発明の芳香族ポリアミドは、一般式（Ｉ）および／
または一般式（II）で表される繰り返し単位を50モル％
以上含むものであって、50モル％未満は他の繰り返し単
位が共重合、またはブレンドされていても差し支えな
い。

本発明における芳香族ポリイミドとは、重合体の繰り
返し単位の中に芳香環とイミド環を１つ以上含むもので
あり、一般式（III）および／または一般式（IV）で示
される繰り返し単位を50モル％以上含むものが好まし
く、より好ましくは70モル％以上である。

ここでAr₄、Ar₆は少なくとも１個の芳香環を含み、イ
ミド環を形成する２つのカルボニル基は芳香環上の隣接
する炭素原子に結合している。このAr₄は、芳香族テト
ラカルボン酸あるいはこの無水物に由来する。代表例と
しては次の様なものが挙げられる。

ここでＺは、 −Ｏ−，−CH₂−，−CO−，−SO₂−，−Ｓ−，−C(CH
₃)₂−等から選ばれる。

また、Ar₆は無水カルボン酸あるいはこのハライドに
由来する。Ar₅、Ar₇は例えばなどが挙げられ、Ｘ、Ｙは、 −Ｏ−，−CH₂−，−CO−，−SO₂−，−Ｓ−，−C(CH
₃)₂−等から選ばれるが、これに限定されるものではな
い。更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、ハロゲ
ン基（特に塩素）、ニトロ基、C₁〜C₃のアルキル基（特
にメチル基）、C₁〜C₃のアルコキシ基などの置換基で置
換されているものも含み、また、重合体を構成するアミ
ド結合中の水素が他の置換基によって置換されているも
のも含む。

本発明の芳香族ポリイミドは、一般式（III）および
／または一般式（IV）で表される繰り返し単位を50モル
％以上含むものであって、50モル％未満は他の繰り返し
単位が共重合、またはブレンドされていても差し支えな
い。

また本発明の芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドに
は、フィルムの物性を損なわない程度に滑剤、酸化防止
剤その他の添加剤等がブレンドされていてもよい。

本発明の磁気記録媒体は、該基材フィルムの磁性層が
形成される側の表面での表面粗大突起個数H2が、 H2≦50 である必要がある。より好ましくはH2≦30、更に好まし
くはH2≦20である。H2＞50であると磁気記録媒体とした
ときの表面性が悪化し、ドロップアウトが発生し、高密
度の磁気記録媒体として適さなくなる。

また本発明の磁気記録媒体は、該基材フィルムの非磁
性層側の表面での表面粗大突起個数H3が、２≦H3≦100 である必要がある。より好ましくは、２≦H3≦70、更に
好ましくは２≦H3≦50である。H3＜２であると磁気記録
媒体としたときのガイドロールなどとの接触抵抗が大き
くなり、走行性が低下する。またH3＞100であると、磁
気テープとしたときに磁性層に粗大突起が転写したり、
塗布型磁気記録媒体製造時の塗布工程におけるカレンダ
ー処理時に粗大突起が磁性層側の表面性に影響を及ぼす
ことがあり、ドロップアウトの原因となり、好ましくな
い。

また本発明の磁気記録媒体は、該基材フィルムの磁性
層が形成される側の表面での表面粗大突起個数H1が、 H1≦100 であると好ましい。より好ましくはH1≦70、更に好まし
くはH1≦50であると優れた電磁変換特性が実現されるの
で望ましい。

更に本発明の磁気記録媒体は、該基材フィルムの20℃
における少なくとも一方向の引張りヤング率E20が、 E20≧800kg/mm² である必要がある。より好ましくはE20≧900kg/mm²、更
に好ましくはE20≧1000kg/mm²である。本発明の磁気記
録媒体は磁気記録媒体の薄膜化の要請に応えて薄膜で使
用されることが多いので、テープ走行中、あるいはスト
ップ／スタート時にかかるテンションに耐えるために、
高いヤング率（E20≧800kg/mm²）を持つ必要がある。ヤ
ング率がこれより低いとテープの伸びが起こり記録再生
性が低下する。また、基材フィルムが高いヤング率（E2
0≧800kg/mm²）を持つことにより塗布層形成、バックコ
ート層形成工程など磁気記録媒体形成時にかかるテンシ
ョンにも耐えることができ、加工上も有利である。

