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Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
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DE102017207542A1
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Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
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DE102017210269A1
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Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
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DE102017210990A1
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DE102018200152A1
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Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie
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DE102017216458A1
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DE102017216893A1
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Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
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DE102018200955A1
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Spiegel-Baugruppe zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie
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DE102018200954A1
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Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie
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DE102018200956A1
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Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie
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DE102018201170A1
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DE102018203283A1
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DE102018207277A1
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DE102018208373A1
(de)
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Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie
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DE102018215505A1
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DE102018216832A1
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DE102020210829A1
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DE102020211096A1
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2020-09-02 |
2022-03-03 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Feldfacette für einen Feldfacettenspiegel einer Projektionsbelichtungsanlage
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DE102020212229B3
(de)
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Carl Zeiss Smt Gmbh |
Blenden-Vorrichtung zur Begrenzung eines Strahlengangs zwischen einer Lichtquelle und einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie
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DE102020212367A1
(de)
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Optische Komponente
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DE102020212351A1
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2022-03-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Mikrospiegel-Array für eine beleuchtungsoptische Komponente einer Projektionsbelichtungsanlage
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DE102020212569A1
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Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
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DE102020212927A1
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Abstützung eines optischen elements
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DE102020213416A1
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Facettenspiegel-Vorrichtung
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DE102020215906A1
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Dämpfungseinrichtung, optische Baugruppe und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102021212993A1
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2022-07-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Messung einer Absorption einer elektromagnetischen Strahlung durch ein optisches Element, Vorrichtung zur Messung einer Umformungseigenschaft eines optischen Elements und Lithografiesystem
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DE102021200113A1
(de)
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2021-01-08 |
2022-07-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische Vorrichtung, Verfahren zur Steuerung einer optischen Vorrichtung, Computerprogrammprodukt und Lithografiesystem
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DE102021200114A1
(de)
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2021-01-08 |
2021-12-30 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Spiegelprojektionsoptik, Verfahren zur Überprüfung eines optischen Elements, optisches Element und Lithografiesystem
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DE102021101523B3
(de)
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Vorrichtung zur Herstellung einer klebenden Verbindung zwischen Bauteilen eines Lithografiesytems, Verfahren zur Herstellung einer klebenden Verbindung zwischen Bauteilen eines Lithografiesystems und Lithografiesystem
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DE102021213096A1
(de)
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2021-01-28 |
2022-07-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum herstellen eines mechanischen systems für eine lithographieanlage
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DE102021201001A1
(de)
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2021-02-03 |
2022-08-04 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung eines optischen Elements, Vorrichtung zur Herstellung eines optischen Elements, optisches Element und Lithografiesystem
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|
DE102021201203A1
(de)
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2021-02-09 |
2022-08-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
System und projektionsbelichtungsanlage
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DE102021201257A1
(de)
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2021-02-10 |
2021-12-30 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
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DE102021201396A1
(de)
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2021-02-15 |
2022-08-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung eines mehrteiligen Spiegels einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
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DE102021201689A1
(de)
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2021-02-23 |
2022-08-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische Baugruppe, Verfahren zur Deformation eines optischen Elements und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102021202502B4
(de)
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2021-03-15 |
2023-01-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zum Verändern einer Form einer Oberfläche eines Objekts
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DE102021202770A1
(de)
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2022-03-03 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Erzeugung eines Plasmas und Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
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DE102021202769A1
(de)
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2022-09-22 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische Baugruppe sowie Verfahren zu deren Herstellung, Verfahren zur Deformation eines optischen Elements und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102021202802B3
(de)
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2021-03-23 |
2022-03-24 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage mit einer Vorrichtung zur Bestimmung der Konzentration von atomarem Wasserstoff
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DE102021202849A1
(de)
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2021-03-24 |
2022-01-05 |
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Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
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DE102021202909A1
(de)
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2021-03-25 |
2022-09-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Messvorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Oberflächenform
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DE102021202911A1
(de)
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2021-03-25 |
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Carl Zeiss Smt Gmbh |
Messvorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Oberflächenform
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DE102021203475A1
(de)
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2021-04-08 |
2022-10-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung eines Spiegels einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
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DE102021203723A1
(de)
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2021-04-15 |
2022-04-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verbindungsanordnung, projektionsbelichtungsanlage und verfahren
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|
DE102021203721A1
(de)
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2021-04-15 |
2022-10-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Aktuator-sensor-vorrichtung und lithographieanlage
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DE102022200726A1
(de)
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2021-04-23 |
2022-10-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Bestimmung einer Reflexionseigenschaft eines zu untersuchenden optischen Elements, Vorrichtung zur Bestimmung einer Reflexionseigenschaft eines zu untersuchenden optischen Elements, Computerprogrammprodukt und Lithografiesystem
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DE102022108541A1
(de)
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2021-04-23 |
2022-10-27 |
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Verfahren zur Herstellung eines Beprobungselementes und Beprobungselement
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|
DE102021204265A1
(de)
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2021-04-29 |
2022-11-03 |
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Verfahren zu Reinigung einer Oberfläche eines Elementes und Reinigungsvorrichtung
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DE102021204582B3
(de)
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2021-05-06 |
2022-07-07 |
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Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102021205104A1
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2022-03-03 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage mit deformierbarem Element und Verfahren zur Herstellung eines Elements
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DE102021205149B3
(de)
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2021-05-20 |
2022-07-07 |
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DE102021205278B4
(de)
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2021-05-21 |
2023-05-17 |
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Einstellbarer Abstandshalter, Optisches System, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren
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DE102021205425A1
(de)
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2022-12-01 |
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Optikvorrichtung, Verfahren zur Einstellung einer Soll-Deformation und Lithografiesystem
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DE102021205368A1
(de)
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2021-05-27 |
2022-12-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Komponente für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie und Verfahren zur Auslegung der Komponente
