JPH0434716A - 塗布型磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は塗布型磁気記録媒体に関するものである ［従来の技術］ 塗布型磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルムに
酸化物塗布型磁性層やメタル塗布型磁性層を設けてなる
磁気記録媒体が知られている（例えば特開昭６１−２６
９３３、特開昭６０−６６３１９など）。また芳香族ポ
リアミドに関しては、表裏で表面性の異なるフィルムの
磁気記録媒体への応用例が特開昭６２−１１６６３７に
提案されている。

［発明が解決しようとする課題］ 近年、ビデオカメラやポータプルなＶＴＲが普及し、室
内のみならず屋外での使用が増加している。

しかしながら、上記のポリエステルフィルムベースある
いは芳香族ポリアミドベースからなる磁気記録媒体では
、常温では問題ないが屋外などの高温条件下で使用する
と走行性や出力特性が悪化するという問題が出てきてい
る。これは基材フィルムの耐熱性が不十分であったり、
表面性が十分ではないためであると考えられる。

本発明はかかる問題点を解決し、芳香族ポリアミドある
いは芳香族ポリイミドの優れた耐熱性を活かし、屋外な
どの使用条件の厳しい条件下でも走行性や耐久性、出力
特性の優れた塗布型磁気記録媒体を提供することを目的
とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、（１）芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリ
イミドから成る基材フィルムの少なくとも片面に塗布型
磁性層を設けてなる塗布型磁気記録媒体であって、該基
材フィルムはＡ層の少なくとも片面に不活性粒子を含有
するＢ層が積層されてなるフィルムであり、Ｂ層に含有
される不活性粒子の平均粒径ｄ［ｌが１０〜１０１００
０ｎ該粒子のＢ層における含有量が０．１〜４０Ｗ１％
、Ｂ層の厚さｔａと平均粒径ｄＢの比ｔＢ／ｄＢが０゜
１〜４、Ｂ層の表面の中心線深さＲｐｅと中心線平均粗
さＲａ　Ｂの比Ｒｐ　ａ／　Ｒ−ａが３〜２０であるこ
とを特徴とする塗布型磁気記録媒体、および、（２）芳
香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドから成る基材
フィルムが、Ａ層の一方の面に不活性粒子を含有するＢ
層を、他方の面に不活性粒子を含有する０層を積層して
成るフィルムであって、該基材フィルムのＢ層側に塗布
型磁性層が設けられており、Ｂ層に含有される不活性粒
子の平均粒径ｄＢが１０〜６００ｎｍ、該粒子のＢ層に
おける含有量が０．１〜３０Ｗ」％、Ｂ層の厚さｔｇと
平均粒径ｄＢの比ｔ　Ｂ　／　ｄ　Ｂが０．１〜４、Ｂ
層の表面の中心線深さＲＰ８と中心線平均粗さＲ，！ｌ
の比ＲＰＢ／　Ｒ−＋１が３〜２０、該０層に含有され
る不活性粒子の平均粒径ｄＢが５０〜１１０００ｎｍ、
該粒子の０層における含有量が１〜４Ｑｗｔ％、０層の
厚さｔ。と平均粒径ｄ。の比ｔｃ　／ｄｃが０゜１〜４
であることを特徴とする塗布型磁気記録媒体、をその骨
子とするものである。

本発明の芳香族ポリアミドとは一般式 ％式％ で示される繰り返し単位を５０モル％以上含む重合体か
ら成るものが好ましく、より好ましくは、７０モル％以
上である。

ここでＡ　ｒ　１　、Ａ　ｒ　２は少なくとも１個の芳
香環を含み、同一でも異なっていてもよ（、これらの代
表例としては次のものがあげられる。

また、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロゲン
基（特に塩素）、ニトロ基、００〜Ｃ３のアルキル基（
特にメチル基）、０１〜Ｃ９のアルコキシ基などの置換
基で置換されているものも含む。また、Ｘは一〇−−Ｃ
Ｈ２−１ −５Ｏ２−１−Ｓ−１−ＣＯ−などである。これらは単
独または共重合の形で含まれる。

