JP3567624B2 - 芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、スリット性の良好な芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルムに関するものである。さらに詳しくは磁気記録媒体用ベースフィルム、フレキシブルプリント基板、感熱転写リボンとして有用な芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】
芳香族ポリアミドフィルムあるいは芳香族ポリイミドフィルムはその優れた、機械特性、耐熱性から磁気記録媒体用ベースフィルム、フレキシブルプリント基板(特公昭57−3236、特公平6−82896など)、感熱転写リボン(特開昭60−174694、特開昭63−237989など)などの材料として用いられている。特に、磁気記録媒体のベースフィルムとしては、これまでは主にポリエステルフィルムが用いられているが 近年、磁気記録媒体の高密度化、小型化、記録時間の長時間化などによりそのベースフィルムに対する薄膜化の要求はますます強くなってきており、高弾性率の芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルムが注目されている。(特開昭58−168655、特開昭62−62424など)
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
このような用途に用いられる芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルムはその製造工程、加工工程あるいは最終製品において、フィルムをテープ状にスリットしたり、スリットしたテープを巻き上げることが行われる。このスリット工程は、製品の生産性に大きく影響するため重要な工程となっているが、高弾性率の芳香族ポリアミドフィルムや芳香族ポリイミドフィルムを用いた場合には、しばしば、フィルムの切り口にヒゲや切り粉が多く発生することがある。ヒゲや切り粉が多い場合には、これらがスリット刃に付着するため、刃の清掃、交換頻度が増加し生産性が悪化する。特に磁気テープとして用いた場合には、スリット時のヒゲや切り粉が原因となり、これらが磁性層に付着してドロップアウト等の原因となるため製品の歩留まりが悪化するという問題がある。
【0004】
本発明はかかる問題点を解決し、その製造工程、加工工程でヒゲや切り粉の少ないスリット性の良好な芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルムを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意検討の結果、次に述べるような芳香族ポリアミドまたは芳香族ポリイミドからなるフィルム用いれば、上記問題を解決したフィルムが得られることを見出し本発明に至った。すなわち、本発明は厚みが0.2〜50μmであり、面配向係数が0.200以上0.600以下、少なくとも一方向の引裂伝播抵抗が80g/mm以上800g/mm以下、塩化メチレン抽出物が0.5wt%以下であることを特徴とする芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルムである。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明の芳香族ポリアミドとは、次の一般式(I)および/または一般式(II)で表される繰り返し単位を50モル%以上含むものが好ましく、70モル%以上からなるものがより好ましい。
【0007】
一般式(I)
【化1】
一般式(II)
【化2】
ここで、Ar1 、Ar2 、Ar3 は 例えば、
【化3】
などが挙げられ、X、Yは
−O−,−CH2 −,−CO−,−SO2 −、−S−,−C(CH3 )2 −
等から選ばれるが、これに限定されるものではない。更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、塩素、フッ素、臭素などのハロゲン基(特に塩素)、ニトロ基、メチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基(特にメチル基)、エトキシ基、メトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基などのアルコキシ基等で置換されているものも含み、また、重合体を構成するアミド結合中の水素が他の置換基によって置換されているものも含む。
【0008】
特性面からは上記の芳香環がパラ位で結合されたものが、全芳香環の50%以上、好ましくは75%以上を占める重合体が、面配向し易く高弾性率のフィルムが得られるため好ましい。また芳香環上の水素原子の一部がハロゲン基(特に塩素)で置換された芳香環が全体の30%以上、好ましくは50%以上、更に好ましくは70%以上であると、吸湿率が小さくなるため好ましい。
