JP2017028252A5 - トランジスタ - Google Patents
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Claims (15)
- 酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第2の導電膜及び第3の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記第2の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第3の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記金属酸化物膜及び前記第1の導電膜の各々は、前記ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜は、ゲート電極としての機能を有する、トランジスタ。 - 酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第2の導電膜及び第3の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜の一方又は双方は、In、Ga、及びZnを有し、
前記第2の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第3の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記金属酸化物膜及び前記第1の導電膜の各々は、前記ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜は、ゲート電極としての機能を有する、トランジスタ。 - 酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第2の導電膜及び第3の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜は、In、M、及びZnを有し(MはAl、Ga、Y、又はSn)、且つ金属元素の原子数比は、In≧M、Zn≧Mであり、
前記第2の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第3の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記金属酸化物膜及び前記第1の導電膜の各々は、前記ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜は、ゲート電極としての機能を有する、トランジスタ。 - 酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第2の導電膜及び第3の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜の一方又は双方は、In、Ga、及びZnを有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜の一方又は双方は、c軸配向した結晶部を有し、
前記第2の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第3の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記金属酸化物膜及び前記第1の導電膜の各々は、前記ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜は、ゲート電極としての機能を有する、トランジスタ。 - 酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第2の導電膜及び第3の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜の一方又は双方は、In、Ga、及びZnを有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜の一方又は双方は、ナノビーム電子線回折パターンによりリング状に複数のスポットが観察される結晶部を有し、
前記第2の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第3の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記金属酸化物膜及び前記第1の導電膜の各々は、前記ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜は、ゲート電極としての機能を有する、トランジスタ。 - 酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第2の導電膜及び第3の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記第2の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第3の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記金属酸化物膜及び前記第1の導電膜の各々は、前記ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜は、ゲート電極としての機能を有し、
前記第1の絶縁膜は窒化物絶縁膜であり、
前記第1の絶縁膜は、前記第1の導電膜の上面と接する領域と、前記第1の導電膜の側面と接する領域と、前記金属酸化物膜の側面と接する領域と、前記ゲート絶縁膜の側面と接する領域と、を有し、
前記第1の領域の上面は、前記第1の絶縁膜と接する領域を有し、
前記第2の領域の上面は、前記第1の絶縁膜と接する領域を有する、トランジスタ。 - 酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第2の導電膜及び第3の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記第2の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第3の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記金属酸化物膜及び前記第1の導電膜の各々は、前記ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜は、ゲート電極としての機能を有し、
前記ゲート絶縁膜は酸化物絶縁膜であり、
前記第1の絶縁膜は窒化物絶縁膜であり、
前記第1の絶縁膜は、前記第1の導電膜の上面と接する領域と、前記第1の導電膜の側面と接する領域と、前記金属酸化物膜の側面と接する領域と、前記ゲート絶縁膜の側面と接する領域と、を有し、
前記第1の領域の上面は、前記第1の絶縁膜と接する領域を有し、
前記第2の領域の上面は、前記第1の絶縁膜と接する領域を有する、トランジスタ。 - 第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第2のゲート絶縁膜と、
前記第2のゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第2の導電膜と、
前記第2の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第3の導電膜及び第4の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記第3の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第4の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記第1の導電膜は、前記第1のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記金属酸化物膜及び前記第2の導電膜の各々は、前記第2のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜及び前記第2の導電膜の各々は、ゲート電極としての機能を有する、トランジスタ。 - 第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第2のゲート絶縁膜と、
前記第2のゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第2の導電膜と、
前記第2の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第3の導電膜及び第4の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜の一方又は双方は、In、Ga、及びZnを有し、
前記第3の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第4の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記第1の導電膜は、前記第1のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記金属酸化物膜及び前記第2の導電膜の各々は、前記第2のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜及び前記第2の導電膜の各々は、ゲート電極としての機能を有する、トランジスタ。 - 第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第2のゲート絶縁膜と、