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DE102021205426A1
(de)
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2021-05-27 |
2022-12-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optikvorrichtung, Verfahren zur Einstellung einer Soll-Deformation und Lithografiesystem
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|
DE102021205775A1
(de)
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2021-06-08 |
2022-12-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik
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DE102021205774A1
(de)
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2021-06-08 |
2022-12-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik
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DE102021205809B3
(de)
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2021-06-09 |
2022-08-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Verschraubung eines Aktuator-Sensor-Moduls einer Projektionsbelichtungsanlage
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DE102022203929A1
(de)
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2021-06-16 |
2022-12-22 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung zur Positionierung einer ersten Komponente eines optischen Systems, Komponente eines optischen Systems, optische Einrichtung und Lithografiesystem
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DE102021206427A1
(de)
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2021-06-22 |
2022-12-22 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie
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DE102022115356A1
(de)
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2021-06-24 |
2022-12-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung zur Temperierung eines Bauteils
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DE102022204833A1
(de)
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2021-07-02 |
2023-01-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage und verfahren zum herstellen eines optischen systems
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DE102021206953A1
(de)
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2021-07-02 |
2022-06-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage und verfahren zum betreiben eines optischen systems
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DE102021207522A1
(de)
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2021-07-15 |
2023-01-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung einer Komponente für eine Projektionsbelichtungsanlage und Komponente einer Projektionsbelichtungsanlage
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DE102021208562A1
(de)
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2021-08-06 |
2023-02-09 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Temperaturmessvorrichtung, lithographieanlage und verfahren zum messen einer temperatur
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DE102021208563A1
(de)
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2021-08-06 |
2022-09-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und verfahren zum bestimmen einer temperatur in einer lithographieanlage
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DE102021208628A1
(de)
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2021-08-09 |
2023-02-09 |
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Abstützung eines optischen elements
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DE102021208664A1
(de)
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2021-08-10 |
2023-02-16 |
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Spiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
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DE102021120747B4
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2021-08-10 |
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Verfahren zur Entfernung eines Partikels von einem Maskensystem
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DE102021208801B3
(de)
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2021-08-11 |
2022-08-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Auslegung einer Klebstoffschicht
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DE102021208843A1
(de)
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2021-08-12 |
2023-02-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Verbindungselement
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DE102021208879A1
(de)
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2021-08-13 |
2023-02-16 |
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Optisches element, projektionsoptik und projektionsbelichtungsanlage
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DE102021209098A1
(de)
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2021-08-19 |
2022-05-25 |
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Schutzschlauch und projektionsbelichtungsanlage
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|
DE102021209099A1
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2021-08-19 |
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Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102022121000B4
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2021-08-23 |
2024-03-07 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Spiegelanordnung für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Schutzvorrichtung zum Schutz der optischen Wirkfläche und EUV-Projektionsbelichtungsanlage
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DE102022204387A1
(de)
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2021-08-24 |
2023-03-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung einer zu reinigenden Oberfläche, Element für die Lithografie und/oder Halbleiterindustrie und Lithografiesystem
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DE102021210104A1
(de)
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2021-09-14 |
2022-07-07 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, projektionsbelichtungsanlage und verfahren
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DE102021210103B3
(de)
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2021-09-14 |
2023-03-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren, optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102021210470B3
(de)
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2021-09-21 |
2023-01-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie
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DE102021210577A1
(de)
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2021-09-23 |
2023-03-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, projektionsbelichtungsanlage und verfahren
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DE102021210708A1
(de)
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2021-09-24 |
2022-11-24 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Dosiervorrichtung und verfahren zum herstellen einer lithographieanlage
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|
DE102021211181A1
(de)
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2021-10-05 |
2022-08-18 |
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EUV-Projektionsoptik
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DE102022205758A1
(de)
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2021-10-07 |
2023-04-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und verfahren
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DE102021211626A1
(de)
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2021-10-14 |
2023-04-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
EUV-Mehrfachspiegelanordnung
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|
DE102021211619A1
(de)
|
2021-10-14 |
2023-04-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
EUV- Mehrfachspiegelanordnung
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DE102021212394A1
(de)
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2021-11-03 |
2023-05-04 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage und verfahren
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DE102021212553A1
(de)
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2021-11-08 |
2023-05-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage und verfahren
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|
DE102022210796A1
(de)
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2021-11-11 |
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Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Initialisierung einer Komponente einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie
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DE102021212971A1
(de)
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2021-11-18 |
2023-05-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, projektionsbelichtungsanlage und verfahren
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DE102021213168A1
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2023-05-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren
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DE102021213441A1
(de)
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2021-11-29 |
2022-09-15 |
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Verfahren zum herstellen eines optischen systems
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DE102021213458A1
(de)
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2021-11-30 |
2022-08-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie
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DE102021213610A1
(de)
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2021-12-01 |
2023-06-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren, optisches system, testgerät und anordnung
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DE102021213612A1
(de)
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2021-12-01 |
2023-06-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, testgerät, lithographieanlage, anordnung und verfahren
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|
DE102021213864A1
(de)
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2021-12-07 |
2022-07-07 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zum Schutz einer Klebstoffverbindung
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DE102021214139A1
(de)
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2021-12-10 |
2023-06-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage mit einem Korrekturermittlungsmodul
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DE102021214665A1
(de)
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2021-12-20 |
2022-12-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie mit einer Temperierstruktur
|
|
DE102021214981A1
(de)
|
2021-12-23 |
2023-06-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und trockenvorrichtung
|
|
DE102022200205B3
(de)
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2022-01-11 |
2022-11-24 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
EUV-Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Entfernung von Fremdkörpern
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|
DE102022200264A1
(de)
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2022-01-12 |
2022-12-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung zur Verkippung eines Spiegels, optisches Bauelement, optische Baugruppe, Verfahren zur Verkippung eines Spiegels, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung zur Verkippung eines Spiegels und EUV-Projektionsbelichtungsanlage
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|
DE102022200277A1
(de)
|
2022-01-13 |
2023-01-26 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren, Vorrichtung, Präparationsverfahren und Präparationsvorrichtung zur Herstellung eines Grundkörpers, Grundkörper, optisches Element und Lithografiesystem
|
|
DE102022213100A1
(de)
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2022-01-13 |