【0009】
本発明の芳香族ポリアミドは、一般式(I)および/または一般式(II)で表される繰り返し単位を50モル%以上含むものであって、50モル%未満は他の繰り返し単位が共重合、またはブレンドされていても差し支えない。
【0010】
本発明における芳香族ポリイミドとは、重合体の繰り返し単位の中に芳香環とイミド環を1つ以上含むものであり、一般式(III)および/または一般式(IV)で示される繰り返し単位を50モル%以上含むものが好ましく、より好ましくは70モル%以上である。
【0011】
一般式(III)
【化4】
一般式(IV)
【化5】
ここでAr4 、Ar6 は少なくとも1個の芳香環を含み、イミド環を形成する2つのカルボニル基は芳香環上の隣接する炭素原子に結合している。このAr4 は、芳香族テトラカルボン酸あるいはこの無水物に由来する。代表例としては次の様なものが挙げられる。
【0012】
【化6】
ここでZは
−O−,−CH2 −,−CO−,−SO2 −、−S−,−C(CH3 )2 −等から選ばれるが、これに限定されるものではない。
【0013】
また、Ar6 は無水カルボン酸あるいはこのハライドに由来する。Ar5 、Ar7 は例えば
【化7】
などが挙げられ、X、Yは
−O−,−CH2 −,−CO−,−SO2 −、−S−,−C(CH3 )2 −
等から選ばれるが、これに限定されるものではない。更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、塩素、フッ素、臭素などのハロゲン基(特に塩素)、ニトロ基、メチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基(特にメチル基)、エトキシ基、メトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基などのアルコキシ基等で置換されているものも含み、また、重合体を構成するアミド結合中の水素が他の置換基によって置換されているものも含む。
【0014】
本発明の芳香族ポリイミドは、一般式(III)および/または一般式(IV)で表される繰り返し単位を50モル%以上含むものであって、50モル%未満は他の繰り返し単位が共重合、またはブレンドされていても差し支えない。
【0015】
また本発明の芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドには、フィルムの物性を損なわない程度に滑剤、酸化防止剤その他の添加剤等がブレンドされていてもよい。
【0016】
本発明において、良好なスリット性をもつためには、フィルムの面配向係数が0.200以上0.600以下、好ましくは0.210以上0.550以下、さらに0.220以上0.450以下である。ここで言う面配向係数とは、フィルムの長手方向の屈折率をnx 、巾方向の屈折率をny 、厚み方向の屈折率をnz としたとき、(面配向係数)=(nx +ny )/2−nz で表されるものである。面配向係数が0.200未満の場合には切断部分にヒゲが生じやすく、磁気テープとした場合にドロップアウトが多くなるだけでなく、切断部分に盛り上がりが生じて巻き姿の悪化を招くこともある。また、0.600より大きい場合には切り粉が多く磁気テープとした場合ドロップアウトの原因となる。
【0017】
本発明におけるフィルムの引裂伝播抵抗は、長手方向、巾方向の少なくとも一方向が80g/mm以上800g/mm以下、好ましくは90g/mm以上600g/mm以下、さらに好ましくは100g/mm以上400g/mm以下である。また、スリット方向(通常長手方向)がこの範囲にあると好ましく、長手方向、巾方向ともにこの範囲内であるとさらに好ましい。80g/mmより小さい場合には切り粉が発生しやすく、また、スリット方向へのフィルム裂けやフィルム切れが起きやすくなる。800g/mmより大きい場合にはヒゲが発生し易く、また、スリット刃の寿命が短くなる。
【0018】
本発明のフィルムは、塩化メチレンによる抽出物が0.5wt%以下である必要がある。より好ましくは0.0001wt%以上0.4wt%以下、さらに好ましくは0.001wt%以上0.3wt%以下である。塩化メチレンによるオリゴマ等の抽出物が0.5wt%より大きいとスリット時のヒゲが多くなり、また、オリゴマなどでスリット刃が汚れ易くなるためよくない。0.0001wt%未満であると切り粉が多くなる傾向がある。
【0019】
本発明のフィルムの厚みは、0.2〜50μm、好ましくは1〜20μmであると本発明の効果である良好なスリット性が得られる。
【0020】
