JPH0855328A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐熱性、走行性が良好であり、電磁変換特性
に優れたフィルムを提供する。 【構成】 芳香族ポリアミドからなる基材フィルムの片
面に磁性層を設けてなる磁気記録媒体であって、該基材
フィルムの縦方向の１ｍｍ² あたり１ｋｇの荷重をかけ
たときの１００℃、１０分間の寸法変化率が２％以下で
あり、かつ該基材フィルムの表面の高さ５０ｎｍ以上の
突起が２×１０³ 個／ｍｍ² 以上、２×１０⁷ 個／ｍｍ
² 未満であることを特徴とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】芳香族ポリアミドフィルムは、その優れ
た耐熱性、機械特性を活かして種々な用途に検討されて
いる。特にパラ配向系の芳香族ポリアミドは剛性、強度
等の機械特性が他のポリマより優れているため、フィル
ムの薄物化に非常に有利であり、プリンタリボン、磁気
テープ、コンデンサー等の用途が考えられている。例え
ば磁気記録媒体では特開昭58−168655号公報、特開昭62
−112218号公報などがある。またフィルム表面の突起高
さと密度の関係を特定範囲とした磁気記録媒体として、
例えば特開平5-282657号公報、特開平5-258290号公報な
どがある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】近年、ビデオカメラの
屋外での使用の増加、あるいは小型化、記録時間の長時
間化の要請により、またコンピュータの外部メモリとし
て使用するため、薄膜で、過酷な条件での耐久性に優れ
た磁気記録媒体の要求が強くなってきている。

【０００４】しかしながら、フィルム加工工程、例えば
磁気媒体用途における磁性層塗布・カレンダ−工程など
の工程速度の増大に伴い、フィルム走行性など加工工程
上、製品性能上のトラブルとなるという欠点が最近問題
となってきている。

【０００５】また、上記ポリエステルフィルムベースあ
るいは芳香族ポリアミドベースからなる磁気記録媒体で
は、常温では問題ないが高温条件下で使用すると走行性
や、出力特性が悪化したり、また、繰り返し走行におい
てドロップアウトが発生するという問題が出てきてい
る。これは基材フィルムの耐熱性が不十分であったり、
表面性、走行性が十分ではないためであると考えられ
る。

【０００６】本発明はかかる問題点を解決し、芳香族ポ
リアミドの優れた耐熱性、高剛性を活かし、かつ表面特
性を規定することにより高温下、繰り返し走行などの厳
しい条件下でも走行性、耐久性、出力特性の優れた磁気
記録媒体を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、芳香族ポリアミドからなる基材フィルムの
片面に磁性層を設けてなる磁気記録媒体であって、該基
材フィルムの縦方向の１ｍｍ² あたり１ｋｇの荷重をか
けたときの１００℃、１０分間の寸法変化率が２％以下
であり、かつ該基材フィルムの表面の高さ５０ｎｍ以上
の突起が２×１０³ 個／ｍｍ² 以上、２×１０⁷ 個／ｍ
ｍ² 未満であることを特徴とする磁気記録媒体をその骨
子とする。

【０００８】本発明の芳香族ポリアミドとは、次の一般
式（Ｉ）および／または一般式（II）で表わされる繰り
返し単位を５０モル％以上含むものが好ましく、７０モ
ル％以上からなるものがより好ましい。

【０００９】一般式（Ｉ）

【化１】 一般式（II）

【化２】 ここで、Ａｒ₁ 、Ａｒ₂ 、Ａｒ₃ は、例えば、

【化３】 などが挙げられ、Ｘ、Ｙは −Ｏ−，−ＣＨ₂ −，−ＣＯ−，−ＳＯ₂ −，−Ｓ−，
−Ｃ（ＣＨ₃ ）₂ − 等から選ばれるが、これに限定されるものではない。更
にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、ハロゲン基
（特に塩素）、ニトロ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₃ のアルキル基（特
にメチル基）、Ｃ₁ 〜Ｃ₃ のアルコキシ基などの置換基
で置換されているものも含み、また、重合体を構成する
アミド結合中の水素が他の置換基によって置換されてい
るものも含む。

