JPH04298324A - 磁気記録媒体用ベースフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体用ベースフ
ィルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】芳香族ポリアミドフィルムあるいは芳香
族ポリイミドフィルムは、その優れた耐熱性、機械特性
を活かして種々な用途に検討されている。特にパラ配向
系の芳香族ポリアミドは剛性、強度等の機械特性が他の
ポリマより優れているため、フィルムの薄物化に非常に
有利であり、プリンタリボン、磁気テープ、コンデンサ
ー等の用途が考えられている。例えば磁気記録媒体では
特開昭５８−１６８６５５　、特開昭６２−１１２２１
８　などがある。

【０００３】しかしながら、フィルムの加工工程、たと
えば磁気媒体用途における磁性層塗布・カレンダ−工程
などの工程速度の増大にともない、フイルム走行性、フ
ィルム表面の接触ロ−ルによる削れ性の悪化により、加
工工程上、製品性能上のトラブルとなるという欠点が最
近問題となってきている。さらに、磁気記録テ−プとし
た時に樹脂ガイドピンとの走行性が著しく悪く、最近問
題となってきている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる課題
を解消せしめ、芳香族ポリアミドフィルムあるいは芳香
族ポリイミドフィルム本来の優れた耐熱性、機械特性を
維持し、耐削れ性に優れかつ樹脂ガイドピンとの走行性
が良好であり、電磁変換特性に優れたフイルムを提供す
ることを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、芳香族ポリア
ミドあるいは芳香族ポリイミドからなるフィルムであっ
て、該フィルムは、少なくとも一方向について、引張速
度１０００％／分でフィルムが１％伸長した際のフィル
ム強度が６ｋｇ／ｍｍ２　以上であり、カットオフ値０
．０８ｍｍで測定した少なくとも一方の表面の中心線平
均粗さ［Ｒａ］０．０８が０．００１〜０．０３μｍの
範囲で、カットオフ値０．００８ｍｍで測定した中心線
平均粗さ［Ｒａ］０．００８　と［Ｒａ］０．０８が下
式■の関係にあることを特徴とする磁気記録媒体用ベー
スフィルムである。

【０００６】 ０．５≦［Ｒａ］０．００８　／［Ｒａ］０．０８≦０
．９　　・・・・■ 本発明の芳香族ポリアミドとは、次の一般式で表わされ
る繰り返し単位を５０モル％以上含むものが好ましく、
７０モル％以上からなるものがより好ましい。一般式

【
０００７】

【化１】

【０００８】および／または

【０００９】

【化２】

【００１０】ここで、Ａｒ１　、Ａｒ２　、Ａｒ３　は
、例えば、

【００１１】

【化３】

【００１２】などが挙げられ、Ｘ、Ｙは−Ｏ−，−ＣＨ
２　−，−ＣＯ−，−ＳＯ２　−，−Ｓ−，−Ｃ（ＣＨ
３　）２　−から選ばれる。更にこれらの芳香環上の水
素原子の一部が、ハロゲン基（特に塩素）、ニトロ基、
Ｃ１　〜Ｃ３　のアルキル基（特にメチル基）、Ｃ１　
〜Ｃ３　のアルコキシ基などの置換基で置換されている
ものも含み、また、重合体を構成するアミド結合中の水
素が他の置換基によって置換されているものも含む。

【００１３】特性面からは上記の芳香環がパラ位で結合
されたものが、全芳香環の５０％以上、好ましくは７５
％以上を占める重合体が、フィルムの剛性が高く耐熱性
も良好となるため好ましい。また吸湿率を小さくする点
からは、芳香環上の水素原子の一部がハロゲン基（特に
塩素）で置換された芳香環が全体の３０％以上である重
合体が好ましい。

【００１４】本発明における芳香族ポリイミドとは、重
合体の繰り返し単位の中に芳香環とイミド環を１つ以上
含むものであり、一般式

【００１５】

【化４】

【００１６】あるいは

【００１７】

【化５】

【００１８】で示される繰り返し単位を５０モル％以上
含むものが好ましく、より好ましくは７０モル％以上で
ある。ここでＡｒ４　、Ａｒ６　は少なくとも１個の芳
香環を含み、イミド環を形成する２つのカルボニル基は
芳香環上の隣接する炭素原子に結合している。このＡｒ
４　は、芳香族テトラカルボン酸あるいはこの無水物に
由来する。代表例としては次の様なものが挙げられる。