本発明のフィルムに含有される粒子の粒径および含有量は用途により適宜選択されるべきであるが、その平均一次粒径は0.01〜2μmであることが好ましくフィルムに含有される粒子の含有量は0.01〜5wt%であることが好ましく、さらに好ましくは0.05〜3wt%である。粒子の粒径、含有量が上記の範囲より大きいまたは多いとスリット時に粒子の脱落が多くなり切り粉も多くなる。粒子の粒径、含有量が上記範囲より小さいまたは少ないとフィルムの走行性が悪く取り扱いにくくなる。粒子の種類としては、SiO2 、TiO2 、Al2 O3 、CaSO4 、BaSO4 、CaCO3 、カ−ボンブラック、ゼオライト、その他の金属微粉末などの無機粒子や、シリコン粒子、ポリイミド粒子、架橋共重合体粒子、架橋ポリスチレン粒子、テフロン粒子などの有機高分子などがあるが、耐熱性の点から無機粒子の方がより好ましい。
【0021】
フィルムの表面粗さは、用途により適切な設計がなされるべきであるが、磁気記録用途としてはRpで2〜500nm、より好ましくは3〜300nm、Raで0.1〜100nm、より好ましくは0.2〜50nm、Rzで2〜500nm、より好ましくは3〜400nmである。
【0022】
本発明におけるフィルムの吸湿率は3.5%以下が好ましく、2.5%以下がより好ましい。吸湿率が3.5%を超えると湿度変化に対する寸法安定性が悪くなり、カールやしわなどの平面性悪化を招いたり、磁気テープの電磁変換特性が悪化するので好ましくない。
【0023】
本発明におけるフィルムの伸度は10%以上であることが好ましく、より好ましくは20%以上であるとテープが適度な柔軟性を持つので望ましい。
【0024】
本発明におけるフイルムの弾性率は、長手方向、巾方向ともに800kg/mm2 以上好ましくは1000kg/mm2 以上であると薄膜化しても取り扱いやすく、磁気テープとした場合にヘッドタッチが悪化せず、電磁変換特性が良好となる。
【0025】
本発明のフィルムの200℃、10分間での熱収縮率は5%以下が好ましく、より好ましくは2%以下であると高温使用時の耐久性に優れ、また磁気テープとして使用した場合、良好な電磁変換特性が保てるので好ましい。
【0026】
また本発明のフィルムはもちろん単層フィルムでも用いられるが、積層フィルムであっても良い。
【0027】
本発明のフィルムは、フレキシブルプリント基板、感熱転写リボン、磁気記録媒体用ベースフィルム等のさまざまな用途に使用できるが、特に磁気記録媒体用ベースフィルムとして有用である。
【0028】
磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる場合には、片面または両面に磁性層を設けて磁気記録媒体とする。
【0029】
磁気テープの磁性層を形成する方法は、酸化鉄、酸化クロム、Fe,Co、Fe−Co、Fe−Co−Ni、Co−Ni等の強磁性粉末を各種バインダーを用いて磁性塗料とし支持体フィルム上に塗布する湿式法、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの乾式法があり、特に限定されるものではない。
【0030】
磁性層を設けた後、磁性層と反対側の面に更に走行性を向上させるために、公知の方法によりバックコート層を設けてもよい。
【0031】
こうして、磁性層を設けたフィルムは所定の幅にスリットして磁気記録媒体となる。
【0032】
また、本発明のフィルムは支持体の厚みが0.2〜6.5μm以下、幅が3.5〜9.0mmであって、磁気記録媒体としての記録密度(非圧縮時)が8キロバイト/mm2 であるテープ状磁気記録媒体とする時に、良好なスリット性が得られ、ヒゲや切り粉による電磁変換特性の悪化を防ぐことができるので好ましい。磁気テープに代表される磁気記録媒体には、近年ますます小型化、高容量化の要請が高いが、高容量化を実施する上で以下のポイントがある。一つは、支持体の厚さを薄くして長尺化により全体としての記録容量を向上させる方法であり、もう一つはトラック幅の狭幅化、記録波長の短波長化などにより単位面積当たりの記録容量を向上させる方法であり、一般的にはこれらを併用する方向にある。支持体フイルムの厚みを薄くする場合には、支持体の剛性が高いことはもちろんであるが、スリット性が悪いと加工工程におけるフィルム切れの頻発による歩留まりが低下するため、スリット性の悪化が与える影響は厚みが厚い場合に比較して大きくなる。また、トラック幅の狭幅化、記録波長の短波長化により、従来以上にヒゲや切り粉によるデータ欠落等が発生するおそれがある。
【0033】
本発明のフィルムを用いた磁気記録媒体は、こうした高容量化の要請に対して好適に応えることのできる磁気テープとすることができる。フィルムの厚みは好ましくは、0.2以上4.5μm以下、さらに好ましくは0.2以上3.5μm以下であり、磁気録媒体としての記録密度は好ましくは25キロバイト/mm2 以上、さらに好ましくは50キロバイト/mm2 以上である。
【0034】
こうして得られた磁気記録媒体の好ましい用途としては、民生用、プロ用、D−1、D−2、D−3等の放送局用、デジタルビデオカセット、DDS−2,3,4、QIC、データ8mmなどのデータストレージ用が挙げられこれらに限定されるものではないが、データ欠落等の信頼性が最も重視されるデータストレージ用途に最適に用いることができる。