また、本発明の磁気記録媒体は、該基材フィルムの20
℃における少なくとも一方向の引張りヤング率E20が、 E20≧800kg/mm² であれば、長手方向、幅方向、あるいは斜め方向にテン
シライズされても差し支えないが、長手方向または幅方
向にテンシライズされるのが一般的である。テンシライ
ズの度合いは特に限定されないが、伸度、引き裂き抵抗
力等の特性を考慮に入れると、長手方向の引張りヤング
率EMDと幅方向の引張りヤング率ETDが、 0.5≦EMD/ETD≦２の範囲であるのが実用的である。

更に本発明の磁気記録媒体は、該基材フィルムの20℃
における少なくとも一方向の引張りヤング率E20と100℃
における同方向の引張りヤング率E100が、 0.5≦E100/E20 である必要がある。より好ましくは0.6≦E100/E20であ
り、更に好ましくは0.7≦E100/E20である。0.5＞E100/E
20であると高温条件下での使用時にテープの剛性低下に
よる熱伸びが起こり記録再生性が低下する。また、高温
でのヤング率低下が小さい（0.5≦E100/E20）と塗布型
磁気記録媒体製造時の磁性層塗布後の乾燥工程や、蒸着
型磁気記録媒体製造時の金属薄膜蒸着工程においてテー
プの寸法変化が抑えられるため、加工上も有利である。

更に本発明の磁気記録媒体は、該基材フィルムの縦方
向の1mm²あたり1kgの荷重をかけたときの100℃、10分間
の寸法変化率が２％以下であると好ましい。より好まし
くは1.5％以下、更に好ましくは1.0％以下である。本発
明の磁気記録媒体は磁気記録媒体の薄膜化の要請に応え
て薄膜で使用されることが多いので、寸法変化率が２％
以下であると、高温下で使用された場合テープ走行中、
あるいはストップ／スタート時にかかるテンションによ
り発生するテープの伸縮が抑えられ記録再生性が向上す
る。また、基材フィルムの外力に対し高い寸法安定性
（２％以下）を持つことにより、塗布型磁気記録媒体製
造時の塗布層形成後の乾燥工程や、蒸着型磁気記録媒体
製造時の金属薄膜蒸着工程においてテープの寸法変化が
抑えられるため、加工上も有利である。

本発明は、上記基材フィルム上の片面に磁性層を設け
た磁気記録媒体である。

磁性層を形成する方法は、強磁性粉末を各種バインダ
ーを用いて磁性塗料とし基材フィルム上に塗布する湿式
法、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法などの乾式法があり、特に限定されるものではない
が、ここでは湿式法を例にとって説明する。

磁性体となる磁性粉末の種類は特に限定されないが、
強磁性粉末、例えば、酸化鉄、酸化クロム、Fe,Co、Fe-
Co、Fe-Co-Ni、Co-Ni等が好ましく用いられる。

磁性粉末は各種バインダーを用いて磁性塗料とするこ
とができるが、熱硬化性樹脂系バインダーおよび放射線
硬化系バインダーが好ましく、その他添加剤として分散
剤、潤滑剤、帯電防止剤等を用いてもよい。例えば、塩
化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、ポ
リウレタンプレポリマおよびポリイソシアネートよりな
るバインダーを用いることができる。

本発明の磁気記録媒体が適度な粗さを持つためには、
基材フィルム中に粒子を存在させておくことが好まし
い。粒子の種類としては、SiO₂、TiO₂、Al₂O₃、CaSO₄、
BaSO₄、CaCO₃、カーボンブラック、ゼオライト、その他
の金属微粉末などの無機粒子や、シリコン粒子、ポリイ
ミド粒子、架橋共重合体粒子、架橋ポリエステル粒子、
テフロン粒子などの有機高分子などがあるが、耐熱性の
点から無機粒子の方がより好ましい。更に本発明のフィ
ルムの含有される粒子の平均一次粒径は0.005〜５μ
ｍ、好ましくは0.01〜２μｍの範囲である場合に電磁変
換特性、走行性とも良好となるので望ましい。本発明の
磁気記録媒体の基材フィルムに含有される粒子の含有量
は0.01〜5wt％、好ましくは0.05〜3wt％である。粒子の
含有量が上記の範囲より少ないとフィルムの走行性が不
良となり、逆に多くても電磁変換特性不良となり易い。

