JP2773299B2

JP2773299B2 - 金属薄膜型磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2773299B2
Application number: JP25618389A
Authority: JP
Inventors: 伸明伊藤; 泰一黒目
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1989-09-29
Filing date: 1989-09-29
Publication date: 1998-07-09
Anticipated expiration: 2013-07-09
Also published as: JPH03119512A

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は金属薄膜型磁気記録媒体に関するものである［従来の技術］真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングな
どの方法により、Co、Ni、Cr、Fe、あるいはこれらの合
金をフィルム基材上に形成させた金属薄膜タイプの磁気
記録媒体は、記録密度の向上に非常に有効であり、基材
としてはポリエステルフィルムが多用されている。

しかし、ポリエステルフィルムは耐熱性が十分でない
ために金属薄膜の形成条件が制限され、垂直磁気記録媒
体用の基材としては芳香族ポリイミドフィルムや芳香族
ポリアミドフィルムの使用が検討されている。これら耐
熱フィルムの表面形成方法については、特開昭60−1275
23や特開昭62−116637に種々提案されている。

［発明が解決しようとする課題］しかしながら、上記の従来の金属薄膜型磁気記録媒体
では、磁性層の耐久性が不十分で傷が入りやすいなどの
問題があり、これを改善するため基材フィルムに含有さ
れる粒子を大きくすると出力特性が不良になる問題があ
った。また非磁性側もガイドピンと接触して削れや傷が
入るといった問題点があった。

本発明はかかる問題点を解決し、本来金属薄膜型磁気
記録媒体が有する優れた出力特性を維持しつつ耐久性の
優れた金属薄膜型磁気記録媒体を提供することを目的と
する。

［課題を解決するための手段］本発明は（１）芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリ
イミドから成る基材フィルムの少なくとも片面に金属薄
膜型磁性層を設けてなる金属薄膜型磁気記録媒体であっ
て、該基材フィルムはＡ層の少なくとも片面に不活性粒
子を含有するＢ層が積層されてなるフィルムであり、Ｂ
層に含有される不活性粒子の平均粒径d_Bが５〜400nm、
該粒子のＢ層における含有量が0.1〜40wt％、Ｂ層の厚
さt_Bと平均粒径d_Bの比t_B/d_Bが0.1〜４の範囲にあり、か
つ該基材フィルムの屈曲試験後の強度保持率が70％以上
であることを特徴とする金属薄膜型磁気記録媒体、
（２）芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドから
成る基材フィルムが、Ａ層の一方の面に不活性粒子を含
有するＢ層を、他方の面に不活性粒子を含有するＣ層を
積層して成るフィルムであって、該基材フィルムのＢ層
側に金属薄膜型磁性層が設けられており、Ｂ層に含有さ
れる不活性粒子の平均粒径d_Bが５〜150nm、該粒子のＢ
層における含有量が0.1〜30wt％、Ｂ層の厚さt_Bと平均
粒径d_Bの比t_B/d_Bが0.1〜４、該Ｃ層に含有される不活性
粒子の平均粒径d_Cが40〜400nm、該粒子のＣ層における
含有量が１〜40wt％、Ｃ層の厚さt_Cと平均粒径d_Cの比t_C
/d_Cが0.1〜４であり、かつ該基材フィルムの屈曲試験後
の強度保持率が70％以上であることを特徴とする金属薄
膜型磁気記録媒体をその骨子とするものである。

本発明の芳香族ポリアミドとは一般式 HN−Ar₁−NHOC−Ar₂−CO で示される繰り返し単位を50モル％以上含む重合体から
成るものが好ましく、より好ましくは、70モル％以上で
ある。

ここでAr₁、Ar₂は少なくとも１個の芳香環を含み、同
一でも異なっていてもよく、これらの代表例としては次
のものがあげられる。

また、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロゲ
ン基（特に塩素）、ニトロ基、C₁〜C₃のアルキル基（特
にメチル基）、C₁〜C₃のアルコキシ基などの置換基で置
換されているものも含む。また、Ｘは、−Ｏ−、−CH₂
−、−SO₂−、−Ｓ−、−CO−などである。これらは単
独または共重合の形で含まれる。