【0035】
次に本発明の製造方法を説明する。
【0036】
まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロリドとジアミンから得る場合には、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルホルムアミド(DMF)などの非プロトン性有機極性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面重合などで合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副生するが、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機の中和剤が使用される。また、イソシアネートとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。
【0037】
これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液として使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してから上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製膜原液を調製してもよい。
【0038】
本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得るためにはポリマの固有粘度(ポリマ0.5gを硫酸中で100mlの溶液として30℃で測定した値)は、0.5以上であることが好ましい。
【0039】
製膜原液には溶解助剤として無機塩例えば塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポリマ濃度は2〜40wt%程度が好ましい。
【0040】
一方、芳香族ポリイミドあるいはポリアミド酸の溶液は次のようにして得られる。即ち、ポリアミド酸はN−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルホルムアミド(DMF)などの非プロトン性有機極性溶媒中で、テトラカルボン酸二水物と芳香族ジアミンを反応させて調製することができる。また芳香族ポリイミドは前記のポリアミド酸を含有する溶液を加熱したり、ピリジンなどのイミド化剤を添加してポリイミドの粉末を得、これを再度溶媒に溶解して調製できる。製膜原液中のポリマー濃度は5〜25wt%程度が好ましい。
【0041】
粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中に十分スラリ−化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒として使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加する方法などがある。
【0042】
上記のように調製された製膜原液は、いわゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがありいずれの方法で製膜されても差し支えないが、ここでは乾湿式法を例にとって説明する。
【0043】
乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金からドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持性をもつポリマー濃度35〜60wt%まで乾燥する。この乾式工程において目的とする範囲の面配向係数のフィルムを得るために、まず1段目の乾燥において、急激な面内配向を抑えるため50〜100℃の低温で5秒〜15分間乾燥させた後、2段目の乾燥を150℃以上の高温で5秒〜15分間行いフィルム十分な面内配向とに自己支持性を持たせることが好ましく行われる。この乾式工程における乾燥は、1段目、2段階に相当する乾燥をそれぞれ2段以上の多段階で行ってもよいし、また、乾燥温度を連続的に低温から高温に変化させてもよい。
【0044】
乾式工程を終えたフィルムは支持体から剥離されて次の湿式工程の湿式浴に導入され、脱塩、脱溶媒が行なわれる。湿式浴組成は、ポリマーに対する貧溶媒であれば特に限定されないが、水、あるいは有機溶媒/水の混合系を用いるのが、経済性、取扱いの容易さから好ましい。また、湿式浴中には無機塩が含まれていてもよい。
【0045】
この際、フィルム中の不純物を減少させるために、浴組成は有機溶媒/水=70/30〜20/80、浴温度40℃以上であることが好ましい。さらに、最後に40℃以上の水浴に通すことが有効である。