2023-07-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Aktuator-/sensor-vorrichtung, optikmodul und lithographieanlage
|
|
DE102022200400A1
(de)
|
2022-01-14 |
2022-06-30 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verbindung von komponenten einer optischen einrichtung
|
|
DE102022213113A1
(de)
|
2022-01-18 |
2023-07-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Überwachung einer Justageeinstellung, interferometrische Messvorrichtung, Hologrammvorrichtung und Lithografiesystem
|
|
DE102022212378A1
(de)
|
2022-01-24 |
2023-07-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung zur Aufnahme und Kühlung eines Optikkörpers, Verfahren zur Herstellung eines Optikkörpers, Kühlverfahren zur Kühlung eines Optikkörpers, optisches Element und Lithografiesystem
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|
DE102022211909A1
(de)
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2022-01-25 |
2023-07-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage und verfahren zum betreiben eines optischen systems
|
|
DE102022200976A1
(de)
|
2022-01-31 |
2023-01-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Kalibrierkörper und Verfahren zur Kalibrierung
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|
DE102022201007A1
(de)
|
2022-01-31 |
2022-11-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung zur Verbindung wenigstens einer ersten und einer zweiten Modulkomponente, Modul eines Lithografiesystems, optisches Element und Lithografiesystem
|
|
DE102023200212A1
(de)
|
2022-02-01 |
2023-08-03 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Manipulation von Schwingungen
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|
DE102023200336A1
(de)
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2022-02-08 |
2023-08-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie mit einem Verbindungselement
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|
DE102022201301A1
(de)
|
2022-02-08 |
2023-08-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
EUV-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Heizvorrichtung
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DE102022201304A1
(de)
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2022-02-08 |
2023-01-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Bestimmung des Endes einer Aufwärmphase eines optischen Elementes
|
|
DE102022212721A1
(de)
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2022-02-16 |
2023-08-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren
|
|
DE102023201200A1
(de)
|
2022-03-01 |
2023-09-07 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie
|
|
DE102022202116A1
(de)
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2022-03-02 |
2023-02-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
System und projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102022202241A1
(de)
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2022-03-04 |
2023-03-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102023201812A1
(de)
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2022-03-09 |
2023-09-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zum Lösen einer Klebstoffverbindung
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|
DE102022202355A1
(de)
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2022-03-09 |
2023-02-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Mikrospiegelbaugruppe, Herstellungsverfahren zur Herstellung einer Mikrospiegelbaugruppe und Verfahren zum Verkippen einer Spiegelfläche
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|
DE102022202424A1
(de)
|
2022-03-10 |
2023-03-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Prüfsystem zur Analyse von Dichtungssystemen
|
|
DE102023201828A1
(de)
|
2022-03-14 |
2023-09-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Steckeraufnahme, Heizvorrichtung und Projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102023201560A1
(de)
|
2022-03-21 |
2023-09-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Bauteil und projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102022202938A1
(de)
|
2022-03-24 |
2023-09-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Anordnung und projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102022202989A1
(de)
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2022-03-25 |
2023-09-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optikvorrichtung, Verfahren zur Messung einer Ist-Verkippung einer optischen Oberfläche eines optischen Elements und Lithografiesystem
|
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DE102022203150A1
(de)
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2022-03-31 |
2023-01-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optikvorrichtung, Verfahren zur Erfassung einer Temperaturverteilung und Lithografiesystem
|
|
DE102022203298A1
(de)
|
2022-04-01 |
2023-10-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zur chemischen Bearbeitung einer Oberfläche
|
|
DE102022203299B4
(de)
|
2022-04-01 |
2025-02-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Überprüfung der Qualität einer Verschraubung
|
|
DE102022203257A1
(de)
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2022-04-01 |
2023-10-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Ansteuervorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren
|
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DE102022203254B3
(de)
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2022-04-01 |
2023-03-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Wasserführendes system, projektionsbelichtungsanlage und messvorrichtung
|
|
DE102022203255A1
(de)
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2022-04-01 |
2023-10-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
|
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DE102022203369A1
(de)
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2022-04-05 |
2023-10-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Anordnung, Verfahren und Computerprogrammprodukt zur Kalibrierung von Facettenspiegeln
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DE102022203438B4
(de)
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2022-04-06 |
2023-12-07 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische Anordnung, optisches Modul, optische Abbildungseinrichtung und -verfahren, Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, mit aktiv verkippbarem optischem Element
|
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DE102022203393A1
(de)
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2022-04-06 |
2023-10-12 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zur Ausrichtung von zwei Komponenten
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DE102022203433A1
(de)
|
2022-04-06 |
2023-10-12 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verbindung von komponenten einer optischen einrichtung
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|
WO2023194220A1
(en)
|
2022-04-06 |
2023-10-12 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Device and method for aligning two components
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|
DE102022208738A1
(de)
|
2022-08-24 |
2024-02-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zur Ausrichtung von zwei Komponenten
|
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DE102022203758A1
(de)
|
2022-04-13 |
2023-10-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verbindung von komponenten einer optischen einrichtung
|
|
DE102022203745A1
(de)
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2022-04-13 |
2022-09-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
EUV-Kollektor für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102022203881A1
(de)
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2022-04-20 |
2023-04-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Leiterplatte für ein optisches system, optisches system, lithographieanlage und verfahren zum herstellen einer leiterplatte für ein optisches system
|
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DE102022203999A1
(de)
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2022-04-26 |
2022-07-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Kalibrierung einer diffraktiven Messstruktur, Vorrichtung zur Kalibrierung einer diffraktiven Messstruktur und Lithografiesystem
|
|
DE102022204044A1
(de)
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2022-04-27 |
2023-11-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abstützung von komponenten einer optischen einrichtung
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DE102022204098A1
(de)
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2022-04-27 |
2023-11-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
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DE102022204095A1
(de)
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2022-04-27 |
2023-11-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Vermessen einer Beleuchtungswinkelverteilung auf einem Objektfeld sowie Beleuchtungsoptik mit einer hierüber vorgegebenen Beleuchtungskanal-Zuordnung
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DE102022204268A1
(de)
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2022-04-29 |
2023-11-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Bauteil für eine Lithographieanlage
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DE102022204580A1
(de)
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2022-05-11 |
2023-04-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum herstellen oder betreiben eines spiegels in einer lithographieanlage
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DE102022204643A1
(de)
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2022-05-12 |
2023-11-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage mit einem optischen system und verfahren zum herstellen eines optischen systems
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DE102022205227A1
(de)
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2022-05-25 |
2023-04-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optikvorrichtung, Verfahren zur Ermittlung einer Ist-Deformation, Verfahren zur Einstellung einer Solldeformation und Lithografiesystem
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|
DE102023203580A1
(de)
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2022-05-31 |
2023-11-30 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Kühlmittelleitung zur Bereitstellung eines Fluids zur Temperierung von Bauteilen
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DE102022214283A1
(de)
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2022-06-07 |
2023-12-07 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches System für eine Lithographieanlage und Lithographieanlage
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DE102022205815A1
(de)
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2022-06-08 |
2023-12-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Komponente für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie und Projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102022206065B3
(de)
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2022-06-15 |
2023-02-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, projektionsbelichtungsanlage und verfahren
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|
DE102022206038A1
(de)
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2022-06-15 |
2023-12-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Kompensation von Aktuatoreffekten von Aktuatoren
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DE102022206112A1
(de)
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2022-06-20 |
2023-12-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
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DE102022206124A1
(de)
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2022-06-20 |
2023-12-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und verfahren zum bearbeiten einer oberfläche eines optischen elements einer lithographieanlage