特に薄物の磁気テープ用途などには、機械特性、環境
変化（温度、湿度）に対する寸法安定性などの点から、
パラ結合を主体としたものが好ましく、さらに芳香環に
塩素を導入したものがより好ましい。

例えば、を50モル％以上含むものが挙げられる。

本発明における芳香族ポリイミドとは、重合体の繰り
返し単位の中に芳香環とイミド環を各々１つ以上含むも
のであり、一般式あるいはで示される繰り返し単位を50モル％以上含むものが好ま
しく、より好ましくは70モル％以上である。

ここでAr₃、Ar₅は少なくとも１個の芳香環を含み、イ
ミド環を形成する２つのカルボニル基は芳香環上の隣接
する炭素原子に結合している。このAr₃は、芳香族テト
ラカルボン酸あるいはこの無水物に由来する。代表例と
しては、次のようなものが挙げられる。

ここで、Ｙは−Ｏ−、−CO−、−CH₂−、−Ｓ−、−S
O₂−などである。

また、Ar₅は、無水トリカルボン酸、あるいはこのハ
ライドに由来する。

Ar₄、Ar₆は少なくとも１個の芳香環を含み、芳香族ジ
アミン、芳香族ジイソシアネートに由来する。また、ア
ミド結合、ウレタン結合等を含んでいてもよい。Ar₄,Ar
₆の代表例としては、次のようなものが挙げられる。

ここで、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロ
ゲン基、ニトロ基、C₁〜C₃のアルキル基、C₁〜C₃のアル
コキシ基などの置換基で置換されたものも含む。Ｚは、
−Ｏ−、−CH₂−、−Ｓ−、−SO₂−、−CO−などであ
る。これらは単独または共重合の形で含まれる。

また、本発明の芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミド
には本発明を阻害しない範囲内で、Ａ、Ｂ、Ｃ各層に、
滑剤、酸化防止剤、その他の添加剤等や他のポリマーが
ブレンドされてもよい。

また本発明のＡ、Ｂ、Ｃの各層のポリマ組成は同じで
も異なる種類のものでもよい。

本発明の金属薄膜型磁気記録媒体を構成する基材フィ
ルムのＢ層中の不活性粒子の平均粒子径d_Bは耐久性の点
から５〜400nmであることが必要である。さらにＢ層側
に磁性層が設けられる場合には５〜150nm、より好まし
くは５〜100nmであり、磁性層が設けられない場合には4
0〜400nmが好ましく、50〜200nmがより好ましい。

本発明に使用する不活性粒子の種類は特に限定されな
いが、粒径が揃ったコロイド粒子が特に好ましく、シリ
カ、アルミナ、酸化チタン、炭酸カルシウムのコロイド
粒子が挙げられる。また架橋高分子による粒子（例えば
架橋ポリスチレン）やフッ素含有粒子などもある。

本発明の基材フィルムＢ層中の不活性粒子の含有量は
0.1〜40wt％が必要である。さらにＢ層側に磁性層が設
けられる場合には0.1〜30wt％、より好ましくは１〜30w
t％であり、設けられない場合には１〜40wt％が好まし
く、より好ましくは２〜30wt％である。含有量が上記の
範囲より少ないと耐久性が不良となり、多いと出力特性
が不良となったり、粒子が脱落してやはり耐久性が悪化
するので好ましくない。

本発明に基材フィルムＢ層の厚さt_Bと該Ｂ層中に含有
される不活性粒子の平均粒径d_Bの比t_B/d_Bは、0.1〜４が
必要であり、好ましくは0.2〜３、さらに好ましくは0.3
〜２の範囲である。このような範囲にすることでＢ層中
での粒子の位置が規制され、フィルム表面の突起高さの
均一化が図れる。t_B/d_Bが上記範囲より外れると耐久性
が悪くなり、さらに磁性層を設けた場合には出力特性が
悪化しやすくなる。