【0046】
湿式工程を通ったフィルムは、続いて、テンンター内で乾燥、熱処理が行なわれてフィルムとなる。
【0047】
以上のように形成されるフィルムはその製膜工程中の湿式浴中、テンター内で目的とする面配向係数を持つフィルムを得るために延伸が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で1.0〜4.0(面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルムの面積で除した値で定義する。)の範囲内にあることが好ましく、より好ましくは1.1〜3.0である。延伸倍率がこの範囲内であるとポリマーの面内配向が進み本発明の目的であるスリット性の改善された、しかも優れた機械特性を兼ね備えたフィルムが得られるが、延伸倍率が4.0を超えるとフィルムの伸度低下等が見られ破断しやすくなったりするため好ましくない。また、延伸倍率が1.0より小さい、すなわちリラックスを与えると面配向不足を招くため好ましくない。
【0048】
延伸後フィルムには熱処理が施されるが、熱処理は200〜450℃で行われるのが好ましい。熱処理がこの温度以下であると乾燥不足となり、十分な機械特性が得られない。また、この範囲以上であるとフィルムが脆くなりスリット時の切り粉が多くなったり、引裂伝播抵抗の低下を招く。
【0049】
なお本発明のフィルムは、積層フィルムであってもよい。例えば2層の場合には、重合した芳香族ポリアミド溶液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加した後、積層する。さらに3層以上の場合も同様である。これら積層の方法としては、周知の方法たとえば、口金内での積層、複合管での積層や、一旦1層を形成しておいてその上に他の層を形成する方法などがある。
【0050】
以上のようにして本発明のフィルムが得られるがこれらに限定されるものではない。
【0051】
【実施例】
本発明の物性の測定方法、効果の評価方法は次の方法による。
【0052】
(1)面配向係数
長手方向および巾方向の屈折率(nx、ny )の測定にはニコン社製位相差測定装置NPDM−1000を用いた。キセノンランプを光源として測定波長590nmにて、光線を入射角70°で試料にあてたときの反射光から屈折率を測定した。また、厚み方向の屈折率(nz)はアタゴ社製アッベの屈折計4形を用い、ナトリウムD線(589nm)を光源として中間液に屈折率1.79の硫黄ヨウ化メチレン溶液を用いて測定し、下式より面配向係数を求めた。また、測定はいづれも室温25℃の雰囲気下で行った。
面配向係数=(nx+ny)/2−nz
【0053】
(2)引き裂き伝播抵抗
JIS P8116で規定する引裂伝播抵抗の測定法に従い、さらに、引裂伝播抵抗値がフィルム厚さに比例するとして、1.0mm厚さに換算して数値化した。
【0054】
(3)塩化メチレン抽出物量
所定の大きさに切断したフィルムをソックスレー抽出器に仕込み、この中へ精製した塩化メチレンを入れて10時間、加熱抽出を行う。次にこの液をロータリーエバポレータに移し、35〜40℃に保つように減圧度を調節しながら恒量になるまで濃縮し、残留物の重量を測定して求める。
【0055】
(4)伸度
フィルム強伸度自動測定装置(株式会社オリエンテック製、AMF−50)を用いて、試験片の幅10mm、測定長50mm、引張速度は300mm/分でフィルムの伸度を測定した。
【0056】
(5)吸湿率
150℃、60分絶乾後のフィルム重量(W1)と、75%RH中に48時間放置後のフィルム重量(W2)を測定し、下記の計算式により算出した。
吸湿率(%)=[(W2−W1)/W1]×100
【0057】
(6)スリット性
フィルムに下記組成の磁性塗料をグラビアロールにより塗布し、磁気配向させ乾燥させる。さらにカレンダー装置で温度75℃、線圧220kg/cmでカレンダー処理後70℃で48時間キュアリングする。
【0058】
(磁性塗料の組成)
・Co含有酸化鉄 :100重量部
・塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体: 10重量部
・ポリウレタンエラストマ : 10重量部
・ポリイソシアネート : 5重量部
・レシチン : 1重量部
・メチルエチルケトン : 75重量部
・メチルイソブチルケトン : 75重量部
・トルエン : 75重量部
・カーボンブラック : 2重量部
・ラウリン酸 :1.5重量部
この作製した磁気テープ原反を4mm幅にスリットし3000mの長さをパンケーキとして巻き取った。このスリットしたテープの端部を顕微鏡で拡大して観察を行い、ヒゲ、切り粉の発生状況を下記基準で判定し、○、△を良好とした。
【0059】
【0060】
実施例1