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DE102022206110A1
(de)
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2022-06-20 |
2023-12-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
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DE102022206126A1
(de)
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2022-06-20 |
2023-03-09 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Bauteil zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage
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DE102022206198A1
(de)
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2022-06-21 |
2022-09-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zur Qualifizierung einer Komponente einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie
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|
DE102023204960A1
(de)
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2022-06-30 |
2024-01-04 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Betrieb eines Lithografiesystems und Lithografiesystem
|
|
DE102022116698B3
(de)
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2022-07-05 |
2023-09-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
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DE102022116696A1
(de)
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2022-07-05 |
2024-01-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Grundkörper für ein optisches Element mit einer Anbindungsgeometrie und Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines optischen Elementes sowie Projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102022116700A1
(de)
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2022-07-05 |
2024-01-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische Baugruppe, Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie und Verfahren
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KR20250034428A
(ko)
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2022-07-05 |
2025-03-11 |
칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 |
반도체 리소그래피용 광학 요소의 베이스 요소를 생산하기 위한 방법, 베이스 요소, 광학 요소 및 투영 노광 시스템
|
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DE102022206832A1
(de)
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2022-07-05 |
2024-01-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum regeln einer position einer optischen komponente einer lithographieanlage
|
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DE102022208286A1
(de)
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2022-08-09 |
2024-02-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers für die Halbleiterlithografie, optisches Element und Projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102022116693A1
(de)
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2022-07-05 |
2024-01-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element mit schwingungsmindernden Abschnitten von Fluidleitungen und Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines optischen Elementes sowie Projektionsbelichtungsanlage
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DE102022116699A1
(de)
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2022-07-05 |
2024-01-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element und Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
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DE102022116695A1
(de)
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2022-07-05 |
2024-01-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Grundkörper für ein optisches Element und Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers für ein optisches Element sowie Projektionsbelichtungsanlage
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DE102022116694A1
(de)
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2022-07-05 |
2024-01-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines optischen Elementes, Grundkörper sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
|
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DE102022207027A1
(de)
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2022-07-11 |
2024-01-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und verfahren zur bereitstellung von sensordaten eines optischen systems, optisches system und lithographieanlage mit einem optischen system
|
|
DE102023206334A1
(de)
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2022-07-11 |
2024-01-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Steuervorrichtung und optisches system
|
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DE102022207123A1
(de)
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2022-07-12 |
2024-01-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Zapfen für ein Spannsystem
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DE102022207148A1
(de)
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2022-07-13 |
2024-01-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
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DE102022207312A1
(de)
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2022-07-18 |
2024-01-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102022207348A1
(de)
|
2022-07-19 |
2022-09-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und justierelementsatz
|
|
DE102023205175A1
(de)
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2022-07-22 |
2024-01-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Bestimmen eines Gesamtschwerpunkts einer Verteilung von Lichtintensitäten
|
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DE102022207546B3
(de)
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2022-07-25 |
2023-10-12 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Facettenspiegel-Baugruppe, Beleuchtungsoptik, optisches System, Projektionsbelichtungsanlage, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils sowie Bauteil
|
|
DE102022207545A1
(de)
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2022-07-25 |
2023-04-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische Komponente
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|
DE102022207555A1
(de)
|
2022-07-25 |
2024-01-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage mit einem optischen system und verfahren zum herstellen eines optischen systems
|
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DE102022207687A1
(de)
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2022-07-27 |
2024-02-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zur Inspektion eines Bauteils, computerimplementiertes Verfahren und Lithografiesystem
|
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DE102022207689A1
(de)
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2022-07-27 |
2022-09-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren, Vorrichtung und Computerprogrammprodukt zur Identifikation von Kontaminationen bei Komponenten einer EUV-Lithografie-Anlage
|
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DE102022207884B4
(de)
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2022-07-29 |
2024-02-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Messvorrichtung, Verfahren zur interferometrischen Vermessung, Bearbeitungsverfahren, optisches Element und Lithografiesystem
|
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DE102022208010A1
(de)
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2022-08-03 |
2024-02-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zur Aufbringung eines Fluids und Komponente
|
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DE102022208206A1
(de)
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2022-08-08 |
2024-02-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Stabilisierung einer Klebstoffverbindung einer optischen Baugruppe
|
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DE102022208231B3
(de)
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Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
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DE102022208204A1
(de)
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2022-08-08 |
2023-08-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Kompensation von Abbildungsfehlern einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage
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2022-09-09 |
2025-09-11 |
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DE102022209453A1
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2022-09-09 |
2024-03-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Faserstrang für einen Sektorheizer, Sektorheizer und Projektionsvorrichtung
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DE102023203506A1
(de)
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2022-09-12 |
2024-03-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
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DE102023206503A1
(de)
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2022-09-14 |
2024-03-14 |
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Abbildende Optik
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DE102022209791B3
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EUV-Kollektor für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage
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DE102022209852A1
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2022-09-19 |
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Thermische aktuatoranordnung
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DE102022209868A1
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2022-09-20 |
2024-03-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische baugruppe, optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102023208854A1
(de)
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2022-09-20 |
2024-03-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Kühlvorrichtung zum kühlen einer positionssensitiven komponente einer lithographieanlage
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DE102022209854A1
(de)
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2022-09-20 |
2022-11-17 |
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Verbindungsanordnung
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DE102022209922A1
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2022-09-21 |
2023-09-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Reflektometervorrichtung, messanordnung, verfahren zum herstellen eines optischen referenzelements und verfahren zum vermessen einer probe einer lithographieanlage
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DE102022210024A1
(de)
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2022-09-22 |
2023-09-07 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zur Qualifizierung eines Computergenerierten Hologramms, Regularisierungsverfahren und Lithografiesystem
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DE102022210037A1
(de)
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2022-09-23 |
2024-03-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Anordnung zum Tempern mindestens eines Teilbereichs eines optischen Elementes
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DE102022210035A1
(de)
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2022-09-23 |
2024-03-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Führung von komponenten einer optischen einrichtung
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DE102022210132A1
(de)
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2022-09-26 |
2022-12-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Komponente für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie und Verfahren zur Herstellung der Komponente
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DE102022210158A1
(de)
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2022-09-26 |
2024-03-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Anordnung, Verfahren und Computerprogrammprodukt zur Kalibrierung von Facettenspiegeln
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DE102022210171A1
