JPH0971670A - 芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム - Google Patents
芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルムInfo
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Abstract
ム、芳香族ポリイミドフィルムを提供する。 【解決手段】厚みが0.2〜50μmであり、面配向係
数が0.200以上0.600以下、少なくとも一方向
の引裂伝播抵抗が80g/mm以上800g/mm以
下、塩化メチレン抽出物が0.5wt%以下であること
を特徴とする芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポ
リイミドフィルムとする。
Description
な芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフ
ィルムに関するものである。さらに詳しくは磁気記録媒
体用ベースフィルム、フレキシブルプリント基板、感熱
転写リボンとして有用な芳香族ポリアミドフィルムまた
は芳香族ポリイミドフィルムに関する。
族ポリイミドフィルムはその優れた、機械特性、耐熱性
から磁気記録媒体用ベースフィルム、フレキシブルプリ
ント基板(特公昭57−3236、特公平6−8289
6など)、感熱転写リボン(特開昭60−17469
4、特開昭63−237989など)などの材料として
用いられている。特に、磁気記録媒体のベースフィルム
としては、これまでは主にポリエステルフィルムが用い
られているが 近年、磁気記録媒体の高密度化、小型
化、記録時間の長時間化などによりそのベースフィルム
に対する薄膜化の要求はますます強くなってきており、
高弾性率の芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリ
イミドフィルムが注目されている。(特開昭58−16
8655、特開昭62−62424など)
られる芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミ
ドフィルムはその製造工程、加工工程あるいは最終製品
において、フィルムをテープ状にスリットしたり、スリ
ットしたテープを巻き上げることが行われる。このスリ
ット工程は、製品の生産性に大きく影響するため重要な
工程となっているが、高弾性率の芳香族ポリアミドフィ
ルムや芳香族ポリイミドフィルムを用いた場合には、し
ばしば、フィルムの切り口にヒゲや切り粉が多く発生す
ることがある。ヒゲや切り粉が多い場合には、これらが
スリット刃に付着するため、刃の清掃、交換頻度が増加
し生産性が悪化する。特に磁気テープとして用いた場合
には、スリット時のヒゲや切り粉が原因となり、これら
が磁性層に付着してドロップアウト等の原因となるため
製品の歩留まりが悪化するという問題がある。
工程、加工工程でヒゲや切り粉の少ないスリット性の良
好な芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミド
フィルムを提供することを目的とする。
結果、次に述べるような芳香族ポリアミドまたは芳香族
ポリイミドからなるフィルム用いれば、上記問題を解決
したフィルムが得られることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明は厚みが0.2〜50μmであり、面
配向係数が0.200以上0.600以下、少なくとも
一方向の引裂伝播抵抗が80g/mm以上800g/m
m以下、塩化メチレン抽出物が0.5wt%以下である
ことを特徴とする芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香
族ポリイミドフィルムである。
次の一般式(I)および/または一般式(II)で表さ
れる繰り返し単位を50モル%以上含むものが好まし
く、70モル%以上からなるものがより好ましい。
−,−SO2 −、−S−,−C(CH3 )2 −等から選
ばれるが、これに限定されるものではない。更にこれら
の芳香環上の水素原子の一部が、塩素、フッ素、臭素な
どのハロゲン基(特に塩素)、ニトロ基、メチル基、エ
チル基、プロピル基などのアルキル基(特にメチル
基)、エトキシ基、メトキシ基、プロポキシ基、イソプ
ロポキシ基などのアルコキシ基等で置換されているもの
も含み、また、重合体を構成するアミド結合中の水素が
他の置換基によって置換されているものも含む。
されたものが、全芳香環の50%以上、好ましくは75
%以上を占める重合体が、面配向し易く高弾性率のフィ
ルムが得られるため好ましい。また芳香環上の水素原子
