JP2012504212A - 真空バルブ - Google Patents

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Abstract

【課題】差圧がバルブプレートに対して2方向に作用する場合に適応する改良された真空バルブを提案する。
【解決手段】バルブプレート(5)が開位置及び中間位置の区間で動かされる際、バルブロッド(12)は縦駆動装置(15)(15’)により縦方向(6)に動かされる。バルブプレート(5)が閉位置及び中間位置の間で動かされる際、バルブロッド(12)は横駆動装置(16)(16’)により縦方向(7)に動かされる。真空バルブの真空領域外に配置されているベアリングユニット(17)(17’)が壁部(1)に対して固定されている。バルブロッド(12)を縦方向(6)に案内するガイドユニット(20)(20’)がベアリングユニットによって横方向(7)に案内される。
【選択図】 図3

Description

本発明は真空バルブに関する。
L型バルブとしてさまざまな仕様の真空バルブが知られている。バルブプレートをその中間位置から閉位置まで移動させ又はこれとは反対に移動させるため、バルブロッドが縦方向に対して垂直かつ横方向に対して垂直な軸回りに旋回することができる構成が提案されている(特許文献1参照)。
縦駆動のためのピストンシリンダユニットのシリンダはバルブロッドとともに旋回され、バルブロッド及び当該シリンダを旋回させるために他のピストンシリンダユニットが用いられる構成が提案されている(特許文献2参照)。
縦駆動のための同様のピストンシリンダユニットにより、リンクガイドが利用されることによってバルブロッドが傾動させられる構成が提案されている(特許文献3〜6参照)。
バルブロッドを傾動させることによりバルブプレートが横方向に動かされるような当該公知のL型バルブには、バルブプレートが横方向に正確かつ平行にではなく近似的にのみ動かされるため、バルブプレートをバルブシートに対して密着させるためのシールの負荷が増大するという不都合がある。
また、横方向に対して相当に傾斜した角度でバルブプレートをバルブシートに当接させるいわゆるJ型バルブが知られている。
さらに、横方向への直線的な駆動によってバルブプレートが中間位置から閉位置に動かされるL型バルブが知られている。たとえば、本出願人は、ピストンシリンダユニットを用いて、バルブプレートが横方向に支持ユニットに対して動かされる構成の真空バルブを提案している(特許文献7参照)。支持ユニットは、さらなるピストンシリンダユニットにより縦方向に変位可能なバルブロッドに取り付けられている。
真空バルブのほか、当該装置は、バルブプレートが真空チャンバの外側からその壁部の開口部に接近する、真空領域外に存在する開閉装置として構成される。支持ユニットを支持するバルブロッドを縦に動かすためのピストンシリンダユニットと、バルブプレートを支持ユニットに対して横に動かすためのピストンシリンダユニットとを備えている類似の真空バルブが提案されている(特許文献8参照)。
バルブプレートがバルブロッドに取り付けられ、ピストンシリンダユニットによりバルブプレートが縦方向に動かされ、かつ、縦方向に動かされるように、バルブロッドが案内される構成のL型バルブが知られている(特許文献9参照)。
リニアガイド等により構成されているガイド装置によって、ピストンシリンダユニットが横方向に変位するように案内され、これによりピストンロッドもバルブ開口部を有する壁部に対して横方向に動かされる。バルブプレートをその中間位置から閉位置に変位させるため、当該バルブプレートと一体化されているピストンシリンダユニットが用いられる。
他の形態において、横駆動装置が真空領域外に配置されているピストンシリンダユニットにより構成され、当該ピストンシリンダユニットが縦駆動装置を構成するピストンシリンダユニットのシリンダと相互作用する。当該形態は、バルブプレートをバルブシートに押し付ける差圧がこのバルブプレートに作用する環境に対して最適化するように構成される。この場合、バルブプレートをバルブシートに押し付ける閉塞力が作用する必要はない。
米国特許公報 US6431518B1 米国特許公報 US6416037B1 米国特許公報 US6966538B2 米国特許公報 US5641149A 米国特許公報 US6237892B1 米国特許公報 US6619618B2 米国特許公開公報 US2007/0272888A1 米国特許公報 US6899316A 米国特許公開公報 US2008/0017822A1