【００１０】特性面からは上記の芳香環がパラ位で結合
されたものが、全芳香環の５０％以上、好ましくは７５
％以上を占める重合体が、フィルムの剛性が高く耐熱性
も良好となるため好ましい。また吸湿率を小さくする点
からは、芳香環上の水素原子の一部がハロゲン基（特に
塩素）で置換された芳香環が全体の３０％以上である重
合体が好ましい。

【００１１】本発明の芳香族ポリアミドは、一般式
（Ｉ）および／または一般式（II）で表される繰り替え
し単位を５０モル％以上含むものであって、５０モル％
未満は他の繰り替えし単位が共重合、またはブレンドさ
れていても差し支えなく、またフィルムの物性を損なわ
ない程度に導電性粒子、滑剤、酸化防止剤その他の添加
剤等がブレンドされていてもよい。

【００１２】本発明の磁気記録媒体は、該基材フィルム
の縦方向の１ｍｍ² あたり１ｋｇの荷重をかけたときの
１００℃、１０分間の寸法変化率が２％以下である必要
がある。より好ましくは１．５％以下、更に好ましくは
１．０％以下である。本発明の磁気記録媒体は磁気記録
媒体の薄膜化の要請に応えて薄膜で使用されることが多
いので、寸法変化率が２％より大きいと高温下で使用さ
れた場合テープ走行中、あるいはストップ／スタート時
にかかるテンションによりテープの伸縮が起こり記録再
生性が低下する。また、基材フィルムが高い寸法安定性
（２％以下）を持つことにより塗布層形成後の乾燥工程
においてテープの寸法変化が抑えられるため、加工上も
有利である。

【００１３】本発明の磁気記録媒体は、該基材フィルム
の表面の高さ５０ｎｍ以上の突起が２×１０³ 個／ｍｍ
² 以上、２×１０⁷ 個／ｍｍ² 未満である必要がある。
より好ましくは２×１０⁴ 個／ｍｍ² 以上、２×１０⁶
個／ｍｍ² 未満、更に好ましくは５×１０⁴ 個／ｍｍ²
以上、１×１０⁶ 個／ｍｍ² 未満である。本発明の磁気
記録媒体は磁気記録媒体の薄膜化の要請に応えて薄膜で
使用されることが多いので、高さ５０ｎｍ以上の突起が
上記範囲より少ないとフィルム加工上、金属ロ−ルとの
摩擦などによりフィルムにしわが発生し磁性層塗布工程
などで工程上のトラブルとなり易い。また磁気テ−プ走
行中に樹脂ガイドピン、金属ヘッドとの摩擦により走行
性が不良となり易い。逆に上記範囲より多くても電磁変
換特性が不良となり易い。

【００１４】本発明の磁気記録媒体は、該基材フィルム
の磁性層を設ける側の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が
３０ｎｍ以下、より好ましくは２０ｎｍ以下、更に好ま
しくは１５ｎｍ以下である場合に電磁変換特性、走行性
とも良好となるので好ましい。

【００１５】本発明の磁気記録媒体が適度な粗さを持つ
ために、基材フィルム中に粒子を存在させておくことが
好ましい。粒子の種類としては、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、
Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＣａＳＯ₄ 、ＢａＳＯ₄ 、ＣａＣＯ₃ 、カ
−ボンブラック、ゼオライト、その他の金属微粉末など
の無機粒子や、シリコン粒子、ポリイミド粒子、架橋共
重合体粒子、架橋ポリエステル粒子、テフロン粒子など
の有機高分子などがあるが、耐熱性の点から無機粒子の
方がより好ましい。