の一部がハロゲン基(特に塩素)で置換された芳香環が
全体の30%以上、好ましくは50%以上、更に好まし
くは70%以上であると、吸湿率が小さくなるため好ま
しい。
(I)および/または一般式(II)で表される繰り返
し単位を50モル%以上含むものであって、50モル%
未満は他の繰り返し単位が共重合、またはブレンドされ
ていても差し支えない。
合体の繰り返し単位の中に芳香環とイミド環を1つ以上
含むものであり、一般式(III)および/または一般
式(IV)で示される繰り返し単位を50モル%以上含
むものが好ましく、より好ましくは70モル%以上であ
る。
み、イミド環を形成する2つのカルボニル基は芳香環上
の隣接する炭素原子に結合している。このAr4 は、芳
香族テトラカルボン酸あるいはこの無水物に由来する。
代表例としては次の様なものが挙げられる。
2 −、−S−,−C(CH3 )2 −等から選ばれるが、
これに限定されるものではない。
のハライドに由来する。Ar5 、Ar7 は例えば
−,−SO2 −、−S−,−C(CH3 )2 −等から選
ばれるが、これに限定されるものではない。更にこれら
の芳香環上の水素原子の一部が、塩素、フッ素、臭素な
どのハロゲン基(特に塩素)、ニトロ基、メチル基、エ
チル基、プロピル基などのアルキル基(特にメチル
基)、エトキシ基、メトキシ基、プロポキシ基、イソプ
ロポキシ基などのアルコキシ基等で置換されているもの
も含み、また、重合体を構成するアミド結合中の水素が
他の置換基によって置換されているものも含む。
II)および/または一般式(IV)で表される繰り返
し単位を50モル%以上含むものであって、50モル%
未満は他の繰り返し単位が共重合、またはブレンドされ
ていても差し支えない。
リイミドには、フィルムの物性を損なわない程度に滑
剤、酸化防止剤その他の添加剤等がブレンドされていて
もよい。
ためには、フィルムの面配向係数が0.200以上0.
600以下、好ましくは0.210以上0.550以
下、さらに0.220以上0.450以下である。ここ
で言う面配向係数とは、フィルムの長手方向の屈折率を
nx 、巾方向の屈折率をny 、厚み方向の屈折率をnz
としたとき、(面配向係数)=(nx +ny )/2−n
z で表されるものである。面配向係数が0.200未満
の場合には切断部分にヒゲが生じやすく、磁気テープと
した場合にドロップアウトが多くなるだけでなく、切断
部分に盛り上がりが生じて巻き姿の悪化を招くこともあ
る。また、0.600より大きい場合には切り粉が多く
磁気テープとした場合ドロップアウトの原因となる。
は、長手方向、巾方向の少なくとも一方向が80g/m
m以上800g/mm以下、好ましくは90g/mm以
上600g/mm以下、さらに好ましくは100g/m
m以上400g/mm以下である。また、スリット方向
(通常長手方向)がこの範囲にあると好ましく、長手方
向、巾方向ともにこの範囲内であるとさらに好ましい。
80g/mmより小さい場合には切り粉が発生しやす
く、また、スリット方向へのフィルム裂けやフィルム切
れが起きやすくなる。800g/mmより大きい場合に
はヒゲが発生し易く、また、スリット刃の寿命が短くな
る。
抽出物が0.5wt%以下である必要がある。より好ま
しくは0.0001wt%以上0.4wt%以下、さら
に好ましくは0.001wt%以上0.3wt%以下で
ある。塩化メチレンによるオリゴマ等の抽出物が0.5
wt%より大きいとスリット時のヒゲが多くなり、ま
た、オリゴマなどでスリット刃が汚れ易くなるためよく
ない。0.0001wt%未満であると切り粉が多くな
る傾向がある。
μm、好ましくは1〜20μmであると本発明の効果で
ある良好なスリット性が得られる。
および含有量は用途により適宜選択されるべきである
が、その平均一次粒径は0.01〜2μmであることが
好ましくフィルムに含有される粒子の含有量は0.01
〜5wt%であることが好ましく、さらに好ましくは
0.05〜3wt%である。粒子の粒径、含有量が上記
の範囲より大きいまたは多いとスリット時に粒子の脱落
が多くなり切り粉も多くなる。粒子の粒径、含有量が上
記範囲より小さいまたは少ないとフィルムの走行性が悪
く取り扱いにくくなる。粒子の種類としては、Si
O2 、TiO2 、Al2O3 、CaSO4 、BaS
O4 、CaCO3 、カ−ボンブラック、ゼオライト、そ
の他の金属微粉末などの無機粒子や、シリコン粒子、ポ
リイミド粒子、架橋共重合体粒子、架橋ポリスチレン粒
子、テフロン粒子などの有機高分子などがあるが、耐熱
性の点から無機粒子の方がより好ましい。
設計がなされるべきであるが、磁気記録用途としてはR
pで2〜500nm、より好ましくは3〜300nm、
Raで0.1〜100nm、より好ましくは0.2〜5
