JP2016131245A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2016131245A5
JP2016131245A5 JP2016004538A JP2016004538A JP2016131245A5 JP 2016131245 A5 JP2016131245 A5 JP 2016131245A5 JP 2016004538 A JP2016004538 A JP 2016004538A JP 2016004538 A JP2016004538 A JP 2016004538A JP 2016131245 A5 JP2016131245 A5 JP 2016131245A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor substrate
electrode
electrodes
conductive particles
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016004538A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2016131245A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2016131245A publication Critical patent/JP2016131245A/ja
Publication of JP2016131245A5 publication Critical patent/JP2016131245A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2016004538A 2015-01-13 2016-01-13 多層基板 Pending JP2016131245A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015004595 2015-01-13
JP2015004595 2015-01-13

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020161099A Division JP7207382B2 (ja) 2015-01-13 2020-09-25 多層基板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016131245A JP2016131245A (ja) 2016-07-21
JP2016131245A5 true JP2016131245A5 (show.php) 2019-02-21

Family

ID=56405859

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016004538A Pending JP2016131245A (ja) 2015-01-13 2016-01-13 多層基板
JP2020161099A Active JP7207382B2 (ja) 2015-01-13 2020-09-25 多層基板

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020161099A Active JP7207382B2 (ja) 2015-01-13 2020-09-25 多層基板

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10199358B2 (show.php)
JP (2) JP2016131245A (show.php)
KR (1) KR101974763B1 (show.php)
CN (2) CN113690209B (show.php)
TW (3) TWI786440B (show.php)
WO (1) WO2016114318A1 (show.php)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018101107A1 (ja) 2016-11-30 2018-06-07 デクセリアルズ株式会社 導電粒子配置フィルム、その製造方法、検査プローブユニット、導通検査方法
JP7042037B2 (ja) * 2017-04-24 2022-03-25 デクセリアルズ株式会社 検査冶具の製造方法
US11456323B2 (en) 2017-10-20 2022-09-27 Sony Semiconductor Solutions Corporation Imaging unit
JP7185252B2 (ja) 2018-01-31 2022-12-07 三国電子有限会社 接続構造体の作製方法
JP7160302B2 (ja) * 2018-01-31 2022-10-25 三国電子有限会社 接続構造体および接続構造体の作製方法
JP7046351B2 (ja) 2018-01-31 2022-04-04 三国電子有限会社 接続構造体の作製方法
CN112313032A (zh) * 2018-06-26 2021-02-02 昭和电工材料株式会社 各向异性导电膜及其制造方法以及连接结构体的制造方法
TWI904579B (zh) 2018-06-26 2025-11-11 日商力森諾科股份有限公司 焊料粒
JP7125547B2 (ja) * 2018-12-29 2022-08-24 深南電路股▲ふん▼有限公司 多様に組み立て可能なプリント基板及びその製造方法
KR20220112922A (ko) * 2021-02-05 2022-08-12 엘지이노텍 주식회사 회로기판 및 이를 포함하는 패키지 기판

