JP3082617B2 - 芳香族ポリアミドフィルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】芳香族ポリアミドフィルムは、その優れ
た耐熱性、機械特性を活かして種々な用途に検討されて
いる。特にパラ配向系の芳香族ポリアミドは剛性、強度
等の機械特性が他のポリマより優れているため、フィル
ムの薄物化に非常に有利であり、プリンタリボン、磁気
テープ、コンデンサー等の用途が考えられている。例え
ば磁気記録媒体では特開昭58ー168655 号公報、特開昭62
ー112218 号公報等がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】近年、ビデオカメラの
屋外での使用の増加、あるいは小型化、記録時間の長時
間化の要請により、またコンピュータの外部メモリとし
て使用するため、薄膜で、過酷な条件での耐久性に優れ
た磁気記録媒体の要求が強くなってきている。

【０００４】しかしながら、上記ポリエステルフィルム
ベースあるいは芳香族ポリアミドベースからなる磁気記
録媒体では、常温では問題ないが高温条件下で使用する
と走行性や、出力特性が悪化したり、また、繰り返し走
行においてドロップアウトが発生するという問題が出て
きている。これは基材フィルムの耐熱性が不十分であっ
たり、表面性、走行性が十分ではないためであると考え
られる。

【０００５】本発明はかかる問題点を解決し、芳香族ポ
リアミドの優れた耐熱性、高剛性を活かし、かつ含有粒
子径比、粒子の偏平率を規定することにより高温下、繰
り返し走行などの厳しい条件下でも走行性、耐久性、出
力特性の優れた磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、芳香族ポリア
ミドを主成分とするフィルムにおいて、該フィルムに凝
集粒子が０．０５〜５重量％含有し、該凝集粒子の平均
凝集粒子径が５〜１０００ｎｍであり、かつ、該凝集粒
子の偏平率が０．７以上であることを特徴とする芳香族
ポリアミドフィルムに関するものである。

【０００７】本発明の芳香族ポリアミドとは、次の一般
式（Ｉ）および／または一般式（II）で表わされる繰り
返し単位を５０モル％以上含むものが好ましく、７０モ
ル％以上からなるものがより好ましい。

【０００８】一般式（Ｉ）

【化１】 一般式（II）

【化２】 ここで、Ａｒ₁ 、Ａｒ₂ 、Ａｒ₃ は 例えば、

【化３】 などが挙げられ、Ｘ、Ｙは −Ｏ−，−ＣＨ₂ −，−ＣＯ−，−ＳＯ₂ −，−Ｓ−，
−Ｃ（ＣＨ₃ ）₂ − 等から選ばれるが、これに限定されるものではない。更
にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、ハロゲン基
（特に塩素）、ニトロ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₃ のアルキル基（特
にメチル基）、Ｃ₁ 〜Ｃ₃ のアルコキシ基などの置換基
で置換されているものも含み、また、重合体を構成する
アミド結合中の水素が他の置換基によって置換されてい
るものも含む。

【０００９】特性面からは上記の芳香環がパラ位で結合
されたものが、全芳香環の５０％以上、好ましくは７５
％以上を占める重合体が、フィルムの剛性が高く耐熱性
も良好となるため好ましい。また吸湿率を小さくする点
からは、芳香環上の水素原子の一部がハロゲン基（特に
塩素）で置換された芳香環が全体の３０％以上である重
合体が好ましい。

【００１０】本発明の芳香族ポリアミドは、一般式
（Ｉ）および／または一般式（II）で表される繰り替え
し単位を５０モル％以上含むものであって、５０モル％
未満は他の繰り替えし単位が共重合（たとえば芳香族ポ
リイミドなど）、またはブレンドされていても差し支え
なく、またフィルムの物性を損なわない程度に導電性粒
子、滑剤、酸化防止剤その他の添加剤等がブレンドされ
ていてもよい。

【００１１】本発明の磁気記録媒体は、該基材フィルム
に凝集粒子Ａを０．０５〜５ｗｔ％含有する必要があ
る。好ましくは０．１〜４ｗｔ％、より好ましくは０．
２〜３ｗｔ％である。添加量が０．０５ｗｔ％より少な
いとテ−プにした時の走行性が不良となり、逆に５ｗｔ
％を超えると電磁変換特性が悪化する。

