JP2014529500A - 廃電気電子機器のリサイクル中にはんだ金属を剥離するための装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(a)機械的はんだ除去モジュールと、
(b)化学的はんだ除去モジュールと、
を含み、これらモジュールは、隣接して互いに取り付けられている。
機械的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程であって、この機械的はんだリムーバが、はんだを表面から機械的に除去するために少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む工程と、
化学的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程であって、この化学的はんだリムーバが、第1の組成物用の容器、及び少なくとも1つのかくはん機を含み、PWBが第1の組成物に部分的に浸漬される工程と、
浸出組成物を使用して、貴金属の少なくとも一部を除去する工程と、
を含む。
(a)ケーシング又はエポキシ接着された構成要素をPWBから除去するための加熱モジュールと、
(b)化学的はんだ除去モジュールと、
を含み、これらモジュールは隣接して互いに取り付けられている。
加熱モジュールを使用して、少なくとも1つのケーシングをPWBから除去する工程であって、この加熱モジュールが、加熱機構、及びこの加熱機構を通してPWBを移動させるための手段を含む工程と、
化学的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程であって、この化学的はんだリムーバが、第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、PWBが、第1の組成物に部分的に浸漬される工程と、
浸出組成物を使用して貴金属の少なくとも一部を除去する工程と、
含む。
(a)構成要素をPWBから解放する工程、
(b)貴金属を、PWB及び/又はPWB構成要素から回収する工程、
(c)卑金属をPWBから回収する工程
の少なくとも1つ、又はこれらの任意の組合せを含んでいた。
[0045] 構成要素は、典型的には、鉛、スズ、又は鉛−スズはんだであって通常は70Sn/30Pb、60Sn/40Pb、又は63Sn/37Pbの組合せになるはんだにより、PWBの表面に取り付けられる。ある適用例では、Ag−Snはんだが使用される。現在、構成要素除去のためのPWBのはんだ吸取りでは、はんだを融解温度に加熱することによって、遊離した構成要素をPWBから分離し、液体はんだを収集することを必要とする。PWBをリサイクルするため適用されるこの方法には、2つの主な欠点、(i)鉛及びスズは低揮発性金属であるので、そのような加熱及び融解は高レベルの汚染排出を周囲空気にもたらすことになること、並びに(ii)熱が構成要素に損傷を及ぼし、再使用するのに受け入れられなくなることがある。
機械的はんだリムーバと、
化学的はんだリムーバと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは装置は、PWBが自動的に又は手動で機械的はんだリムーバから化学的はんだリムーバに、すすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWBは、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。
機械的はんだリムーバと、
第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、PWBが第1の組成物に部分的に浸漬される、化学的はんだリムーバと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは装置は、PWBが自動的に機械的はんだリムーバから化学的はんだリムーバに、すすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWBはコンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくはかくはん機は、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
はんだを表面から機械的に除去するために少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む、機械的はんだリムーバと、
第1の組成物用の容器及び少なくとも1つかくはん機を含む化学的はんだリムーバと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは装置は、PWBが自動的に機械的はんだリムーバから化学的はんだリムーバに、すすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWBは、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくはかくはん機は、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
はんだを表面から機械的に除去するために少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む、機械的はんだリムーバと、
第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、PWBが第1の組成物に部分的に浸漬される、化学的はんだリムーバと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは装置は、PWBが自動的に機械的はんだリムーバから化学的はんだリムーバに、すすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWBは、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくはかくはん機は、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
機械的はんだリムーバと、
化学的はんだリムーバと、
加熱モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