また本発明の磁気記録媒体の基材フィルムはもちろん
単層フィルムでも用いられるが、積層フィルムであって
も良い。積層フィルムとする時は、磁性層を設ける面に
本発明の表面粗大突起個数H2≦50で規定される面が表面
になるように積層し、非磁性面に表面粗大突起個数２≦
H3≦100で規定される面が表面になるように積層されて
いると、走行性、電磁変換特性とも良好となり望まし
い。ここで積層された本発明の磁気記録媒体の基材フィ
ルムと基層部（積層された本発明の基材フィルム以外の
フィルム構成部分）は同じ種類でも異なるものでも良
い。この基層部を構成する少なくとも一層にも粒子を含
有していてもよく、粒子の種類、粒子の平均一次粒径、
含有量は本発明のフィルムに望ましく用いられるもの
を、使用することが望ましい。基層部における粒子の径
が積層された本発明の基材フィルム中の粒子の径よりも
大きいと、基材フィルム表面に適度のうねりを持たせる
事ができテープ走行性がより一層良好となるので望まし
い。

本発明の磁気記録媒体における基材フィルムの厚みは
好ましくは0.5〜50μｍ、より好ましくは１〜20μｍ、
更に好ましくは２〜10μｍであると、薄膜の磁気記録媒
体として本発明の効果である優れた走行性、電磁変換特
性が実現されるので望ましい。

本発明は磁気記録媒体における基材フィルムの少なく
とも一方向の伸度は10％以下、より好ましくは20％以
上、更に好ましくは30％以上であるとテープが適度な柔
軟性を持つので望ましい。

本発明の磁気記録媒体における基材フィルムの吸湿率
は、５％以下、より好ましくは３％以下、更に好ましく
は２％以下であると湿度変化によるテープの寸法変化が
小さく良好な電磁変換特性を保てるので望ましい。

これらの特性は、積層された場合には積層フィルムに
ついても満足することが好ましい。

次に本発明の製造方法を説明するが、これに限定され
るものではない。

まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロリドとジアミ
ンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリドン（NMP）、
ジメチルアセトアミド（DMAc）、ジメチルホルムアミド
（DMF）などの非プロトン性有機極性溶媒中で、溶液重
合したり、水系媒体を使用する界面重合などで合成され
る。ポリマ溶液は、単量体として酸クロリドとジアミン
を使用すると塩化水素が副生するが、これを中和する場
合には水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウ
ムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロ
ピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、ト
リエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機の
中和剤が使用される。また、イソシアネートとカルボン
酸との反応は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存
在下で行なわれる。

これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液として使用し
てもよく、あるいはポリマを一度単離してから上記の有
機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製膜原液を調
製してもよい。

本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得るためにはポ
リマの固有粘度（ポリマ0.5gを硫酸中で100mlの溶液と
して30℃で測定した値）は、0.5以上であることが好ま
しい。

製膜原液には溶解助剤として無機塩例えば塩化カルシ
ウム、塩化マグネシウム、塩化リチウム、硫酸リチウム
などを添加する場合もある。製膜原液中のポリマ濃度は
２〜40wt％程度が好ましい。

一方、芳香族ポリイミドあるいはポリアミド酸の溶解
は次のようにして得られる。即ち、ポリアミド酸はＮ−
メチルピロリドン（NMP）、ジメチルアセトアミド（DMA
c）、ジメチルホルムアミド（DMF）などの非プロトン性
有機極性溶媒中で、テトラカルボン酸二無水物と芳香族
ジアミンを反応させて調製することができる。また芳香
族ポリイミドは前記のポリアミド酸を含有する溶液を加
熱したり、ピリジンなどのイミド化剤を添加してポリイ
ミドの粉末を得、これを再度溶媒に溶解して調製でき
る。製膜原液中のポリマ濃度は５〜40wt％程度が好まし
い。

粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中に十分スラリー
化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒として使用する
方法や、製膜原液を調製した後に直接添加する方法など
がある。

上記のように調製された製膜原液は、いわゆる溶液製
膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製膜法には乾
湿式法、乾式法、湿式法などがありいづれの方法で製膜
されても差し支えないが、ここでは乾湿式法を例にとっ
て説明する。

乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金からドラム、
エンドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、
次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持
性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜220℃、60分
以内の範囲であり、好ましくは室温〜200℃の範囲であ
る。乾燥温度が220℃を越えると表面粗大突起H2が増加
し、本発明の範囲を超えることがある。またこの乾燥工
程で用いられるドラム、エンドレスベルトの表面欠点頻
度を制御することでH3を本発明の範囲内に制御できる。
好ましくは径が30μｍ以上の表面欠点頻度が0.001〜0.0
2個／mm²、より好ましくは0.002〜0.015個／mm²であ
る。

上記乾式工程を終えたフィルムは支持体から剥離され
て湿式工程に導入され、ここでフィルム中に含有されて
いる溶剤や不純物が除去される。この浴は一般に水系媒
体からなるものであり、水の他に有機溶媒や無機塩等を
含有していてもよい。しかし一般には水分量は30％以上
好ましくは50％以上含有されているものであり、浴温度
は通常０〜100℃で使用される。

更にフィルム中の不純物を減少させるために、浴温度
を50℃以上に上げたり、有機溶剤の浴を設けてこの中を
通すことが有効である。有機溶剤としてはクロロホル
ム、塩化メチレン、フレオン等のハロゲン化炭化水素
や、アルコート、ケトン、エーテル等の有機溶剤などが
ある。この湿式工程では剥離されたフィルムはかかる浴
中に緊張下で浸漬され、フィルム中の不純物は0.5％以
下、好ましくは0.2％以下、更に好ましくは0.1％以下ま
で抽出される。

湿式工程を出たフィルムは、更に延伸、乾燥、熱処理
が行われてフィルムとなる。

以上のように形成されるフィルムはその製膜工程中
で、機械特性が本発明の範囲となるように延伸が行なわ
れるが、延伸倍率は面倍率で0.8〜8.0（面倍率とは延伸
後のフィルム面積を延伸前のフィルムの面積で除した値
で定義する。１以下はリラックスを意味する。）の範囲
内にあることが好ましく、より好ましくは1.1〜5.0であ
る。また延伸あるいは熱処理後のフィルムを徐冷する事
が有効であり、100℃／秒以下の速度で冷却する事が有
効である。

なお本発明のフィルムは、積層フィルムであってもよ
い。例えば２層の場合には、重合した芳香族ポリアミド
溶液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加した後、積層
する。さらに３層以上の場合も同様である。これら積層
の方法としては、周知の方法たとえば、口金内での積
層、複合管での積層や、一旦１層を形成しておいてその
上に他の層を形成する方法などがある。

次にこのフィルムに磁性層を形成する。磁性層を形成
する方法は前述した湿式法、乾式法のいづれでも差し支
えない。例として湿式法による場合、磁性層を塗布する
方法は公知の方法で行うことができるが、グラビアロー
ルを使用する方法が塗膜の均一性の点ではより好まし
い。塗布後の乾燥温度は90℃〜150℃が好ましい。また
カレンダー工程は25℃〜150℃の範囲で行うのが好まし
いこの後、磁性層と反対側の面に更に走行性を向上させ
るために、公知の方法によりバックコート層を設けても
よい。

更に、この磁性層を塗布したフィルムをキュアした後
スリットして本発明の磁気記録媒体となる。例えば8mm
などの民生用、プロ用、D-1、２、３などの放送局用、D
DS-2、３、４、QIC、データ8mmなどのデータ用が挙げら
れるがこれに限定されるものではない。