【００１６】本発明のフィルムに含有される粒子の平均
一次粒径は０．００５〜５μｍ、好ましくは０．０１〜
２μｍの範囲である場合に電磁変換特性、走行性とも良
好となるので好ましい。

【００１７】本発明のフィルムに含有される粒子の含有
量は０．０５〜１５重量％、好ましくは０．１〜１０重
量％である場合に電磁変換特性、走行性とも良好となる
ので好ましい。

【００１８】本発明は、上記基材フィルム上の片面に磁
性層を設けた磁気記録媒体である。磁性層を形成する方
法は、強磁性粉末を各種バインダ−を用いて磁性塗料と
し基材フィルム上に塗布する湿式法、蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレ−ティング法などの乾式法があ
り、特に限定されるものではないが、ここでは湿式法を
例にとって説明する。

【００１９】磁性体となる磁性粉末の種類は特に限定さ
れないが、強磁性粉末、例えば、酸化鉄、酸化クロム、
Ｆｅ，Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ等が好ましく用いられる。

【００２０】磁性粉末は各種バインダーを用いて磁性塗
料とすることができるが、熱硬化性樹脂系バインダーお
よび放射線硬化系バインダーが好ましく、その他添加剤
として分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等を用いてもよい。
例えば、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共
重合体、ポリウレタンプレポリマおよびポリイソシアネ
ートよりなるバインダーを用いることができる。

【００２１】また本発明のフィルムはもちろん単層フィ
ルムでも用いられるが、積層フィルムであっても良い。
積層フィルムとする時は、請求項１または２で規定され
たフィルムが少なくとも片面の最表層に積層されている
と好ましく、更に好ましくは、請求項１または２で規定
されたフィルムが両面の最表層に積層されていると、走
行性が良好となり望ましい。ここで積層された最表層の
フィルムと基層部（積層された最表層のフィルム以外の
フィルム構成部分）は同じ種類でも異なるものでも良
い。この基層部を構成する少なくとも一層にも粒子を含
有していてもよく、粒子の種類、粒子の平均一次粒径、
含有量は本発明のフィルムに望ましく用いられるもの
を、使用することが望ましい。基層部における粒子の径
が積層された本発明のフィルム中の粒子の径よりも大き
いと、フィルム表面に適度のうねりを持たせる事ができ
テ−プ走行性がよりいっそう良好となるので望ましい。

【００２２】本発明の磁気記録媒体における基材フィル
ムの厚みは好ましくは０．５〜３０μｍ、より好ましく
は１〜２０μｍ、更に好ましくは２〜１０μｍである
と、薄膜の磁気記録媒体として本発明の効果である優れ
た走行性、電磁変換特性が実現されるので望ましい。。

【００２３】本発明の磁気記録媒体における基材フィル
ムの少なくとも一方向の引張りヤング率は８００ｋｇ／
ｍｍ² 以上有ることが好ましく、より好ましくは９００
ｋｇ／ｍｍ² 以上、更に好ましくは１０００ｋｇ／ｍｍ
² 以上であると塗布層形成、バックコート層形成工程な
ど磁気記録媒体形成時にかかるテンションにも耐えるこ
とができ、加工上も有利であるので望ましい。

【００２４】また、本発明の磁気記録媒体は、該基材フ
ィルムの少なくとも一方向の引張りヤング率が８００ｋ
ｇ／ｍｍ² 以上であれば、長手方向にテンシライズまた
は幅方向にテンシライズされても差し支えない。テンシ
ライズの度合いは特に限定されないが、伸度、引き裂き
抵抗力等の特性を考慮に入れると、長手方向の引張りヤ
ング率ＥMDと幅方向の引張りヤング率ＥTDが、 ０．５≦ＥMD／ＥTD≦２ の範囲であるのが実用的である。

【００２５】本発明の磁気記録媒体における基材フィル
ムの少なくとも一方向の伸度は１０％以下、より好まし
くは２０％以上、更に好ましくは３０％以上であるとテ
ープが適度な柔軟性を持つので望ましい。