特に薄物の磁気テープ用途などには、機械特性、環境変
化（温度、湿度）に対する寸法安定性などの点から、パ
ラ結合を主体としたものが好ましく、さらに芳香環に塩
素を導入したものがより好ましい。

例えば、 あるいは、 （ここでｐ、　ｑは０〜３でｐ＋ｑ≧１）を５０モル％
以上含むものが挙げられる。

本発明における芳香族ポリイミドとは、重合体の繰り返
し単位の中に芳香環とイミド環を各々１つ以上含むもの
であり、一般式 で示される繰り返し単位を５０モル％以上含むものが好
ましく、より好ましくは７０モル％以上である。

ここでＡｒ３、Ａｒ、は少な（とも１個の芳香環を含み
、イミド環を形成する２つのカルボニル基は芳香環上の
隣接する炭素原子に結合している。

このＡｒ３は、芳香族テトラカルボン酸あるいはこの無
水物に由来する。代表例としては、次のようなものが挙
げられる。

ここで、Ｙは一〇−１−ＣＯ−−ＣＨ２−−５−−ＳＯ
□−などである。

また、Ａｒ５は、無水トリカルボン酸、あるいはこのハ
ライドに由来する。

Ａ　ｒ　４　、Ａ　ｒ　６は少なくとも１個の芳香環を
含み、芳香族ジアミン、芳香族ジイソシアネートに由来
する。また、アミド結合、ウレタン結合等を含んでいて
もよい。Ａｒ４．Ａｒ６の代表例としては、次のような
ものが挙げられる。

てン２會 の創 ここで、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロゲ
ン基、ニトロ基、０１〜Ｃ３のアルキル基、０１〜Ｃ３
のアルコキシ基などの置換基で置換されたものも含む。

２は、−０−−ＣＨ２−−５−１−ｓｏ２−　−ｃｏ−
などである。これらは単独または共重合の形で含まれる
。

また、本発明の芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドに
は本発明を阻害しない範囲内で、ＡＸＢ。

Ｃ各層の少なくとも一種に、滑剤、酸化防止剤、その他
の添加剤等や他のポリマーがブレンドされていてもよい
。

また本発明のＡ、Ｂ、Ｃの各層のポリマ組成は同じでも
異なる組成のものでもよい。

本発明の塗布型磁気記録媒体を構成する基材フィルムの
Ｂ層中の不活性粒子の平均粒子径ｄａは耐久性の点から
１０〜１１０００ｎであることが必要である。さらにＢ
層側に磁性層が設けられる場合には１０〜６００　ｎ　
ｍ　％より好ましくは１０〜４５０ｎｍであり、磁性層
が設けられない場合には５０〜１１０００ｎが好ましく
、５０〜６０Ｏｎｍがより好ましい。

本発明に使用する不活性粒子の種類は特に限定されない
が、粒径が揃ったコロイド粒子が特に好ましく、シリカ
、アルミナ、酸化チタン、炭酸カルシウムのコロイド粒
子が挙げられる。また架橋高分子による粒子（例えば架
橋ポリスチレン）やフッ素含有粒子などもある。

本発明の基材フィルム８層中の不活性粒子の含有量は０
．１〜４０ｗｔ％が必要である。さらにＢ層側に磁性層
が設けられる場合には０．１〜３０ｉｔ％、より好まし
くは１〜３０ｗｔ％であり設けられない場合には１〜４
０Ｗ１％が好ましく、より好ましくは２〜３０Ｗ１％で
ある。含有量が上記の範囲より少ないと耐久性や走行性
が不良となり、多いと出力特性が不良となったり、粒子
が脱落してやはり耐久性や走行性が悪化するので好まし
くない。

本発明の基材フィルム８層の厚さｔＢと該Ｂ層中に含有
される不活性粒子の平均粒径ｄＢの比ｔＢ／ｄＥは、０
．１〜４が必要であり、好ましくは０．２〜３、さらに
好ましくは０．３〜１の範囲である。このような範囲に
することでＢ層中での粒子の位置が規制され、フィルム
表面の突起高さの均一化が図れる。ｔ　ｅ　／　ｄ　ｅ
が上記範囲より外れると高温高湿下での耐久性が悪くな
り、さらに磁性層を設けた場合には出力特性が悪化しや
すくなる。