【００１２】本発明を構成するフィルム中に含まれる凝
集粒子の平均凝集粒子径は５〜１０００ｎｍ、より好ま
しくは１０〜６００ｎｍ、更に好ましくは２０〜３００
ｎｍの範囲である場合に電磁変換特性、走行性とも良好
となる。

【００１３】本発明を構成するフィルム中に含まれる凝
集粒子の偏平率は０．７以上、好ましくは１〜７、より
好ましくは１．５〜５の範囲であると電磁変換特性、走
行性とも良好となる。

【００１４】本発明を構成するフィルム中に含まれる凝
集粒子のうち基材フィルムに用いられるポリマとの間に
空隙（いわゆるボイド）を有する粒子が１０％以下、よ
り好ましくは５％以下であると、テ−プにした時の耐削
れ性が良好となる。

【００１５】該凝集粒子の種類としては、ＳｉＯ₂ 、Ｔ
ｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＣａＳＯ₄ 、ＢａＳＯ₄ 、ＣａＣ
Ｏ₃ 、カーボンブラック、ゼオライト、その他の金属微
粉末等の無機粒子やシリコーン粒子、ポリイミド粒子、
ポリアミド粒子、架橋重合体粒子、架橋ポリエステル粒
子、テフロン粒子などの有機高分子などがあるが、耐熱
性の点から無機粒子のほうがより好ましい。

【００１６】本発明を構成するフィルムの縦方向の１ｍ
ｍ² あたり１ｋｇの荷重をかけたときの１００℃、１０
分間の寸法変化率が２％以下であるのが好ましい。より
好ましくは１．５％以下、更に好ましくは１．０％以下
である。本発明の磁気記録媒体は磁気記録媒体の薄膜化
の要請に応えて薄膜で使用されることが多いので、寸法
変化率が２％より大きいと高温下で使用された場合テー
プ走行中、あるいはストップ／スタート時にかかるテン
ションによりテープの伸縮が起こり記録再生性が低下す
る。また、基材フィルムが高い寸法安定性（２％以下）
を持つことにより塗布層形成後の乾燥工程においてテー
プの寸法変化が抑えられるため、加工上も有利である。

【００１７】本発明の磁気記録媒体が適度な粗さを持つ
ために、基材フィルム中に一次粒子が凝集していない球
状粒子を存在させておくのが好ましい。粒子の種類とし
てはコロイダルシリカに起因する実質的に球形のシリカ
粒子、架橋高分子による粒子（例えば、架橋ポリスチレ
ン）などが良い。またその他の粒子、例えば、炭酸カル
シウム、二酸化チタン、アルミナ等の粒子でも良い。

【００１８】本発明フィルムは、その少なくとも片面に
磁性層を設け、磁気記録媒体として好適に用いられる。

【００１９】磁性層を形成する方法は、強磁性粉末を各
種バインダ−を用いて磁性塗料とし基材フィルム上に塗
布する湿式法、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
−ティング法などの乾式法があり、特に限定されるもの
ではないが、ここでは湿式法を例にとって説明する。

【００２０】磁性体となる磁性粉末の種類は特に限定さ
れないが、強磁性粉末、例えば、酸化鉄、酸化クロム、
Ｆｅ，Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｃｒ等が好ましく用いられる。また磁性体の
粒子径（長軸）は０．３μｍ以下が好ましく、より好ま
しくは０．２μｍ以下である。

【００２１】磁性粉末は各種バインダーを用いて磁性塗
料とすることができるが、熱硬化性樹脂系バインダーお
よび放射線硬化系バインダーが好ましく、その他添加剤
として分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等を用いてもよい。
例えば、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共
重合体、ポリウレタンプレポリマおよびポリイソシアネ
ートよりなるバインダーを用いることができる。

【００２２】磁性層とフィルムの接着性を向上させるた
めに、フィルム表面には中間層を設けてもよい。

【００２３】バックコ−ト層は非磁性粉末、結合剤樹
脂、潤滑剤等を有機溶剤で分散させて塗料を調製し、フ
ィルムに塗布乾燥して形成させる。バックコ−ト層に使
用される非磁性粉末としてはＣａＣＯ₃ 、カ−ボンブラ
ック、ＴｉＯ₂ 、α−Ｆｅ₂ ＣＯ₃ 等がある。結合剤樹
脂および有機溶剤としては前記磁性層で使用したものと
同じものが使用できる。バックコ−ト層は厚さ１μｍ以
下であると好ましい。１μｍより厚いとテ−プ全体の強
度が不足してくる。