(de)
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2022-09-27 |
2024-03-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches element, optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102022210229A1
(de)
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2022-09-27 |
2022-11-24 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Magnetsystem und Verfahren zur reibungsreduzierten Lagerung und/oder Lagebeeinflussung eines optischen Elements
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DE102022210289A1
(de)
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2022-09-28 |
2022-12-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zur Positionierung eines optischen Elements, Messvorrichtung zur Vermessung einer optischen Oberfläche und Lithografiesystem
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DE102022210274A1
(de)
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2022-09-28 |
2024-03-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Messvorrichtung und messverfahren zum messen einer in einem optischen system abfallenden spannung, optisches system und lithographieanlage
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DE102022210356A1
(de)
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2022-09-29 |
2022-11-24 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage mit einem optischen system und verfahren zum herstellen eines optischen systems
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DE102022125354A1
(de)
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2022-09-30 |
2024-04-04 |
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Kühlvorrichtung zum Kühlen einer positionssensitiven Komponente einer Lithographieanlage
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DE102022211226A1
(de)
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2022-10-24 |
2024-04-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie und Verfahren
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DE102022211334A1
(de)
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2022-10-26 |
2023-09-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Ansteuerung eines Aktuators und Aktuator
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DE102023207047A1
(de)
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2022-10-27 |
2024-05-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Kühlleitungsvorrichtung für eine lithographieanlage, lithographieanlage und verfahren zum steuern eines drucks einer kühlflüssigkeit in einer kühlleitung einer lithographieanlage
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DE102023208302A1
(de)
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2022-11-02 |
2024-05-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
System für eine lithographieanlage und lithographieanlage
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DE102023208848A1
(de)
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2024-05-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Beleuchtungssystem für eine lithographieanlage, lithographieanlage und verfahren zum betreiben eines beleuchtungssystems einer lithographieanlage
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DE102022211696A1
(de)
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2022-11-07 |
2024-05-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und lithographieanlage mit einem optischen system
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DE102023208851A1
(de)
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2022-11-08 |
2024-05-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102022211799A1
(de)
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2022-11-08 |
2022-12-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Manipulator, optisches system, projektionsbelichtungsanlage und verfahren
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DE102022211875A1
(de)
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2022-11-09 |
2024-05-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Korrektur lokaler Oberflächenerhebungen auf spiegelnden Oberflächen
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DE102022212120A1
(de)
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2022-11-15 |
2023-11-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und fasereinblasvorrichtung
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DE102022212136A1
(de)
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2022-11-15 |
2023-01-12 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Ermittlung von Bildfehlern hochauflösender Abbildungssysteme per Wellenfrontmessung
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DE102022212168A1
(de)
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2022-11-16 |
2024-05-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
EUV-Optik-Modul für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage
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DE102022212167A1
(de)
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2022-11-16 |
2023-09-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
EUV-Quellen-Modul für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage
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DE102022212257A1
(de)
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2022-11-17 |
2023-11-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers und Grundkörper mit einer Leichtbaustruktur sowie Projektionsbelichtungsanlage
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DE102022212382A1
(de)
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2022-11-21 |
2023-02-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Design einer Projektionsoptik sowie Projektionsoptik
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DE102022212377A1
(de)
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2022-11-21 |
2023-10-12 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Dichtungsvorrichtung, verfahren und verwendung
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DE102022212463A1
(de)
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2022-11-22 |
2024-05-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage und verfahren zum betreiben eines optischen systems einer lithographieanlage
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DE102022212537A1
(de)
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2022-11-24 |
2024-05-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage mit einem optischen system und anordnung mit einem optischen system
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DE102023100393A1
(de)
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2023-01-10 |
2024-07-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Spiegelbuchse, optisches System und Projektionsbelichtungsanlage
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미러 소켓, 광학 시스템 및 투영 노광 장치
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DE102022213681A1
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2022-12-15 |
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Carl Zeiss Smt Gmbh |
Kühlvorrichtung für eine lithographieanlage
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DE102022213752A1
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2022-12-16 |
2023-02-09 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Interferometervorrichtung zur Vermessung einer Oberfläche, Verfahren zur interferometrischen Vermessung einer Oberfläche und Lithografiesystem
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DE102022213810A1
(de)
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2022-12-16 |
2023-02-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Überwachung einer Linse eines Lithografiesystems, Optikvorrichtung für ein Lithografiesystem und Lithografiesystem
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DE102022213987A1
(de)
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2022-12-20 |
2023-12-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Montage einer optischen Baugruppe, optische Baugruppe und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102022214184A1
(de)
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2022-12-21 |
2024-06-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102023200146B4
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2025-03-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und justagesystem zur justage einer position eines facettenspiegels einer lithographieanlage
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DE102023200234A1
(de)
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2023-01-12 |
2024-07-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage und verfahren zum herstellen eines optischen systems
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DE102023200235A1
(de)
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2023-01-12 |
2024-07-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und lithographieanlage
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DE102023200329B3
(de)
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2023-01-17 |
2024-05-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische Baugruppe, Verfahren zur Montage der optischen Baugruppe und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102023200423A1
(de)
|
2023-01-20 |
2023-12-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Kühlvorrichtung für eine lithographieanlage, lithographieanlage und verfahren zum dämpfen einer druckschwankung einer flüssigkeit in einer flüssigkeitsleitung einer kühlvorrichtung einer lithographieanlage
|
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DE102023200422A1
(de)
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2023-01-20 |
2024-07-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Modul für eine Projektionsbelichtungsanlage, Verfahren und Projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102023200603A1
(de)
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2023-01-26 |
2024-08-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Herstellen einer Spiegelanordnung, sowie Beschichtungsanlage
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DE102023200933B4
(de)
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2023-02-06 |
2025-03-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Kühlvorrichtung zum kühlen einer positionssensitiven komponente einer lithographieanlage und lithographieanlage
|
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DE102023200970A1
(de)
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2023-02-07 |
2024-08-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches element mit polierschicht
|
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DE102023210779A1
(de)
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2023-02-08 |
2024-08-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Lagervorrichtung zur Lagerung eines optischen Moduls an einem Tragrahmen
|
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DE102023201138A1
(de)
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2023-02-13 |
2024-08-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
System mit einer lithographieanlage und einer anzahl von elektronikmodulen und verfahren zum betreiben eines systems
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DE102023201137A1
(de)
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2023-02-13 |
2024-01-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Anordnung und Verfahren zum Schutz einer Klebstoffverbindung
|
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DE102023201315A1
(de)
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2023-02-16 |
2024-08-22 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Mechatronisches Element, Spiegel, Spiegelanordnung sowie Verfahren zu deren Herstellung
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DE102023201546B3
(de)
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2023-02-22 |