本発明を構成する基材フィルムのＢ層の表面の中心線深
さＲＰＢと中心線平均粗さＲａＢの比ＲＰＢ／Ｒ８１ｌ
は３〜２０である必要があり、好ましく、は４〜１５の
場合に出力特性、走行性、耐久性がより良好となるので
望ましい。またＢ層側に磁性層を設ける場合には、Ｂ層
の表面のＲＰＢは１０〜５０Ｑｎｍ、より好ましくは２
０〜３００ｎｍである。

さらに、基材フィルムのＡ層は不活性粒子を含有してい
る必要は特にないが、平均粒径が５〜１１０００ｎｍ、
特に１０〜６００ｎｍの不活性粒子が０．００１〜０．
１５ｗｆ％、特に０．００５〜０．０５ｗｔ％含有され
ていると、耐久性、走行性がより一層良好となるので望
ましい。

Ｂ層側に磁性層を設けた場合には、Ａ層面上でＢ層と反
対の面に０層を設けることは好ましい。

このＣ層中には平均粒径ｄ。が５０〜１０００ｎｍ１よ
り好ましくは５０〜６００ｎｍの不活性粒子を、１〜４
Ｑｔ１％、より好ましくは２〜３０ｗｔ％添加すると、
加工工程でのフィルムの良好なハンドリング性を維持で
きる。

この０層の厚さｔＣと、含有する不活性粒子の平均粒径
ｄｃの比ｔｃ／ｄｃは、０．１〜４が好ましく、より好
ましくは０．　２〜３、さらに好ましくは０．　３〜１
とすると、加工工程におけるフィルムのハンドリング性
がより一層向上し、さらにはバックコート処理をしなく
ても良好な走行性を有する磁気記録媒体を提供すること
も可能である。また、０層の表面の中心線深さＲＰＣと
中心線平均粗さＲ１゜の比Ｒ１゜／Ｒ，。が３〜２０で
あることが好ましい。なおＣ層中の粒子種はＡ層、Ｂ層
中のものと同じであっても異なっていてもよく特に限定
されないが、粒径が揃ったシリカ、アルミナ、酸化チタ
ン、炭酸カルシウムなどのコロイド粒子が好ましい。ま
た架橋高分子による粒子（例えば架橋ポリスチレン）や
フッ素含有粒子なども使用できる。

本発明に使用する不活性粒子は、粒径比（粒子の長径／
短径）が１．０〜１．３の粒子、特に、球形状の粒子の
場合に耐久性、走行性、出力特性がより一層良好となる
ので望ましい。

本発明に使用する不活性粒子はフィルム中での単一粒子
指数が０．　５以上、好ましくは０．　７以上である場
合に耐久性、走行性、出力特性がより一層良好となるの
で特に望ましい。

本発明の基材フィルムのＢ層の突起数は、１０３〜１０
７個／Ｉｎｍ２が好ましく、より好ましくは１０４〜１
０６個／鵬２である。この範囲では走行性、耐久性がよ
り良好となるので望ましい。

磁性層の厚さｔＭは特に限定されないが、Ｂ層側に磁性
層を設けた場合のＢ層の厚さｔＢとの関係はｔ　ａ　／
　ｔ　Ｍが０．００２〜１０．特ニ０．０１〜１０、さ
らに０．０２〜５の範囲であることが好ましい。またｔ
Ｍは０．　５〜５μｍであることが好ましい。

本発明を構成する基材フィルムの厚みは１〜２０μｍ１
より好ましくは２〜１０μｍである。またＢ層及び０層
の厚みは０．０１〜２μｍ１より好ましくは０．０２〜
１μｍの場合に耐久性、走行性、出力特性がより良好と
なるので特に望ましい。

本発明を構成する基材フィルムは、少なくとも一方向の
ヤング率が５００ｋｇ／ｍｍ２以上、より好ましくは７
００ｋｇ／ｍｍ２以上、さらに好ましくは１０００　ｋ
ｇ／　ｍｍ２以上である。また縦方向と横方向のヤング
率比は０．３〜３、より好ましくは０゜５〜２の範囲に
ある場合に走行性、出力特性が良好であり望ましい。