次に、本発明における物性の測定方法、および評価方
法について説明する。

（１）表面粗大突起個数（H1、H2、H3）フィルム表面100cm²の範囲を実体顕微鏡により偏光
下、異物を観測し、マーキングする。マーキングした異
物の高さを波長546nmで多重干渉計を用いて観測し、干
渉縞の輪の数でチェックする。一重環以上のものの個数
をH1、二重環以上のものの個数をH2、三重環以上のもの
の個数をH3とした。

（２）引張りヤング率インストロン型引張り試験機を用いて測定した。サン
プルは幅10mm、試長50mm、引張り速度は300mm/分であ
り、測定温度は20℃、100℃である。

（３）寸法変化率フィルムに150mm間隔で標線を入れ、これを10mm幅に
スリットし測定サンプルとする。厚さをマイクロメータ
により測定し、荷重が1kg/mm²になるようにおもりをつ
けオーブンで100℃、10分間の加熱を行い寸法変化率を
下式で計算する。

（４）電磁変換特性磁性層を塗布したフィルムを1/2インチ幅にスリット
し、VTRカセットに組み込みVTRテープとした。このテー
プに家庭用VTRを用いてテレビ試験波形発生器により100
％クロマ信号からカラービデオノイズ測定器でクロマS/
Nを測定した。市販のテープを基準としてS/Nが上回るも
のを○、下回るものを×と判定した。

（５）走行性フィルムを幅1/2インチのテープ状にスリットしたも
のをテープ走行性試験機SFT-700型（（株）横浜システ
ム研究所製）を使用し、40℃、80％RH雰囲気で走行さ
せ、50パス目の摩擦係数を下記の式より求めた。

μＫ＝0.733log（T2/T1）ここでT1は入側張力、T2は出側張力である。ガイド径は
6mmφであり、ガイド材質はポリオキシメチレン（表面
粗さ20〜40nm程度のもの）巻き付け角は90°、走行速度
は3.3cm/秒、繰返しストロークは15cmである。この測定
によって得られたμＫが0.35以下の場合は走行性○、0.
35を超える場合は走行性×と判定した。このμＫはフィ
ルムを磁気記録媒体、コンデンサ、包装用などの加工を
する時のハンドリング性を、左右する臨界点である。

実施例以下に実施例に基づいて本発明を説明するが、これら
に限定されるものではない。

実施例１Ｎ−メチルピロリドン（NMP）に芳香族ジアミン成分
として80モル％に相当する２−クロルパラフェニレンジ
アミンと、20モル％に相当する４、4'−ジアミノジフェ
ニルエーテルとを溶解させ、これに100モル％に相当す
る２−クロルテレフタル酸クロリドを添加し、２時間攪
拌して重合を完了した。これを水酸化リチウムで中和し
て、ポリマ濃度10重量％、粘度3000ポイズの芳香族ポリ
アミド溶液を得た。この溶液に、一次粒径16nm、二次粒
径0.2μｍの乾式シリカをポリマ当たり2wt％添加した。

このポリマ溶液を５μｍカットのフィルターを通した
後、径が30μｍ以上の表面欠点の頻度が0.006個／mm²の
ベルト上に流延し、180℃の熱風で２分間加熱して溶媒
を蒸発させ、自己保持性を得たフィルムをベルトから連
続的に剥離した。次にNMPの濃度勾配をつけた水槽内へ
フィルムを導入して残存溶媒と中和で生じた無機塩の水
抽出を行ない、テンターで水分の乾燥と熱処理を行なっ
て厚さ６μｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。この
間にフィルム長手方向と幅方向に各々1.2倍、1.3倍延伸
を行ない、280℃で1.5分間乾燥と熱処理を行なった後、
20℃／秒の速度で徐冷した。

このフィルムのベルト非接触面での表面粗大突起個数
H2は20個/100cm²、H1は45個/100cm²で、ベルト接触面で
の表面粗大突起個数H3は40個/100cm²であった。このフ
ィルムの20℃における引張りヤング率E20は長手方向、
幅方向ともに1250kg/mm²、100℃における引張りヤング
率E100との比は長手方向、幅方向ともにE100/E20＝0.72
であって。また、このフィルムの1kg/mm²荷重下におけ
る寸法変化率は0.6％であった。