Family Cites Families (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6234773A (ja) 1985-08-02 1987-02-14 Honda Motor Co Ltd 研削盤における砥石ストツク装置
JPH0334064Y2 (show.php) * 1985-08-21 1991-07-18
US5502889A (en) * 1988-06-10 1996-04-02 Sheldahl, Inc. Method for electrically and mechanically connecting at least two conductive layers
JPH0362411A (ja) 1989-07-31 1991-03-18 Canon Inc 異方性導電フィルムの製造方法
JP2748713B2 (ja) * 1991-03-29 1998-05-13 日立化成工業株式会社 接続部材
JPH08330736A (ja) 1995-06-01 1996-12-13 Toray Ind Inc 多層基板およびその製造方法
JPH1056099A (ja) * 1996-08-12 1998-02-24 Shinko Electric Ind Co Ltd 多層回路基板およびその製造方法
KR100539060B1 (ko) * 1997-10-28 2007-04-25 소니 케미카루 가부시키가이샤 이방도전성접착제및접착용막
JP3624818B2 (ja) * 1999-10-12 2005-03-02 ソニーケミカル株式会社 異方性導電接続材料、接続体、およびその製造方法
JP2001237365A (ja) * 2000-02-23 2001-08-31 Seiko Epson Corp 接続用端子の接合方法、半導体装置の製造方法および半導体装置
JP2002110897A (ja) * 2000-09-28 2002-04-12 Toshiba Corp 半導体装置およびその製造方法
JPWO2003003798A1 (ja) * 2001-06-29 2004-10-21 東レエンジニアリング株式会社 異方導電性接着剤を用いた接合方法
JP2003204135A (ja) * 2002-09-20 2003-07-18 Canon Inc マルチチップモジュール、及びディスプレイパネル
JP3740469B2 (ja) * 2003-01-31 2006-02-01 株式会社東芝 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP4340517B2 (ja) * 2003-10-30 2009-10-07 Okiセミコンダクタ株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP4351939B2 (ja) * 2004-03-25 2009-10-28 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 多層配線基板及びその製造方法
JP4688526B2 (ja) 2005-03-03 2011-05-25 Okiセミコンダクタ株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP2006310082A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Tokai Rubber Ind Ltd 異方性導電膜およびその製造方法
JP5123664B2 (ja) * 2005-09-28 2013-01-23 スパンション エルエルシー 半導体装置およびその製造方法
JP4592751B2 (ja) * 2005-10-14 2010-12-08 株式会社フジクラ プリント配線基板の製造方法
WO2007060812A1 (ja) * 2005-11-22 2007-05-31 Sony Corporation 半導体装置および半導体装置の製造方法
KR100777255B1 (ko) * 2006-04-18 2007-11-20 중앙대학교 산학협력단 이방성 도전 필름 및 이를 이용한 전자부품의 실장방법
JP2006339160A (ja) 2006-06-02 2006-12-14 Hitachi Chem Co Ltd 熱硬化性回路接続部材及びそれを用いた電極の接続構造、電極の接続方法
WO2008058039A1 (en) * 2006-11-06 2008-05-15 University Of Florida Research Foundation, Inc. Devices and methods for utilizing mechanical surgical devices in a virtual environment
JP4872663B2 (ja) * 2006-12-28 2012-02-08 株式会社日立製作所 接合用材料及び接合方法
KR100842921B1 (ko) * 2007-06-18 2008-07-02 주식회사 하이닉스반도체 반도체 패키지의 제조 방법
KR20090011568A (ko) * 2007-07-26 2009-02-02 주식회사 하이닉스반도체 반도체 패키지 및 그의 제조 방법
JP5291917B2 (ja) * 2007-11-09 2013-09-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法
WO2009119904A1 (ja) * 2008-03-28 2009-10-01 日本電気株式会社 半導体装置、その製造方法、プリント回路基板および電子機器
US8334170B2 (en) * 2008-06-27 2012-12-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method for stacking devices
US8097953B2 (en) * 2008-10-28 2012-01-17 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Three-dimensional integrated circuit stacking-joint interface structure
US8674482B2 (en) * 2008-11-18 2014-03-18 Hong Kong Applied Science And Technology Research Institute Co. Ltd. Semiconductor chip with through-silicon-via and sidewall pad
JP4730426B2 (ja) * 2008-11-19 2011-07-20 ソニー株式会社 実装基板及び半導体モジュール
KR20100079183A (ko) * 2008-12-30 2010-07-08 주식회사 동부하이텍 반도체 패키지 장치와 그 제조 방법
US8647923B2 (en) * 2009-04-06 2014-02-11 Canon Kabushiki Kaisha Method of manufacturing semiconductor device
JP2010251547A (ja) * 2009-04-16 2010-11-04 Elpida Memory Inc 半導体装置及びその製造方法