本発明は上記の基材フィルムの少なくとも片面に塗布型
磁性層を設けた磁気記録媒体である。この磁性粉末の種
類は特に限定されないが、強磁性粉末、例えば酸化鉄、
酸化クロム、Ｆｅ、Ｃｏ。

Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ等が好まし
く用いられる。

磁性粉末は各種バインダーを用いて磁性塗料とすること
ができるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダーおよび
放射線硬化系バインダーが好ましく、その油添加剤とし
て分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等を用いてもよい。例え
ば塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体
、ポリウレタンプレポリマおよびポリイソシアネートよ
りなるバインダーなどを用いることができる。

次に本発明の製造法について説明するが、これに限定さ
れるものではない。

まず、芳香族ポリアミドであるが、酸クロリドとジアミ
ンとからの場合は、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）　
、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極性溶媒中で
、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面重合などで
合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸クロリドと
ジアミンを使用すると塩化水素が副生ずるため、これを
中和するために水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭
酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサイ
ド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルア
ミン、トリエタノールアミン、ジェタノールアミンなど
の有機の中和剤を添加する。

また、イソシアネートとカルボン酸との反応は、非プロ
トン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。

これらのポリマ溶液はそのままフィルムを形成する製膜
原液にしてもよく、ポリマを一度単離してから上記の溶
媒に再溶解して製膜原液を調製してもよい。また有機の
中和剤を使用した場合には、加熱や減圧下にポリマ溶液
を放置して中和物の一部または全部を蒸発させてから製
膜に供することもできる。

製膜原液には溶解助剤として無機塩例えば塩化カルシウ
ム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸リチウムなど
を添加する場合もある。製膜原液中のポリマ濃度は５〜
４０ｗｔ％程度が好ましい。

一方、芳香族ポリイミドあるいはポリアミド酸の溶液は
次のようにして得られる。即ち、ポリアミド酸はＮ−メ
チルピロリドン（ＮＭＰ）　、ジメチルアセトアミド（
ＤＭＡｃ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などの非
プロトン性有機極性溶媒中で、テトラカルボン酸二無水
物と芳香族ジアミンを反応させて、調製することができ
る。また、芳香族ポリイミドは前記のポリアミド酸を含
有する溶液を加熱したり、ピリジンなどのイミド化剤を
添加してポリイミドの粉末を得、これを再度溶媒に溶解
して調製できる。製膜原液中のポリマ濃度は５〜４０ｖ
ｔ％程度が好ましい。

上記のように調製された製膜原液は、いわゆる溶液製膜
法によりフィルム化が行なわれる。溶液製膜法には乾湿
式法、乾式法、湿式法などがあるが、乾湿式法、乾式法
が表面性のよいフィルムを得るには好ましい。

なお芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドの製膜
原液中に不溶性粒子を含有せしめる方法としては、重合
前に粒子を添加しておく方法、重合後に添加する方法、
製膜直前に製膜原液に混練する方法などを採用できる。

湿式法で製膜する場合には該原液を口金から直接製膜用
浴中に押し出すか、又は−旦ドラム等の支持体上に押し
出し、支持体ごと湿式洛中に導入する方法が採用される
。この浴は一般に水系媒体からなるものであり、水の他
に有機溶媒や無機塩等を含有していてもよい。湿式浴を
通すことでフィルム中に含有された塩類、有機溶媒やイ
ミド化剤等の抽出が行なわれるが、これら湿式浴全体を
通過する時間はフィルムの厚みにもよるが１０秒〜３０
分である。さらにフィルムの長手方向に延伸が行なわれ
る。次いで乾燥、横延伸、熱処理が行なわれるがこれら
の処理は一般に２００〜５００℃で、合計で１秒〜３０
分である。

乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金からドラム、エ
ンドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、次
いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持性
をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜３００°Ｃ１６
０分以内の範囲である。

乾式１程を終えたフィルムは支持体から剥離されて湿式
１程に導入され、上記の湿式法と同様に脱塩、脱溶媒な
どが行なわれ、さらに延伸、乾燥、熱処理が行なわれて
フィルムとなる。