【００２６】本発明の磁気記録媒体における基材フィル
ムの吸湿率は、５％以下、より好ましくは３％以下、更
に好ましくは２％以下であると湿度変化によるテープの
寸法変化が小さく良好な電磁変換特性を保てるので望ま
しい。

【００２７】次に本発明の製造方法を説明するが、これ
に限定されるものではない。

【００２８】まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロリ
ドとジアミンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリドン
（ＮＭＰ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメ
チルホルムアミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極
性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面
重合などで合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸
クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副生する
が、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、
トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノー
ルアミンなどの有機の中和剤が使用される。また、イソ
シアネートとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機
極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。

【００２９】これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液と
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。

【００３０】本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得る
ためにはポリマの固有粘度（ポリマ０．５ｇを硫酸中で
１００ｍｌの溶液として３０℃で測定した値）は、０．
５以上であることが好ましい。

【００３１】製膜原液には溶解助剤として無機塩例えば
塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸
リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポリ
マ濃度は２〜４０wt％程度が好ましい。

【００３２】粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中に十
分スラリ−化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒とし
て使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加す
る方法などがある。

【００３３】上記のように調製された製膜原液は、いわ
ゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製
膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがありいづれの
方法で製膜されても差し支えないが、ここでは乾湿式法
を例にとって説明する。

【００３４】乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金か
らドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して
薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜
が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜２
００℃、６０分以内の範囲であり、好ましくは室温〜１
５０℃の範囲である。乾燥温度が２００℃を越えると急
激な加熱によるボイドの発生、表面の荒れ等が起こり工
業材料、磁気材料として実用的なフィルムが得られな
い。上記乾式工程を終えたフィルムは支持体から剥離さ
れて湿式工程に導入され、ここでフィルム中に含有され
ているイオン性無機化合物が除去される。この浴は一般
に水系媒体からなるものであり、水の他に有機溶媒や無
機塩等を含有していてもよい。しかし一般には水分量は
３０％以上好ましくは５０％以上含有されているもので
あり、浴温度は通常０〜１００℃で使用される。

【００３５】この湿式工程では剥離されたフィルムはか
かる浴中に緊張下で浸漬され、フィルム中の無機化合物
は０．１％未満好ましくは０．０５％以下まで抽出され
る。溶解助剤としての無機塩量は多くても中和で生成し
た中和塩、あるいは中和塩と同量であり無機塩量が少量
であるため抽出速度が速く、また浴中の無機塩や有機溶
媒の回収も容易である。

【００３６】湿式工程を出たフィルムは更に延伸、乾
燥、熱処理が行われてフィルムとなる。

【００３７】以上のように形成されるフィルムはその製
膜工程中で、機械特性が本発明の範囲となるように延伸
が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で０．８〜４．０
（面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルム
の面積で除した値で定義する。１以下はリラックスを意
味する。）の範囲内にあることが好ましく、より好まし
くは１．１〜３．０である。また延伸あるいは熱処理後
のフィルムを徐冷する事が有効であり、１００℃／秒以
下の速度で冷却する事が有効である。

【００３８】なお本発明のフィルムは、積層フィルムで
あってもよい。例えば２層の場合には、重合した芳香族
ポリアミド溶液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加し
た後積層する。さらに３層以上の場合も同様である。こ
れらの積層の方法としては、周知の方法たとえば、口金
内での積層、複合管での積層や、一旦１層を形成してお
いてその上に他の層を形成する方法などがある。

【００３９】さらに乾式法、乾湿式法を採用する場合、
乾燥工程中で各液が混合することがある。支持体上へキ
ャストされた原液は加熱されると一旦粘度が低下し、そ
の後溶媒の蒸発に伴って粘度が上昇するが、粘度が１０
ポイズより下がると各液が混合しやすくなるので、１０
ポイズ好ましくは５０ポイズより粘度が下がらないよう
乾燥条件を十分調節する必要がある。例えば、乾燥温度
を２４０℃を越えない温度で乾燥させる、あるいは乾燥
温度を少なくとも２段階に分けて上げていく方法が採用
できる。