【００１９】

【化６】

【００２０】ここでＺは −Ｏ−，−ＣＨ２　−，−ＣＯ−，−ＳＯ２　−，−Ｓ
−，−Ｃ（ＣＨ３　）２　−から選ばれる。

【００２１】また、Ａｒ６　は無水カルボン酸あるいは
このハライドに由来する。Ａｒ５　、Ａｒ７　は例えば

【００２２】

【化７】

【００２３】などが挙げられ、Ｘ、Ｙは−Ｏ−，−ＣＨ
２　−，−ＣＯ−，−ＳＯ２　−，−Ｓ−，−Ｃ（ＣＨ
３　）２　−から選ばれる。更にこれらの芳香環上の水
素原子の一部が、ハロゲン基（特に塩素）、ニトロ基、
Ｃ１　〜Ｃ３　のアルキル基（特にメチル基）、Ｃ１　
〜Ｃ３　のアルコキシ基などの置換基で置換されている
ものも含み、また、重合体を構成するアミド結合中の水
素が他の置換基によって置換されているものも含む。

【００２４】また本発明の芳香族ポリアミド、芳香族ポ
リイミドには、フィルムの物性を損なわない程度に滑剤
、酸化防止剤その他の添加剤等やポリマがブレンドされ
ていてもよい。

【００２５】本発明のフィルムは、少なくとも一方向に
ついて引張速度１０００％／分でフィルムが１％伸長し
た際のフィルム強度［Ｆ−１］１０００が、６ｋｇ／ｍ
ｍ２　以上有する必要がある。より好ましくは８ｋｇ／
ｍｍ２　以上、更に好ましくは１０ｋｇ／ｍｍ２　以上
である。また引張速度１０％／分でフィルムが１％伸長
した際のフィルム強度［Ｆ−１］１０と［Ｆ−１］１０
００の関係が下式■を満足している事が好ましい。

【００２６】 ０．７≦［Ｆ−１］１０／［Ｆ−１］１０００≦１　　
　　・・・・■［Ｆ−１］１０／［Ｆ−１］１０００が
０．７未満では、磁気テ−プとした場合に応力変動で強
度が変わるため、走行性が不安定になるという問題があ
る。より好ましくは０．８以上である。

【００２７】更に本発明フィルムのカットオフ値０．０
８ｍｍで測定した少なくとも一方の表面の中心線平均粗
さ［Ｒａ］０．０８が０．００１〜０．０３μｍの範囲
である必要がある。中心線平均粗さが０．００１μｍ未
満では、フィルム表面が平滑すぎて走行性が十分ではな
く、上記範囲より大きいとフィルム表面の耐削れ性が悪
化しフィルム加工上問題となる事が多い。より好ましく
は０．００３〜０．０１μｍである。またカットオフ値
０．００８ｍｍで測定した中心線平均粗さ［Ｒａ］０．
００８　と［Ｒａ］０．０８が下式■の関係にある必要
がある。

【００２８】 ０．５≦［Ｒａ］０．００８　／［Ｒａ］０．０８≦０
．９　　・・・・■ ［Ｒａ］０．００８　／［Ｒａ］０．０８が０．９を越
えるとフィルム表面のうねりが小さく、磁気記録テ−プ
とした時の走行性が悪く、０．５未満ではフィルム表面
のうねりが大きく磁気記録テ−プとした時の電磁変換特
性が著しく悪化する。より好ましくは０．６５〜０．８
５の範囲である。

【００２９】本発明のフィルム表面が適度な粗さを持つ
ために、フィルム中に粒子を存在させておく必要がある
。粒子の種類としては、ＳｉＯ２　、ＴｉＯ２　、Ａｌ
２　Ｏ３　、ＣａＳＯ４　、ＢａＳＯ４　、ＣａＣＯ３
　、カ−ボンブラック、ゼオライト、その他の金属微粉
末などの無機粒子や、シリコン粒子、ポリイミド粒子、
架橋共重合体粒子、架橋ポリエステル粒子、テフロン粒
子などの有機高分子などがあるが、耐熱性の点から無機
粒子の方がより好ましい。