乾式法のプロセスを採用した場合には、ドラム、あるい
はエンドレスベルト等の上で乾燥され、自己保持性をも
ったフィルムを、これら支持体から剥離し、フィルムの
長手方向に延伸を行なう。さらに残存溶媒を除去するた
めの乾燥や、延伸、熱処理が行なわれるが、これらの処
理は２００〜５００℃で１秒〜３０分である。

以上のように形成されるフィルムはその製膜工程中で延
伸が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で０．８〜９．０
（面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルム
の面積で除した値で定義する。１以下はリラックスを意
味する。）の範囲内にあることが好ましく、より好まし
くは１．１〜５．０である。

また、長手方向あるいは横方向の延伸速度は２０００％
／分以下が好ましい。２０００％／分より大きいと走行
性、耐久性に寄与するＢ層表面の突起数が増大したり、
表面が粗れたりするので好ましくない。

本発明の積層フィルムを形成するには、Ａ層側に相当す
る製膜原液と、Ｂ層側に相当する製膜原液の２種類を、
さらにＣ層側に相当する製膜原液を加えれば３種類を公
知の方法例えば特開昭５６−１６２６１７のように合流
管で積層したり、口金内で積層して形成することができ
る。またいずれか一種の製膜原液でフィルムを形成して
おき、その上に他の製膜原液を流延して脱溶媒を行ない
、積層フィルムとすることもできる。特に合流管や、口
金内で積層する場合は、原液の粘度が１００〜１゜００
０ポイズになるように調節することが好ましい。この範
囲より小さいと原液が口金から出る前に液どうしが混合
しやすくなり好ましくない。逆にこの範囲より大きいと
メルトフラクチャーが発生しフィルム表面が粗れやすく
なり好ましくない。

また各層の液の粘度は同じことが好ましいが、多少の粘
度差があってもよ（、粘度差は５０％以内を目標とする
とよい。

さらに乾式法、乾湿式法を採用する場合、乾燥工程中で
各層が混合することがある。支持体上へキャストされた
原液は加熱されると一旦粘度が低下し、その後溶媒の蒸
発に伴なって再び精度が上昇するが、粘度が１０ボイズ
より下がると各層が混合しやすくなるので、１０ボイズ
好ましくは５０ポイズより粘度が下がらないよう乾燥条
件を十分調節する必要がある。例えば乾燥温度を少なく
とも２段階に分けて上げていく方法が採用できる。

以上のようにして本発明のフィルムは製造されるが、さ
らに磁性層などを付着させる前に前処理として、グロー
放電処理やコロナ放電処理を施すと磁性層やバックコー
ト層などの密着性、耐久性が向上しより好ましい。

次に、このフィルムに磁性層を塗布する。磁性層を塗布
する方法は公知の方法で行なうことができるが、グラビ
アロールを使用する方法が塗膜の均一性の点でより好ま
しい。塗布後の乾燥温度は、９０〜１５０℃が好ましい
。また、カレンダー工程は２５〜１５０℃の範囲で行な
うのが好ましい。

さらに、この磁性層を塗布したフィルムをキュアした後
スリットして本発明の磁気記録媒体となる。

［発明の効果コ 本発明は、耐熱性の優れた芳香族ポリアミドあるい芳香
族ポリイミドからなる基材フィルムを使用し、かつ基材
フィルムの表面層中の不活性粒子の量、大きさと層の厚
さとの関係を特定範囲とすることで、高温下での耐久性
や走行性、出力特性の優れた磁気記録媒体が得られたも
のである。また基材フィルムの表面性を特定範囲とした
ことで磁気記録媒体製造時の走行性が向上し、耐熱フィ
ルムの使用により工程内での加熱温度が上げられること
により加工速度の増大も可能となる。

［特性の測定方法、効果の評価方法］ 本発明の特性値の測定方法および効果の評価方法は次の
通りである。

（１）粒子の平均粒径 フィルムの断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で写真観
察し、粒子を検知する。この写真をイメージアナライザ
ーで、粒子数１００個以上について数値処理し、数平均
径りを平均粒径とする。

Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎ （ここで、Ｄｉは粒子の円相当径、Ｎは粒子数）（２）
粒径比 上記（１）の測定において、粒子の（長径の平均値）／
（短径の平均値）の比で表わし、下式で計算される。

長径＝ΣＤｌｉ／Ｎ、短径−ΣＤ２ｉ／Ｎ（ここで、Ｄ
ｌｉＸＤ２ｉはそれぞれ個々の粒子の長径（最大径）と
短径（最短径）、Ｎは粒子数）（３）単一粒子指数 上記（１）の測定において、粒子の占める全面積をＡ１
そのうち２個以上の粒子が凝集している凝集体の占める
面積をＢとしたとき、（Ａ−Ｂ）／Ａをもって単一粒子
指数とする。

（４）Ｒａ　（中心線平均粗さ）、Ｒｐ（中心線深さ） 小板研究所製の薄膜段差測定器（ＥＴ−１０）を用い、
触針先端半径０．　５μｍ１触針荷重５■カットオフ値
０．００８ｍｍ、測定長０．　５ｍｍの条件で１０回測
定し、その平均値でＲａ、Ｒｐを表わした。

（５）走行性、耐久性 磁性層を設けたフィルムをスリットし、ＶＴＲテープと
した。このテープを家庭用ＶＴＲで記録し、再生を１０
回行なった後の画面のゆらぎと、ＶＴＲ内のガイドピン
の汚れを観察した。記録時の雰囲気は２５℃、５５％Ｒ
Ｈ，再生時の雰囲気は２５℃−，５５％ＲＨと６０℃、
７５％ＲＨである。

○：再生画面のゆらぎ、ガイドピンの汚れともなし。

×：ところどころ再生画面がゆらぐが、ガイドピンの汚
れがある。

（６）出力特性 磁性層を設けたフィルムをスリットし、ＶＴＲカセット
に組み込みＶＴＲテープとした。このテープに家庭用Ｖ
ＴＲを用いてシバツク製のテレビ試験波形発生器により
１００％クロマ信号を記録し、その再生信号からシバツ
ク製カラービデオノイズ測定器でクロマＳ／Ｎを測定し
た。市販のスタンダードテープと比較して差が１ｄＢよ
り小さいものを×、差が１ｄＢ以上のものを○とした。

（７）Ｂ層の厚さ ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、フィル
ム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素と芳香
族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドの炭素元素の濃
度比（Ｍ”　／Ｃ”　）を粒子濃度とし、Ｂ層の表面か
ら深さ（厚さ）方向の分析を行なう。表層では表面とい
う界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれ
て粒子濃度は高くなる。本発明フィルムの場合は深さ［
Ｉ］でいったん極大値となった粒子濃度がまた減少しは
じめる。この濃度分布曲線をもとに極大値の粒子濃度の
１／２になる深さ［＋１１　　（ここでＩＩ＞Ｉ）を積
層厚さとした。

ナオ、フィルム中に最も多く含有する粒子が有機高分子
粒子の場合にはＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面か
らエツチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法、ＩＲ
（赤外分光法）あるいはコンフォーカル顕微鏡などで、
その粒子濃度のデプスプロファイルを測定し、上記同様
の手法から積層厚さを求めてもよい。

［実施例］ 以下に実施例に基づいて本発明を説明する。ただし本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例Ｉ ＮＭＰ中に分散した平均粒径８０ｎｍのコロイダルシリ
カを重合槽に仕込み、この中に２−クロルパラフェニレ
ンジアミン８０モル％、４．４’−ジアミノジフェニル
エーテル２０モル％のアミン成分と、２−クロルテレフ
タル酸クロリド１００モル％の酸成分を添加して重合し
、さらに水酸化リチウムで中和してＢ層用のポリマ溶液
を得た。なおコロイダルシリカの含有量は１０ｗｔ％（
コロイダルシリカ／（コロイダルシリカ＋芳香族ポリア
ミド））である。同様の方法で平均粒径１２０ｎｍのコ
ロイダルシリカをＯ，ｌｖｔ％含有するＡ層用のポリマ
溶液を製造した。いずれのポリマ溶液も、ポリマ濃度１
１ｗｔ％、溶液粘度を３０℃で３０００ボイズに調整し
て製膜原液とした。