0nm、Rzで2〜500nm、より好ましくは3〜4
00nmである。
%以下が好ましく、2.5%以下がより好ましい。吸湿
率が3.5%を超えると湿度変化に対する寸法安定性が
悪くなり、カールやしわなどの平面性悪化を招いたり、
磁気テープの電磁変換特性が悪化するので好ましくな
い。
上であることが好ましく、より好ましくは20%以上で
あるとテープが適度な柔軟性を持つので望ましい。
方向、巾方向ともに800kg/mm2 以上好ましくは
1000kg/mm2 以上であると薄膜化しても取り扱
いやすく、磁気テープとした場合にヘッドタッチが悪化
せず、電磁変換特性が良好となる。
の熱収縮率は5%以下が好ましく、より好ましくは2%
以下であると高温使用時の耐久性に優れ、また磁気テー
プとして使用した場合、良好な電磁変換特性が保てるの
で好ましい。
ルムでも用いられるが、積層フィルムであっても良い。
ト基板、感熱転写リボン、磁気記録媒体用ベースフィル
ム等のさまざまな用途に使用できるが、特に磁気記録媒
体用ベースフィルムとして有用である。
る場合には、片面または両面に磁性層を設けて磁気記録
媒体とする。
化鉄、酸化クロム、Fe,Co、Fe−Co、Fe−C
o−Ni、Co−Ni等の強磁性粉末を各種バインダー
を用いて磁性塗料とし支持体フィルム上に塗布する湿式
法、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法などの乾式法があり、特に限定されるものではない。
更に走行性を向上させるために、公知の方法によりバッ
クコート層を設けてもよい。
の幅にスリットして磁気記録媒体となる。
0.2〜6.5μm以下、幅が3.5〜9.0mmであ
って、磁気記録媒体としての記録密度(非圧縮時)が8
キロバイト/mm2 であるテープ状磁気記録媒体とする
時に、良好なスリット性が得られ、ヒゲや切り粉による
電磁変換特性の悪化を防ぐことができるので好ましい。
磁気テープに代表される磁気記録媒体には、近年ますま
す小型化、高容量化の要請が高いが、高容量化を実施す
る上で以下のポイントがある。一つは、支持体の厚さを
薄くして長尺化により全体としての記録容量を向上させ
る方法であり、もう一つはトラック幅の狭幅化、記録波
長の短波長化などにより単位面積当たりの記録容量を向
上させる方法であり、一般的にはこれらを併用する方向
にある。支持体フイルムの厚みを薄くする場合には、支
持体の剛性が高いことはもちろんであるが、スリット性
が悪いと加工工程におけるフィルム切れの頻発による歩
留まりが低下するため、スリット性の悪化が与える影響
は厚みが厚い場合に比較して大きくなる。また、トラッ
ク幅の狭幅化、記録波長の短波長化により、従来以上に
ヒゲや切り粉によるデータ欠落等が発生するおそれがあ
る。
は、こうした高容量化の要請に対して好適に応えること
のできる磁気テープとすることができる。フィルムの厚
みは好ましくは、0.2以上4.5μm以下、さらに好
ましくは0.2以上3.5μm以下であり、磁気録媒体
としての記録密度は好ましくは25キロバイト/mm2
以上、さらに好ましくは50キロバイト/mm2 以上で
ある。
用途としては、民生用、プロ用、D−1、D−2、D−
3等の放送局用、デジタルビデオカセット、DDS−
2,3,4、QIC、データ8mmなどのデータストレ
ージ用が挙げられこれらに限定されるものではないが、
データ欠落等の信頼性が最も重視されるデータストレー
ジ用途に最適に用いることができる。
ドとジアミンから得る場合には、N−メチルピロリドン
(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメ
チルホルムアミド(DMF)などの非プロトン性有機極
性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面
重合などで合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸
クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副生する
が、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、
トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノー
ルアミンなどの有機の中和剤が使用される。また、イソ
シアネートとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機
極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。
ためにはポリマの固有粘度(ポリマ0.5gを硫酸中で
100mlの溶液として30℃で測定した値)は、0.