しかし、横方向の案内に関して強い閉塞力が伝達するという問題がある。
本発明の目的は、差圧がバルブプレートに対して2方向に作用する場合に適応する改良された真空バルブを提案することである。
本発明は、真空バルブであって、バルブシートにより囲まれているバルブ開口部が設けられている壁部と、前記真空バルブの真空領域に配置され、縦方向について前記バルブ開口部を開放する開位置から、前記バルブ開口部を覆う一方で前記バルブシートから離れている中間位置に変位可能であり、かつ、前記縦方向に対して垂直な横方向について当該中間位置から前記バルブシートに密着して前記バルブ開口部を閉塞する閉位置に変位可能である少なくとも1つのバルブプレートと、前記バルブプレートを支持するバルブロッドであって、前記真空バルブの前記真空領域から導出され、前記バルブロッドの縦軸に平行な前記縦方向について前記壁部に対して変位可能であり、かつ、前記壁部に対して前記横方向に平行移動可能な少なくとも1つのバルブロッドと、前記真空バルブの前記真空領域外に配置され、前記バルブプレートを前記開位置及び前記中間位置の区間で動かすために前記バルブロッドを前記縦方向に変位させる縦駆動装置と、前記真空バルブの前記真空領域外に配置され、前記バルブプレートを前記中間位置と前記閉位置との区間で動かすために前記バルブロッドを前記横方向に対して平行に変位させる横駆動装置とを備えている真空バルブに関する。
前記課題を解決するための本発明の真空バルブは、前記真空バルブの前記真空領域外に配置されているベアリングユニットが前記壁部に対して固定され、前記ベアリングユニットによって前記バルブロッドを前記縦方向に案内するガイドユニットが前記横方向に案内されることを特徴とする。
本発明の真空バルブによれば、バルブロッドは、バルブロッドの縦軸に対して平行な縦方向に、バルブ開口部を有する壁部に対して変位可能である。また、バルブロッドは、縦軸に対して垂直な横方向に、バルブ開口部を有する壁部に対して平行に変位可能である。
バルブロッドの縦駆動装置及び横駆動装置が真空バルブの真空領域外に配置されている。さらに、ベアリングユニットが真空バルブの真空領域外に配置されている。バルブロッドを縦方向に変位可能に案内するガイドユニットが、ベアリングユニットによって横方向に案内される。ガイドユニットは同様に真空バルブの真空領域外に配置されている。ガイドユニットは全体として、すなわち、ベアリングユニットに対して縦方向の全領域にわたって駆動されうる。
真空領域外において壁部に固定されるとともに、ガイドユニットにより案内されるベアリングユニットが用いられることにより、バルブプレートに対する力の伝達形態が改善される。これにより、縦駆動装置及び横駆動装置の両方が真空領域外に配置され、バルブプレートに対して2方向に作用する差圧を受容しうるL型バルブが設計される。縦駆動装置及び横駆動装置の両方が真空領域外に配置されることにより、点検作業が容易な構成が実現される。
ガイドユニットが横方向に直線的に変位することができるように当該ガイドユニットを支持するベアリングユニットが、縦方向についてガイドユニットの両側に存在する部分を有していることが好ましい。ガイドユニットが少なくとも部分的に、好ましくは完全にベアリングユニットの収容空間に配置され、当該空間において変位しうるようにベアリングユニットにより案内されてもよい。ガイドユニットは、ベアリングユニットにより横方向に直線的に案内されるスレッドであってもよい。
縦駆動装置は少なくとも1つのピストンシリンダユニットを備えていることが好ましい。ピストンが収容かつ配置される筒状収容部はガイドユニットに形成される。ガイドユニットに対して固定されているシリンダが設けられてもよい。ピストンシリンダのピストンのバルブロッドは、真空領域に案内されるとともにバルブプレートを支持するバルブロッドを直接的に構成する。これに代えて、当該バルブロッドに連結されている他のピストンロッドが設けられてもよい。
バルブロッドを縦方向に駆動するための縦駆動装置による出力は、好ましくはガイドユニットを介してバルブロッドに作用する。当該力の作用は直接的に又は少なくとも1つの伝動要素により実行される。横駆動装置は、たとえば少なくとも1つのピストンシリンダユニットにより構成される。