【００４０】次にこのフィルムに磁性層を塗布する。磁
性層を塗布する方法は公知の方法で行うことができる
が、グラビアロールを使用する方法が塗膜の均一性の点
ではより好ましい。塗布後の乾燥温度は９０℃〜１５０
℃が好ましい。またカレンダー工程は２５℃〜１５０℃
の範囲で行うのが好ましい。

【００４１】この後、磁性層と反対側の面に更に走行性
を向上させるために、公知の方法によりバックコート層
を設けてもよい。

【００４２】更に、この磁性層を塗布したフィルムをキ
ュアした後スリットして本発明の磁気記録媒体となる。

【００４３】本発明の具体的な用途としては、ビデオテ
ープ、オーディオテープ、コンピューター外部メモリ用
テープ、さらに各種のフロッピーディスク用ベースに好
適な材質を提供するものである。また、磁気記録方式は
水平磁化、垂直磁化を問わない。

【００４４】

【実施例】本発明の物性の測定方法、効果の評価方法は
次の方法による。

【００４５】（１）寸法変化率 フィルムに１５０mm間隔で標線を入れ、これを１０mm幅
にスリットし測定サンプルとする。厚さをマイクロメー
タにより測定し、荷重が１ｋｇ／ｍｍ2 になるようにお
もりをつけオーブンで１００℃、１０分間の加熱を行い
寸法変化率を下式で計算する。

【００４６】

【式１】 （２）突起高さ 突起高さは、シャドウィング法により測定した。シャド
ウィング法とは被測定面となるフィルム表面の突起に、
蒸着入射角θ＝８５゜（フィルム法線より８５゜の角
度）で斜めからＡｇ，Ａｕ，Ｐｄ等の金属を薄く蒸着
し、フィルム法線方向から日立製電解放射型走査電子顕
微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）Ｓ−８００型で影の長さを観察
し、突起高さを下式より求める方法である。

【００４７】突起高さ（ｎｍ）＝影の長さ（ｎｍ）×ｔ
ａｎ（９０−８５）゜ （３）表面粗さ（中心線平均粗さ、Ｒａ） 小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１０を用い
て測定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定
の平均値をもって表面粗さとした。

【００４８】 ・触針先端半径：０．５μｍ ・触針荷重 ：５ｍｇ ・測定長 ：１ｍｍ ・カットオフ値：０．０８ｍｍ （４）電磁変換特性 磁性層を塗布したフィルムを１／２インチ幅にスリット
し、ＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲテ−プとした。こ
のテ−プに家庭用ＶＴＲを用いてテレビ試験波形発生器
により１００％クロマ信号からカラ−ビデオノイズ測定
器でクロマＳ／Ｎを測定した。市販のテ−プを基準とし
て評価した。

【００４９】（５）走行性 フィルムを幅１／２インチのテ−プ状にスリットしたも
のをテ−プ走行性試験機ＳＦＴ−７００型（（株）横浜
システム研究所製）を使用し、４０℃、８０％ＲＨ雰囲
気で走行させ、５０パス目の摩擦係数を下記の式より求
めた。

【００５０】μＫ＝０，７３３ｌｏｇ（Ｔ2 ／Ｔ1 ） ここでＴ1 は入側張力、Ｔ2 は出側張力である。ガイド
径は６ｍｍφであり、ガイド材質はポリオキシメチレン
（表面粗さ２０〜４０ｎｍ程度のもの）巻き付け角は９
０。 、走行速度は３．３ｃｍ／秒、繰返しストロ−クは
１５ｃｍである。この測定によって得られたμＫが０．
３５以下の場合は走行性○、０．３５を越える場合は走
行性×と判定した。このμＫはフィルムを磁気記録媒
体、コンデンサ、包装用などの加工をする時のハンドリ
ング性を、左右する臨界点である。