5以上であることが好ましい。
塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸
リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポリ
マ濃度は2〜40wt%程度が好ましい。
ド酸の溶液は次のようにして得られる。即ち、ポリアミ
ド酸はN−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルアセ
トアミド(DMAc)、ジメチルホルムアミド(DM
F)などの非プロトン性有機極性溶媒中で、テトラカル
ボン酸二水物と芳香族ジアミンを反応させて調製するこ
とができる。また芳香族ポリイミドは前記のポリアミド
酸を含有する溶液を加熱したり、ピリジンなどのイミド
化剤を添加してポリイミドの粉末を得、これを再度溶媒
に溶解して調製できる。製膜原液中のポリマー濃度は5
〜25wt%程度が好ましい。
分スラリ−化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒とし
て使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加す
る方法などがある。
ゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製
膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがありいずれの
方法で製膜されても差し支えないが、ここでは乾湿式法
を例にとって説明する。
らドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して
薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜
が自己保持性をもつポリマー濃度35〜60wt%まで
乾燥する。この乾式工程において目的とする範囲の面配
向係数のフィルムを得るために、まず1段目の乾燥にお
いて、急激な面内配向を抑えるため50〜100℃の低
温で5秒〜15分間乾燥させた後、2段目の乾燥を15
0℃以上の高温で5秒〜15分間行いフィルム十分な面
内配向とに自己支持性を持たせることが好ましく行われ
る。この乾式工程における乾燥は、1段目、2段階に相
当する乾燥をそれぞれ2段以上の多段階で行ってもよい
し、また、乾燥温度を連続的に低温から高温に変化させ
てもよい。
離されて次の湿式工程の湿式浴に導入され、脱塩、脱溶
媒が行なわれる。湿式浴組成は、ポリマーに対する貧溶
媒であれば特に限定されないが、水、あるいは有機溶媒
/水の混合系を用いるのが、経済性、取扱いの容易さか
ら好ましい。また、湿式浴中には無機塩が含まれていて
もよい。
ために、浴組成は有機溶媒/水=70/30〜20/8
0、浴温度40℃以上であることが好ましい。さらに、
最後に40℃以上の水浴に通すことが有効である。
ンンター内で乾燥、熱処理が行なわれてフィルムとな
る。
膜工程中の湿式浴中、テンター内で目的とする面配向係
数を持つフィルムを得るために延伸が行なわれるが、延
伸倍率は面倍率で1.0〜4.0(面倍率とは延伸後の
フィルム面積を延伸前のフィルムの面積で除した値で定
義する。)の範囲内にあることが好ましく、より好まし
くは1.1〜3.0である。延伸倍率がこの範囲内であ
るとポリマーの面内配向が進み本発明の目的であるスリ
ット性の改善された、しかも優れた機械特性を兼ね備え
たフィルムが得られるが、延伸倍率が4.0を超えると
フィルムの伸度低下等が見られ破断しやすくなったりす
るため好ましくない。また、延伸倍率が1.0より小さ
い、すなわちリラックスを与えると面配向不足を招くた
め好ましくない。
熱処理は200〜450℃で行われるのが好ましい。熱
処理がこの温度以下であると乾燥不足となり、十分な機
械特性が得られない。また、この範囲以上であるとフィ
ルムが脆くなりスリット時の切り粉が多くなったり、引
裂伝播抵抗の低下を招く。
あってもよい。例えば2層の場合には、重合した芳香族
ポリアミド溶液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加し
た後、積層する。さらに3層以上の場合も同様である。
これら積層の方法としては、周知の方法たとえば、口金
内での積層、複合管での積層や、一旦1層を形成してお
いてその上に他の層を形成する方法などがある。
れるがこれらに限定されるものではない。
次の方法による。
はニコン社製位相差測定装置NPDM−1000を用い
た。キセノンランプを光源として測定波長590nmに
て、光線を入射角70°で試料にあてたときの反射光か
ら屈折率を測定した。また、厚み方向の屈折率(nz)
はアタゴ社製アッベの屈折計4形を用い、ナトリウムD
線(589nm)を光源として中間液に屈折率1.79
の硫黄ヨウ化メチレン溶液を用いて測定し、下式より面
配向係数を求めた。また、測定はいづれも室温25℃の
雰囲気下で行った。 面配向係数=(nx+ny)/2−nz
従い、さらに、引裂伝播抵抗値がフィルム厚さに比例す