次にこのフィルムの走行性、電磁変換特性を測定する
と共に良好であった。

実施例２実施例１と同様のポリマーを５μｍカットのフィルム
を通した後、径が30μｍ以上の表面欠点の頻度が0.002
個／mm²のベルト上に流延し、200℃の熱風で２分間加熱
して溶媒を蒸発させ、自己保持性を得たフィルムをベル
トから連続的に剥離した。以下実施例１と同様な方法で
厚さ５μｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。

このフィルムのベルト非接触面での表面粗大突起個数
H2は30個/100cm²、H1は60個/100cm²で、ベルト接触面で
の表面粗大突起個数H3は５個/100cm²であった。このフ
ィルムの20℃における引張りヤング率E20は長手方向、
幅方向ともに1280kg/mm²、100℃における引張りヤング
率E100との比は長手方向、幅方向ともにE100/E20＝0.70
であった。また、このフィルムの1kg/mm²荷重下におけ
る寸法変化率は0.6％であった。

実施例３フィルムの延伸を長手方向に1.1倍、幅方向に1.45倍
すること以外は実施例１と同様にして厚さ５μｍの芳香
族ポリアミドフィルムを得た。

このフィルムのベルト非接触面での表面粗大突起個数
H2は20個/100cm²、H1は45個/100cm²で、ベルト接触面で
の表面粗大突起個数H3は40個/100cm²であった。このフ
ィルムの20℃における長手方向の引張りヤング率は900k
g/mm²、幅方向の引張りヤング率は1640kg/mm²の幅方向
にテンシライズされたフィルムであり、100℃における
引張りヤング率E100との比は長手方向、幅方向それぞ
れ、0.75、0.70であった。また、このフィルムの1kg/mm
²荷重下における寸法変化率は0.6％であった。

実施例４ NMPに芳香族ジアミン成分として60モル％に相当する
パラフェニレンジアミンと、40モル％に相当する４、4'
−ジアミノジフェニルエーテルとを溶解させ、これに10
0モル％に相当する２−クロルテレフタル酸クロリドを
添加し、２時間攪拌して重合を完了した。これを水酸化
リチウムで中和して、ポリマ濃度10重量％、粘度3000ポ
イズの芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液に、一次
粒径16nm、二次粒径0.2μｍの乾式シリカをポリマ当た
り2wt％添加した。

このポリマ溶液を５μｍカットのフィルターを通した
後、径が30μｍ以上の表面欠点の頻度が0.015個／mm²の
ベルト上に流延し、180℃の熱風で２分間加熱して溶媒
を蒸発させ、自己保持性を得たフィルムをベルトから連
続的に剥離した。以下実施例１と同様な方法で厚さ５μ
ｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。

このフィルムのベルト非接触面での表面粗大突起個数
H2は20個/100cm²、H1は45個/100cm²で、ベルト接触面で
の表面粗大突起個数H3は75個/100cm²であった。このフ
ィルムの20℃における引張りヤング率E20は長手方向、
幅方向ともに920kg/mm²、100℃における引張りヤング率
E100との比は長手方向、幅方向ともにE100/E20＝0.57で
あった。また、このフィルムの1kg/mm²荷重下における
寸法変化率は1.1％であった。

実施例５ NMPに芳香族ジアミン成分として100モル％に相当する
２−クロルパラフェニレンジアミンを溶解させ、これに
100モル％に相当する3,3',4,4'−ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物を添加し重合してポリアミド酸溶液を得
た。この溶液に、一次粒径16μｍの乾式シリカをポリマ
当たり2wt％添加した。

このポリマ溶液を５μｍカットのフィルターを通した
後、径が30μｍ以上の表面欠点の頻度が0.006個／mm²の
ベルト上に流延し、150℃の熱風で自己保持性を持つま
で乾燥し、ベルトから連続的に剥離した。次に420℃の
テンターで熱処理を行なった後、20℃／秒の速度で徐冷
した。延伸倍率はMD、TDともに1.1倍、厚み６μｍであ
った。