【００２４】本発明フィルムの厚みは好ましくは０．５
〜３０μｍ、より好ましくは１〜２０μｍ、更に好まし
くは２〜１０μｍであると、薄膜の磁気記録媒体として
本発明の効果である優れた走行性、電磁変換特性が実現
されるので望ましい。。

【００２５】本発明フィルムの少なくとも一方向の引張
りヤング率は８００ｋｇ／ｍｍ² 以上有ることが好まし
く、より好ましくは９００ｋｇ／ｍｍ² 以上、更に好ま
しくは１０００ｋｇ／ｍｍ² 以上であると塗布層形成、
バックコート層形成工程など磁気記録媒体形成時にかか
るテンションにも耐えることができ、加工上も有利であ
るので望ましい。

【００２６】また、本発明フィルムの少なくとも一方向
の引張りヤング率が８００ｋｇ／ｍｍ² 以上であれば、
長手方向にテンシライズまたは幅方向にテンシライズさ
れても差し支えない。テンシライズの度合いは特に限定
されないが、伸度、引き裂き抵抗力等の特性を考慮に入
れると、長手方向の引張りヤング率ＥMDと幅方向の引張
りヤング率ＥTDが、 ０．５≦ＥMD／ＥTD≦２ の範囲であるのが実用的である。

【００２７】本発明フィルムの少なくとも一方向の伸度
は１０％以下、より好ましくは２０％以上、更に好まし
くは３０％以上であるとテープが適度な柔軟性を持つの
で望ましい。

【００２８】本発明の磁気記録媒体における基材フィル
ムの吸湿率は、５％以下、より好ましくは３％以下、更
に好ましくは２％以下であると湿度変化によるテープの
寸法変化が小さく良好な電磁変換特性を保てるので望ま
しい。

【００２９】次に本発明の製造方法を説明するが、これ
に限定されるものではない。

【００３０】まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロリ
ドとジアミンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリドン
（ＮＭＰ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメ
チルホルムアミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極
性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面
重合などで合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸
クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副生する
が、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、
トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノー
ルアミンなどの有機の中和剤が使用される。また、イソ
シアネートとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機
極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。

【００３１】これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液と
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。

【００３２】本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得る
ためにはポリマの固有粘度（ポリマ０．５ｇを硫酸中で
１００ｍｌの溶液として３０℃で測定した値）は、０．
５以上であることが好ましい。

【００３３】製膜原液には溶解助剤として無機塩例えば
塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸
リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポリ
マ濃度は２〜４０wt％程度が好ましい。

【００３４】粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中に十
分スラリ−化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒とし
て使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加す
る方法などがある。また凝集粒子の平均凝集粒子径は溶
媒中での粒子の分散方法により制御する。粒子分散方法
としては、超音波分散器（バス型、循環型）、ジェット
ストリームミキサー等を用いる方法が知られているが、
出力１．２ｋｗ、共振周波数１．５ｋＨｚ程度の超音波
分散器を使用する場合には、常温で５〜５０時間分散さ
せるのが好ましい。

【００３５】凝集粒子の平均凝集粒子径は粒子の分散時
間をコントロールすることにより制御し、凝集粒子の偏
平率は製膜方法、湿式工程での浴温度をコントロールす
ることにより制御する。

【００３６】上記のように調製された製膜原液は、いわ
ゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製
膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがありいづれの
方法で製膜されても差し支えないが、ここでは乾湿式法
を例にとって説明する。

【００３７】乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金か
らドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して
薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜
が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜２
００℃、６０分以内の範囲であり、好ましくは室温〜１
８０℃の範囲である。乾燥温度が２００℃を越えると急
激な加熱によるボイドの発生、表面の荒れ等が起こり工
業材料、磁気材料として実用的なフィルムが得られにく
い。

【００３８】上記乾式工程を終えたフィルムは支持体か
ら剥離されて湿式工程に導入され、ここでフィルム中に
含有されているイオン性無機化合物が除去される。この
浴は一般に水系媒体からなるものであり、水の他に有機
溶媒や無機塩等を含有していてもよい。しかし一般には
水分量は３０％以上好ましくは５０％以上含有されてい
るものであり、浴温度は通常０〜９０℃で使用される。
浴温度が９０℃を越えるとフィルム中の溶媒が急激に抽
出され、フィルムの収縮に伴う凝集粒子の偏平率の低下
を起こし、実用的なフィルムが得られにくい。この湿式
工程では剥離されたフィルムはかかる浴中に緊張下で浸
漬され、フィルム中の無機化合物は０．１％未満好まし
くは０．０５％以下まで抽出される。溶解助剤としての
無機塩量は多くても中和で生成した中和塩、あるいは中
和塩と同量であり無機塩量が少量であるため抽出速度が
速く、また、浴中の無機塩や有機溶媒の回収も容易であ
る。