2024-01-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Entschichten einer optischen Oberfläche, Vorrichtung zum Entschichten einer optischen Oberfläche und Lithografiesystem
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DE102023201840A1
(de)
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2023-03-01 |
2024-02-22 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Baugruppe für die Halbleitertechnik und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102023201858A1
(de)
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2023-03-01 |
2024-09-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102023201859A1
(de)
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2023-03-01 |
2024-09-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische baugruppe, optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102023201860A1
(de)
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2023-03-01 |
2023-04-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Baugruppe und Verfahren zur Verbindung zweier Bauteile
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DE102023202127A1
(de)
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2023-03-09 |
2024-09-12 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102023202241A1
(de)
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2023-03-13 |
2024-09-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zur Vermessung eines Bauteils und Lithografiesystem
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DE102023202493A1
(de)
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2023-03-21 |
2024-09-26 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Ansteuervorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren
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DE102024202011A1
(de)
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2023-03-23 |
2024-09-26 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zum Entfernen eines mit einer Oberfläche eines optischen Elements eines Lithografiesystems verklebten Bauteils; Lithografiesystem für die Halbleiterlithografie
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DE102023203223A1
(de)
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2023-04-06 |
2024-10-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
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DE102023203225A1
(de)
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2023-04-06 |
2024-10-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
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DE102023203205A1
(de)
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2023-04-06 |
2024-10-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung eines MEMS-Spiegelarrays und MEMS-Spiegelarray
|
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DE102023203224A1
(de)
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2023-04-06 |
2024-10-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
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DE102023203337A1
(de)
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2023-04-13 |
2024-10-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Mems-spiegel, mikrospiegel-array und beleuchtungssystem für eine lithographieanlage, lithographieanlage und verfahren zum herstellen einer lithographieanlage
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DE102023203338A1
(de)
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2023-04-13 |
2024-10-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Lithographieanlage und verfahren zum betreiben einer lithographieanlage
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DE102023203339A1
(de)
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2023-04-13 |
2024-10-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Lithographieanlage und verfahren zum betreiben einer lithographieanlage
|
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DE102024200575A1
(de)
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2023-04-17 |
2024-10-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Konnektor-Baugruppe
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DE102023210888A1
(de)
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2023-04-17 |
2024-10-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Mehrfachbelichtung eines Objekts unter Verwendung einer Beleuchtungsoptik
|
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DE102023203520A1
(de)
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2023-04-18 |
2024-10-24 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102023203731A1
(de)
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2023-04-24 |
2024-10-24 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zur Überprüfung eines Bauteils sowie Lithografiesystem
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DE102024200212A1
(de)
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2023-04-25 |
2024-10-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abschirmungselement, Optisches System und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102023203830A1
(de)
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2023-04-25 |
2024-03-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Distanzvorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren
|
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DE102023203832A1
(de)
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2023-04-25 |
2024-04-04 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102023203870A1
(de)
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2023-04-26 |
2024-10-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Lagervorrichtung für eine lithographieanlage, lithographieanlage und verfahren zum positionieren einer optischen komponente einer lithographieanlage
|
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DE102023203897A1
(de)
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2023-04-27 |
2024-04-04 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum herstellen einer komponente einer lithographieanlage, komponente und lithographieanlage
|
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DE102023203941A1
(de)
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2023-04-27 |
2024-10-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Nachbearbeitung und zur Handhabung von MEMS-Chips
|
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DE102024200534A1
(de)
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2023-05-02 |
2024-11-07 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und lithographieanlage
|
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DE102023204394A1
(de)
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2023-05-11 |
2024-05-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Minimierung von Druckschwankungen und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102023204481A1
(de)
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2023-05-12 |
2024-07-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur automatisierten Defektcharakterisierung von optischen Elementen
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DE102023204961A1
(de)
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2023-05-26 |
2024-11-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zur Überprüfung eines Spiegels sowie Lithografiesystem
|
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DE102023205426A1
(de)
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2023-06-12 |
2024-05-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Modul mit zwei Fügepartnern für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren
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DE102023205439A1
(de)
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2023-06-12 |
2024-12-12 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und steuervorrichtung zum herstellen eines optischen systems für eine lithographieanlage
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DE102023205570A1
(de)
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2023-06-14 |
2024-06-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102023205571A1
(de)
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2023-06-14 |
2024-12-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage und verfahren zum vermindern von schwingungsbasierten störungen
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DE102023205587A1
(de)
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2023-06-15 |
2023-07-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Bauelement für die Halbleiterlithografie, Verfahren zum Herstellen eines Gelenkkörpers für einen Sensor eines Lithografiesystems und Lithografiesystem
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DE102023116896A1
(de)
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2023-06-27 |
2024-07-04 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Verbesserung der Abbildungseigenschaften eines optischen Moduls, Ansteuerung, optisches Modul und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102023116897A1
(de)
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2023-06-27 |
2025-01-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsobjektiv einer Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102023116899A1
(de)
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2023-06-27 |
2024-06-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Modul und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102023116892A1
(de)
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2023-06-27 |
2025-01-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Ansteuerung eines optischen Moduls, optisches Modul und Ansteuerung für eine Baugruppe einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
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DE102023116895A1
(de)
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2023-06-27 |
2025-01-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Modul und Projektionsbelichtungsanlage
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WO2025003236A1
(de)
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2023-06-27 |
2025-01-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches modul und projektionsbelichtungsanlage
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DE102023206042A1
(de)
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2023-06-27 |
2024-08-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Steuervorrichtung
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DE102023116898A1
(de)
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2023-06-27 |
2024-06-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Modul und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102023116894A1
(de)
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2023-06-27 |
2024-07-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Aufnahme eines optischen Elementes, optisches Modul und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102023116893A1
(de)
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2023-06-27 |
2024-07-04 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zur Kompensation von Pendelkräften
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DE102023206070A1
(de)
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2023-06-28 |
2025-01-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
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DE102023206069A1
(de)
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2023-06-28 |
2025-01-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und lithographieanlage
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DE102023206272A1
(de)
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2023-07-03 |
2025-01-09 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Spiegel-Baugruppe, Beleuchtungsoptik mit einer Spiegel-Baugruppe, Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik und Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem
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DE102023206344A1