さらに、基材フィルムのＡ層は不活性粒子を含有して
いる必要は特にないが、平均粒径が５〜150nm、特に10
〜80nmの不活性粒子が0.001〜0.15重量％、特に0.005〜
0.05重量％含有されていると、耐久性がより一層良好と
なるので望ましい。

Ｂ層側に磁性層を設けた場合には、Ａ層面上でＢ層と
反対の面にＣ層を設けることは好ましい。このＣ層中に
は平均粒径d_Cが40〜400nm、より好ましくは50〜200nmの
不活性粒子を、１〜40wt％、より好ましくは２〜30wt％
添加すると、蒸着等の加工工程でのフィルムの良好なハ
ンドリング性を維持できる。

このＣ層の厚さt_Cと、含有する不活性粒子の平均粒径
d_Cの比t_C/d_Cは、0.1〜４が好ましく、より好ましくは0.
2〜３とすると、蒸着等の加工工程におけるフィルムの
ハンドリング性がより一層向上し、さらにはバックコー
ト処理をしなくても良好な走行性を有する磁気記録媒体
を提供することも可能である。なおＣ層中の粒子種はＡ
層、Ｂ層中のものと同じであっても異なっていてもよく
特に限定されないが、粒径が揃ったシリカ、アルミナ、
酸化チタン、炭酸カルシウムなどのコロイド粒子が好ま
しい。また架橋高分子による粒子（例えば架橋ポリエス
チレン）やフッ素含有粒子なども使用できる。

本発明に使用する不活性粒子は、粒径比（粒子の長径
／短径）が1.0〜1.3の粒子、特に、球形状の粒子の場合
に耐久性がより一層良好となるので望ましい。

本発明に使用する不活性粒子はフィルム中での単一粒
子指数が0.5以上、好ましくは0.7以上である場合に耐久
性がより一層良好となるので特に望ましい。

本発明を構成する基材フィルムは、屈曲試験後の強度
保持率が70％以上あることが必要である。好ましくは80
％以上である。これより小さいと磁気記録媒体の耐久性
が悪化し、またフィルム切れを起こし走行不能となる。
本発明の基材フィルムは少なくともＡ層、Ｂ層の２層か
ら成っているためフィルム製造時などの温度履歴により
各層内での内部応力が異なり、この差が屈曲性、ひいて
は記録媒体の耐久性や走行性に影響を及ぼすものと考え
られる。

本発明を構成する基材フィルムのＢ層の表面の中心線
深さR_PBと中心線平均粗さR_aBの比R_PB/R_aBは３〜20、よ
り好ましく４〜15の場合に出力特性、耐久性がより良好
となるので望ましい。またＢ層側に磁性層を設ける場合
には、Ｂ層の表面のR_PBは１〜50nm、より好ましくは２
〜20nmであり、R_aBは0.2〜5nmが望ましい。

磁性層の厚さt_Mは特に限定されないが、Ｂ層側に磁性
層を設けた場合のＢ層の厚さt_Bとの関係はt_B/t_Mが0.02
〜150、特に0.1〜150、さらに0.2〜100の範囲であるこ
とが好ましい。

本発明を構成する基材フィルムの厚みは１〜20μｍが
好ましく、より好ましくは２〜10μｍである。またＢ層
及びＣ層の厚みはそれぞれ0.005〜１μｍ、より好まし
くは0.01〜0.5μｍの場合に耐久性、出力特性がより良
好となるので特に望ましい。

本発明を構成する基材フィルムは、少なくとも一方向
のヤング率が400kg/mm²以上、より好ましくは700kg/mm²
以上である。また縦方向と横方向のヤング率比は0.3〜
３、より好ましくは0.5〜２の範囲である場合に耐久
性、出力特性が良好であり望ましい。