機械的はんだリムーバを使用してはんだの少なくとも一部を除去する工程であって、機械的はんだリムーバが、はんだを表面から機械的に除去するために少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む工程と、
化学的はんだリムーバを使用してはんだの少なくとも一部を除去する工程と、
を含む。
このプロセスは、PWBのすすぎ及び乾燥の工程をさらに含むことができる。好ましくは、かくはん機は、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
機械的はんだリムーバを使用してはんだの少なくとも一部を除去する工程と、
化学的はんだリムーバを使用してはんだの少なくとも一部を除去する工程であって、化学的はんだリムーバが、第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、PWBが第1の組成物に部分的に浸漬される工程と、
を含む。
このプロセスは、PWBのすすぎ及び乾燥の工程をさらに含むことができる。好ましくは、かくはん機は、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
機械的はんだリムーバを使用してはんだの少なくとも一部を除去する工程であって、機械的はんだリムーバが、はんだを表面から機械的に除去するために少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む工程と、
化学的はんだリムーバを使用してはんだの少なくとも一部を除去する工程であって、化学的はんだリムーバが、第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、PWBが第1の組成物に部分的に浸漬される工程と、
を含む。
このプロセスは、PWBのすすぎ及び乾燥の工程をさらに含むことができる。好ましくは、かくはん機は、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
機械的はんだリムーバを使用してはんだの少なくとも一部を除去する工程と、
化学的はんだリムーバを使用してはんだの少なくとも一部を除去する工程と、
加熱手段を使用して、エポキシで覆われた構成要素を除去する工程と、
を含む。
このプロセスは、PWBのすすぎ及び乾燥の工程をさらに含むことができる。好ましくは、機械的はんだリムーバは、はんだを表面から機械的に除去するために、少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む。好ましくは、化学的はんだリムーバは、第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、PWBは第1の組成物に部分的に浸漬される。好ましくは、かくはん機は、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
[0092] いくつかのプリント配線基板、例えばWiFi能を有する携帯電話に見出されるものは、Ag−Snなどのはんだで表面に添着された鋼などのケーシングにより覆われた構成要素をしばしば含む。鋼ケーシングを機械的に除去すること、例えばブレードでの切断は、方法論的に好ましくない。したがって、容易に鋼ケーシングを除去し且つ廃PWBをリサイクルする方法が、求められている。
加熱モジュールと、
化学的はんだリムーバと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、PWBが加熱モジュールから化学的はんだリムーバに、すすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWBは、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。
加熱モジュールと、
第1の組成物用の容器を含む化学的はんだリムーバと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、PWBが加熱モジュールから化学的はんだリムーバに、すすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWBは、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。
加熱機構、及びこの加熱機構を通して廃PWBを移動させるための手段を含む、加熱モジュールと、
化学的はんだリムーバと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、PWBが加熱モジュールから化学的はんだリムーバに、すすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWBは、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくは、加熱モジュールは、ブラシを含んだ振動手段を含み、廃PWBを加熱機構を通して移動させるための手段は、ローラチェーンを含む。廃PWBは、クリップ又はその他のクランプ留め手段を使用して、ローラチェーンから吊るすことができる。特に好ましい実施形態では、加熱機構は、はんだ又はエポキシの融点より少なくとも1℃〜約20℃低く維持される。
加熱機構、及びこの加熱機構を通して廃PWBを移動させるための手段を含む、加熱モジュールと、
第1の組成物用の容器を含む化学的はんだリムーバと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、PWBが加熱モジュールから化学的はんだリムーバに、すすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWBは、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくは、加熱モジュールは、ブラシを含んだ振動手段を含み、廃PWBを加熱機構を通して移動させるための手段は、ローラチェーンを含む。廃PWBは、クリップ又はその他のクランプ留め手段を使用して、ローラチェーンから吊るすことができる。特に好ましい実施形態では、加熱機構は、はんだ又はエポキシの融点より少なくとも1℃〜約20℃低く維持される。
ケーシングを、熱を使用してPWBの表面から除去する工程と、
はんだの少なくとも一部を、化学的はんだリムーバを使用して除去する工程と
を含む。
プロセスはさらに、PWBのすすぎ及び乾燥の工程を含むことができる。特定の好ましい実施形態では、熱は、はんだ又はエポキシの融点より少なくとも1℃〜約20℃低く維持される。