これらの原液を２台の押出機で口金に供給し、口金内で
積層して金属ベルト上へ流延した。押出量を調節するこ
とで最終の基材フィルムのＢ層の厚さを０．０８μｍに
なるように、また総厚み６μｍになるように条件を決め
た。この流延されたフィルムを１６０℃で自己保持性を
持つまで乾燥後、ベルトから剥離して水槽中に導入し、
脱溶媒と脱塩を行ない、次いでテンター内で水分の乾燥
と熱処理、冷却を行なって最終フィルムを得た。

この間でフィルムは水槽中で長手方向（ＭＤ力方向に１
．３倍、テンター内で３００℃で幅方向（ＴＤ力方向に
１．３倍延伸された。延伸倍率は各々３００％／分であ
った。

得られた６μｍ厚みの芳香族ポリアミドフィルムは、Ｍ
Ｄ、ＴＤ力方向もヤング率は１．１００ｋｇ／ｍｍ２、
強度５０眩／薗２、伸度５５％と機械特性のすぐれたも
のであった。

次いでこのフィルムのＢ層側にメタル磁性粉をバインダ
ー樹脂とともに塗布した。塗布後の磁性層厚さは４μｍ
である。さらにこれをスリットして磁気テープとし走行
性、耐久性、出力特性を評価したが非常に優れたもので
あった。

実施例２ 実施例１と同じポリマを用い、コロイダルシリカの平均
粒径、添加量、及びＢ層の厚みを第１表の条件になるよ
うに製膜して６μｍのフィルムを得た。このフィルムの
Ａ層側に磁性層を設けて磁気テープを作製し評価を行な
ったところ、走行性、耐久性、出力特性とも良好なもの
であった。

実施例３ ２−クロルパラフェニレンジアミン８５モル％と４４′
−ジアミノジフェニルスルホン１５モル％をアミン成分
とし、２−クロルテレフタル酸クロリド１００モル％を
酸成分としてＮＭＰ中で重合し、さらに水酸化リチウム
で中和してポリマ溶液を得た。なおコロイダルシリカは
第１表の条件になるように重合前に添加しておいて、Ａ
層、Ｂ層、０層の各々を形成する３種のポリマ溶液を作
製した。

これを３台の押出機を用いて口金に供給し、口金内で積
層した。次いで実施例１と同様にして製膜し６μｍのフ
ィルムを得、Ｂ層側に磁性層を設けて磁気テープを作製
した。

このテープの評価を行なったところ、走行性、耐久性、
出力特性とも非常に良好であった。

なおこの芳香族ポリアミドフィルムの機械特性は、ヤン
グ率１．　２５０ｋｇ／ｍｍ２、強度６ｏ−７ｍｍ２、
伸度５０％であった。

実施例４ ４．４′−ジアミノジフェニルエーテル５０モル％と、
パラフェニレンジアミン５０モル％をアミン成分とし、
無水ピロメリット酸１ｏｏモル％とをＤＭＡｃ中で重合
してポリアミド酸溶液を得た。

この重合に先立ち、第１表に示すようなコロイダルシリ
カを前もってＤＭＡｃ中に分散させておいた。

得られた２種類のポリマ溶液を２台の押出様で合流管へ
送液して積層し、口金から金属ベルト上へ流延した。次
いで１５０℃の熱風で自己保持性を持つまで乾燥し、さ
らにベルトから剥離して４２０℃のテンターへ導入して
熱処理を行なって、９μｍの基材フィルムを得た。なお
延伸倍率はＭＤ、ＴＤとも１．１倍で、延伸速度は１５
０％／分、この芳香族ポリイミドフィルムの機械特性は
ヤング率６００ｋｇ／ｍｌ１１２、強度３２ｋｇ／１１
１１ｎ２、伸度６０％であった。