【００３９】湿式工程を出たフィルムは更に延伸、乾
燥、熱処理が行われてフィルムとなる。

【００４０】以上のように形成されるフィルムはその製
膜工程中で、機械特性が本発明の範囲となるように延伸
が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で０．８〜４．０
（面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルム
の面積で除した値で定義する。１以下はリラックスを意
味する。）の範囲内にあることが好ましく、より好まし
くは１．１〜３．０である。また延伸あるいは熱処理後
のフィルムを徐冷する事が有効であり、１００℃／秒以
下の速度で冷却する事が有効である。

【００４１】なお本発明のフィルムは、積層フィルムで
あってもよい。例えば２層の場合には、Ａ層に相当する
製膜原液と、Ｂ層に相当する製膜原液の２種類を公知の
方法、例えば特開昭５６ー１６２６１７号公報に記載の
ように合流管で積層したり、口金内で積層して形成する
ことができる。さらに３層以上の場合も同様である。合
流管や口金内で積層する場合は、原液の粘度が１００〜
１００００ポイズになるように調節することが好まし
い。この範囲より小さいと原液が口金から出る前に液同
士が混合し易くなり好ましくない。逆にこの範囲より大
きいとメルトフラクチャーが発生し表面が荒れやすくな
り好ましくない。

【００４２】また各層の粘度は同じことが好ましいが、
多少の粘度差があってもよく、粘度差は５０％以内を目
標とするとよい。

【００４３】さらに乾式法、乾湿式法を採用する場合、
乾燥工程中で各液が混合することがある。支持体上へキ
ャストされた原液は加熱されると一旦粘度が低下し、そ
の後溶媒の蒸発に伴って粘度が上昇するが、粘度が１０
ポイズより下がると各液が混合しやすくなるので、１０
ポイズ好ましくは５０ポイズより粘度が下がらないよう
乾燥条件を十分調節する必要がある。例えば、乾燥温度
を２４０℃を越えない温度で乾燥させる、あるいは乾燥
温度を少なくとも２段階に分けて上げていく方法が採用
できる。

【００４４】次にこのフィルムに磁性層を塗布する。磁
性層を塗布する方法は公知の方法で行うことができる
が、グラビアロールを使用する方法が塗膜の均一性の点
ではより好ましい。塗布後の乾燥温度は９０℃〜１５０
℃が好ましい。またカレンダー工程は２５℃〜１５０℃
の範囲で行うのが好ましい。

【００４５】この後、磁性層と反対側の面に更に走行性
を向上させるために、公知の方法によりバックコート層
を設けてもよい。

【００４６】更に、この磁性層を塗布したフィルムをキ
ュアした後スリットして本発明の磁気記録媒体となる。
例えばＤＤＳ−１、２、３、４、ＱＩＣ、デ−タ８ｍｍ
などのデ−タ用が挙げられるがこれに限定されるもので
はない。

【００４７】

【測定方法、評価法】本発明の物性の測定方法、効果の
評価方法は次の方法による。

【００４８】（１）粒子の平均粒径 フィルムの断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で写真観
察し、粒子を検知する。

【００４９】この写真をイメージアナライザで、粒子数
１００個以上について数値処理し、数平均径ｄを平均粒
径とする。但し、粒子が凝集している場合には凝集した
塊で１個として処理する。

【００５０】ｄ＝Σｄｉ／Ｎ （ここで、ｄｉは粒子の円相当径（＝（最大径＋最短
径）／２）、Ｎは粒子数） （２）粒子偏平率 ＯｓＯ₄ 染色超薄切片法によりフィルム断面サンプルを
調整し、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）でフィルム断面写
真観察し、粒子（凝集体については凝集した塊で１個と
する）を検知する。粒子数１００個以上について数値処
理し、フィルム厚み方向の粒子径Ｌ１とフィルム平面に
平行な方向の粒子径Ｌ２の比を偏平率とする。

