JPH08203064A - 磁気記録媒体用フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 走行性に優れ、かつ突起の耐磨耗性が良好で
あり、さらに表面の無欠点性の優れた磁気記録媒体用フ
ィルムを提供する。 【構成】 芳香族ポリアミドまたは芳香族ポリイミドか
らなる磁気記録媒体用フィルムであって、平均粒子径１
０〜５００ｎｍの有機高分子粒子および／又は表面を有
機高分子処理した無機粒子を含有し、一方の面（Ａ面）
の中心線表面粗さＲａＡが０．５〜５０ｎｍであり、他
方の面の中心線表面粗さＲａＢが１０ｎｍ以下であるあ
ることを特徴とする磁気記録媒体用フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体用フィル
ム、特に高密度磁気記録媒体用として好適に用いられる
磁気記録媒体用フィルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】芳香族ポリアミドフィルムや芳香族ポリ
イミドフィルムは、その優れた耐熱性、機械特性を活か
して種々な用途に検討されている。特にパラ配向系の芳
香族ポリアミドは剛性、強度等の機械特性が他のポリマ
より優れているため、フィルムの薄物化に非常に有利で
あり、プリンタリボン、磁気テープ、コンデンサー等の
用途が考えられている。特に磁気テープに使用する場合
フィルムの表面性の改良が必要であり、例えば磁気記録
媒体用フィルムとして無機粒子を添加することにより表
面性を改良した例として、特開昭６０ー１２７５２３号
公報、特開昭６０−２０１９１４号公報などがある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】近年、デジタル記録技
術の進歩、コンピュータの外部メモリへの展開などによ
り、薄膜化、高密度記録化、高耐久性の磁気記録媒体に
適したフィルムの要求がより強くなってきている。

【０００４】しかしながら、芳香族ポリアミドフィルム
あるいは芳香族ポリイミドフィルムを用いる場合下記の
問題がある。第１に、走行性を付与するために、一般に
シリカ、炭酸カルシウムなどの無機粒子をポリマ−中に
添加するが、芳香族ポリアミドや芳香族ポリイミドは、
ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレー
トなどのポリエステルなどに較べポリマー鎖間の分子間
力が非常に強いため無機物との親和性が悪く、粒子が脱
落しやすく、テ−プ化後のドロップアウト多発などの問
題があり、また同様の理由により突起が急峻となる。そ
の上芳香族ポリアミドや芳香族ポリイミドは、一般に分
解開始温度が溶融温度より高い、または非常に近いため
溶液製膜法にて形成されるが、その時溶媒が除去される
と厚みが一般に１／２〜１／１０になるため上記の現象
がより一層顕著になる。磁性面側の問題としてはヘッド
削れがあり、また走行面側の問題としては、磁性面側へ
の凹みの転写や、蒸着テ−プの場合は冷却キャンへの接
触面積の低下によるフィルムの熱寸法変化、いわゆる
“熱負け”の発生などの問題がある。またコンピュータ
用の外部メモリやデジタルビデオテ−プでは、従来の汎
用ビデオテ−プに比べ、特に表面の無欠点性が要求され
るため、従来の例えばオ−ディオ用ベ−スフィルムや汎
用ビデオ用ベ−スフィルムの表面性では到底コンピュー
タ用外部メモリやデジタルビデオテ−プに供することは
出来ない。

【０００５】

【課題を解決するための手段】かかる問題点を解決する
ために、本発明は、以下の構成からなる。

【０００６】芳香族ポリアミドまたは芳香族ポリイミド
からなる磁気記録媒体用フィルムであって、平均粒子径
１０〜５００ｎｍの有機高分子粒子および／又は表面を
有機高分子処理した無機粒子を含有し、一方の面（Ａ
面）の中心線表面粗さＲａＡが３〜３０ｎｍであり、他
方の面の中心線表面粗さＲａＢが１０ｎｍ以下であるあ
ることを特徴とする磁気記録媒体用フィルムとするもの
である。

【０００７】本発明の芳香族ポリアミドとは、次の一般
式（Ｉ）および／または一般式（II）で表わされる繰り
返し単位を５０モル％以上含むものが好ましく、７０モ
ル％以上からなるものがより好ましい。