ケーシングを、熱及び少なくとも1つのかくはん機を使用してPWBの表面から除去する工程と、
はんだの少なくとも一部を、第1の組成物用の容器を含む化学的はんだリムーバを使用して除去する工程と
を含む。
プロセスはさらに、PWBのすすぎ及び乾燥の工程を含むことができる。好ましくは、かくはん機はブラシを含む。特定の好ましい実施形態では、加熱機構は、はんだ又はエポキシの融点より少なくとも1℃〜約20℃低く維持される。
少なくとも1つのケーシング及び/又はエポキシ接着された構成要素を、加熱モジュールを使用してPWBから除去する工程であって、加熱モジュールが、加熱機構、及びこの加熱機構を通してPWBを移動させるための手段を含む工程と、
はんだの少なくとも一部を、化学的はんだリムーバを使用して除去する工程であって、化学的はんだリムーバが、第1の組成物用の容器、及び少なくとも1つのかくはん機を含み、PWBが第1の組成物に部分的に浸漬される工程と、
貴金属の少なくとも一部を、浸出組成物を使用して除去する工程と、
を含む。
[0115] 第5の態様では、プリント配線基板(PWB)をリサイクルするための装置について記述され、前記装置は一般に、貴金属浸出手段を含む。
貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含んだ貴金属除去手段を含む。
好ましくは、装置は、PWB及び/又はPWB構成要素が貴金属浸出モジュールからすすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWB及び/又はPWB構成要素は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。
三ヨウ化物を含んだ浸出組成物用の容器を含む貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含んだ貴金属除去手段を含む装置について記述される。
好ましくは、装置は、PWB及び/又はPWB構成要素が貴金属浸出モジュールからすすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWB及び/又はPWB構成要素は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。
破砕モジュールと、
三ヨウ化物を含んだ浸出組成物用の容器を含む貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含んだ貴金属除去手段を含む装置について記述される。
好ましくは、装置は、PWB及び/又はPWB構成要素が貴金属浸出モジュールからすすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWB及び/又はPWB構成要素は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。
破砕モジュールと、
塩ブライン/酸混合物又は第1の組成物を含んだ浸出組成物用の容器を含む貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含んだ貴金属除去手段を含む装置について記述される。
好ましくは、装置は、PWB及び/又はPWB構成要素が貴金属浸出モジュールからすすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWB及び/又はPWB構成要素は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。
三ヨウ化物、少なくとも1種の起泡剤、及び少なくとも1種の収集剤を含む浸出組成物用の容器を含んだ貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと
を含んだ炭素及び貴金属除去手段を含む装置について記述される。
好ましくは、装置は、PWB及び/又はPWB構成要素が貴金属浸出モジュールからすすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWB及び/又はPWB構成要素は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくは、PWB構成要素は微粉砕される。
破砕モジュールと、
三ヨウ化物、少なくとも1種の起泡剤、及び少なくとも1種の収集剤を含む浸出組成物用の容器を含んだ貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと
を含んだ炭素及び貴金属除去手段を含む装置について記述される。
好ましくは、装置は、PWB及び/又はPWB構成要素が貴金属浸出モジュールからすすぎモジュールに、さらに乾燥モジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、PWB及び/又はPWB構成要素は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくは、PWB構成要素は微粉砕される。
PWB及び/又はPWB構成要素を、三ヨウ化物、少なくとも1種の起泡剤、及び少なくとも1種の収集剤を含む浸出組成物に導入する工程と、
フロス層及び液層を発生させる工程と、
フロス層を液層から分離する工程と、
を含み、貴金属が液体中に実質的に除去され且つ炭素がフロス内に実質的に除去される。
[0155] 第7の態様では、e−廃棄物、例えばPWBをリサイクルするための装置について記述され、前記装置は一般に、はんだ吸取り装置及び貴金属浸出装置を含む(図6参照)。はんだ吸取り装置は、本明細書に記述される第1又は第3の態様の場合に対応させることができるが、その他のはんだ吸取り装置を使用できることを理解すべきである。貴金属浸出装置は、本明細書に記述される第5の態様の場合に対応させることができるが、その他の貴金属浸出装置を使用できることを理解すべきである。好ましくは装置は、e−廃棄物、例えばPWB、破砕されたIC粉末などが、はんだ吸取り装置から貴金属浸出装置に自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物、例えばPWBは、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくは、はんだ吸取り装置及び貴金属浸出装置は、e−廃棄物が一方から他方に自動的に且つ連続して移動するように取り付けられる。
機械的はんだ除去モジュールと、