JP2010272737A (ja) 2009-05-22 2010-12-02 Elpida Memory Inc 半導体装置の製造方法
JP4825286B2 (ja) * 2009-08-07 2011-11-30 ナミックス株式会社 多層配線板の製造方法
JP5595708B2 (ja) * 2009-10-09 2014-09-24 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル 半導体装置及びその調整方法並びにデータ処理システム
JP5271886B2 (ja) * 2009-12-08 2013-08-21 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法
US8232137B2 (en) * 2009-12-10 2012-07-31 Intersil Americas Inc. Heat conduction for chip stacks and 3-D circuits
US8048721B2 (en) * 2010-03-18 2011-11-01 Powertech Technology Inc. Method for filling multi-layer chip-stacked gaps
JP2011222553A (ja) * 2010-04-02 2011-11-04 Denso Corp 半導体チップ内蔵配線基板及びその製造方法
JP2011243725A (ja) * 2010-05-18 2011-12-01 Elpida Memory Inc 半導体装置の製造方法
EP2608207A1 (en) * 2010-06-17 2013-06-26 Mosaid Technologies Incorporated Semiconductor device with through-silicon vias
US8445918B2 (en) * 2010-08-13 2013-05-21 International Business Machines Corporation Thermal enhancement for multi-layer semiconductor stacks
KR20120032254A (ko) * 2010-09-28 2012-04-05 삼성전자주식회사 반도체 적층 패키지 및 이의 제조 방법
US8921708B2 (en) * 2010-12-01 2014-12-30 Panasonic Corporation Electronic-component mounted body, electronic component, and circuit board
JP5167335B2 (ja) * 2010-12-22 2013-03-21 株式会社日立製作所 半導体装置
KR101817156B1 (ko) * 2010-12-28 2018-01-10 삼성전자 주식회사 관통 전극을 갖는 적층 구조의 반도체 장치, 반도체 메모리 장치, 반도체 메모리 시스템 및 그 동작방법
JP5932267B2 (ja) * 2011-08-31 2016-06-08 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. 半導体装置及びその製造方法
WO2013069798A1 (ja) * 2011-11-11 2013-05-16 住友ベークライト株式会社 半導体装置の製造方法
KR101784507B1 (ko) 2011-12-14 2017-10-12 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 적층 패키지 및 제조 방법, 이를 포함하는 전자 시스템
KR20140100511A (ko) * 2011-12-16 2014-08-14 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 이방 도전성 필름 부착 반도체칩, 이방 도전성 필름 부착 반도체 웨이퍼, 및 반도체 장치
JP2013183120A (ja) * 2012-03-05 2013-09-12 Elpida Memory Inc 半導体装置
KR20170081295A (ko) 2012-08-29 2017-07-11 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 이방성 도전 필름 및 그 제조 방법
JP6058336B2 (ja) * 2012-09-28 2017-01-11 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
KR20140099604A (ko) * 2013-02-04 2014-08-13 삼성전자주식회사 적층 패키지 및 적층 패키지의 제조 방법
KR20150005113A (ko) * 2013-07-04 2015-01-14 에스케이하이닉스 주식회사 광학 신호 경로를 포함하는 반도체 패키지
KR102084540B1 (ko) * 2013-10-16 2020-03-04 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 그 제조방법
JP2015177062A (ja) * 2014-03-14 2015-10-05 株式会社東芝 半導体装置の製造方法および半導体装置
US9349670B2 (en) * 2014-08-04 2016-05-24 Micron Technology, Inc. Semiconductor die assemblies with heat sink and associated systems and methods

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016131245A5 (show.php)
JP2009027039A5 (show.php)
JP2016131152A5 (show.php)
JP5665618B2 (ja) コンデンサ構成用ユニット及びコンデンサ
JP2017022407A5 (show.php)
JP2013168419A5 (show.php)
JP2016103476A5 (show.php)
JP2016131246A5 (show.php)
JP2008078596A5 (show.php)
JP2013077598A5 (ja) 熱伝導部材及び熱伝導部材を用いた接合構造
TW201141342A (en) Wiring board and method for manufacturing the same
JP2014183307A (ja) インダクタ及びその製造方法
JP2014187166A5 (show.php)
JP2016033967A5 (show.php)
JP2011029178A5 (show.php)
JP2011210773A5 (show.php)
CN107926123A (zh) 多层基板以及其制造方法
CN107112314A (zh) 多层基板
JP2014192386A5 (show.php)
JP2018110149A5 (show.php)
JP2016127011A5 (show.php)
TW201501600A (zh) 多層電路板及其製作方法
CN210075747U (zh) 多层基板
JP5665617B2 (ja) コンデンサ構成用ユニット及びコンデンサ
CN209496722U (zh) 层叠线圈