(de)
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2023-07-04 |
2024-06-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102023206428A1
(de)
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2023-07-06 |
2024-07-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines optischen Elements sowie Lithografiesystem
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DE102024202555A1
(de)
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2023-07-10 |
2025-01-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Bestimmung eines Zustands eines Bauteils eines Lithografiesystems, Vorrichtung zur Wiederaufbereitung eines Bauteils eines Lithografiesystems und Lithografiesystem
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DE102023206565A1
(de)
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2023-07-11 |
2024-05-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Wasserführendes system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102023118233A1
(de)
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2023-07-11 |
2025-01-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
MEMS-Spiegelarray-Modul
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DE102024205392A1
(de)
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2023-07-12 |
2025-01-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Ansteuerung einer optischen abbildungseinrichtung
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DE102023206616A1
(de)
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2023-07-12 |
2025-01-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie
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DE102023206689A1
(de)
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2023-07-13 |
2025-01-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Aktuierbare Spiegel-Baugruppe
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DE102024205371A1
(de)
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2023-07-25 |
2025-01-30 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und lithographieanlage
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DE102023207185A1
(de)
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2023-07-27 |
2025-01-30 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
|
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DE102023207368A1
(de)
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2023-08-01 |
2025-02-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
|
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DE102024207133A1
(de)
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2023-08-03 |
2025-02-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung einer Oberfläche eines Bauteils und Lithografiesystems
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DE102024205370A1
(de)
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2023-08-07 |
2025-02-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage mit einem optischen system und verfahren zum herstellen eines optischen systems
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DE102023207632A1
(de)
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2023-08-09 |
2025-02-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102023207629A1
(de)
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2023-08-09 |
2024-08-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102023207630A1
(de)
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2023-08-09 |
2024-07-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische Baugruppe und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102023207631A1
(de)
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2023-08-09 |
2025-02-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Baugruppe für die Halbleitertechnik und Vorrichtung für die Halbleitertechnik
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DE102023208042A1
(de)
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2023-08-23 |
2025-02-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Befestigungs-Einrichtung
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DE102024205320A1
(de)
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2023-08-23 |
2025-02-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Optimieren eines Verlaufs einer Gelenkbewegungsbahn
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DE102023122782A1
(de)
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2023-08-24 |
2025-02-27 |
Asml Netherlands B.V. |
Verfahren zur Reduzierung der Auswirkungen von parasitären Kräften und/oder Momenten auf die Abbildungsqualität einer Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsanlage mit einem Modul
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DE102024205590A1
(de)
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2023-08-31 |
2025-03-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines optischen Elements sowie Lithografiesystem
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DE102023123889A1
(de)
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2023-09-05 |
2025-03-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
MEMS-Mikrospiegeleinheit und dessen Herstellung
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DE102024206729A1
(de)
|
2023-09-06 |
2025-03-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Referenzierung einer Messlicht emittierenden Lichtaustrittsfläche eines Zielelements, Zielelement, Messverfahren zur Bestimmung einer 6-DOF-Stellung eines Objekts im Raum und Lithografiesystem
|
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DE102024207222A1
(de)
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2023-09-11 |
2025-03-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
|
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DE102024205714A1
(de)
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2023-09-12 |
2025-03-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Erweiterung eines Grundkörpers für ein optisches Element für die Halbleiterlithografie und Grundkörper für ein optisches Element für die Halbleiterlithografie
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DE102023208980A1
(de)
|
2023-09-15 |
2024-08-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
MEMS-Mikrospiegeleinheit und Facettenspiegel
|
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DE102023208979A1
(de)
|
2023-09-15 |
2025-03-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Befestigung einer MEMS-Mikrospiegeleinheit und MEMS-Mikrospiegeleinheit
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DE102023209148A1
(de)
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2023-09-20 |
2025-03-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage mit einem Element mit einem elastischen Material
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DE102023209257A1
(de)
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2023-09-22 |
2024-09-26 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102023209418A1
(de)
|
2023-09-27 |
2025-03-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zum lösbaren Verbinden wenigstens eines mobilen Reinraumes mit wenigstens einem zweiten Reinraum, Reinraum, Reinraumsystem und Lithografiesystem
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WO2025068034A2
(en)
|
2023-09-27 |
2025-04-03 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Method for producing an optical system for a lithography apparatus, substrate for an optical component of a lithography apparatus, and lithography apparatus
|
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DE102023209476A1
(de)
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2023-09-27 |
2025-03-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Verbindungselement
|
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DE102023209488A1
(de)
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2023-09-27 |
2025-03-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Mikro-elektro-mechanisches System mit Fixierung
|
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DE102023209473A1
(de)
|
2023-09-27 |
2025-03-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum herstellen eines optischen systems für eine lithographieanlage, substrat für eine optische komponente einer lithographieanlage und lithographieanlage
|
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DE102023209509A1
(de)
|
2023-09-28 |
2025-04-03 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum betreiben einer ansteuervorrichtung, ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage 5
|
|
DE102023209608A1
(de)
|
2023-09-29 |
2024-09-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage mit austauschbaren Modulen umfassend optische Elemente
|
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DE102023209691A1
(de)
|
2023-10-04 |
2025-04-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Messvorrichtung, Messverfahren mithilfe einer derartigen Messvorrichtung sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Messvorrichtung
|
|
DE102023209748A1
(de)
|
2023-10-05 |
2025-04-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Komponente für eine Anlage der Halbleitertechnologie und Verfahren zur Herstellung einer Komponente für eine Anlage der Halbleitertechnologie
|
|
DE102023128365A1
(de)
|
2023-10-17 |
2024-09-12 |
Asml Netherlands B.V. |
Verfahren und Steuervorrichtung zum Steuern einer Position eines Substrathalters einer Lithographieanlage, Positioniersystem und Lithographieanlage
|
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DE102023211114A1
(de)
|
2023-11-10 |
2025-05-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung einer EUV-Strahlung reflektierenden Oberflächenbeschichtung
|
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DE102023211398A1
(de)
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2023-11-16 |
2024-11-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Aktuatoranordnung
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DE102023211553A1
(de)
*
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2023-11-20 |
2025-05-22 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Elements, Element, insbesondere optisches Element, und Lithografiesystem
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DE102023211503A1
(de)
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2023-11-20 |
2024-12-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Modul und Projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102023212251A1
(de)
|
2023-12-05 |
2025-06-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und rechenvorrichtung zum kompensieren von flüssigkeitsübertragenen akustischen störanregungen einer flüssigkeitstemperierten optischen komponente einer lithographieanlage, kompensationssystem, lithographieanlage und verfahren zum herstellen einer reglereinrichtung
|
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DE102023212321A1
(de)
|
2023-12-07 |
2025-03-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung eines Bauteils für die Halbleiterlithographie, Bauteil und Projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102023212554A1
(de)
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2023-12-12 |
2025-01-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Baugruppe für eine optische Komponente
|
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DE102023213007A1
(de)
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2023-12-20 |
2025-06-26 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung zur Beprobung für eine Bestimmung eines Korrosionszustandes eines Moduls für die Halbleiterlithografie, Anordnung und Verfahren zur Bestimmung eines Modulzustandes
|
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DE102023136592A1
(de)
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2023-12-22 |
2024-10-24 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element und Projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102024200329A1
(de)
|
2024-01-15 |