【００３０】更に本発明のフィルムに含有される粒子の
平均一次粒径は０．００５〜５μｍ、好ましくは０．０
２〜２μｍの範囲である場合に耐削れ性、走行性とも良
好となるので望ましい。

【００３１】本発明のフィルムに含有される粒子の含有
量は０．０１〜５ｗｔ％、好ましくは０．０５〜２ｗｔ
％である。粒子の含有量が上記の範囲より少ないとフィ
ルムの走行性が不良となり、逆に多くても耐削れ性が不
良となるので好ましくない。

【００３２】また本発明のフィルムはもちろん単層フィ
ルムでも用いられるが、積層フィルムであっても良い。 積層フィルムとする時は、本発明のフィルムが少なくと
も片面の最表層に積層されていると好ましく、更に好ま
しくは、本発明のフィルムが両面の最表層に積層されて
いると、耐削れ性、走行性とも良好となり望ましい。こ
こで積層された本発明のフィルムと基層部（積層された
本発明のフィルム以外のフィルム構成部分）は同じ種類
でも異なるものでも良い。この基層部を構成する少なく
とも一層にも粒子を含有していてもよく、粒子の種類、
粒子の平均一次粒径、含有量は本発明のフィルムに望ま
しく用いられるものを、使用することが望ましい。基層
部における粒子の径が積層された本発明のフィルム中の
粒子の径よりも大きいと、フィルム表面に適度のうねり
を持たせる事ができテ−プ走行性がより一層良好となる
ので望ましい。

【００３３】本発明のフィルムの厚みは０．５〜５０μ
ｍ、より好ましくは１〜２０μｍ，更に好ましくは２〜
１０μｍである。

【００３４】本発明のフィルムは、少なくとも一方向の
引張弾性率が６００ｋｇ／ｍｍ２　以上、より好ましく
は８００ｋｇ／ｍｍ２　以上である。また縦方向と横方
向の引張弾性率比は０．３〜３、より好ましくは０．５
〜２の範囲にある場合に走行性、電磁変換特性が良好で
あり望ましい。

【００３５】また、本発明のフィルムの少なくとも一方
向の２００℃、１０分での熱収縮率は５％以下が好まし
く、より好ましくは２％以下である。これら機械特性、
熱特性は、積層された場合には積層フィルムについても
満足することが好ましい。

【００３６】次に本発明フィルムの製造方法を説明する
が、これに限定されるものではない。

【００３７】まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロリ
ドとジアミンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリドン
（ＮＭＰ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメ
チルホルムアミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極
性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面
重合などで合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸
クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副生するが
、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カル
シウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレ
ンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、ト
リエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノール
アミンなどの有機の中和剤が使用される。また、イソシ
アネートとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機極
性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。

【００３８】これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液と
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。

【００３９】本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得る
ためにはポリマの固有粘度（ポリマ０．５ｇを硫酸中で
１００ｍｌの溶液として３０℃で測定した値）は、０．
５以上であることが好ましい。

【００４０】製膜原液には溶解助剤として無機塩例えば
塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸
リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポリ
マ濃度は２〜４０ｗｔ％程度が好ましい。

【００４１】一方、芳香族ポリイミドあるいはポリアミ
ド酸の溶液は次のようにして得られる。即ち、ポリアミ
ド酸はＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルアセ
トアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ
）などの非プロトン性有機極性溶媒中で、テトラカルボ
ン酸二水物と芳香族ジアミンを反応させて調製すること
ができる。また芳香族ポリイミドは前記のポリアミド酸
を含有する溶液を加熱したり、ピリジンなどのイミド化
剤を添加してポリイミドの粉末を得、これを再度溶媒に
溶解して調製できる。製膜原液中のポリマ濃度は５〜４
０ｗｔ％程度が好ましい。

【００４２】粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中に十
分スラリ−化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒とし
て使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加す
る方法などがある。