このフィルムのＡ層側に実施例１と同様に磁性層を設け
て磁気テープを作製し、テープ特性を評価したところ良
好な結果が得られた。

比較例１〜３ 実施例１と同じポリマを用い、コロイダルシリカの平均
粒径、添加量、及びＢ層の厚みを第１表のように本発明
から外れた条件になるように設定して製膜し、６μｍの
フィルムを得た。これらのフィルムに実施例１と同様に
磁性層を設けて評価したところ、満足できるものはなか
った。

比較例４ 二軸延伸した６μｍのポリエステルフィルム上に上記の
磁性塗料を塗布し、スリットしてＶＴＲテープとした。

使用したポリエステルフィルムは単層のもので、Ｒａは
０．０１ａｍ、Ｒｐは０゜０６μｍで表裏ともほとんど
同じ表面粗さである。

このテープの走行性、耐久性を評価したところ、２５℃
での再生では問題なかったが、６０℃では画面の大きな
ゆらぎが観察された。テープを取り出してみてみると、
テープの伸びが観察された。

高温で使用したためフィルムが熱変形したものと考えら
れる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドから
   成る基材フィルムの少なくとも片面に塗布型磁性層を設
   けてなる塗布型磁気記録媒体であって、該基材フィルム
   はＡ層の少なくとも片面に不活性粒子を含有するＢ層が
   積層されてなるフィルムであり、Ｂ層に含有される不活
   性粒子の平均粒径ｄ＿Ｂが１０〜１０００ｎｍ、該粒子
   のＢ層における含有量が０．１〜４０ｗｔ％、Ｂ層の厚
   さｔ＿Ｂと平均粒径ｄ＿Ｂの比ｔ＿Ｂ／ｄ＿Ｂが０．１
   〜４、Ｂ層の表面の中心線深さＲ＿Ｐ＿Ｂと中心線平均
   粗さＲ＿ａ＿Ｂの比Ｒ＿Ｐ＿Ｂ／Ｒ＿ａ＿Ｂが３〜２０
   であることを特徴とする塗布型磁気記録媒体。
2. （２）基材フィルムの少なくとも一方のＢ層側に塗布型
   磁性層が設けられており、該磁性層側のＢ層に含有され
   る不活性粒子の平均粒径ｄ＿Ｂが１０〜６００ｎｍ、該
   粒子のＢ層における含有量が０．１〜３０ｗｔ％である
   ことを特徴とする請求項（１）記載の塗布型磁気記録媒
   体。
3. （３）基材フィルムがＡ層の片面にのみＢ層を積層して
   なるフィルムであって、該Ａ層側に塗布型磁性層が設け
   られており、Ｂ層に含有される不活性粒子の平均粒径ｄ
   ＿Ｂが５０〜１０００ｎｍ、該粒子のＢ層における含有
   量が１〜４０ｗｔ％であることを特徴とする請求項（１
   ）記載の塗布型磁気記録媒体。
4. （４）芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドから
   成る基材フィルムが、Ａ層の一方の面に不活性粒子を含
   有するＢ層を、他方の面に不活性粒子を含有するＣ層を
   積層して成るフィルムであって、該基材フィルムのＢ層
   側に塗布型磁性層が設けられており、Ｂ層に含有される
   不活性粒子の平均粒径ｄ＿Ｂが１０〜６００ｎｍ、該粒
   子のＢ層における含有量が０．１〜３０ｗｔ％、Ｂ層の
   厚さｔ＿Ｂと平均粒径ｄＢの比ｔ＿Ｂ／ｄ＿Ｂが０．１
   〜４、Ｂ層の表面の中心線深さＲ＿Ｐ＿Ｂと中心線平均
   粗さＲ＿ａ＿Ｂの比Ｒ＿Ｐ＿Ｂ／Ｒ＿ａ＿Ｂが３〜２０
   、該Ｃ層に含有される不活性粒子の平均粒径ｄ＿Ｃが５
   ０〜１０００ｎｍ、該粒子のＣ層における含有量が１〜
   ４０ｗｔ％、Ｃ層の厚さｔ＿Ｃと平均粒径ｄ＿Ｃの比ｔ
   ＿Ｃ／ｄ＿Ｃが０．１〜４であることを特徴とする塗布
   型磁気記録媒体。