前記第2のゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第2の導電膜と、
前記第2の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第3の導電膜及び第4の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜は、In、M、及びZnを有し(MはAl、Ga、Y、又はSn)、且つ金属元素の原子数比は、In≧M、Zn≧Mであり、
前記第3の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第4の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記第1の導電膜は、前記第1のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記金属酸化物膜及び前記第2の導電膜の各々は、前記第2のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜及び前記第2の導電膜の各々は、ゲート電極としての機能を有する、トランジスタ。 - 第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第2のゲート絶縁膜と、
前記第2のゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第2の導電膜と、
前記第2の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第3の導電膜及び第4の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜の一方又は双方は、In、Ga、及びZnを有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜の一方又は双方は、c軸配向した結晶部を有し、
前記第3の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第4の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記第1の導電膜は、前記第1のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記金属酸化物膜及び前記第2の導電膜の各々は、前記第2のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜及び前記第2の導電膜の各々は、ゲート電極としての機能を有する、トランジスタ。 - 第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第2のゲート絶縁膜と、
前記第2のゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第2の導電膜と、
前記第2の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第3の導電膜及び第4の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜の一方又は双方は、In、Ga、及びZnを有し、
前記酸化物半導体膜及び前記金属酸化物膜の一方又は双方は、ナノビーム電子線回折パターンによりリング状に複数のスポットが観察される結晶部を有し、
前記第3の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第4の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記第1の導電膜は、前記第1のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記金属酸化物膜及び前記第2の導電膜の各々は、前記第2のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜及び前記第2の導電膜の各々は、ゲート電極としての機能を有する、トランジスタ。 - 第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第2のゲート絶縁膜と、
前記第2のゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第2の導電膜と、
前記第2の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第3の導電膜及び第4の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記第3の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第4の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記第1の導電膜は、前記第1のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記金属酸化物膜及び前記第2の導電膜の各々は、前記第2のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜及び前記第2の導電膜の各々は、ゲート電極としての機能を有し、
前記第1の絶縁膜は窒化物絶縁膜であり、
前記第1の絶縁膜は、前記第1の導電膜の上面と接する領域と、前記第1の導電膜の側面と接する領域と、前記金属酸化物膜の側面と接する領域と、前記ゲート絶縁膜の側面と接する領域と、を有し、
前記第1の領域の上面は、前記第1の絶縁膜と接する領域を有し、
前記第2の領域の上面は、前記第1の絶縁膜と接する領域を有する、トランジスタ。 - 第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第2のゲート絶縁膜と、
前記第2のゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第2の導電膜と、
前記第2の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第3の導電膜及び第4の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記第3の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第4の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記第1の導電膜は、前記第1のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記金属酸化物膜及び前記第2の導電膜の各々は、前記第2のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜及び前記第2の導電膜の各々は、ゲート電極としての機能を有し、
前記第1のゲート絶縁膜及び前記第2のゲート絶縁膜の各々は、酸化物絶縁膜であり、
前記第1の絶縁膜は窒化物絶縁膜であり、
前記第1の絶縁膜は、前記第1の導電膜の上面と接する領域と、前記第1の導電膜の側面と接する領域と、前記金属酸化物膜の側面と接する領域と、前記ゲート絶縁膜の側面と接する領域と、を有し、
前記第1の領域の上面は、前記第1の絶縁膜と接する領域を有し、
前記第2の領域の上面は、前記第1の絶縁膜と接する領域を有する、トランジスタ。 - 第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上の第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第2のゲート絶縁膜と、
前記第2のゲート絶縁膜上の金属酸化物膜と、
前記金属酸化物膜上の第2の導電膜と、
前記第2の導電膜上の第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上の、第3の導電膜及び第4の導電膜と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間のチャネル形成領域と、を有し、
前記第3の導電膜は、前記第1の領域と電気的に接続され、
前記第4の導電膜は、前記第2の領域と電気的に接続され、
前記第1の導電膜は、前記第1のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記金属酸化物膜及び前記第2の導電膜の各々は、前記第2のゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なる領域を有し、
前記第1の導電膜及び前記第2の導電膜の各々は、ゲート電極としての機能を有し、
前記第2の導電膜は、前記第1の導電膜と電気的に接続されている、トランジスタ。
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