【００４３】上記のように調製された製膜原液は、いわ
ゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製
膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがある。

【００４４】湿式法で製膜する場合には該原液を瀘過後
、口金から直接製膜用浴中に押し出すか、又は一旦ドラ
ムやベルト等の支持体上に押し出し、支持体ごと湿式浴
中に導入する方法が採用される。この浴は一般に水系媒
体からなるものであり、水の他に有機、無機の溶媒や無
機塩等を含有していてもよい。該浴温度は通常０〜１０
０℃で使用され、湿式浴を通すことでフィルム中に含有
された塩類、溶媒の抽出が行なわれる。これら湿式浴全
体を通過する時間はフィルムの厚みにもよるが１０秒〜
３０分である。さらに必要に応じフィルムの長手方向に
延伸が行なわれる。次いで乾燥、熱処理が行なわれるが
これらの処理は一般に２００〜５００℃で、合計で１秒
〜３０分である。なおこの過程で必要に応じて横延伸が
行なわれる。

【００４５】乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金か
らドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して
薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜
が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜３
００℃、６０分以内の範囲である。乾式工程を終えたフ
ィルムは支持体から剥離されて湿式工程に導入され、上
記の湿式法と同様に脱塩、脱溶媒などが行なわれ、さら
に延伸、乾燥、熱処理が行なわれてフィルムとなる。

【００４６】乾式法のプロセスを採用した場合には、ド
ラム、あるいはエンドレスベルト等の上で乾燥され、自
己保持性をもったフィルムを、これら支持体から剥離し
、フィルムの長手方向に延伸を行なう。さらに残存溶媒
を除去するための乾燥や、延伸、熱処理が行なわれるが
、これらの処理は２００〜５００℃で１秒〜３０分であ
る。

【００４７】以上のように形成されるフィルムはその製
膜工程中で、機械特性が本発明の範囲となるように延伸
が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で０．８〜８．０（
面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルムの
面積で除した値で定義する。１以下はリラックスを意味
する。）の範囲内にあることが好ましく、より好ましく
は１．１〜５．０である。また延伸あるいは熱処理後の
フィルムを急冷する事が有効であり、１００℃／秒以上
の速度で冷却する事が有効である。

【００４８】なお本発明のフィルムは、積層フィルムで
あってもよい。例えば２層の場合には、重合した芳香族
ポリアミド溶液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加し
た後、積層する。さらに３層以上の場合も同様である。 これら積層の方法としては、周知の方法たとえば、口金
内での積層、複合管での積層や、一旦１層を形成してお
いてその上に他の層を形成する方法などがある。

【００４９】

【実施例】本発明の物性の測定方法、効果の評価方法は
次の方法による。

【００５０】（１）表面粗さ（中心線平均粗さ、Ｒａ）
小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１０を用い
て測定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定
の平均値をもって表面粗さとした。

【００５１】・触針先端半径：０．５μｍ・触針荷重　
　　　：５ｍｇ ・測定長　　　　　　：１ｍｍ ・カットオフ値：０．０８ｍｍあるいは０．００８ｍｍ
（２）Ｆ−１値 インストロンタイプの引っ張り試験機をもちいて、２５
℃、６０％ＲＨにて測定した。試験片は１０ｍｍ幅で５
０ｍｍ長さ、引っ張り速度は１０％／分あるいは１００
０％／分である。

【００５２】（３）耐削れ性 フィルムを幅１／２インチにテ―プ状にスリットしたも
のに片刃をフィルム表面に垂直に押しあて、さらに１．
０ｍｍ押し込んだ状態で２００ｍ走行させる（走行張力
：１００ｇ、走行速度：２５０ｍ／秒）。この時片刃の
先に付着したフィルム表面の削れ物の高さを顕微鏡で読
みとり、削れ量とした（単位はμｍ）。この削れ量が６
０μｍ以下の場合は○、６０μｍを越える場合は×とし
た。

【００５３】（４）電磁変換特性 磁性層を塗布したフィルムを１／２インチ幅にスリット
し、ＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲテ−プとした。こ
のテ−プに家庭用ＶＴＲを用いてテレビ試験波形発生器
により１００％クロマ信号からカラ−ビデオノイズ測定
器でクロマＳ／Ｎを測定した。市販のテ−プを基準とし
て評価した。