N−メチル−2−ピロリドン(NMP)に芳香族ジアミン成分として85モル%に相当する2−クロルパラフェニレンジアミンと、15モル%に相当する4、4’−ジアミノジフェニルエ−テルとを溶解させ、これに98.3モル%に相当する2−クロルテレフタル酸クロリドを添加し、2時間撹拌して重合を完了した。これを水酸化リチウムで中和して、ポリマ濃度10重量%、粘度3000ポイズの芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液に、一次粒径16nmの乾式シリカをポリマ当たり2wt%添加した。
【0061】
このポリマ溶液を5μmカットのフィルタ−で濾過した後、ベルト上に流延し、まず90℃の熱風で2分間加熱を行った後、次に180℃の熱風で2分間加熱し溶媒を蒸発させ、自己保持性を得たポリマー濃度40wt%のフィルムをベルトから連続的に剥離した。次に湿式浴としてNMP/水=50/50、温度50℃の湿式浴にフィルムを導入し10分間、残存溶媒と中和で生じた無機塩や不純物の抽出を行なった後、さらに50℃の水浴にフィルムを導入して5分間抽出を行った。この間にロール間でフィルムを長手方向に1.2倍延伸した。次にテンターで290℃で巾方向に1.3倍延伸しながら1分間の乾燥と熱処理を行った後徐冷して厚さ4.5μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。
【0062】
このフィルムの面配向係数は、0.254、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々125g/mm、130g/mm、塩化メチレン抽出物が0.02wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々40%、42%、吸湿率は1.6%であった。次にこのフィルムを用いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲ、切り粉ともに○で良好であった。
【0063】
実施例2
実施例1と同様にして、自己保持性を得たポリマー濃度40wt%のフィルムをベルトから連続的に剥離した。次に湿式浴としてNMP/水=30/70、温度40℃の湿式浴にフィルムを導入し10分間、残存溶媒と中和で生じた無機塩、や不純物の抽出を行なった後、さらに40℃の水浴にフィルムを導入して5分間抽出を行った。。この間にロール間でフィルムを長手方向に1.3倍延伸した。次にテンターで290℃で巾方向に1.5倍延伸しながら1分間の乾燥と熱処理を行った後徐冷して厚さ6.2μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。
【0064】
このフィルムの面配向係数は、0.281、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々101g/mm、92g/mm、塩化メチレン抽出物が0.05wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々35%、32%、吸湿率は1.2%であった。次にこのフィルムを用いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲ、切り粉とも○で良好であった。
【0065】
実施例3
4、4’−ジアミノジフェニルエ−テルの量を5モル%、延伸倍率を縦方向1.1倍、巾方向1.2倍とした他は実施例1と同様にして厚さ4.8μmのフィルムを得た。
【0066】
このフィルムの面配向係数は、0.274、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々110g/mm、105g/mm、塩化メチレン抽出物が0.04wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々25%、22%、吸湿率は1.0%であった。次にこのフィルムを用いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲ、切り粉とも○で良好であった。
【0067】
実施例4
シリカ粒子の量ををポリマ当たり0.5wt%、湿式浴としてNMP/水=30/70、70℃の浴、次の水浴の温度を70℃とした他は実施例1と同様に重合、製膜して厚み3.3μmのフィルムを得た。
【0068】
このフィルムの面配向係数は、0.245、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々150g/mm、145g/mm、塩化メチレン抽出物が0.002wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々45%、42%、吸湿率は1.6%であった。次にこのフィルムを用いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲ、切り粉とも○で良好であった。
【0069】
実施例5