本発明の変形態様において、縦駆動装置は少なくとも1つの駆動部材を備えている。当該駆動部材は縦方向に変位可能であり、少なくとも1つの伝動要素によりガイドユニットに連結されている。伝動要素は当該駆動部材の縦方向の動きを、ガイドユニットの横方向の動きに変換する。
駆動部材又は当該駆動部材において縦方向に反対側にある各駆動部材が、ガイドユニットを横方向に平行移動させるため、対応する伝動要素によりガイドユニットに対して連結されている。すなわち、伝動要素はガイドユニットの平行移動を実現する。伝動要素は、たとえば伝動要素及びガイドユニットに対して軸回りに旋回可能に連結され、平行四辺形状のガイドを構成するピボットロッドであってもよい。
駆動部材を有する、横駆動装置のアクチュエータは、たとえばベアリングユニットに対して変位可能に取り付けられている板状の可動部材によって、支持ユニットに対して全体的に縦方向に案内されるとともに、支持ユニットに当接する。これにより、バルブプレートをその閉位置において相応の強い閉塞力でバルブシートに押し付けるため、縦方向とは反対のバルブロッドの傾動に対して強い力が作用する。
本発明の好適な一態様において、バルブロッドは、開位置並びに中間位置及び閉位置のそれぞれにおいて、バルブプレートの反対側でガイドユニットから突出する。バルブプレートの閉位置において、バルブロッドはベアリングユニットに設けられている横ストッパに当接し、バルブロッドの横方向への変位が制止される。
バルブロッド又は当該ロッドに連結されている部材は、横方向についてバルブシートに近い側部が横ストッパに当接する。ベアリングユニットの横ストッパ及びバルブプレートが当接するところのバルブシートは、バルブプレートの閉位置において、バルブロッド及びバルブプレートから構成されるユニットの2つの支持部材を構成する。このため、バルブプレートの閉位置において、バルブロッドを縦方向に対して平行に維持する力が、バルブロッドからベアリングユニットを介してバルブ開口部を有する壁部に伝達されうる。
本発明のさらなる詳細および特徴は以下の図面に示されている本発明の実施形態によって説明される。
バルブプレートが開位置にある状態における、本発明の第1実施形態としての真空バルブの外観図。 図1のA−A線に沿った真空バルブの断面図。 図1のB−B線に沿った真空バルブの断面図。 図1のC−C線に沿った真空バルブの断面図。 バルブプレートが中間位置にある状態における図1の真空バルブの外観図。 図5のA−A線に沿った真空バルブの断面図。 図5のB−B線に沿った真空バルブの断面図。 図5のC−C線に沿った真空バルブの断面図。 バルブプレートが閉位置にある状態における図1の真空バルブの外観図。 図9のA−A線に沿った真空バルブの断面図。 図9のB−B線に沿った真空バルブの断面図。 図9のC−C線に沿った真空バルブの断面図。 バルブロッド及び当該ロッドに取り付けられているバルブプレートを有する本発明の第1実施形態としての真空バルブの駆動装置の俯瞰図。 図13の真空バルブの相互に離間している部分の俯瞰図。 本発明の第1実施形態としての真空バルブの変形例の外観図。 図15のA−A線に沿った真空バルブの断面図。 バルブプレートが開位置にある状態における、(バルブロッドのベローズブッシングのベローズが省略されている)本発明の第2実施形態としての真空バルブの外観図。 図17のA−A線に沿った真空バルブの断面図。 図17のB−B線に沿った真空バルブの断面図。 図17のC−C線に沿った真空バルブの断面図。 バルブプレートが中間位置にある状態における図17の真空バルブの外観図。 図21のA−A線に沿った真空バルブの断面図。 図21のB−B線に沿った真空バルブの断面図。 図21のC−C線に沿った真空バルブの断面図。 バルブプレートが閉位置にある状態における図17の真空バルブの外観図。 図25のA−A線に沿った真空バルブの断面図。 図25のB−B線に沿った真空バルブの断面図。 図25のC−C線に沿った真空バルブの断面図。 第2実施形態の真空バルブの底面図。 第2実施形態の真空バルブの俯瞰図。 図30に相当する方向から見た真空バルブの相互に離間している部分の俯瞰図。 異なる方向から見た場合における図31に相当する真空バルブの俯瞰図。 バルブロッドを有するバルブ駆動装置の(蛇腹ブッシングのベローズが省略されている)部分的な切欠図。 真空チャンバに設置された状態における真空バルブの概観図。