このフィルムのベルト非接触面での表面粗大突起個数
H2は15個/100cm²、H1は40個/100cm²で、ベルト接触面で
の表面粗大突起個数H3は55個/100cm²であった。このフ
ィルムの20℃における引張りヤング率E20は長手方向、
幅方向ともに880kg/mm²、100℃における引張りヤング率
E100との比は長手方向、幅方向ともにE100/E20＝0.85で
あった。また、このフィルムの1kg/mm²荷重下における
寸法変化率は0.6％であった。

比較例１実施例１と同様のポリマを５μｍカットのフィルター
を通した後、径が30μｍ以上の表面欠点の頻度が0.006
個／mm²のベルト上に流延し、230℃の熱風で溶媒を蒸発
させ、自己保持性を得たフィルムをベルトから連続的に
剥離した。以下実施例１と同様な方法で厚さ５μｍの芳
香族ポリアミドフィルムを得た。

このフィルムのベルト非接触面での表面粗大突起個数
H2は70個/100cm²、H1は130個／cm²で、ベルト接触面で
の表面粗大突起個数H3は40個/100cm²であった。このフ
ィルムの20℃における引張りヤング率E20は長手方向、
幅方向ともに1230kg/mm²、100℃における引張りヤング
率E100との比は長手方向、幅方向ともにE100/E20＝0.69
であった。また、このフィルムの1kg/mm²荷重下におけ
る寸法変化率は0.6％であった。

次にこのフィルム走行性を測定すると良好であった
が、電磁変換特性を測定すると粗大突起が多く悪いもの
であった。

比較例２実施例１と同様のポリマを５μｍカットのフィルター
を通した後、径が30μｍ以上の表面欠点の頻度が0.0001
個／mm²のベルト上に流延し、実施例１と同様な方法で
厚さ５μｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。

このフィルムのベルト非接触面での表面粗大突起個数
H2は15個/100cm²、H1は35個/100cm²で、ベルト接触面で
の表面粗大突起個数H3は１個/100cm²であった。このフ
ィルムの20℃における引張りヤング率E20は長手方向、
幅方向ともに1250kg/mm²、100℃における引張りヤング
率E100との比は長手方向、幅方向ともにE100/E20＝0.72
であった。また、このフィルムの1kg/mm²荷重下におけ
る寸法変化率は0.6％であった。

次にこのフィルムの電子変換特性を測定すると良好で
あったが、走行性を測定すると劣ったものであった。

比較例３実施例１と同様のポリマを５μｍカットのフィルター
を通した後、径が30μｍ以上の表面欠点の頻度が0.025
個／mm²のベルト上に流延し、実施例１と同様な方法で
厚さ５μｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。

このフィルムのベルト非接触面での表面粗大突起個数
H2は20個/100cm²、H1は50個/100cm²で、ベルト接触面で
の表面粗大突起個数H3は160個/100cm²であった。このフ
ィルムの20℃における引張りヤング率E20は長手方向、
幅方向ともに1250kg/mm²、100℃における引張りヤング
率E100との比は長手方向、幅方向ともにE100/E20＝0.72
であった。また、このフィルムの1kg/mm²荷重下におけ
る寸法変化率は0.6％であった。

次にこのフィルムの走行性を測定すると良好であった
が、電磁変換特性を測定すると悪いものであった。

比較例４ NMPに芳香族ジアミン成分として50モル％に相当する
パラフェニレンジアミンと、50モル％に相当する４、４
−ジアミノジフェニルエーテルとを溶解させ、これに10
0モル％に相当する無水ピロメリット酸を添加し重合し
てポリアミド酸を得た。この溶液に、一次粒径16nmの乾
式シリカをポリマ当たり2wt％添加した。

このポリマ溶液を５μｍカットのフィルターを通した
後、径が30μｍ以上の表面欠点の頻度が0.006個／mm²の
ベルト上に流延し、180℃の熱風で自己保持性を持つま
で乾燥し、ベルトから連続的に剥離した。次に420℃の
テンターで熱処理を行なった後、20℃／秒の速度で徐冷
した。延伸倍率はMD,TDともに1.1倍、厚みは８μｍであ
った。