NMPに芳香族ジアミン成分として60モル%に相当する2−クロルパラフェニレンジアミンと、40モル%に相当する4、4’−ジアミノジフェニルエ−テルとを溶解させ、これに99モル%に相当する2−クロルテレフタル酸クロリドを添加し、2時間撹拌して重合を完了した。これを水酸化リチウムで中和して、ポリマ濃度15重量%、粘度3000ポイズの芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液に、一次粒径16nmの乾式シリカをポリマ当たり2wt%添加した。
【0070】
このポリマ溶液を実施例1と同様にして製膜し厚み9.3μmのフィルムを得た。
【0071】
このフィルムの面配向係数は、0.215、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々295g/mm、288g/mm、塩化メチレン抽出物が0.01wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々65%、62%、吸湿率は2.1%であった。次にこのフィルムを用いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲが△、切り粉が○であった。
【0072】
実施例6
NMPに芳香族ジアミン成分として2−クロルパラフェニレンジアミンと生成ポリマの30wt%に相当する無水塩化リチウムとを溶解させた。これに99モル%に相当するテレフタル酸クロリドを添加し、2時間撹拌して重合を完了した。これを水酸化リチウムで中和して、ポリマ濃度7重量%、粘度3500ポイズの芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液に、一次粒径16nmの乾式シリカをポリマ当たり2wt%添加した。
【0073】
このポリマ溶液を5μmカットのフィルタ−で濾過した後、ベルト上に流延し、まず90℃の熱風で2分間加熱を行った後、次に180℃の熱風で2分間加熱し溶媒を蒸発させ、自己保持性を得たポリマー濃度40wt%のフィルムをベルトから連続的に剥離した。次に湿式浴としてNMP/水=50/50、温度50℃の湿式浴にフィルムを導入し10分間、残存溶媒と中和で生じた無機塩や不純物の抽出を行なった後、さらに50℃の水浴にフィルムを導入して5分間抽出を行った。この間にロール間でフィルムを長手方向に1.1倍延伸した。次にテンターで300℃で巾方向に1.3倍延伸した後、400℃で1分間の乾燥と熱処理を行った後徐冷して厚さ4.9μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。
【0074】
このフィルムの面配向係数は、0.565、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々83g/mm、82g/mm、塩化メチレン抽出物が0.02wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々25%、28%、吸湿率は3.2%であった。次にこのフィルムを用いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲは○、切り粉△であった。
【0075】
比較例1
実施例1と同じポリマ溶液を用い、NMP/水混合浴、水浴の温度をともに70℃、延伸倍率を長手方向2.0倍、巾方向2.2倍、熱処理温度を320℃とした他は実施例1と同様にして製膜を行い厚み4.5μmのフィルムを得た。
【0076】
このフィルムの面配向係数は、0.320、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々61g/mm、52g/mm、塩化メチレン抽出物が0.03wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々15%、20%、吸湿率は1.1%であった。次にこのフィルムを用いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲが○、切り粉が×で不良であった。
【0077】
比較例2
実施例1と同じポリマ溶液を用い、湿式浴として水温5℃の水浴だけに15分間フィルムを導入した他は実施例1と同様にして製膜し厚み7.2μmのフィルムを得た。
【0078】
このフィルムの面配向係数は、0.268、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々132g/mm、128g/mm、塩化メチレン抽出物が0.7wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々38%、36%、吸湿率は1.5%であった。次にこのフィルムを用いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲが×、切り粉が○で不良であった。