るとして、1.0mm厚さに換算して数値化した。
に仕込み、この中へ精製した塩化メチレンを入れて10
時間、加熱抽出を行う。次にこの液をロータリーエバポ
レータに移し、35〜40℃に保つように減圧度を調節
しながら恒量になるまで濃縮し、残留物の重量を測定し
て求める。
製、AMF−50)を用いて、試験片の幅10mm、測
定長50mm、引張速度は300mm/分でフィルムの
伸度を測定した。
5%RH中に48時間放置後のフィルム重量(W2)を
測定し、下記の計算式により算出した。 吸湿率(%)=[(W2−W1)/W1]×100
塗布し、磁気配向させ乾燥させる。さらにカレンダー装
置で温度75℃、線圧220kg/cmでカレンダー処
理後70℃で48時間キュアリングする。
000mの長さをパンケーキとして巻き取った。このス
リットしたテープの端部を顕微鏡で拡大して観察を行
い、ヒゲ、切り粉の発生状況を下記基準で判定し、○、
△を良好とした。
ン成分として85モル%に相当する2−クロルパラフェ
ニレンジアミンと、15モル%に相当する4、4’−ジ
アミノジフェニルエ−テルとを溶解させ、これに98.
3モル%に相当する2−クロルテレフタル酸クロリドを
添加し、2時間撹拌して重合を完了した。これを水酸化
リチウムで中和して、ポリマ濃度10重量%、粘度30
00ポイズの芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液
に、一次粒径16nmの乾式シリカをポリマ当たり2w
t%添加した。
−で濾過した後、ベルト上に流延し、まず90℃の熱風
で2分間加熱を行った後、次に180℃の熱風で2分間
加熱し溶媒を蒸発させ、自己保持性を得たポリマー濃度
40wt%のフィルムをベルトから連続的に剥離した。
次に湿式浴としてNMP/水=50/50、温度50℃
の湿式浴にフィルムを導入し10分間、残存溶媒と中和
で生じた無機塩や不純物の抽出を行なった後、さらに5
0℃の水浴にフィルムを導入して5分間抽出を行った。
この間にロール間でフィルムを長手方向に1.2倍延伸
した。次にテンターで290℃で巾方向に1.3倍延伸
しながら1分間の乾燥と熱処理を行った後徐冷して厚さ
4.5μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。
4、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々125g/
mm、130g/mm、塩化メチレン抽出物が0.02
wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々40%、42
%、吸湿率は1.6%であった。次にこのフィルムを用
いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲ、切り粉
ともに○で良好であった。
40wt%のフィルムをベルトから連続的に剥離した。
次に湿式浴としてNMP/水=30/70、温度40℃
の湿式浴にフィルムを導入し10分間、残存溶媒と中和
で生じた無機塩、や不純物の抽出を行なった後、さらに
40℃の水浴にフィルムを導入して5分間抽出を行っ
た。。この間にロール間でフィルムを長手方向に1.3
倍延伸した。次にテンターで290℃で巾方向に1.5
倍延伸しながら1分間の乾燥と熱処理を行った後徐冷し
て厚さ6.2μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。
1、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々101g/
mm、92g/mm、塩化メチレン抽出物が0.05w
t%、長手方向、巾方向の伸度は各々35%、32%、
吸湿率は1.2%であった。次にこのフィルムを用いて
作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲ、切り粉とも
○で良好であった。
%、延伸倍率を縦方向1.1倍、巾方向1.2倍とした
他は実施例1と同様にして厚さ4.8μmのフィルムを
得た。
4、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々110g/
mm、105g/mm、塩化メチレン抽出物が0.04
wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々25%、22
%、吸湿率は1.0%であった。次にこのフィルムを用
いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲ、切り粉
とも○で良好であった。
としてNMP/水=30/70、70℃の浴、次の水浴
の温度を70℃とした他は実施例1と同様に重合、製膜
して厚み3.3μmのフィルムを得た。
5、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々150g/
mm、145g/mm、塩化メチレン抽出物が0.00
2wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々45%、42