化学的はんだ除去モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、e−廃棄物がモジュールからモジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくはモジュールは、e−廃棄物が一方から他方に自動的に且つ連続して移動するように取り付けられる。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物にはPWBが含まれ、貴金属には金が含まれる。
はんだを表面から機械的に除去するために少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む機械的はんだ除去モジュールと、
第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、第1の組成物にPWBが部分的に浸漬される、化学的はんだ除去モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
三ヨウ化物を含む浸出組成物用の容器を含んだ貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、e−廃棄物がモジュールからモジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくはモジュールは、e−廃棄物が一方から他方に自動的に且つ連続して移動するように取り付けられる。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物にはPWBが含まれ、貴金属には金が含まれる。好ましくは、かくはん機は、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
機械的はんだ除去モジュールと、
化学的はんだ除去モジュールと、
加熱モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
任意選択により破砕モジュールと、
貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、e−廃棄物がモジュールからモジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくはモジュールは、e−廃棄物が一方から他方に自動的に且つ連続して移動するように取り付けられる。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物にはPWBが含まれ、貴金属には金が含まれる。加熱モジュールの後に、図3で選択肢として示されるように且つ本明細書で記述されるように、e−廃棄物を化学的はんだリムーバ、すすぎモジュール、及び乾燥モジュールに再導入できることが企図される。存在する場合に破砕モジュールは、当業者により容易に決定されるように、硬質シェル(例えばプラスチック)に亀裂が入るようにPWB及び/又はPWB構成要素を微粉砕するための手段、細断するための手段、及び破砕するための手段を含むが、これらに限定するものではない。
はんだを表面から機械的に除去するために少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む機械的はんだ除去モジュールと、
第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、第1の組成物にPWBが部分的に浸漬される化学的はんだ除去モジュールと、
加熱モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
任意選択により破砕モジュールと、
三ヨウ化物を含む浸出組成物用の容器を含んだ貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、e−廃棄物がモジュールからモジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくはモジュールは、e−廃棄物が一方から他方に自動的に且つ連続して移動するように取り付けられる。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物にはPWBが含まれ、貴金属には金が含まれる。加熱モジュールの後に、図3で選択肢として示されるように且つ本明細書で記述されるように、e−廃棄物を化学的はんだリムーバ、すすぎモジュール、及び乾燥モジュールに再導入できることが企図される。存在する場合に破砕モジュールは、当業者により容易に決定されるように、硬質シェル(例えばプラスチック)に亀裂が入るようにPWB及び/又はPWB構成要素を微粉砕するための手段、細断するための手段、及び破砕するための手段を含むが、これらに限定するものではない。好ましくは、かくはん機は、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
機械的はんだ除去モジュールと、
化学的はんだ除去モジュールと、
任意選択により加熱モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
破砕モジュールと、
貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、e−廃棄物がモジュールからモジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくはモジュールは、e−廃棄物が一方から他方に自動的に且つ連続して移動するように取り付けられる。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物にはPWBが含まれ、貴金属には金が含まれる。存在する場合に加熱モジュールの後には、図3で選択肢として示されるように且つ本明細書で記述されるように、e−廃棄物を化学的はんだリムーバ、すすぎモジュール、及び乾燥モジュールに再導入できることが企図される。破砕モジュールは、当業者により容易に決定されるように、硬質シェル(例えばプラスチック)に亀裂が入るようにPWB及び/又はPWB構成要素を微粉砕するための手段、細断するための手段、及び破砕するための手段を含むが、これらに限定するものではない。
はんだを表面から機械的に除去するために少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む機械的はんだ除去モジュールと、
第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、第1の組成物にPWBが部分的に浸漬される化学的はんだ除去モジュールと、