【００５１】以下に実施例に基づいて本発明を説明す
る。但し、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。

【００５２】実施例１ まずＮーメチルー２ーピロリドン（ＮＭＰ）中で一次粒
径０．０２μｍの乾式シリカ粒子を平均粒径０．２μｍ
に分散させたスラリーを用意する。

【００５３】重合層にＮＭＰと上記シリカスラリーを仕
込み、この中に芳香族ジアミン成分として８０モル％に
相当する２−クロルパラフェニレンジアミンと、２０モ
ル％に相当する４、４’−ジアミノジフェニルエ−テル
とを溶解させ、これに１００モル％に相当する２−クロ
ルテレフタル酸クロリドを添加し、２時間撹拌して重合
を完了した。これを水酸化リチウムで中和して、ポリマ
濃度１０重量％、３０℃での溶液粘度３０００ポイズの
芳香族ポリアミド溶液を得た。なお粒子の含有量は芳香
族ポリアミドに対して２ｗｔ％である。

【００５４】この製膜原液を５μｍカットのフィルタ−
を通した後、金属ベルト上に流延し、１８０℃の熱風で
２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を得たフィ
ルムをベルトから連続的に剥離した。次にＮＭＰの濃度
勾配をつけた水槽内へフィルムを導入して残存溶媒と中
和で生じた無機塩の水抽出を行ない、テンタ−で水分の
乾燥と熱処理を行なって厚さ５μｍの芳香族ポリアミド
フィルムを得た。この間にフィルム長手方向と幅方向に
各々１．２倍、１．３倍延伸を行ない、２８０℃で１．
５分間乾燥と熱処理を行なった後、２０℃／秒の速度で
徐冷した。

【００５５】このフィルムの１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下にお
ける寸法変化率は０．６％であった。

【００５６】またこのフィルム表面の高さ５０ｎｍ以上
の突起は３７万個／ｍｍ² で、フィルム表面の中心線平
均粗さＲａは６．５ｎｍであった。

【００５７】次にこのフィルム走行性、電磁変換特性を
測定すると共に良好であった。

【００５８】実施例２ 粒子の平均粒子径０．１μｍ、含有量を０．１ｗｔ％に
調整して実施例１と同様にして厚さ５μｍの芳香族ポリ
アミドフィルムを作成した。

【００５９】このフィルムの１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下にお
ける寸法変化率は０．６％であった。またこのフィルム
表面の高さ５０ｎｍ以上の突起は１万個／ｍｍ² で、フ
ィルム表面の中心線平均粗さＲａは１．２ｎｍであっ
た。

【００６０】次にこのフィルム走行性、電磁変換特性を
測定すると共に良好であった。

【００６１】実施例３ 粒子の平均粒子径１μｍ、含有量を１２ｗｔ％に調整し
て実施例１と同様にして厚さ５μｍの芳香族ポリアミド
フィルムを作成した。

【００６２】このフィルムの１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下にお
ける寸法変化率は０．６％であった。

【００６３】またこのフィルム表面の高さ５０ｎｍ以上
の突起は１１００万個／ｍｍ² で、フィルム表面の中心
線平均粗さＲａは２８．０ｎｍであった。

【００６４】次にこのフィルム走行性、電磁変換特性を
測定すると共に良好であった。

【００６５】実施例４ 芳香族ジアミン成分として６０モル％に相当するパラフ
ェニレンジアミンと、４０モル％に相当する４、４’−
ジアミノジフェニルエ−テルとを用いる以外は実施例１
と同様にしてフィルムを作成した。

【００６６】このフィルムの１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下にお
ける寸法変化率は１．１％であった。