【００５４】（５）走行性 フィルムを幅１／２インチのテ−プ状にスリットしたも
のをテ−プ走行性試験機ＳＦＴ−７００型（（株）横浜
システム研究所製）を使用し、４０℃、８０％ＲＨ雰囲
気で走行させ、５０パス目の摩擦係数を下記の式より求
めた。

【００５５】μＫ＝０，７３３ｌｏｇ（Ｔ２　／Ｔ１　
）ここでＴ１　は入側張力、Ｔ２　は出側張力である。 ガイド径は６ｍｍφであり、ガイド材質はポリオキシメ
チレン（表面粗さ２０〜４０ｎｍ程度のもの）巻き付け
角は９０°、走行速度は３．３ｃｍ／秒、繰返しストロ
−クは１５ｃｍである。この測定によって得られたμＫ
が０．３５以下の場合は走行性○、０．３５を越える場
合は走行性×と判定した。このμＫはフィルムを磁気記
録媒体、コンデンサ、包装用などの加工をする時のハン
ドリング性を、左右する臨界点である。

【００５６】以下に実施例に基ずいて本発明を説明する
が、これらに限定されるものではない。

【００５７】実施例１ Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）に芳香族ジアミン成分
として９０モル％に相当する２−クロルパラフェニレン
ジアミンと、１０モル％に相当する４、４−ジアミノジ
フェニルエ−テルとを溶解させ、これに１００モル％に
相当する２−クロルテレフタル酸クロリドを添加し、２
時間撹拌して重合を完了した。これを水酸化リチウムで
中和して、ポリマ濃度１０重量％、粘度３０００ポイズ
の芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液に、０．１μ
ｍの球状シリカをポリマ当たり０．５ｗｔ％添加した。

【００５８】このポリマ溶液を１０μｍカットのフィル
タ−を通した後、ベルト上に流延し、１８０℃の熱風で
２分間加熱して溶媒を蒸発させ自己保持性を得たフィル
ムをベルトから連続的に剥離した。次に水槽内へフィル
ムを導入して残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を
行ない、テンタ−で水分の乾燥と熱処理を行なって厚さ
９μｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。この間にフ
ィルム長手方向と幅方向に各々１．２倍、１．３倍延伸
を行ない、２８０℃で１．５分間熱処理を行なった後、
１２０℃／秒の速度で急冷した。

【００５９】このフィルムの［Ｆ−１］１０００値は１
３ｋｇ／ｍｍ２　、［Ｆ−１］１０／［Ｆ−１］１００
０＝０．９２であった。このフィルムの［Ｒａ］０．０
８値は０．００６μｍ、［Ｒａ］０．００８　／［Ｒａ
］０．０８＝０．８５であった。次にこのフィルムの耐
削れ性、走行性、電磁変換特性を測定すると共に良好で
あった。

【００６０】実施例２ 実施例１と同様の方法で得られた粒子添加前のポリマ溶
液を２分割し、一方に０．２μｍの球状シリカをポリマ
当たり１．０ｗｔ％添加した（ポリマ溶液Ｉ）。他方に
は０．３μｍの球状シリカをポリマ当たり０．５ｗｔ％
添加した（ポリマ溶液ＩＩ）。この２つのポリマを、そ
れぞれ１０μｍカットのフィルタを通した後、３層複合
管にて基層部にポリマＩＩを、両面表層積層部にポリマ
Ｉがくるように積層し、ベルト上に流延した。以下実施
例１と同様な方法で芳香族ポリアミドフィルムとした。

【００６１】このフィルムの［Ｆ−１］１０００値は１
３ｋｇ／ｍｍ２　、［Ｆ−１］１０／［Ｆ−１］１００
０＝０．９２であった。このフィルムの［Ｒａ］０．０
８値は０．００８μｍ、［Ｒａ］０．００８　／［Ｒａ
］０．０８＝０．７２であった。このフィルムの耐削れ
性、走行性、電磁変換特性を測定すると共に非常に良好
であった。