本発明は上記の基材フィルムの少なくとも片面に金属
薄膜型磁性層を設けた磁気記録媒体である。この磁性層
の種類は特に限定されないが、Co、Ni、Cr、Feや、これ
らの合金から成るものであり、記録方式は、水平記録、
垂直記録を問わない。

次に本発明の製造法について説明するが、これに限定
されるものではない。

まず、芳香族ポリアミドであるが、酸クロリドとジア
ミンとからの場合は、Ｎ−メチルピロリドン（NMP）、
ジメチルアセトアミド（DMAc）、ジメチルホルムアミド
（DMF）などの非プロトン性有機極性溶媒中で、溶液重
合したり、水系媒体を使用する界面重合などで合成され
る。ポリマ溶液は、単量体として酸クロリドとジアミン
を使用すると塩化水素が副生するため、これを中和する
ために水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウ
ムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロ
ピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、ト
リエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機の
中和剤を添加する。

また、イソシアネートとカルボン酸との反応は、非プ
ロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。

これらのポリマ溶液はそのままフィルムを形成する製
膜原液にしてもよく、ポリマを一度単離してから上記の
溶媒に再溶解して製膜原液を調製してもよい。また有機
の中和剤を使用した場合には、加熱や減圧下にポリマ溶
液を放置して中和物の一部または全部を蒸発させてから
製膜に供することもできる。

製膜原液には溶解助剤として無機塩例えば塩化カルシ
ウム、塩化マグネシウム、塩化リチウム、硝酸リチウム
などを添加する場合もある。製膜原液中のポリマ濃度は
２〜40wt％程度が好ましい。

一方、芳香族ポリイミドあるいはポリアミド酸の溶液
は次のようにして得られる。即ち、ポリアミド酸はＮ−
メチルピロリドン（NMP）、ジメチルアセトアミド（DMA
c）、ジメチルホルムアミド（DMF）などの非プロトン性
有機極性溶媒中で、テトラカルボン酸二無水物と芳香族
ジアミンを反応させて、調製することができる。また、
芳香族ポリイミドは前記のポリアミド酸を含有する溶液
を加熱したり、ピリジンなどのイミド化剤を添加してポ
リイミドの固体を得、これを再度溶媒に溶解して調製で
きる。製膜原液中のポリマ濃度は５〜40wt％程度が好ま
しい。

上記のように調製された製膜原液は、いわゆる溶液製
膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製膜法には乾
湿式法、乾式法、湿式法などがあるが、乾湿式法、乾式
法が表面性のよいフィルムを得るには好ましい。

なお、芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドの
製膜原液中に不活性粒子を含有せしめる方法としては、
重合前に粒子を添加しておく方法、重合後に添加する方
法、製膜直前に製膜原液に混練する方法などを採用でき
る。

湿式法で製膜する場合には該原液を口金から直接製膜
用浴中に押し出すか、又は一旦ドラム等の支持体上に押
し出し、支持体ごと湿式浴中に導入する方法が採用され
る。この浴は一般に水系媒体からなるものであり、水の
他に有機溶媒や無機塩等を含有していてもよい。湿式浴
を通すことでフィルム中に含有された塩類、有機溶媒や
イミド化剤等の抽出が行なわれるが、これら湿式浴全体
を通過する時間はフィルムの厚みにもよるが10秒〜30分
である。さらにフィルムの長手方向に延伸が行なわれ
る。次いで乾燥、横延伸、熱処理が行なわれるがこれら
の処理は一般に200〜500℃で、合計で１秒〜30分であ
る。

乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金からドラム、
エンドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、
次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持
性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜300℃、60分
以内の範囲である。乾式工程を終えたフィルムは支持体
から剥離されて湿式工程に導入され、上記の湿式法と同
様に脱塩、脱溶媒などが行なわれ、さらに延伸、乾燥、
熱処理が行なわれてフィルムとなる。