【0079】
比較例3
実施例5と同じポリマ溶液を用い、ベルト上に流延したあとの乾燥を90℃で8分間、延伸倍率を長手方向に0.8倍、巾方向に0.9倍、熱処理を200℃で5分間した他は実施例1と同様にして製膜し、厚み6.3μmのフィルムを得た。
【0080】
このフィルムの面配向係数は、0.182、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々420g/mm、393g/mm、塩化メチレン抽出物が0.10wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々100%、95%、吸湿率は2.5%であった。次にこのフィルムを用いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲが×、切り粉が○で不良であった。
【0081】
比較例4
NMPに芳香族ジアミン成分として100モル%に相当する4、4−ジアミノジフェニルメタンを溶解させ、これに50モル%に相当するイソフタル酸クロリドと50モル%に相当するテレフタル酸クロリドを添加し、2時間撹拌して重合を完了した。これを水酸化リチウムで中和して、ポリマ濃度10重量%、粘度3000ポイズの芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液に、一次粒径40nmの式シリカをポリマ当たり10wt%添加した。
【0082】
このポリマ溶液を用いて実施例1と同様な方法で厚さ9.5μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。
【0083】
このフィルムの面配向係数は、0.252、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々850g/mm、820g/mm、塩化メチレン抽出物が0.08wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々78%、70%、吸湿率は4.3%であった。次にこのフィルムを用いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲが×、切り粉がで不良であった。
【0084】
比較例5
実施例6と同じポリマ溶液を用いて、ベルト上に流延した後の乾燥を200℃で3分間、延伸倍率を長手方向2.0倍、巾方向を2.1倍とした他は、実施例1と同様にして厚さ3.8μmのフィルムを得た。
【0085】
このフィルムの面配向係数は、0.615、長手方向、巾方向の引裂伝播抵抗は各々57g/mm、52g/mm、塩化メチレン抽出物が0.02wt%、長手方向、巾方向の伸度は各々8%、7%、吸湿率は3.5%であった。次にこのフィルムを用いて作製した磁気テープのスリット性は、ヒゲは○であったが、切り粉が極めて多く×で不良であった。
【0086】
表1に実施例、比較例の物性、評価結果をまとめた。
【0087】
【表1】
【0088】
【発明の効果】
本発明により、耐熱性、機械特性に優れた芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルムを用いて磁気記録媒体、フレキシブルプリント基板、感熱転写リボン等を製造する際に、その面配向係数、引裂伝播抵抗、不純物の量を規定することにより、スリット時のヒゲや切り粉が少ない良好なスリット性を有するフィルムを提供することができる。特に磁気録媒体用ベースフィルムとして使用した場合にはドロップアウトの少ない磁気記録媒体を得ることができるという効果もある。
Claims (4)
- 厚みが0.2〜50μmであり、面配向係数が0.200以上0.600以下、少なくとも一方向の引裂伝播抵抗が80g/mm以上800g/mm以下、塩化メチレン抽出物が0.5wt%以下であることを特徴とする芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム。
- 平均1次粒径0.01〜2μmの粒子を0.01wt%以上5wt%以下含有することを特徴とする請求項1に記載の芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム。
- 吸湿率が3.5wt%以下、伸度が10%以上である請求項1または2に記載の芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム。
- 支持体の厚みが0.2μm以上6.5μm以下、幅が3.5〜9.0mmであって、磁気記録媒体としての記録密度が8キロバイト/mm2以上である磁気記録媒体用ベースフィルムであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム。
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