【００６２】実施例３ ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）に芳香族ジアミン成
分として５０モル％に相当するパラフェニレンジアミン
と、５０モル％に相当する４、４−ジアミノジフェニル
エ−テルとを溶解させ、これに１００モル％に相当する
無水ピロメリット酸を添加し重合してポリアミド酸を得
た。これを２分割して、一方に０．１μｍの球状シリカ
をポリマ当たり１．０ｗｔ％添加し（ポリマ溶液ＩＩＩ
　）、他方には０．２μｍの球状シリカをポリマ当たり
０．５ｗｔ％添加した（ポリマ溶液ＩＶ）。この２つの
ポリマを実施例２と同様の方法でフィルム基層部にポリ
マ溶液ＩＶがくるように積層し、ベルト上に流延した。 これを１８０℃の熱風で自己保持性を持つまで乾燥し、
さらにベルトから連続的に剥離して４２０℃のテンタ−
で熱処理を行なった後、１２０℃／秒の速度で急冷した
。延伸倍率はＭＤ、ＴＤともに１．１倍、厚みは９μｍ
、このフィルムの［Ｆ−１］１０００値は８ｋｇ／ｍｍ
２　、［Ｆ−１］１０／［Ｆ−１］１０００＝０．９１
であった。このフィルムの［Ｒａ］０．０８値は０．０
０７μｍ、［Ｒａ］０．００８　／［Ｒａ］０．０８＝
０．７６であった。このフィルムの耐削れ性、走行性、
電磁変換特性を測定すると共に非常に良好であった。

【００６３】比較例１〜４ 実施例２と同様のポリマ溶液ＩＩと、添加するシリカ粒
子を表３のように種々変えたポリマ溶液Ｖを実施例２と
同様な方法で、ポリマ溶液ＩＩが基層部にくるように積
層し、実施例１と同様な方法で芳香族ポリアミドフィル
ムとした。

【００６４】比較例１、３は含有する粒子径、含有量が
本発明の範囲に満たないため、表面が平滑すぎてフィル
ムの走行性が非常に劣ったものであった。

【００６５】比較例２、４は含有する粒子径、含有量が
本発明の範囲を越えているために［Ｒａ］０．０８が大
きくなり、走行性は良好であったが、耐削れ性、電磁変
換特性は非常に悪いものであった。

【００６６】比較例５ 実施例２と同様のポリマ溶液Ｉと、粒径６μｍのシリカ
粒子を０．１ｗｔ％添加したポリマ溶液ＶＩを実施例２
と同様な方法で、ポリマＩがフィルム両面表層部にくる
ように積層し、実施例１同様な方法で芳香族ポリアミド
フィルムとした。このフィルムは走行性、耐削れ性は良
好であったが、フィルム表面のうねりが大きく、電磁変
換特性は非常に劣ったものであった。

【００６７】

【表１】

【００６８】

【表２】

【００６９】

【表３】

【００７０】

【発明の効果】本発明のフィルムは、芳香族ポリアミド
あるいは芳香族ポリイミドに粒子を添加したもので、少
なくともフィルムの片方の表面が本発明の表面性の範囲
にあれば、フィルムの加工時、あるいは磁気テ−プ等と
して使用する際の走行性、耐削れ性、電磁変換特性が良
好であり、生産性および品質の向上が図れる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミ
   ドからなるフィルムであって、該フィルムは、少なくと
   も一方向について、引張速度１０００％／分でフィルム
   が１％伸長した際のフィルム強度が６ｋｇ／ｍｍ２　以
   上であり、カットオフ値０．０８ｍｍで測定した少なく
   とも一方の表面の中心線平均粗さ［Ｒａ］０．０８が０
   ．００１〜０．０３μｍの範囲で、カットオフ値０．０
   ０８ｍｍで測定した中心線平均粗さ［Ｒａ］０．００８
   　と［Ｒａ］０．０８が下式■の関係にあることを特徴
   とする磁気記録媒体用ベースフィルム。 ０．５≦［Ｒａ］０．００８　／［Ｒａ］０．０８≦０
   ．９　　・・・・■