%、吸湿率は1.6%であった。次にこのフィルムを用
いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲ、切り粉
とも○で良好であった。
る2−クロルパラフェニレンジアミンと、40モル%に
相当する4、4’−ジアミノジフェニルエ−テルとを溶
解させ、これに99モル%に相当する2−クロルテレフ
タル酸クロリドを添加し、2時間撹拌して重合を完了し
た。これを水酸化リチウムで中和して、ポリマ濃度15
重量%、粘度3000ポイズの芳香族ポリアミド溶液を
得た。この溶液に、一次粒径16nmの乾式シリカをポ
リマ当たり2wt%添加した。
膜し厚み9.3μmのフィルムを得た。
5、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々295g/
mm、288g/mm、塩化メチレン抽出物が0.01
wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々65%、62
%、吸湿率は2.1%であった。次にこのフィルムを用
いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲが△、切
り粉が○であった。
ニレンジアミンと生成ポリマの30wt%に相当する無
水塩化リチウムとを溶解させた。これに99モル%に相
当するテレフタル酸クロリドを添加し、2時間撹拌して
重合を完了した。これを水酸化リチウムで中和して、ポ
リマ濃度7重量%、粘度3500ポイズの芳香族ポリア
ミド溶液を得た。この溶液に、一次粒径16nmの乾式
シリカをポリマ当たり2wt%添加した。
−で濾過した後、ベルト上に流延し、まず90℃の熱風
で2分間加熱を行った後、次に180℃の熱風で2分間
加熱し溶媒を蒸発させ、自己保持性を得たポリマー濃度
40wt%のフィルムをベルトから連続的に剥離した。
次に湿式浴としてNMP/水=50/50、温度50℃
の湿式浴にフィルムを導入し10分間、残存溶媒と中和
で生じた無機塩や不純物の抽出を行なった後、さらに5
0℃の水浴にフィルムを導入して5分間抽出を行った。
この間にロール間でフィルムを長手方向に1.1倍延伸
した。次にテンターで300℃で巾方向に1.3倍延伸
した後、400℃で1分間の乾燥と熱処理を行った後徐
冷して厚さ4.9μmの芳香族ポリアミドフィルムを得
た。
5、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々83g/m
m、82g/mm、塩化メチレン抽出物が0.02wt
%、長手方向、巾方向の伸度は各々25%、28%、吸
湿率は3.2%であった。次にこのフィルムを用いて作
製した磁気テープのスリット性は、ヒゲは○、切り粉△
であった。
水浴の温度をともに70℃、延伸倍率を長手方向2.0
倍、巾方向2.2倍、熱処理温度を320℃とした他は
実施例1と同様にして製膜を行い厚み4.5μmのフィ
ルムを得た。
0、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々61g/m
m、52g/mm、塩化メチレン抽出物が0.03wt
%、長手方向、巾方向の伸度は各々15%、20%、吸
湿率は1.1%であった。次にこのフィルムを用いて作
製した磁気テープのスリット性は、ヒゲが○、切り粉が
×で不良であった。
℃の水浴だけに15分間フィルムを導入した他は実施例
1と同様にして製膜し厚み7.2μmのフィルムを得
た。
8、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々132g/
mm、128g/mm、塩化メチレン抽出物が0.7w
t%、長手方向、巾方向の伸度は各々38%、36%、
吸湿率は1.5%であった。次にこのフィルムを用いて
作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲが×、切り粉
が○で不良であった。
あとの乾燥を90℃で8分間、延伸倍率を長手方向に
0.8倍、巾方向に0.9倍、熱処理を200℃で5分
間した他は実施例1と同様にして製膜し、厚み6.3μ
mのフィルムを得た。
2、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々420g/
mm、393g/mm、塩化メチレン抽出物が0.10
wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々100%、95
%、吸湿率は2.5%であった。次にこのフィルムを用
いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲが×、切
り粉が○で不良であった。
する4、4−ジアミノジフェニルメタンを溶解させ、こ
れに50モル%に相当するイソフタル酸クロリドと50
モル%に相当するテレフタル酸クロリドを添加し、2時
間撹拌して重合を完了した。これを水酸化リチウムで中
和して、ポリマ濃度10重量%、粘度3000ポイズの
芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液に、一次粒径4