乾式法のプロセスを採用した場合には、ドラム、ある
いはエンドレスベルト等の上で乾燥され、自己保持性を
もったフィルムを、これら支持体から剥離し、フィルム
の長手方向に延伸を行なう。さらに残存溶媒を除去する
ための乾燥や、延伸、熱処理が行なわれるが、これらの
処理は200〜500℃で１秒〜30分である。

以上のように形成されるフィルムはその製膜工程中で
延伸が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で0.8〜5.0（面
倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルムの面
積で除した値で定義する。１以下はリラックスを意味す
る。）の範囲内にあることが好ましく、より好ましくは
1.1〜3.0である。

また本発明の屈曲試験後の強度保持率を高く維持する
には延伸あるいは熱処理後のフィルムを除冷することが
有効であり、100℃〜200℃の条件で１秒以上保持するこ
とが有効である。一旦この条件で冷却されると内部応力
が除かれ、再加熱しても各層での内部応力差が発生する
ことはない。

本発明の積層フィルムを形成するには、Ａ層側に相当
する製膜原液と、Ｂ層側に相当する製膜原液の２種類
を、さらにＣ層側に相当する製膜原液を加えれば３種類
の公知の方法例えば特開昭56−162617のように合流管で
積層したり、口金内で積層して形成することができる。
またいずれか一種の製膜原液でフィルムを形成してお
き、その上に他の製膜原液を流延して脱溶媒を行ない、
積層フィルムとすることもできる。特に合流管や、口金
内で積層する場合は、原液の粘度が100〜10000ポイズに
なるように調節することが好ましい。この範囲より小さ
いと原液が口金から出る前に液どうしが混合しやすくな
り好ましくない。逆にこの範囲より大きいとメルトフラ
クチャーが発生しフィルム表面が粗れやすくなり好まし
くない。

また各層の液の粘度は同じことが好ましいが、多少の
粘度差があってもよく、粘度差は50％以内を目標とする
とよい。

さらに乾式法、乾湿式法を採用する場合、乾燥工程中
で各液が混合することがある。支持体上へキャストされ
た原液は加熱されると一旦粘度が低下し、その後溶媒の
蒸発に伴なって再び粘度が上昇するが、粘度が10ポイズ
より下がると各液が混合しやすくなるので、10ポイズ好
ましくは50ポイズより粘度が下がらないよう乾燥条件を
十分調節する必要がある。例えば乾燥温度を少なくとも
２段階に分けて上げていく方法が採用できる。

以上のようにして本発明のフィルムは製造されるが、
さらに磁性層などを付着させる前に前処理として、グロ
ー放電処理やコロナ放電処理を施すと磁性層の密着性、
耐久性が向上しより好ましい。

次に、このフィルムに金属薄膜を形成する。その方法
は公知の方法で行なうことができるが、例えばCo、Ni、
Cr、Feやこれらの合金を、真空蒸着、イオンプレーティ
ング、スパッタリング等により基材フィルム上に直接、
あるいはAl、Ti、Cr等の下地薄膜を介して形成させる。
水平記録の場合は、Co−Ni合金を斜め蒸着で、また垂直
記録の場合はCo−Cr合金を基材フィルム面の直角方向か
ら蒸発させて形成することが生産性を向上できる点で好
ましい。

［発明の効果］本発明は、基材フィルムの表面層中の不活性粒子の
量、大きさと層の厚さとの関係を特定範囲とすること
で、耐久性の優れた磁気記録媒体が得られたものであ
る。また磁気記録媒体製造時の走行性、加工速度の増大
にも対応できる。