【０００８】一般式（Ｉ）

【化１】

【化２】 ここで、Ａｒ₁ ，Ａｒ₂ 、Ａｒ₃ は、例えば、

【化３】 などが挙げられ、Ｘ、Ｙは −Ｏ−，−ＣＨ₂ −，−ＣＯ−，−ＳＯ₂ −，−Ｓ−，
−Ｃ（ＣＨ₃ ）₂ − 等から選ばれるが、これに限定されるものではない。更
にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、ハロゲン基
（特に塩素）、ニトロ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₃ のアルキル基（特
にメチル基）、Ｃ₁ 〜Ｃ₃ のアルコキシ基などの置換基
で置換されているものも含み、また、重合体を構成する
アミド結合中の水素が他の置換基によって置換されてい
るものも含む。

【０００９】特性面からは上記の芳香環がパラ位で結合
されたものが、全芳香環の５０％以上、好ましくは７５
％以上を占める重合体が、フィルムの剛性が高く耐熱性
も良好となるため好ましい。また芳香環上の水素原子の
一部がハロゲン基（特に塩素）で置換された芳香環が全
体の３０％以上であると耐湿性が向上し、吸湿による寸
法変化、剛性低下などの特性が改善されるために好まし
い。

【００１０】本発明の芳香族ポリアミドは、一般式
（Ｉ）および／または一般式（II）で表される繰り替え
し単位を５０モル％以上含むものであって、５０モル％
未満は他の繰り替えし単位が共重合、またはブレンドさ
れていても差し支えない。

【００１１】本発明における芳香族ポリイミドとは、重
合体の繰り返し単位の中に芳香環とイミド環を１つ以上
含むものであり、一般式（III ）および／または一般式
（IV）で示される繰り返し単位を５０モル％以上含むも
のが好ましく、より好ましくは７０モル％以上である。

【００１２】一般式（III ）

【化４】 一般式（IV）

【化５】 ここでＡｒ₄ 、Ａｒ₆ は少なくとも１個の芳香環を含
み、イミド環を形成する２つのカルボニル基は芳香環上
の隣接する炭素原子に結合している。このＡｒ₄ は、芳
香族テトラカルボン酸あるいはこの無水物に由来する。
代表例としては次の様なものが挙げられる。

【００１３】

【化６】 ここでＺは −Ｏ−，−ＣＨ₂ −，−ＣＯ−，−ＳＯ₂ −、−Ｓ−，
−Ｃ（ＣＨ₃ ）₂ − 等から選ばれるが、これに限定されるものではない。

【００１４】また、Ａｒ₆ は無水カルボン酸あるいはこ
のハライドに由来する。Ａｒ₅ 、Ａｒ₇ は例えば

【化７】 などが挙げられ、Ｘ、Ｙは −Ｏ−，−ＣＨ₂ −，−ＣＯ−，−ＳＯ₂ −、−Ｓ−，
−Ｃ（ＣＨ₃ ）₂ − 等から選ばれるが、これに限定されるものではない。更
にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、ハロゲン基
（特に塩素）、ニトロ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₃ のアルキル基（特
にメチル基）、Ｃ₁ 〜Ｃ₃ のアルコキシ基などの置換基
で置換されているものも含み、また、重合体を構成する
アミド結合中の水素が他の置換基によって置換されてい
るものも含む。

【００１５】本発明の芳香族ポリイミドは、一般式（II
I ）および／または一般式（IV）で表される繰り替えし
単位を５０モル％以上含むものであって、５０モル％未
満は他の繰り替えし単位が共重合、またはブレンドされ
ていても差し支えない。