2024-05-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zur Filtration eines Kühlschmiermittels, Bearbeitungseinrichtung sowie Lithografiesystem
|
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DE102024200608A1
(de)
|
2024-01-24 |
2025-07-24 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsoptik und projektionsbelichtungsanlage
|
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DE102024200776A1
(de)
|
2024-01-29 |
2024-12-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Manipulator zum Justieren eines optischen Elements
|
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DE102024201016A1
(de)
|
2024-02-05 |
2025-01-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Grundkörper für eine Komponente, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Auslegung des Grundkörpers
|
|
DE102024201072A1
(de)
|
2024-02-07 |
2025-03-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Manipulator, optisches system und projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102024201139A1
(de)
|
2024-02-08 |
2025-08-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Strebe und optisches system
|
|
DE102024201167A1
(de)
|
2024-02-09 |
2025-01-09 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage und verfahren
|
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DE102024201500A1
(de)
|
2024-02-19 |
2025-01-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von Bauteilen; Lithografiesystem
|
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DE102024201528A1
(de)
|
2024-02-20 |
2025-03-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Betrieb eines elektromagnetischen Aktuators, Vorrichtung zur Einstellung einer räumlichen Lage und/oder Deformation eines Elements, Computerprogrammprodukt, Mechaniksystem sowie Lithografiesystem
|
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DE102024201726A1
(de)
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2024-02-26 |
2025-08-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und system zum herstellen einer lithographieanlage oder einer ihrer komponenten und/oder zum anpassen eines anlagenparameters der lithographieanlage
|
|
DE102024201822A1
(de)
|
2024-02-28 |
2024-12-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Spiegel-Einrichtung
|
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DE102024201928A1
(de)
|
2024-03-01 |
2025-01-09 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Fehler- und/oder Anomalieerkennung bei einer Handhabungs- oder Manipulationsaufgabe eines Industrieroboters
|
|
DE102024201937A1
(de)
|
2024-03-01 |
2025-09-04 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Temperieren eines optischen Moduls für die Mikrolithographie
|
|
DE102024201982A1
(de)
|
2024-03-04 |
2025-02-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage mit Temperierungskreislauf
|
|
DE102024202076A1
(de)
|
2024-03-06 |
2024-12-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsanlage mit einem Verbindungselement und Verfahren zur Auslegung des Verbindungselementes
|
|
DE102024202078A1
(de)
|
2024-03-06 |
2025-03-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Optimierung der Abnahme von fluid- und strukturmechanisch gekoppelten Systemen
|
|
WO2025186071A1
(en)
|
2024-03-06 |
2025-09-12 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Assembly for semiconductor apparatuses to suppress acoustic wave propagation within a semiconductor apparatus and semiconductor apparatus
|
|
DE102024202079A1
(de)
|
2024-03-06 |
2025-03-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Schlauchbaugruppe, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren
|
|
DE102024202075A1
(de)
*
|
2024-03-06 |
2025-09-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Reduzierung akustischer Schwingungen, Verbindungselement und Projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102024202671A1
(de)
|
2024-03-21 |
2025-01-09 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Temperiermediumleitung, optisches system und projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102024202668A1
(de)
*
|
2024-03-21 |
2025-09-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Komponente, optisches system und projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102024202669A1
(de)
|
2024-03-21 |
2025-03-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Temperier-System zur Temperierung von Komponenten einer Projektionsbelichtungsanlage
|
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EP4530719A1
(en)
|
2024-03-26 |
2025-04-02 |
Carl Zeiss SMT GmbH |
Method for optimizing the emission of electromagnetic radiation of a plasma of an illumination system, source module, illumination system, projection exposure apparatus
|
|
EP4625047A1
(en)
|
2024-03-26 |
2025-10-01 |
Carl Zeiss SMT GmbH |
Method for optimizing the emission of electromagnetic radiation of an illumination system of a projection exposure apparatus, illumination system, projection exposure apparatus
|
|
DE102024202944A1
(de)
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2024-03-28 |
2025-10-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
|
|
DE102024203031A1
(de)
|
2024-04-02 |
2025-10-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung, Halteeinrichtung, Anordnung, System und Verfahren zur Halterung eines optischen Elements; Lithografiesystem
|
|
DE102024203030A1
(de)
|
2024-04-02 |
2025-10-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Wellenfrontkorrektur bei einer Anlage der Halbleitertechnologie
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DE102024110145A1
(de)
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2024-04-11 |
2025-10-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Analysieren und/oder Bearbeiten einer Lithographiemaske sowie Reparatursystem
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DE102024203440A1
(de)
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2024-04-15 |
2025-10-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
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DE102024203514A1
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2024-04-16 |
2025-01-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Klemmvorrichtung, optisches system und projektionsbelichtungsanlage
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DE102024203527A1
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2024-04-17 |
2025-02-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, projektionsbelichtungsanlage und verfahren
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DE102024203526A1
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2024-04-17 |
2025-10-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Befestigungsvorrichtung für eine lithographieanlage und lithographieanlage
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DE102024203605A1
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2024-04-18 |
2025-10-23 |
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Abbildende Optik für die Projektionslithographie
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DE102024203618A1
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2024-04-18 |
2025-01-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum herstellen eines bauteils für eine lithographieanlage
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DE102024204058A1
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2024-04-30 |
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Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system, lithographieanlage, verfahren zur herstellung eines optischen systems
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DE102024204215A1
(de)
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2024-05-06 |
2025-05-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zur Kalibrierung einer Bearbeitungseinrichtung, Bearbeitungseinrichtung, Computerprogrammprodukt sowie Lithografiesystem
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DE102024204402A1
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2024-05-13 |
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Anordnung und Verfahren zur Kalibrierung eines MEMS mit Mikrospiegeln
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DE102024204464A1
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2024-05-14 |
2025-05-08 |
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Kühlvorrichtung zum kühlen einer positionssensitiven komponente einer lithographieanlage und lithographieanlage
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DE102024204548A1
(de)
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2024-05-16 |
2025-03-27 |
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Verfahren zur Herstellung eines Moduls für die Halbleiterlithographie und Modul für die Halbleiterlithographie
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DE102024204566A1
(de)
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2024-05-17 |
2025-03-13 |
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Monolithischer dichtstopfen und projektionsbelichtungsanlage
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DE102024204662A1
(de)
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2024-05-21 |
2025-11-27 |
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Druckmessverfahren für wärmeübertragungsfluid in lithographieanlagen
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DE102024204656A1
(de)
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2024-05-21 |
2025-03-13 |
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Verfahren zur Klassifizierung von Leckagen in der Halbleitertechnologie
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DE102024204660A1
(de)
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2024-05-21 |
2025-11-27 |
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Optische Baugruppe, Verfahren zur Integration der optischen Baugruppe und Projektionsbelichtungsanlage
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DE102024205025A1
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2024-05-29 |
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Mikro-elektro-mechanisch bewegbares Element und System
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DE102024205085A1
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2024-06-03 |
2025-05-08 |
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Verfahren zur Auslegung eines Mikrotilger-Arrays, Mikrotilger-Array und Anlage für die Halbleitertechnologie
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DE102024205079A1
(de)
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2024-06-03 |
2025-04-30 |
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Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen und Prüfen der Sauberkeit von Hohlräumen in Hohlbauteilen; Lithografiesystem
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DE102024205226A1
(de)
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2024-06-06 |
2025-02-20 |
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Verfahren zum Betrieb eines optischen Systems einer Lithographie-Projektionsbelichtungsanlage
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DE102024205635A1
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2024-06-19 |
2025-05-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches system und lithographieanlage mit einem optischen system
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DE102024207498A1
(de)
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2024-08-07 |
2025-01-09 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zum Austausch wenigstens eines ersten optischen Elements, optisches Element, Optiksystem sowie Lithografiesystem
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DE102024208858A1
(de)
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2024-09-17 |
2025-08-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Dämpfer zur Dissipation mechanischer Schwingungsenergie, Dämpfungsanordnung und Anlage für die Halbleitertechnologie
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