さらに、本発明のフィルムは、耐熱性が良好なため高
温で磁性層を設けることができ、磁気特性の向上が可能
となる。

なお本発明の磁気記録方式は水平磁化、垂直磁化を問
わない。

［特性の測定方法、効果の評価方法］本発明の特性値の測定方法および効果の評価方法は次
の通りである。

（１）粒子の平均粒径フィルムの断面を透過型電子顕微鏡（TEM）で写真観
察し、粒子を検知する。この写真をイメージアナライザ
ーで、粒子数100個以上について数値処理し、数平均径
Ｄを平均粒径する。

Ｄ＝ΣD_i/N （ここで、D_iは粒子の円相当径、Ｎは粒子数）（２）粒径比上記（１）の測定において、粒子の（長径の平均値）
／（短径の平均値）の比で表わし、下式で計算される。

長径＝ΣD_1i/N、短径＝ΣD_2i/N （ここで、D_1i、D_2iはそれぞれ個々の粒子の長径（最大
径）と短径（最短径）、Ｎは粒子数）（３）単一粒子指数上記（１）の測定において、粒子の占める全面積を
Ａ、そのうち２個以上の粒子が凝集している凝集体の占
める面積をＢとしたとき、（Ａ−Ｂ）/Aをもって単一粒
子指数とする。

（４） Ra（中心線平均粗さ）、Rp（中心線深さ）小坂研究所製の薄膜段差測定器（ET−10）を用い、触
針先端半径0.5μｍ、触針荷重5mgカットオフ値0.008m
m、測定長0.5mmの条件で10回測定し、その平均値でRa、
Rpを表わした。

なお、Ra、Rpの定義は、たとえば奈良治郎著「表面粗
さの測定、評価法」（総合技術センター、1983）に示さ
れているものである。

（５）屈曲試験後の強度保持率 JPCA規格（JPCA−FC01−1986）の耐屈曲性試験機にフ
ィルム単体をセットし（ここでループの内径は5mmとす
る）、毎分120回程度の速度で往復運動を繰り返す。100
00回往復させた後のフィルムを引っ張り試験機で強度を
測定し、屈曲試験を行なわないフィルムの強度と比較し
て強度保持率を求める。

（６）耐久性磁性層を設けたフィルムを幅1/2インチのテープ状に
スリットしたものをテープ走行性試験機を使用して、ガ
イドピン（表面粗度:Raで100nm）上を走行させる（走行
速度100m/min、走行回数10pass、巻き付け角:60゜、走
行張力:65g）。

ここでＢ層をガイドピン側にして走行させる。試験
後、テープのＢ層側に入った傷を顕微鏡で観察し、幅2.
5μｍ以上の傷がテープ幅あたり２本末端は◎、２本以
上10本未満は○、10本以上は×と判定した。◎が望まし
いが、○でも実用的には使用可能である。

（７）電磁変換特性蒸着したフィルムを1/2インチ幅にスリットし、VTRカ
セットに組み込みVTRテープとした。このテープに家庭
用VTRを用いてシバソク製のテレビ試験波形発生器によ
り100％クロマ信号を記録し、その再生信号からシバソ
ク製カラービデオノイズ測定器（925D/1）でクロマS/N
を測定した。市販のテープを基準として評価した。

（８）Ｂ層の厚さ２次イオン質量分析装置（SIMS）を用いて、フィルム
中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素と芳香族
ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドの炭素元素の濃度
比（M⁺/C⁺）を粒子濃度とし、Ｂ層の表面から深さ（厚
さ）方向の分析を行なう。表層では表面という界面のた
めに粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃度
は高くなる。本発明フィルムの場合は深さ［Ｉ］でいっ
たん極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この
濃度分布曲線をもとに極大値の粒子濃度の1/2になる深
さ［II］（ここでII＞Ｉ）を積層厚さとした。

なお、フィルム中にもっとも多く含有する粒子が有機
高分子粒子の場合はSIMSでは測定が難しいので、表面か
らエッチングしながらXPS（Ｘ線光電子分光法）、IR
（赤外分光法）あるいはコンフォーカル顕微鏡などで、
その粒子濃度のデプスプロファイルを測定し、上記同様
の手法から積層厚さを求めても良い。