【００５１】偏平率＝ΣＬ2／ΣＬ1 （３）空隙を有する粒子の割合 フィルム中に含有する粒子のうち基材フィルムとの間に
空隙を有する粒子の割合は、上記（２）項と同様な方法
でフィルム断面を撮影し、基材フィルムに用いられるポ
リマとの間に空隙を有する粒子数を１００個以上の粒子
（粒子が凝集している場合には凝集した塊で１個とす
る）に対してカウントした。

【００５２】（４）寸法変化率 フィルムに１５０mm間隔で標線を入れ、これを１０mm幅
にスリットし測定サンプルとする。厚さをマイクロメー
タにより測定し、荷重が１ｋｇ／ｍｍ² になるようにお
もりをつけオーブンで１００℃、１０分間の加熱を行い
寸法変化率を下式で計算する。

【００５３】

【式１】 （５）電磁変換特性 磁性層を塗布したフィルムを１／２インチ幅にスリット
し、ＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲテ−プとした。こ
のテ−プに家庭用ＶＴＲを用いてテレビ試験波形発生器
により１００％クロマ信号からカラ−ビデオノイズ測定
器でクロマＳ／Ｎを測定した。市販のテ−プを基準とし
て評価した。

【００５４】（６）走行性 フィルムを幅１／２インチのテ−プ状にスリットしたも
のをテ−プ走行性試験機ＳＦＴ−７００型（（株）横浜
システム研究所製）を使用し、４０℃、８０％ＲＨ雰囲
気で走行させ、５０パス目の摩擦係数を下記の式より求
めた。

【００５５】μＫ＝０，７３３ｌｏｇ（Ｔ2 ／Ｔ1 ） ここでＴ1 は入側張力、Ｔ2 は出側張力である。ガイド
径は６ｍｍφであり、ガイド材質はポリオキシメチレン
（表面粗さ２０〜４０ｎｍ程度のもの）巻き付け角は９
０°、走行速度は３．３ｃｍ／秒、繰返しストロ−クは
１５ｃｍである。この測定によって得られたμＫが０．
３５以下の場合は走行性○、０．３５を越える場合は走
行性×と判定した。このμＫはフィルムを磁気記録媒
体、コンデンサ、包装用などの加工をする時のハンドリ
ング性を、左右する臨界点である。

【００５６】（７）耐削れ性 フィルムを幅１／２インチにテ−プ状にスリットしたも
のに片刃をフィルム表面に垂直に押し当て、さらに１．
０ｍｍ押し込んだ状態で１．０ｍ走行させる。（走行張
力：５００ｇ、走行速度：１０ｃｍ／秒）。この時片刃
の先に付着したフィルム表面の削れ物の高さを顕微鏡で
読みとり、削れ量とした（単位はμｍ）。この削れ量が
５μｍ以下の場合は○、５〜８μｍの場合は△、８μｍ
を超える場合は×とした。

【００５７】以下に実施例に基ずいて本発明を説明する
が、これらに限定されるものではない。

【００５８】

【実施例】以下に実施例に基づいて本発明を説明する。
但し、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。

【００５９】実施例１ まずＮーメチルー２ーピロリドン（ＮＭＰ）中で一次粒
径０．０２μｍの乾式シリカ粒子を超音波分散器で２０
時間、平均粒径２００ｎｍになるように分散させたスラ
リーを用意する。

【００６０】重合層にＮＭＰと上記シリカスラリーを仕
込み、この中に芳香族ジアミン成分として８０モル％に
相当する２−クロルパラフェニレンジアミンと、２０モ
ル％に相当する４、４’−ジアミノジフェニルエ−テル
とを溶解させ、これに１００モル％に相当する２−クロ
ルテレフタル酸クロリドを添加し、２時間撹拌して重合
を完了した。さらに水酸化リチウムで発生塩化水素の９
７モル％を中和し、ついでジエタノ−ルアミン５モル
％、トリエタノ−ルアミン１０モル％添加してポリマ溶
液を得た。なお粒子の含有量は芳香族ポリアミドに対し
て２ｗｔ％である。

【００６１】そしてポリマ濃度１１ｗｔ％、３０℃での
溶液粘度を３０００ポイズに調整して製膜原液とした。

【００６２】これらの製膜原液を３μｍカットのフィル
タ−を通した後、口金より金属ベルト上に流延した。こ
の流延されたフィルムを１６０℃の熱風で２分間加熱し
て溶媒を蒸発させ、自己保持性を得たフィルムをベルト
から連続的に剥離した。次に５０℃のＮＭＰの濃度勾配
をつけた水槽内へフィルムを導入して残存溶媒と中和で
生じた無機塩の水抽出を行なった。なおこの浴中で縦方
向（ＭＤ方向）に１．２倍延伸した。