【００１６】また本発明の芳香族ポリアミド、芳香族ポ
リイミドには、フィルムの物性を損なわない程度に、酸
化防止剤等の添加剤等がブレンドされていてもよい。

【００１７】本発明のフィルムはその最外層の表面Ａ
面、Ｂ面の中心線表面粗さが特定の範囲内である必要が
ある。このために本発明のフィルムは、単層にてＡ面、
Ｂ面の所要中心線表面粗さを達成してもよく、また、Ａ
層およびＢ層の少なくとも二層からなる複合フィルムと
してもよい。更にＡ／Ｃ／Ｂの三層フィルムをすること
もできる。ここでＡ層とは該フィルムの２つの最外層の
内、Ａ面を形成する層を指す。なおＡ面は走行面とする
事が好ましく、走行性付与のために粗い面である必要が
ある。一方Ｂ層とは該フィルムの２つの最外層の内、Ｂ
面を形成する層を指す。なおＢ面は磁性面とすることが
好ましく、電磁変換特性の向上のために平滑な面であ
り、中心線平均粗さで１０ｎｍ以下である必要があり、
好ましくは０．５〜８ｎｍ、より好ましくは０．５〜６
ｎｍである。１０ｎｍより大きいとドロップアウトが発
生しやすくなる。またＡ面の粗い面とは中心線表面粗さ
で０．５〜５０ｎｍの範囲の面であり、好ましくは１〜
３０ｎｍ、好ましくは３〜２０ｎｍである。中心線表面
粗さが３ｎｍ未満の平滑な面の場合は、製膜工程や磁性
層の塗布工程および蒸着ビデオの場合の冷却キャンでの
走行性不良などを引き起こし好ましくない。さらに中心
線表面粗さが５０ｎｍより大きい場合は、走行性は良好
となるが、蒸着ビデオの場合に冷却キャンへの接触面積
が小さくなり、冷却不足となり、熱熱寸法変化が大きく
なる、いわゆる“熱負け”が起こるため好ましくない。
この表面粗さを達成するためには、Ａ層に粒子を含有す
る必要がある。すなわち粒子径が１０〜５００ｎｍ、好
ましくは１０〜４００ｎｍ、より好ましくは１０〜２５
０ｎｍの範囲であり、材料としては、例えば架橋ポリビ
ニルベンゼン、アクリル粒子、架橋ポリスチレン、ポリ
エステル粒子、ポリイミド粒子、ポリアミド粒子、フッ
素樹脂粒子などの有機高分子からなる粒子、あるいは表
面に他の有機高分子で被覆等の各種処理を施した上記の
有機高分子粒子、あるいは表面に上記の有機高分子で被
覆等の各種処理を施した無機粒子、例えば酸化チタン、
酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウ
ム、コロイダルシリカ等が挙げられる。すなわち、芳香
族ポリアミドまたは芳香族ポリイミドはポリマー鎖の分
子間力が強いため、無機粒子との親和性が低く、芳香族
ポリアミドまたは芳香族ポリイミドと親和性の高い有機
高分子粒子あるいは有機高分子によって表面を処理した
無機粒子を使用する必要がある。該粒子の形状について
は、突起高さや突起の形状を制御しやすい観点から球状
粒子であることが特に好ましい。またフィルム表面に形
成する突起の高さをそれぞれ均一にするために、該粒子
の粒度分布が相対標準偏差で０．５以下であることが特
に好ましい。該粒子は、製膜工程の熱による変形や熱劣
化の少ない、いわゆる耐熱性高分子粒子であることが特
に好ましい。ここで耐熱性高分子粒子とは、熱重量分析
で１０％減量の起こる温度が３５０℃以上、より好まし
くは３８０℃以上の高分子粒子を指す。

【００１８】本フィルム表面の突起について、突起の平
均高さと該粒子の平均径の比が特定の範囲内にあるのが
好ましい。すなわち、該粒子の平均径に対して突起の高
さが高いと急峻な突起となり、またポリマ−に埋没して
いる部分が小さくなり、そのため製膜工程、磁性層塗布
工程や磁性層蒸着工程の際のロ−ルとの摩擦により容易
に脱落してしまうためである。具体的には、突起の平均
高さと該粒子の平均径の比が１／６〜１／２であるのが
好ましい。より好ましくは突起の平均高さと該粒子の平
均径の比が１／４〜１／２の範囲にあることが好まし
い。突起の平均高さと該粒子の平均径の比が１／６未満
の場合は、走行性を付与するのに十分な突起となりにく
い。逆に１／２より大きい場合は、ロ−ルなどによる摩
擦によって該粒子が脱落しやすくなる。より望ましくは
突起の平均高さと該粒子の平均径の比が１／４〜１／２
の範囲にあることが好ましい。