このフィルムのベルト非接触面での表面粗大突起個数
H2は20個/100cm²、H1は45個/100cm²で、ベルト接触面で
の表面粗大突起個数H3は50個/100cm²であった。このフ
ィルムの20℃における引張りヤング率E20は長手方向が4
20kg/mm²、幅方向が430kg/mm²で、幅方向から時計回り
に35°の方向が450kg/mm²で最大であった。20℃におけ
る引張りヤング率E20と100℃における引張りヤング率E1
00との比は長手方向、幅方向、幅方向から時計回りに35
℃の方向ともにE100/E20＝0.80であった。また、このフ
ィルムの1kg/mm²荷重下における寸法変化率は0.6％であ
った。

次にこのフィルムの電磁変換特性を測定すると良好で
あったが、走行性を測定すると劣ったものであった。

比較例５Ｎ−メチルピロリドン（NMP）に芳香族ジアミン成分
として100モル％に相当する４、４−ジアミノジフェニ
ルメタンを溶解させ、これに50モル％に相当するイソフ
タル酸クロリドと50モル％に相当するテレフタル酸クロ
リドを添加し、２時間攪拌して重合を完了した。これを
水酸化リチウムで中和して、ポリマ濃度10重量％、粘度
3000ポイズの芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液
に、一次粒径16nm、二次粒径0.2μｍの乾式シリカをポ
リマ当たり2wt％添加した。

このポリマ溶液を用いて実施例１と同様な方法で厚さ
６μｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。

このフィルムのベルト非接触面での表面粗大突起個数
H2は20個/100cm²、H1は45個/100cm²で、ベルト接触面で
の表面粗大突起個数H3は40個/100cm²であった。このフ
ィルムの20℃における引張りヤング率E20は長手方向、
幅方向ともに900kg/mm²、100℃における引張りヤング率
E100との比は長手方向、幅方向ともにE100/E20＝0.46で
あった。また、このフィルムの1kg/mm²荷重下における
寸法変化率は2.2％であった。

次にこのフィルム走行性を測定すると良好であった
が、電磁変換特性を測定すると悪いものであった。

産業上の利用分野本発明は、芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミ
ドの優れた耐熱性、高剛性を活かし、かつ表面特性を規
定することにより高温下、繰り返し走行などの厳しい条
件下でも走行性、耐久性、出力特性の優れた磁気記録媒
体を提供することができる。

フロントページの続き (56)参考文献特開昭63−183613（ＪＰ，Ａ) 特開平４−209313（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミ
ドからなる基材フィルムの片面に磁性層を設けてなる磁
気記録媒体であって、該基材フィルムの磁性層が形成さ
れる側の表面での測定面積100cm²における表面粗大突起
個数H2、非磁性層側の表面での測定面積100cm²における
表面粗大突起個数H3が、 H2≦50 ２≦H3≦100 を充たし、かつ該基材フィルムの20℃における少なくと
も一方向の引張りヤング率E20と、100℃における同方向
の引張りヤング率E100が、 E20≧800kg/mm² 0.5≦E100/E20 を充たすことを特徴とする磁気記録媒体。（尚、ここで、表面粗大突起個数は、フィルム表面100c
m²を実体顕微鏡により偏光下、異物を観測、マーキング
し、その高さを波長546nmの多重干渉計を用いて観測
し、干渉縞の輪が二重環以上のものの個数をH2、三重環
以上のものの個数をH3とするものである。）
【請求項２】該基材フィルムの磁性層が形成される側の
表面での測定面積100cm²における表面粗大突起個数H1が H1≦100 を充たすことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒
体。（尚、ここで、表面粗大突起個数は、フィルム表面100c
m²を実体顕微鏡により偏光下、異物を観測、マーキング
し、その高さを波長546nmの多重干渉計を用いて観測
し、干渉縞の輪が一重環以上のものの個数をH1とするも
のである。）
【請求項３】該基材フィルムの縦方向の1mm²あたり1kg
の荷重をかけたときの100℃、10分間の寸法変化率が２
％以下であることを特徴とする請求項１または２に記載
の磁気記録媒体。