さらに、上述した粒子濃度のデプスプロファイルから
ではなく、フィルムの断面観察あるいは薄膜段差測定機
等によってＢ層の積層厚さを求めてもよい。

［実施例］以下に実施例に基づいて本発明を説明する。ただし本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例１ NMP中に分散した平均粒径50nmのコロイダルシリカを
重合槽に仕込み、この中に２−クロルパラフェニレンジ
アミン85モル％、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン1
5モル％のアミン成分と、２−クロルテレフタル酸クロ
リド100モル％の酸成分を添加して重合し、さらに水酸
化リチウムで中和してＢ層用のポリマ溶液を得た。なお
コロイダルシリカの含有量は8wt％（コロイダルシリカ
／（コロイダルシリカ＋芳香族ポリアミド））である。
同様の方法で平均粒径40nmのコロイダルシリカを0.1wt
％含有するＡ層用のポリマ溶液を製造した。いずれのポ
リマ溶液も、ポリマ濃度10wt％、溶液粘度を30℃で3000
ポイズに調整して製膜原液とした。

これらの原液を２台の押出機で口金に供給し、口金内
で積層して金属ベルト上へ流延した。押出量を調節する
ことで最終の基材フィルムのＢ層の厚さを0.05μｍにな
るように、また総厚み７μｍになるように条件を決め
た。この流延されたフィルムをまず120℃で乾燥し、次
いで150℃で自己保持性を持つまで乾燥後、ベルトから
剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩を行ない、次い
でテンター内で水分の乾燥と熱処理、冷却を行なって最
終フィルムを得た。この間でフィルムは水槽中で長手方
向（MD方向）に1.2倍、テンター内で幅方向（TD方向）
に1.2倍延伸された。また熱処理は300℃で５分、冷却は
150℃で５秒保持した得られた７μｍ厚みの芳香族ポリアミドフィルムは、
MD、TD方向ともヤング率は1,100kg/mm²、強度55kg/m
m²、伸度50％と機械特性のすぐれたものであった。

次いでこのフィルムのＢ層側にCo−Niを0.1μｍ蒸着
して磁性層を設け、さらにスリットして磁気テープとし
て耐久性、電磁変換特性を評価したが非常に優れたもの
であった。なお、この磁性層を除去してフィルムの屈曲
試験を行なったところ第１表のように良好なものであっ
た。

実施例２実施例１と同じポリマを用い、コロイダルシリカの平
均粒径、添加量、及びＢ層の厚みを第１表の条件になる
ように製膜して７μｍのフィルムを得た。このフィルム
のＡ層側に磁性層を設けて磁気テープを作製し評価を行
なったところ、耐久性、電磁変換特性とも良好なもので
あった。

実施例３２−クロルパラフェニレンジアミン85モル％と4,4′
−ジアミノジフェニルエーテル15モル％をアミン成分と
し、２−クロルテレフタル酸クロリド100モル％を酸成
分としてNMP中で重合し、さらに水酸化リチウムで中和
してポリマ溶液を得た。なおコロイダルシリカは第１表
の条件になるように重合前に添加しておいて、Ａ層、Ｂ
層、Ｃ層の各々を形成する３種のポリマ溶液を作製し
た。

これを３台の押出機を用いて口金に供給し、口金内で
積層した。次いで実施例１と同様にして製膜し７μｍの
フィルムを得、Ｂ層側にCo−Niを0.2μｍ蒸着して磁気
テープを作製した。

このテープの評価を行なったところ、耐久性、電磁変
換特性とも非常に良好であった。

なおこの芳香族ポリアミドフィルムの機械特性は、ヤ
ング率1,300kg/mm²、強度60kg/mm²、伸度52％であっ
た。

実施例４ 4,4′−ジアミノジフェニルエーテル70モル％と、パ
ラフェニレンジアミン30モル％をアミン成分とし、無水
ピロメリット酸100モル％とをDMAc中で重合してポリア
ミド酸溶液を得た。この重合に先立ち、第１表に示すよ
うなコロイダルシリカを前もってDMAc中に分散させてお
いた。