【００１９】該粒子の含有量は好ましくは０．００１〜
３重量％、より好ましくは０．０１〜１重量％である。
該粒子を含有せしめる方法としては、まず１０ポイズ以
下の有機溶媒あるいは芳香族ポリアミドや芳香族ポリイ
ミドあるいはポリアミド酸溶液中にスラリーの形で混
合、分散させておくのが好ましい。添加時期は重合前、
重合中、重合後のいずれに添加されてもよい。

【００２０】また粒子の含有なお平滑性を損なわない限
りにおいてはＢ層に粒子を添加しても良い。その際は上
記Ａ層に含有せしめる粒子、含有量および添加法を適用
しても良いし、また他の粒子、含有量および添加法を用
いても良い。

【００２１】本発明のフィルムの磁性層を設ける側の面
は無欠点性の高い面であるのが好ましい。すなわち該フ
ィルムのＢ面（磁性面）において、高さｈ（ｎｍ）の粗
大突起個数（Ａ；個／１００ｃｍ² ）が下記式を満足す
ることである。

【００２２】 ｈ≧２７０ Ａ＜１００ ｈ＞５４０ Ａ＜７０ ｈ＞８１０ Ａ＜１５ ｈ＞１０８０ Ａ＜５ デジタルビデオテ−プでは、この範囲を越えるような欠
点の多い面では、電磁変換特性の一つであるドロップア
ウトが多くなる。上記の式を満足するため、製膜原液に
おいて所定の濾過精度を有するフィルタ−を通過せしめ
てポリマ−中に存在する粗大異物を除去する方法が好ま
しい。ここで濾過精度とは、粒子をポリマ−あるいは溶
媒などに分散し、フィルタ−を通過させた時に、丁度９
５％フィルタ−上に補足された粒子の粒径として定義す
る。この濾過精度の値が小さくなるほど、より小さな異
物の除去が可能となる。本発明のフィルタ−の濾過精度
としては６０００ｎｍ以下、好ましくは５０００ｎｍ以
下、さらに好ましくは３０００ｎｍ以下である。その他
表面無欠点性のために、重合原料、添加剤などのポリマ
ー原料の段階で濾過を行いクリ−ンなポリマ−などを用
いる方法もある。

【００２３】次に本発明の製造方法を説明するが、これ
に限定されるものではない。

【００２４】まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロリ
ドとジアミンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリドン
（ＮＭＰ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメ
チルホルムアミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極
性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面
重合などで合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸
クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副生する
が、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、
トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノー
ルアミンなどの有機の中和剤が使用される。また、イソ
シアネートとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機
極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。

【００２５】これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液と
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。

【００２６】本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得る
ためにはポリマの固有粘度（ポリマ０．５ｇを硫酸中で
１００ｍｌの溶液として３０℃で測定した値）は、０．
５以上であることが好ましい。

【００２７】製膜原液には溶解助剤として無機塩例えば
塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸
リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポリ
マ濃度は２〜４０wt％程度が好ましい。

【００２８】粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中に十
分スラリ−化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒とし
て使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加す
る方法などがある。

【００２９】上記のように調製された製膜原液は、濾過
精度が６０００ｎｍ以下のフィルターによって濾過され
た後、いわゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれ
る。溶液製膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがあ
る。湿式法で製膜する場合には該原液を瀘過後、口金か
ら直接製膜用浴中に押し出すか、又は一旦ドラムやベル
ト等の支持体上に押し出し、支持体ごと湿式浴中に導入
する方法が採用される。この浴は一般に水系媒体からな
るものであり、水の他に有機、無機の溶媒や無機塩等を
含有していてもよい。該浴温度は通常０〜１００℃で使
用され、湿式浴を通すことでフィルム中に含有された塩
類、溶媒の抽出が行なわれる。ここで湿式浴に導入され
るときのフィルムは未だ充分な表面硬度を持っていない
ため、湿式浴媒体にコンタミ等があるとフィルム表面の
付着し表面性が悪化する。このため湿式浴に使用される
媒体は、濾過精度６０００ｎｍ以下、好ましくは５００
０ｎｍ以下、更に好ましくは３０００ｎｍ以下のフィル
ターを通して供給される必要がある。これら湿式浴全体
を通過する時間はフィルムの厚みにもよるが１０秒〜３
０分である。さらに必要に応じフィルムの長手方向に延
伸が行なわれる。次いで乾燥、熱処理が行なわれるがこ
れらの処理は一般に２００〜５００℃で、合計で１秒〜
３０分で行われるのが好ましいが、有機粒子の耐熱温度
以下で行われるのがより好ましい。なおこの過程で必要
に応じて横延伸が行なわれる。