任意選択により加熱モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
破砕モジュールと、
三ヨウ化物を含む浸出組成物用の容器を含んだ貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、e−廃棄物がモジュールからモジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくはモジュールは、e−廃棄物が一方から他方に自動的に且つ連続して移動するように取り付けられる。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物にはPWBが含まれ、貴金属には金が含まれる。存在する場合に加熱モジュールの後には、図3で選択肢として示されるように且つ本明細書で記述されるように、e−廃棄物を化学的はんだリムーバ、すすぎモジュール、及び乾燥モジュールに再導入できることが企図される。破砕モジュールは、当業者により容易に決定されるように、硬質シェル(例えばプラスチック)に亀裂が入るようにPWB及び/又はPWB構成要素を微粉砕するための手段、細断するための手段、及び破砕するための手段を含むが、これらに限定するものではない。好ましくはかくはん機は、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
加熱機構、及びこの加熱機構を通して廃PWBを移動させるための手段を含む、加熱モジュールと、
第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、第1の組成物にPWBが部分的に浸漬される化学的はんだ除去モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
三ヨウ化物を含む浸出組成物用の容器を含んだ貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、e−廃棄物がモジュールからモジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくはモジュールは、e−廃棄物が一方から他方に自動的に且つ連続して移動するように取り付けられる。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物にはPWBが含まれ、貴金属には金が含まれる。好ましくは、加熱モジュールは、ブラシを含む振動手段と、ローラチェーンを含む加熱機構を通して廃PWBを移動させるための手段とを含む。廃PWBは、クリップ又はその他のクランプ留め手段を使用して、ローラチェーンから吊るすことができる。特に好ましい実施形態では、加熱機構は、はんだ又はエポキシの融点よりも少なくとも1℃〜約20℃低く維持される。
加熱機構、及びこの加熱機構を通して廃PWBを移動させるための手段を含む、加熱モジュールと、
第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、第1の組成物にPWBが部分的に浸漬される化学的はんだ除去モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
破砕モジュールと、
三ヨウ化物を含む浸出組成物用の容器を含んだ貴金属浸出モジュールと、
すすぎモジュールと、
乾燥モジュールと、
を含む。
好ましくは、装置は、e−廃棄物がモジュールからモジュールに自動的に又は手動で移動するように設計される。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物は、コンベヤベルト、搬送ローラ、又は搬送ホイールで装置内を移動する。好ましくはモジュールは、e−廃棄物が一方から他方に自動的に且つ連続して移動するように取り付けられる。特に好ましい実施形態では、e−廃棄物にはPWBが含まれ、貴金属には金が含まれる。破砕モジュールは、当業者により容易に決定されるように、硬質シェル(例えばプラスチック)に亀裂が入るようにPWB及び/又はPWB構成要素を微粉砕するための手段、細断するための手段、及び破砕するための手段を含むが、これらに限定するものではない。好ましくは、加熱モジュールは、ブラシを含む振動手段と、ローラチェーンを含む加熱機構を通して廃PWBを移動させるための手段とを含む。廃PWBは、クリップ又はその他のクランプ留め手段を使用して、ローラチェーンから吊るすことができる。特に好ましい実施形態では、加熱機構は、はんだ又はエポキシの融点よりも少なくとも1℃〜約20℃低く維持される。
機械的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程と、
化学的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程と、
浸出組成物を使用して、貴金属の少なくとも一部を除去する工程と、
を含む。
プロセスは、e−廃棄物のすすぎ及び乾燥の工程をさらに含むことができる。好ましくはe−廃棄物は、PWBを含む。
はんだを表面から機械的に除去するために少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む機械的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程と、
第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、第1の組成物にPWBが部分的に浸漬される、化学的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程と、
浸出組成物を使用して、貴金属の少なくとも一部を除去する工程と、
を含む。
プロセスは、e−廃棄物のすすぎ及び乾燥の工程をさらに含むことができる。好ましくは、e−廃棄物はPWBを含む。好ましくはかくはん機は、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
機械的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程と、
化学的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程と、
加熱手段を使用して、エポキシで覆われた構成要素を除去する工程と、
浸出組成物を使用して、貴金属の少なくとも一部を除去する工程と、
を含む。
