JP2014215485A5 - - Google Patents
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Description
本発明に係る薄膜トランジスタ基板は、基板上に形成されたゲート電極および補助容量電極と、前記ゲート電極および前記補助容量電極を覆うように形成された第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜上に形成された、下層ソース電極、下層ドレイン電極および前記下層ドレイン電極に繋がった画素電極と、前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極の上に形成され、前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極と電気的に接続された半導体膜と、前記下層ソース電極、前記下層ドレイン電極および前記半導体膜の上に形成された第2絶縁膜と、前記第2絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ソース電極と電気的に接続された上層ソース電極と、前記第2絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ドレイン電極と電気的に接続された上層ドレイン電極と、前記第2絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記補助容量電極と電気的に接続された共通電極と、を備えるものである。
なお、上記のコンタクトホール15は下層ソース電極7aと重畳する位置に形成され、コンタクトホール17は下層ドレイン電極8aと重畳する位置に形成される。よって、コンタクトホール15,17は、チャネル領域13とは重畳しない位置に形成される。また、コンタクトホール16は、図2に示すようにソース配線9に沿って一定間隔で設けられる。
コンタクトホール15は下層ソース電極7aと重畳する位置に形成され、コンタクトホール17は下層ドレイン電極8aと重畳する位置に形成される。よって、コンタクトホール15,17は、チャネル領域13とは重畳しない位置に形成される。また、コンタクトホール16は、図8に示すようにソース配線9に沿って一定間隔で設けられる。
コンタクトホール15は下層ソース電極7aと重畳する位置に形成され、コンタクトホール17は下層ドレイン電極8aと重畳する位置に形成される。よって、コンタクトホール15,17は、チャネル領域13とは重畳しない位置に形成される。また、コンタクトホール16は、図16に示すようにソース配線9に沿って一定間隔で設けられる。
その後、フォトレジストパターンを除去する。その結果、図22に示すように、上層ソース配線9b、上層ソース電極7b、上層ドレイン電極8bおよび共通電極27が形成される。
Claims (12)
- 基板上に形成されたゲート電極および補助容量電極と、
前記ゲート電極および前記補助容量電極を覆うように形成された第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜上に形成された、下層ソース電極、下層ドレイン電極および前記下層ドレイン電極に繋がった画素電極と、
前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極の上に形成され、前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極と電気的に接続された半導体膜と、
前記下層ソース電極、前記下層ドレイン電極および前記半導体膜の上に形成された第2絶縁膜と、
前記第2絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ソース電極と電気的に接続された上層ソース電極と、
前記第2絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ドレイン電極と電気的に接続された上層ドレイン電極と、
前記第2絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記補助容量電極と電気的に接続された共通電極と、
を備える薄膜トランジスタ基板。 - 基板上に形成されたゲート電極および補助容量電極と、
前記ゲート電極および前記補助容量電極を覆うように形成された第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜上に形成された、下層ソース電極および下層ドレイン電極と、
前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極の上に形成され、前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極と電気的に接続された半導体膜と、
前記下層ソース電極、前記下層ドレイン電極および前記半導体膜の上に形成された第2絶縁膜と、
前記第2絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ソース電極と電気的に接続された上層ソース電極と、
前記第2絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ドレイン電極と電気的に接続された上層ドレイン電極と、
前記第2絶縁膜上に前記上層ドレイン電極に繋がるように形成された画素電極と、
前記上層ソース電極、前記上層ドレイン電極および前記画素電極の上に形成された第3絶縁膜と、
前記第3絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記補助容量電極と電気的に接続された共通電極と、
を備える薄膜トランジスタ基板。 - 基板上に形成されたゲート電極および補助容量電極と、
前記ゲート電極および前記補助容量電極を覆うように形成された第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜上に形成された、下層ソース電極および下層ドレイン電極と、
前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極の上に形成され、前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極と電気的に接続された半導体膜と、