【００３０】乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金か
らドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して
薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜
が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜２
２０℃、６０分以内の範囲であり、好ましくは室温〜２
００℃の範囲である。乾燥温度が２２０℃を超えると急
激な脱溶媒により表面が荒れ、Ａ面の中心線平均粗さが
本発明の範囲を超え、また粗大突起個数も急増する。ま
た、この乾燥工程で用いられるドラム、エンソレスベル
トの表面欠点頻度を制御することでＢ面の表面性を本発
明の範囲内に制御できる。好ましくは径が３０μｍ以上
の表面欠点頻度が０．００１〜０．０２個／ｍｍ² 、よ
り好ましくは０．００２〜０．０１５個／ｍｍ² であ
る。乾式工程を終えたフィルムは支持体から剥離されて
湿式工程に導入され、上記の湿式法と同様に脱塩、脱溶
媒などが行なわれ、さらに延伸、乾燥、熱処理が行なわ
れてフィルムとなる。

【００３１】乾式法のプロセスを採用した場合には、ド
ラム、あるいはエンドレスベルト等の上で乾燥され、自
己保持性をもったフィルムを、これら支持体から剥離
し、フィルムの長手方向に延伸を行なう。さらに残存溶
媒を除去するための乾燥や、延伸、熱処理が行なわれる
が、これらの処理は２００〜５００℃で１秒〜３０分で
行われるのが好ましいが、有機粒子の耐熱温度以下で行
われるのがより好ましい。

【００３２】以上のように形成されるフィルムはその製
膜工程中で、機械特性、熱特性が本発明の範囲となるよ
うに延伸が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で０．８〜
８．０（面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフ
ィルムの面積で除した値で定義する。１以下はリラック
スを意味する。）の範囲内にあることが好ましく、より
好ましくは１．１〜５．０である。

【００３３】なお本発明のフィルムは、単層フィルムで
あっても問題ないが積層フィルムとしてもよい。例えば
２層の場合には、重合した芳香族ポリアミド溶液を二分
し、それぞれ異なる粒子を添加した後、積層する。さら
に３層以上の場合も同様である。これら積層の方法とし
ては、周知の方法たとえば、口金内での積層、複合管で
の積層や、一旦１層を形成しておいてその上に他の層を
形成する方法などがある。

【００３４】なお磁気記録媒体とするには、該フィルム
の表面に磁性体粉末を含んだ高分子バインダ−を塗布す
る方法、あるいはコバルト等の磁性金属を減圧下で蒸着
する方法によって磁性体を施し、表面処理などを施した
後に所定の幅に裁断し、カセット等に組み込み製品とす
る。

【００３５】本発明の特性値は次の測定法、評価基準に
よるものである。

【００３６】（１）突起高さについて 得られたフィルムの垂直断面を電子顕微鏡にて１２００
０倍の倍率で写真撮影し、その突起の高さを、フィルム
平面からの突起頂点まで垂直距離として求め、そのうち
１００個の平均値として求めた。

【００３７】（２）表面粗さ（Ｒａ） 小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１０を用い
て測定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定
の平均値をもって値とした。

【００３８】 ・触針先端半径：０．５μｍ ・触針荷重 ：５ｍｇ ・測定長 ：１ｍｍ ・カットオフ値：０．０８ｍｍ なお、Ｒａの定義は、たとえば奈良治郎著「表面粗さの
測定・評価法」（総合技術センタ−、１９８３）に示さ
れているものである。