【００６７】またこのフィルム表面の高さ５０ｎｍ以上
の突起は３７万個／ｍｍ² で、フィルム表面の中心線平
均粗さＲａは６．５ｎｍであった。

【００６８】次にこのフィルム走行性、電磁変換特性を
測定すると共に良好であった。

【００６９】実施例５ フィルムの延伸を長手方向に１．１５倍、幅方向に１．
４５倍すること以外は実施例１と同様にして厚さ５μｍ
の芳香族ポリアミドを得た。

【００７０】このフィルムの１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下にお
ける寸法変化率は０．６％であった。

【００７１】またこのフィルム表面の高さ５０ｎｍ以上
の突起は３７万個／ｍｍ² で、フィルム表面の中心線平
均粗さＲａは６．５ｎｍであった。

【００７２】次にこのフィルム走行性、電磁変換特性を
測定すると共に良好であった。

【００７３】比較例１ 粒子の平均粒子径０．０５μｍ、含有量を０．０４ｗｔ
％に調整して実施例１と同様にして厚さ５μｍの芳香族
ポリアミドフィルムを作成した。

【００７４】このフィルムの１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下にお
ける寸法変化率は０．６％であった。

【００７５】またこのフィルム表面の高さ５０ｎｍ以上
の突起は０．１８万個／ｍｍ² で、フィルム表面の中心
線平均粗さＲａは０．５ｎｍであった。

【００７６】次にこのフィルムの電磁変換特性を測定す
ると良好であったが、走行性は悪いものであった。

【００７７】比較例２ 粒子の平均粒子径２μｍ、含有量を１５ｗｔ％に調整し
て実施例１と同様にして厚さ５μｍの芳香族ポリアミド
フィルムを作成した。

【００７８】このフィルムの１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下にお
ける寸法変化率は０．６％であった。

【００７９】またこのフィルム表面の高さ５０ｎｍ以上
の突起は２４００万個／ｍｍ² で、フィルム表面の中心
線平均粗さＲａは５０ｎｍであった。

【００８０】次にこのフィルム走行性は良好であった
が、電磁変換特性を測定すると悪いものであった。

【００８１】比較例３ 芳香族ジアミン成分として１００モル％に相当する４、
４−ジアミノジフェニルメタン、芳香族酸クロライド成
分として５０モル％に相当するイソフタル酸クロリドと
５０モル％に相当するテレフタル酸クロリドを用いる以
外は実施例１と同様の方法でフィルムを作成した。

【００８２】このフィルムの１ｋｇ／ｍｍ² 荷重下にお
ける寸法変化率は２．２％であった。

【００８３】またこのフィルム表面の高さ５０ｎｍ以上
の突起は３７万個／ｍｍ² で、フィルム表面の中心線平
均粗さＲａは６．５ｎｍであった。

【００８４】次にこのフィルムの走行性を測定すると良
好であったが、電磁変換特性を測定すると悪いものであ
った。

【００８５】

【表１】

【００８６】

【発明の効果】本発明は、耐熱性、機械特性に優れた芳
香族ポリアミドからなる基材フィルムを使用し、フィル
ム表面の突起密度を規定し、また荷重下での寸法変化率
を規定することにより、厳しい環境下（特に高温下）で
の耐久性や、走行性、出力特性の優れた磁気記録媒体が
得られたものである。また、これらの優れた特性により
磁気記録媒体製造時の走行性、耐熱性が向上し加工生産
性の向上も可能となる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 芳香族ポリアミドからなる基材フィルム
   の片面に磁性層を設けてなる磁気記録媒体であって、該
   基材フィルムの縦方向の１ｍｍ² あたり１ｋｇの荷重を
   かけたときの１００℃、１０分間の寸法変化率が２％以
   下であり、かつ該基材フィルムの表面の高さ５０ｎｍ以
   上の突起が２×１０³ 個／ｍｍ² 以上、２×１０⁷ 個／
   ｍｍ² 未満であることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 該基材フィルムの磁性層を設ける側の表
   面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が３０ｎｍ以下であること
   を特徴とする請求項１の磁気記録媒体。