0nmの式シリカをポリマ当たり10wt%添加した。
方法で厚さ9.5μmの芳香族ポリアミドフィルムを得
た。
2、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々850g/
mm、820g/mm、塩化メチレン抽出物が0.08
wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々78%、70
%、吸湿率は4.3%であった。次にこのフィルムを用
いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲが×、切
り粉がで不良であった。
た後の乾燥を200℃で3分間、延伸倍率を長手方向
2.0倍、巾方向を2.1倍とした他は、実施例1と同
様にして厚さ3.8μmのフィルムを得た。
5、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々57g/m
m、52g/mm、塩化メチレン抽出物が0.02wt
%、長手方向、巾方向の伸度は各々8%、7%、吸湿率
は3.5%であった。次にこのフィルムを用いて作製し
た磁気テープのスリット性は、ヒゲは○であったが、切
り粉が極めて多く×で不良であった。
まとめた。
た芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフ
ィルムを用いて磁気記録媒体、フレキシブルプリント基
板、感熱転写リボン等を製造する際に、その面配向係
数、引裂伝播抵抗、不純物の量を規定することにより、
スリット時のヒゲや切り粉が少ない良好なスリット性を
有するフィルムを提供することができる。特に磁気録媒
体用ベースフィルムとして使用した場合にはドロップア
ウトの少ない磁気記録媒体を得ることができるという効
果もある。
Claims (5)
- 【請求項1】厚みが0.2〜50μmであり、面配向係
数が0.200以上0.600以下、少なくとも一方向
の引裂伝播抵抗が80g/mm以上800g/mm以
下、塩化メチレン抽出物が0.5wt%以下であること
を特徴とする芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポ
リイミドフィルム。 - 【請求項2】平均1次粒径0.01〜2μmの粒子を
0.01wt%以上5wt%以下含有することを特徴と
する請求項1に記載の芳香族ポリアミドフィルムまたは
芳香族ポリイミドフィルム - 【請求項3】吸湿率が3.5%以下、伸度が10%以上
である請求項1または2に記載の芳香族ポリアミドフィ
ルムまたは芳香族ポリイミドフィルム - 【請求項4】該フィルムが磁材用途であることを特徴と
する請求項1〜3のいずれかに記載の芳香族ポリアミド
フィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム - 【請求項5】支持体の厚みが0.2以上6.5μm以
下、幅が3.5〜9.0mmであって、磁気記録媒体と
しての記録密度が8キロバイト/mm2 以上である磁気
記録媒体用ベースフィルムであることを特徴とする請求
項4に記載のフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16314296A JP3567624B2 (ja) | 1995-07-05 | 1996-06-24 | 芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16990995 | 1995-07-05 | ||
JP7-169909 | 1995-07-05 | ||
JP16314296A JP3567624B2 (ja) | 1995-07-05 | 1996-06-24 | 芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0971670A true JPH0971670A (ja) | 1997-03-18 |
JP3567624B2 JP3567624B2 (ja) | 2004-09-22 |
Family
ID=26488688
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16314296A Expired - Lifetime JP3567624B2 (ja) | 1995-07-05 | 1996-06-24 | 芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3567624B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1996
- 1996-06-24 JP JP16314296A patent/JP3567624B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP3567624B2 (ja) | 2004-09-22 |
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