【００３９】（３）粗大突起個数について ポリマ−中のコンタミによる粗大突起の個数について
は、顕微鏡により５０ｃｍ² 以上観察し、その突起高さ
は多重干渉法により求め、個数を１００ｃｍ2 当たりの
個数に換算した。

【００４０】（４）含有粒子の平均粒子径 電子顕微鏡にて粒子を観察し、粒子の画像（粒子によっ
てできる光の濃淡）をイメ−ジアナライザ−（たとえば
ケンブリッジインストルメンタル製ＱＴＭ９００）に結
び付け、観察箇所を変えて粒子数５０００個以上で次の
数値処理を行い、それによって求めた数平均径Ｄを平均
粒子径とする。

【００４１】Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎ ここで、Ｄｉは粒子の円相当径、Ｎは個数である。

【００４２】（５）含有粒子の相対標準偏差 上記（４）の方法で測定されたここの粒子径Ｄｉ、平均
粒子径Ｄ、粒子総数Ｎから計算される標準偏差σ（＝
｛Σ（Ｄｉ−Ｄ）² ／Ｎ｝）を平均粒子径Ｄで割った値
（σ／Ｄ）で表わした。

【００４３】（６）含有粒子の含有量 粒子は溶解させない溶媒を選択しフィルムを溶解させ、
粒子を遠心分離し、粒子の全体重量に対する比率（重量
％）をもって粒子含有量とする。場合によっては赤外分
光法の併用も有効である。

【００４４】（７）含有粒子の耐熱温度 島津製作所製ＴＧ−３０Ｍを用いて、昇温速度１０℃／
分、窒素中で熱重量分析を行い１０％減量時の温度を熱
分解温度とした。尚、試料重量は５ｍｇとした。

【００４５】（８）粒子脱落について フィルムを１／２インチにスリットし、そのフィルムの
一端に１ｋｇ／ｍｍ² となる荷重を加え、直径５ｍｍで
表面が鏡面であるステンレス製ガイドピンに１８０°接
触させ１方向に１０ｍ擦付け、ガイドピンに残った脱落
粒子の程度で判定した。

【００４６】 ・ガイドピンへの付着なし ◎ ・部分的に極少量付着 ○ ・部分的に少量付着 △ ・全面に付着 × （９）熱負けの判定 熱負けについては、−１０℃のク−リングキャンに沿わ
せて１×１０^-5Ｔｏｒｒの真空中で０．２μｍコバルト
を電子ビ−ム蒸着し、そのフィルムを長手方向に１０ｍ
観察し、熱による膨らみや凹みなど、変形の度合いにて
判定した。

【００４７】 ・蒸着後の変形がまったくない ◎ ・部分的に変形がある △ （膨らみ、凹みあり） ・全面が著しく変形している × （膨らみ、凹みの他、熱による穴開き有り） （１０）ドロップアウトの測定 上記（９）にて得られたコバルト蒸着後のフィルムを、
１／２インチにスリットし、松下電器（株）製ＮＶ−３
７００型ビデオデッキにより、常速にて４．４メガヘル
ツの信号を記録し、該テ−プを再生し、大倉インダスト
リ−（株）製ドロップアウトカウンタ−にて１５μｓｅ
ｃ−２０ｄＢにおけるドロップアウト数を２０分間測定
し、１分間当たりのドロップアウト数（個／分）に換算
した。

【００４８】

【実施例】次に実施例に基づき本発明を説明するがこれ
らに限定されるものではない。

【００４９】実施例１ Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）に芳香族ジアミン成分
として８０モル％に相当する２−クロルパラフェニレン
ジアミンと、２０モル％に相当する４、４−ジアミノジ
フェニルエ−テルとを溶解させ、これに１００モル％に
相当する２−クロルテレフタル酸クロリドを添加し、２
時間撹拌して重合を完了した。これを水酸化リチウムで
中和して、ポリマ濃度１０重量％、粘度３０００ポイズ
の芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液に、平均粒径
１５０ｎｍで粒度分布の相対標準偏差が０．４の球状で
熱重量分析で１０％減量の起こる温度が３９０℃の耐熱
性架橋ポリスチレン粒子をポリマ当たり１．０ｗｔ％添
加した。