プロセスは、e−廃棄物のすすぎ及び乾燥の工程をさらに含むことができる。好ましくは、e−廃棄物はPWBを含む。好ましくは、機械的はんだリムーバは、はんだをe−廃棄物の表面から機械的に除去するために、少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む。好ましくは、化学的はんだリムーバは、第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、第1の組成物には、e−廃棄物が部分的に浸漬される。好ましくは、かくはん機は少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む。
Claims (33)
- (a)機械的はんだ除去モジュールと、
(b)化学的はんだ除去モジュールと、
を含み、
前記モジュールが隣接して互いに取り付けられている、e−廃棄物を処理するための装置。 - 前記機械的はんだ除去モジュールが、はんだを表面から機械的に除去するために、少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記化学的はんだ除去モジュールが、第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、前記e−廃棄物が前記第1の組成物に部分的に浸漬される、請求項1又は2に記載の装置。
- 前記化学的はんだ除去モジュールの上流及び/又は下流に配置された加熱モジュールをさらに含む、前記請求項のいずれかに記載の装置。
- 前記加熱モジュールが少なくとも1つのかくはん機を含む、請求項4に記載の装置。
- 前記加熱モジュールの下流に配置された少なくとも1つのすすぎモジュールをさらに含む、前記請求項のいずれかに記載の装置。
- 前記化学的はんだ除去モジュールの下流に配置された少なくとも1つのすすぎモジュールをさらに含む、前記請求項のいずれかに記載の装置。
- 貴金属浸出モジュールをさらに含む、前記請求項のいずれかに記載の装置。
- 前記貴金属浸出モジュールが、三ヨウ化物を含む浸出組成物用の容器を含む、請求項8に記載の装置。
- 前記貴金属浸出モジュールが、炭素を前記e−廃棄物から分離する、請求項8又は9に記載の装置。
- 前記浸出組成物が、少なくとも1種の起泡剤及び少なくとも1種の収集剤をさらに含む、請求項9又は10に記載の装置。
- 前記貴金属浸出モジュールが、起泡手段をさらに含む、請求項10又は11に記載の装置。
- 前記貴金属浸出モジュールの下流に配置された少なくとも1つのすすぎモジュールをさらに含む、請求項8から12のいずれかに記載の装置。
- 前記e−廃棄物が、プリント配線基板(PWB)を含む、前記請求項のいずれかに記載の装置。
- 前記貴金属が、金、銀、パラジウム、白金、ロジウム、イリジウム、オスミウム、レニウム、及びルテニウムからなる群から選択される少なくとも1種を含む、前記請求項のいずれかに記載の装置。
- 前記かくはん機が、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む、前記請求項のいずれかに記載の装置。
- 機械的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程であって、前記機械的はんだリムーバが、はんだを表面から機械的に除去するために少なくとも1つのブレード及び少なくとも1つのかくはん機を含む、工程と、
化学的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程であって、前記化学的はんだリムーバが、第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、PWBが前記第1の組成物に部分的に浸漬される、工程と、
浸出組成物を使用して、貴金属の少なくとも一部を除去する工程と、
を含む、e−廃棄物をリサイクルする方法。 - (a)ケーシング又はエポキシ接着された構成要素をPWBから除去するための加熱モジュールと、
(b)化学的はんだ除去モジュールと、
を含み、
前記モジュールが隣接して互いに取り付けられている、
e−廃棄物を処理するための装置。 - 前記加熱モジュールが、加熱機構と、前記廃PWBを前記加熱機構を通して移動させるための手段とを含む、請求項18に記載の装置。
- 前記加熱機構が振動手段を含む、請求項18又は19に記載の装置。
- 前記振動手段がブラシを含む、請求項20に記載の装置。
- 前記廃PWBを前記加熱機構を通して移動させるための手段が、ローラチェーンを含む、請求項18から21のいずれかに記載の装置。
- 前記化学的はんだ除去モジュールが、第1の組成物用の容器を含む、請求項18から22のいずれかに記載の装置。
- 前記化学的はんだ除去モジュールの下流に配置された、少なくとも1つのすすぎモジュールをさらに含む、請求項18から23のいずれかに記載の装置。
- 貴金属浸出モジュールをさらに含む、請求項18から24のいずれかの記載の装置。
- 前記貴金属浸出モジュールが、三ヨウ化物を含む浸出組成物用の容器を含む、請求項25に記載の装置。
- 前記貴金属浸出モジュールが、炭素を前記e−廃棄物から分離する、請求項26又は27に記載の装置。
- 前記浸出組成物が、少なくとも1種の起泡剤及び少なくとも1種の収集剤をさらに含む、請求項26又は27に記載の装置。
- 前記貴金属浸出モジュールが起泡手段をさらに含む、請求項27又は28に記載の装置。
- 前記貴金属浸出モジュールの上流に配置された少なくとも1つの破砕モジュールをさらに含む、請求項25から29のいずれかに記載の装置。
- 前記貴金属浸出モジュールの下流に配置された少なくとも1つのすすぎモジュールをさらに含む、請求項18から30のいずれかに記載の装置。
- 前記かくはん機が、少なくとも1つのブラシ、レーキ、又は吹込みガス若しくは液体を含む、請求項18から31のいずれかに記載の装置。
- 加熱モジュールを使用して、少なくとも1つのケーシングをPWBから除去する工程であって、前記加熱モジュールが、加熱機構、及び前記PWBを前記加熱機構を通して移動させるための手段を含む、工程と、
化学的はんだリムーバを使用して、はんだの少なくとも一部を除去する工程であって、前記化学的はんだリムーバが、第1の組成物用の容器及び少なくとも1つのかくはん機を含み、前記PWBが前記第1の組成物に部分的に浸漬される、工程と、
浸出組成物を使用して、貴金属の少なくとも一部を除去する工程と、
を含む、e−廃棄物をリサイクルする方法。
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