前記下層ソース電極、前記下層ドレイン電極および前記半導体膜の上に形成された第2絶縁膜と、
前記第2絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ソース電極と電気的に接続された上層ソース電極と、
前記第2絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ドレイン電極と電気的に接続された上層ドレイン電極と、
前記第2絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記補助容量電極と電気的に接続された共通電極と、
前記上層ソース電極、前記上層ドレイン電極および前記共通電極の上に形成された第3絶縁膜と、
前記第3絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを通して前記上層ドレイン電極と電気的に接続された画素電極と、
を備える薄膜トランジスタ基板。 - 前記半導体膜が、酸化物半導体からなる
請求項1から請求項3のいずれか一項記載の薄膜トランジスタ基板。 - 前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極が、酸化物導電膜からなる
請求項1から請求項4のいずれか一項記載の薄膜トランジスタ基板。 - 前記第2絶縁膜が、上層のSiN膜とそれよりも膜応力の絶対値が小さい下層のSiN膜とを含んでいる
請求項1から請求項5のいずれか一項記載の薄膜トランジスタ基板。 - 前記第2絶縁膜において、前記下層のSiN膜の膜応力の絶対値が150MPa〜200MPaである
請求項6記載の薄膜トランジスタ基板。 - 前記第2絶縁膜において、前記下層のSiN膜のN/Si比が、前記上層のSiN膜のN/Si比よりも大きい
請求項6または請求項7記載の薄膜トランジスタ基板。 - 前記第2絶縁膜において、前記上層のSiN膜のN/Si比が1.1〜1.5である
請求項8記載の薄膜トランジスタ基板。 - (a)基板上に、第1の導電膜を用いてゲート電極および補助容量電極を形成する工程と、
(b)前記ゲート電極および前記補助容量電極を覆うように第1絶縁膜を形成する工程と、
(c)前記第1絶縁膜上に、第2の導電膜を用いて、下層ソース電極、下層ドレイン電極および前記下層ドレイン電極に繋がった画素電極を形成する工程と、
(d)前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極の上に、前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極と電気的に接続する半導体膜を形成する工程と、
(e)前記下層ソース電極、前記下層ドレイン電極および前記半導体膜の上に第2絶縁膜を形成する工程と、
(f)前記第2絶縁膜上に、第3の導電膜を用いて、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ソース電極と電気的に接続された上層ソース電極と、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ドレイン電極と電気的に接続された上層ドレイン電極と、コンタクトホールを通して前記補助容量電極と電気的に接続された共通電極とを形成する工程と、
を備える薄膜トランジスタ基板の製造方法。 - (a)基板上に、第1の導電膜を用いてゲート電極および補助容量電極を形成する工程と、
(b)前記ゲート電極および前記補助容量電極を覆うように第1絶縁膜を形成する工程と、
(c)前記第1絶縁膜上に、第2の導電膜を用いて、下層ソース電極および下層ドレイン電極を形成する工程と、
(d)前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極の上に、前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極と電気的に接続する半導体膜を形成する工程と、
(e)前記下層ソース電極、前記下層ドレイン電極および前記半導体膜の上に第2絶縁膜を形成する工程と、
(f)前記第2絶縁膜上に、第3の導電膜を用いて、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ソース電極と電気的に接続された上層ソース電極と、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ドレイン電極と電気的に接続された上層ドレイン電極と、前記上層ドレイン電極に繋がった画素電極を形成する工程と、
(g)前記上層ソース電極、前記上層ドレイン電極および前記画素電極の上に第3絶縁膜を形成する工程と、
(h)前記第3絶縁膜上に、コンタクトホールを通して前記補助容量電極と電気的に接続された共通電極を形成する工程と、
を備える薄膜トランジスタ基板の製造方法。 - (a)基板上に、第1の導電膜を用いてゲート電極および補助容量電極を形成する工程と、
(b)前記ゲート電極および前記補助容量電極を覆うように第1絶縁膜を形成する工程と、
(c)前記第1絶縁膜上に、第2の導電膜を用いて、下層ソース電極および下層ドレイン電極を形成する工程と、
(d)前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極の上に、前記下層ソース電極および前記下層ドレイン電極と電気的に接続する半導体膜を形成する工程と、
(e)前記下層ソース電極、前記下層ドレイン電極および前記半導体膜の上に第2絶縁膜を形成する工程と、
(f)前記第2絶縁膜上に、第3の導電膜を用いて、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ソース電極と電気的に接続された上層ソース電極と、コンタクトホールを通して前記半導体膜および前記下層ドレイン電極と電気的に接続された上層ドレイン電極と、コンタクトホールを通して前記補助容量電極と電気的に接続された共通電極とを形成する工程と、
(g)前記上層ソース電極、前記上層ドレイン電極および前記共通電極の上に第3絶縁膜を形成する工程と、
(h)前記第3絶縁膜上に、コンタクトホールを通して前記上層ドレイン電極と電気的に接続された画素電極を形成する工程と、
を備える薄膜トランジスタ基板の製造方法。
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