【００５０】このポリマ溶液を濾過精度５０００ｎｍの
フィルタ−を通した後、径が３０μｍ以上の表面欠点の
頻度が０．００５個／ｍｍ² のベルト上に流延し、１８
０℃の熱風で２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持
性を得たフィルムをベルトから連続的に剥離した。次に
濾過精度４０００ｎｍのフィルターで濾過されたＮＭＰ
と水を用いて濃度勾配をつけた水槽内へフィルムを導入
して残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行ない、
テンタ−で水分の乾燥と熱処理を行なって厚さ４．５μ
ｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。この間にフィル
ム長手方向と幅方向に各々１．２倍、１．３倍延伸を行
ない、２８０℃で１．５分間乾燥と熱処理を行なった
後、２０℃／秒の速度で徐冷し芳香族ポリアミドフィル
ムを得た。フィルム特性、磁気テープ特性を表１に示
す。

【００５１】実施例２ 実施例１と同一組成のポリマを二分し、一方に平均粒径
１５０ｎｍで粒度分布の相対標準偏差が０．４の球状で
熱重量分析で１０％減量の起こる温度が３９０℃の耐熱
性架橋ポリスチレン粒子をポリマ当たり１．０ｗｔ％添
加してＡ層用の製膜原液とした。他方には、同一の熱特
性を持つ平均粒径５０ｎｍの耐熱性架橋ポリスチレン粒
子をポリマ当たり０．１ｗｔ％添加してＢ層用の製膜原
液とした。Ａ層用の製膜原液は濾過精度５０００ｎｍの
フィルターで濾過し、Ｂ層用の製膜原液は濾過精度１５
００ｎｍのフィルターで濾過後、口金真上に設置したピ
ノールでＡ層がエンドレスベルトに接するよう厚み方向
に積層し、実施例１と同様にして３．６μｍの芳香族ポ
リアミドフィルムを得た。尚，Ａ層／Ｂ層の積層比は２
／１であった。

【００５２】フィルム特性、磁気テープ特性を表１に示
す。

【００５３】実施例３ 実施例３は、実施例２により得られたフィルムに、下記
水溶液をメタリングバーコータを用いてＡ面、Ｂ面にそ
れぞれ塗布し、その後１５０℃で４５秒、２３０℃で３
０秒乾燥させて芳香族ポリアミドフィルムを得た。

【００５４】 ・Ａ面 ＮＭＰ ５．０ ％ コロイダルシリカ ０．０３％（平均粒径１６ｎｍ） ・Ｂ面 ＮＭＰ ５．０ ％ コロイダルシリカ ０．０１％（平均粒径１６ｎｍ） フィルム特性、磁気テープ特性を表１に示す。

【００５５】実施例４ ＮＭＰに芳香族ジアミン成分として１００モル％に相当
する２ークロルパラフェニレンジアミンを溶解させ、こ
れに１００モル％に相当する３，３’，４，４’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物を添加し重合してポリ
アミド酸溶液を得た。この溶液に、実施例１と同一の耐
熱性架橋ポリスチレン粒子をポリマ当たり２ｗｔ％添加
した。

【００５６】このポリマ溶液を濾過精度５０００ｎｍの
フィルタ−を通した後、径が３０μｍ以上の表面欠点の
頻度が０．００５個／ｍｍ² のベルト上に流延し、１５
０℃の熱風で２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持
性を得たフィルムをベルトから連続的に剥離した。次に
３６０℃のテンタ−で３分間熱処理を行なった後、２０
℃／秒の速度で徐冷し芳香族ポリイミドフィルムを得
た。延伸倍率はＭＤ、ＴＤともに１．１倍、厚みは６μ
ｍであった。

【００５７】フィルム特性、磁気テープ特性を表１に示
す。

【００５８】実施例５ 実施例５は、実施例１の方法について、平均粒径１５０
ｎｍで粒度分布の相対標準偏差が０．４の球状の架橋ポ
リスチレン粒子を用いる代わりに、平均粒径１５０ｎｍ
で粒度分布の相対標準偏差が０．４で、表面をポリエス
テルにてコ−ティングした球状シリカを用いる他は、実
施例２と同じ方法で本発明を実施した。フィルム特性、
磁気テープ特性を表１に示す。