【００６３】つぎにテンタ−に導入し２８０℃で１分
間、水分の乾燥と熱処理を行なった。

【００６４】この間にフィルムの幅方向（ＴＤ方向）
１．３倍延伸を行ない、２０℃／秒の速度で徐冷し、フ
ィルムを得た。

【００６５】このフィルム中の粒子の偏平率は２．２、
空隙を有する粒子の割合は２％、１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下
における寸法変化率は０．６％であった。次にこのフィ
ルム走行性、電磁変換特性、耐削れ性を測定すると共に
良好であった。

【００６６】実施例２ ＮＭＰ中で一次粒径４５ｎｍのコロイダルシリカ粒子を
超音波分散器で２５時間、平均粒径１００ｎｍに分散さ
せたスラリ−を用いる以外は実施例１と同様のポリマ溶
液を調整した。粒子の添加量は０．２ｗｔ％である。

【００６７】ＭＤ方向に倍率は同じで、実施例１の１．
５倍の速度で延伸する以外は実施例１と同様のプロセス
で製膜を行った。

【００６８】このフィルム中の粒子の偏平率は３．５、
空隙を有する粒子の割合は３％、１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下
における寸法変化率は０．６％であった。次にこのフィ
ルム走行性、電磁変換特性、耐削れ性を測定すると共に
良好であった。

【００６９】実施例３ 芳香族ジアミン成分として６０モル％に相当するパラフ
ェニレンジアミンと、４０モル％に相当する４、４’−
ジアミノジフェニルエ−テルとを用い、ＮＭＰ中で一次
粒径０．０２μｍの乾式シリカ粒子を超音波分散器で３
０時間、平均粒子径５０ｎｍになるように分散させたス
ラリ−を用い、粒子添加量が４ｗｔ％である以外は、実
施例１と同様にしてフィルムを作成した。

【００７０】このフィルム中の粒子の偏平率は２．０、
空隙を有する粒子の割合は３％、１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下
における寸法変化率は１．１％であった。次にこのフィ
ルム走行性、電磁変換特性、耐削れ性を測定すると共に
良好であった。

【００７１】実施例４ ＮＭＰ中で一次粒径０．０２μｍの乾式シリカ粒子を超
音波分散器で１３時間、平均粒径５００ｎｍに分散させ
たスラリ−を用いる以外は実施例１と同様のポリマ溶液
Ａと、一次粒径０．０２ｎｍの乾式シリカ粒子を超音波
分散器で１７時間、平均粒径３００ｎｍに分散させたス
ラリ−を用いる以外は実施例１と同様のポリマＢを調整
し、３層用の複合管を用いてＡ／Ｂ／Ａの３層に積層
し、実施例１と同様の方法で製膜した。

【００７２】このフィルムの非ベルト面側のＡ層中の粒
子の偏平率は３．０、空隙を有する粒子の割合は３％、
１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下における寸法変化率は０．６％で
あった。次にこのフィルム走行性、電磁変換特性、耐削
れ性を測定すると共に良好であった。

【００７３】比較例１ 粒子の添加量を１０ｗｔ％にする以外は実施例１と同様
にしてフィルムを作成した。

【００７４】このフィルム中の粒子の偏平率は２．４、
空隙を有する粒子の割合は５％、１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下
における寸法変化率は０．７％であった。次にこのフィ
ルム走行性を測定すると良好であったが、電磁変換特
性、耐削れ性を測定すると悪いものであった。

【００７５】比較例２ 粒子の添加量を０．０１ｗｔ％にする以外は実施例１と
同様にしてフィルムを作成した。

【００７６】このフィルム中の粒子の偏平率は２．３、
空隙を有する粒子の割合は２％、１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下
における寸法変化率は０．６％であった。次にこのフィ
ルム電磁変換特性、耐削れ性を測定すると良好であった
が、走行性を測定すると悪いものであった。

【００７７】比較例３ ＮＭＰ中で一次粒径０．０５μｍの乾式シリカ粒子を超
音波分散器で４時間、平均粒径１２００ｎｍに分散させ
たスラリーをを用いる以外は実施例１と同様の方法でフ
ィルムを得た。