得られた２種類のポリマ溶液を２台の押出機で合流管
へ送液して積層し、口金から金属ベルト上へ流延した。
まず110℃で乾燥し、次いで140℃の熱風で自己保持性を
持つまで乾燥し、さらにベルトから剥離して440℃のテ
ンターへ導入して熱処理を行なった後、300℃、150℃で
各々２秒ずつ保持して冷却し10μｍの基材フィルムを得
た。なお延伸倍率はMD、TDとも1.1倍で、この芳香族ポ
リイミドフィルムの機械特性はヤング率430kg/mm²、強
度28kg/mm²、伸度65％であった。

このフィルムのＢ層側に実施例１と同様に磁性層を設
けて磁気テープを作製し、耐久性、電磁変換特性を評価
したところ良好な結果が得られた。

比較例１〜５実施例１と同じポリマを用い、コロイダルシリカの平
均粒径、添加量、及びＢ層の厚みを第１表のように本発
明から外れた条件になるように設定して製膜し、７μｍ
のフィルムを得た。なお比較例５ではテンターで300℃
で熱処理後、０℃の冷却ロールで急冷した。これらのフ
ィルムに実施例１と同様に磁性層を設けて耐久性、電磁
変換特性を測定したところ、満足できるものはなかっ
た。

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミ
ドから成る基材フィルムの少なくとも片面に金属薄膜型
磁性層を設けてなる金属薄膜型磁気記録媒体であって、
該基材フィルムはＡ層の少なくとも片面に不活性粒子を
含有するＢ層が積層されてなるフィルムであり、Ｂ層に
含有される不活性粒子の平均粒径d_Bが５〜400nm、該粒
子のＢ層における含有量が0.1〜40wt％、Ｂ層の厚さt_B
と平均粒径d_Bの比t_B/d_Bが0.1〜４の範囲にあり、かつ該
基材フィルムの屈曲試験後の強度保持率が70％以上であ
ることを特徴とする金属薄膜型磁気記録媒体。
【請求項２】基材フィルムの少なくとも一方のＢ層側に
金属薄膜型磁性層が設けられており、該磁性層側のＢ層
に含有される不活性粒子の平均粒径d_Bが５〜150nm、該
粒子のＢ層における含有量が0.1〜30wt％であることを
特徴とする請求項（１）記載の金属薄膜型磁気記録媒
体。
【請求項３】基材フィルムがＡ層の片面にのみＢ層を積
層してなるフィルムであって、該Ａ層側に金属薄膜型磁
性層が設けられており、Ｂ層に含有される不活性粒子の
平均粒径d_Bが40〜400nm、該粒子のＢ層における含有量
が１〜40wt％であることを特徴とする請求項（１）記載
の金属薄膜型磁性記録媒体。
【請求項４】芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミ
ドから成る基材フィルムが、Ａ層の一方の面に不活性粒
子を含有するＢ層を、他方の面に不活性粒子を含有する
Ｃ層を積層して成るフィルムであって、該基材フィルム
のＢ層側に金属薄膜型磁性層が設けられており、Ｂ層に
含有される不活性粒子の平均粒径d_Bが５〜150nm、該粒
子のＢ層における含有量が0.1〜30wt％、Ｂ層の厚さt_B
と平均粒径d_Bの比t_B/d_Bが0.1〜４、該Ｃ層に含有される
不活性粒子の平均粒径d_Cが40〜400nm、該粒子のＣ層に
おける含有量が１〜40wt％、Ｃ層の厚さt_Cと平均粒径d_C
の比t_C/d_Cが0.1〜４であり、かつ該基材フィルムの屈曲
試験後の強度保持率が70％以上であることを特徴とする
金属薄膜型磁気記録媒体。