【００５９】比較例１ 実施例１の方法について、平均粒径１００ｎｍで粒度分
布の相対標準偏差が０．４の球状の架橋ポリスチレン粒
子を用いる代わりに、平均粒径１５０ｎｍで粒度分布の
相対標準偏差が０．４の、表面に有機高分子のコ−ティ
ングを施していない球状シリカを用いる他は、実施例２
と同じ方法で、本発明との比較を行なった。

【００６０】フィルム特性、磁気テープ特性を表１に示
す。

【００６１】比較例２ 実施例１の方法について、平均粒径１００ｎｍで粒度分
布の相対標準偏差が０．４の球状の架橋ポリスチレン粒
子を用いる代わりに、平均粒径８００ｎｍで粒度分布の
相対標準偏差が０．４の球状架橋ポリスチレン粒子を用
いる他は、実施例１と同じ方法で本発明との比較を行な
った。

【００６２】フィルム特性、磁気テープ特性を表１に示
す。

【００６３】比較例３ 実施例１の方法について、濾過精度５０００ｎｍのフィ
ルタ−にて濾過する代わりに濾過精度１００００ｎｍの
フィルタ−にて濾過する他は、実施例１と同じ方法で本
発明との比較を行なった。

【００６４】フィルム特性、磁気テープ特性を表１に示
す。

【００６５】

【表１】

【００６６】

【発明の効果】本発明フィルムは、芳香族ポリアミドま
たは芳香族ポリイミドフィルムを用い、所定の粒子を使
用することにより、走行性に優れ、かつ突起の耐磨耗性
の良好な磁気記録媒体用、特に高密度、高精度が要求さ
れるデータ８ｍｍ、ＱＩＣ、ＤＤＳ−２、３、４などの
コンピュータ外部メモリ用テープやデジタルビデオ用テ
−プに適したフィルムを提供する。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 芳香族ポリアミドまたは芳香族ポリイミ
   ドからなるフィルムであって、平均粒子径１０〜５００
   ｎｍの有機高分子粒子および／又は表面を有機高分子処
   理した無機粒子を含有し、一方の面（Ａ面）の中心線表
   面粗さＲａＡが０．５〜５０ｎｍであり、他方の面の中
   心線表面粗さＲａＢが１０ｎｍ以下であるあることを特
   徴とする磁気記録媒体用フィルム。
2. 【請求項２】 該フィルムの少なくとも片面において表
   面突起の平均高さと該粒子の平均径の比が１／６〜１／
   ２にあることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒
   体用フィルム。
3. 【請求項３】 該フィルムがＡ層およびＢ層の少なくと
   も２層からなるフィルムであることを特徴とする請求項
   １又は２に記載の磁気記録媒体用フィルム。
4. 【請求項４】 該Ａ層に有機高分子粒子および／又は表
   面を有機高分子処理した無機粒子を０．００１〜３重量
   ％含有することを特徴とする請求項１〜３に記載の磁気
   記録媒体用フィルム。
5. 【請求項５】 有機高分子粒子および／又は表面を有機
   高分子処理した無機粒子が球状であり、該粒子の粒度分
   布が相対標準偏差で０．５以下であることを特徴とする
   請求項１〜４に記載の磁気記録媒体用フィルム。
6. 【請求項６】 有機高分子粒子が耐熱性有機高分子から
   なることを特徴とする請求項１〜５に記載の磁気記録媒
   体用フィルム。
7. 【請求項７】 該フィルムの少なくとも片面に微細粒子
   からなる塗膜が施されていることを特徴とする請求項１
   〜６に記載の磁気記録媒体用フィルム。
8. 【請求項８】 該フィルムのＢ面において、高さｈ（ｎ
   ｍ）の粗大突起個数（Ａ；個／１００ｃｍ² ）が下記式
   を満足することを特徴とする請求項１〜７に記載の磁気
   記録媒体用フィルム。 ｈ≧２７０ Ａ＜１００ ｈ＞５４０ Ａ＜７０ ｈ＞８１０ Ａ＜１５ ｈ＞１０８０ Ａ＜５