【００７８】このフィルム中の粒子の偏平率は１．５、
空隙を有する粒子の割合は７％、１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下
における寸法変化率は０．７％であった。次にこのフィ
ルム走行性を測定すると良好であったが、電磁変換特
性、耐削れを測定すると悪いものであった。

【００７９】比較例４ 実施例１と同様のポリマ溶液を用い、口金より直接９５
℃の水槽中に導入する以外は実施例１と同様の方法でフ
ィルムを得た。

【００８０】このフィルム中の粒子の偏平率は０．５、
空隙を有する粒子の割合は５％、１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下
における寸法変化率は０．８％であった。次にこのフィ
ルム走行性を測定すると良好であったが、電磁変換特
性、耐削れ性を測定すると悪いものであった。

【００８１】実施例５ 実施例１と同様のポリマ溶液を用い、ベルトに流延され
たポリマ溶液を２２０℃の熱風で１分間加熱して溶媒を
蒸発させる以外は実施例１と同様の方法でフィルムを得
た。

【００８２】このフィルム中の粒子の偏平率は２．３、
空隙を有する粒子の割合は１５％、１ｋｇ／ｍｍ² 荷重
下における寸法変化率は１．０％であった。次にこのフ
ィルム走行性を測定すると良好であり、電磁変換特性、
耐削れ性も満足できるレベルであった。

【００８３】実施例６ 芳香族ジアミン成分として１００モル％に相当する４、
４−ジアミノジフェニルメタン、芳香族酸クロライド成
分として５０モル％に相当するイソフタル酸クロリドと
５０モル％に相当するテレフタル酸クロリドを用いる以
外は実施例１と同様の方法でフィルムを作成した。

【００８４】このフィルム中の粒子の偏平率は２．２、
空隙を有する粒子の割合は３％、１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下
における寸法変化率は２．２％であった。次にこのフィ
ルム走行性、耐削れ性を測定すると良好であり、電磁変
換特性も満足できるレベルであった。

【００８５】

【表１】

【００８６】

【発明の効果】本発明は、耐熱性、機械特性に優れた芳
香族ポリアミドからなる基材フィルムを使用し、フィル
ム中の粒子径、偏平率、高分子体との間に空隙を有する
粒子の割合を規定し、また荷重下での寸法変化率を規定
することにより、厳しい環境下（特に高温下）での耐久
性や、走行性、出力特性、耐削れ性の優れた磁気記録媒
体が得られたものである。また、これらの優れた特性に
より磁気記録媒体製造時の走行性、耐熱性が向上し加工
生産性の向上も可能となる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 5/73 Ｇ１１Ｂ 5/73 // Ｃ０８Ｌ 77:10 (56)参考文献 特開 平４−149245（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−212132（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−147671（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08J 5/18 G11B 5/73 B32B 27/34,27/20 C08L 77/10

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】芳香族ポリアミドを主成分とするフィルム
   において、該フィルムに凝集粒子を０．０５〜５重量％
   含有し、該凝集粒子の平均凝集粒子径が５〜１０００ｎ
   ｍであり、かつ、該凝集粒子の偏平率が０．７以上であ
   ることを特徴とする芳香族ポリアミドフィルム。
2. 【請求項２】芳香族ポリアミドを主成分とするフィルム
   において、該フィルムが少なくとも２層からなる積層フ
   ィルムであって、該積層フィルムの少なくとも一方の最
   表層に凝集粒子を０．０５〜５重量％含有し、該凝集粒
   子の平均凝集粒子径が５〜１０００ｎｍであり、かつ、
   該凝集粒子の偏平率が０．７以上であることを特徴とす
   る芳香族ポリアミドフィルム。
3. 【請求項３】該凝集粒子の偏平率が１以上であることを
   特徴とする請求項１又は２記載の芳香族ポリアミドフィ
   ルム。
4. 【請求項４】該凝集粒子のうち基材フィルムに用いられ
   るポリマとの間に空隙を有する粒子の割合が１０％以下
   であることを特徴とする請求項１〜３記載の芳香族ポリ
   アミドフィルム。
5. 【請求項５】寸法変化率が２％以下であることを特徴と
   する請求項１〜４記載の芳香族ポリアミドフィルム。
6. 【請求項６】請求項１〜５記載の芳香族ポリアミドフィ
   ルムの少なくとも片面に磁性層を設けたことを特徴とす
   る磁気記録媒体。