図面は部分的に簡易化されている。たとえば、ネジ穴及び連結用ねじが部分的に省略される等、連結用フランジは単純化されている。
本発明の第1実施形態について図1〜図14を用いて説明する。
真空バルブはバルブ開口部2が設けられている壁部1を備えている。バルブ開口部2は軸3を有するとともに、本実施形態においてはシール面として形成されているバルブシート4により囲まれている。真空バルブの閉状態(図9〜図12参照)においてバルブ開口部2を真空に対して堅固に密閉するため、バルブプレート5が設けられている。
真空バルブの開状態(図1〜図4参照)において、バルブプレート5はバルブ開口部2を開放しており、好ましくはバルブ開口部2の軸3の方向についてバルブ開口部2の近傍に配置されている。
バルブプレート5は真空バルブを閉塞するため、最初、当該開位置から(軸3の方向から見た場合に)バルブ開口部2を覆う一方でバルブシート4から浮いている状態になるまで縦方向6に変位することができる。バルブプレート5の当該中間位置が図5〜図8に示されている。バルブプレート5は、開位置から中間位置まで移動経路の全部にわたって縦方向6に直線的に変位する。
さらに、バルブプレート5は中間位置からバルブシート4に向かって横方向7に変位し、バルブ開口部2を密閉するためにバルブシート4に押し付けられる。横方向7は、縦方向6に対して垂直であり、軸3に対して平行に延在している。バルブプレート5の当該閉位置(図9〜図12参照)において、真空バルブは閉塞される。バルブプレート5は、中間位置から閉位置まで移動経路の全部にわたって横方向7に直線的に変位する。
閉位置において、バルブプレート5に設けられている弾性シールリングが、バルブシート4を構成するシール面に対して押し付けられる。真空バルブは前記とは逆の手順で、バルブプレート5が閉位置から中間位置に変位し、さらに開位置に変位することで開放される。
真空バルブの真空領域(真空減圧されうる領域)に配置されているバルブプレート5はバルブロッド12に取り付けられている。バルブロッド12はベローズブッシングにより真空バルブの真空領域から導出されている。すなわち、バルブロッド12のうちバルブプレート5が取り付けられている部分は真空領域に存在し、他の部分は真空領域外に存在する。
概略が図示されているベローズブッシングは箔製ベローズ又は膜製ベローズなどのベローズ13により構成されている。ベローズ13は、バルブロッド12が突出するところの壁部46の開口部の領域において、一方の側でバルブロッド12に対して気密に連結され、他方の側で壁部46に気密に連結されている。壁部46は壁部1に対して直角等の角度をなして固定されている。
バルブプレート5は図示されているようにバルブロッド12に堅固に連結されている。これに代えて、バルブプレート5をその閉位置においてバルブシート4に対して適応させるため、当該連結が柔軟なものであってもよい。このようなバルブプレート5及びバルブロッド12の柔軟性がある連結方法としては周知の手法が採用される。
バルブロッド12の縦軸14は縦軸方向6に対して平行である。バルブプレート5を開位置と中間位置との間で変位させるため、バルブロッド12は壁部1に対して相対的に縦方向6に動かされる。バルブプレート5を閉位置と中間位置との間で変位させるため、バルブロッド12は縦方向7に壁部1に対して平行に動かされる。
バルブロッド12を真空領域から導出するため、ベローズブッシングに代えてディスク状ベローズが設けられていてもよい。当該ベローズはディスク部材を有し、このディスク部材はシール部材により気密性が保たれ、バルブロッド12を案内する貫通孔を有している。これにより、バルブロッド12はディスク部材に対して相対的に動くことができる。
ディスク部材は、シール部材により壁部46に対して気密性が保持された状態で、壁部46に対して横方向7に変位可能に支持されている。ディスク部材は壁部46に対してシールされ、横方向7に変位可能なスレッドのような部材を構成する。相互に直交する2つの方向への変位を可能とするディスク状ブッシングが知られている。
真空バルブの開閉のため、真空領域外に配置されている縦駆動装置15及び横駆動装置16を有するバルブ駆動装置が用いられる。縦駆動装置15によりバルブロッドが縦方向6に駆動され、横駆動装置16によりバルブロッド12が横方向7に駆動される。
本実施形態において、壁部1はバルブハウジング8の一部を構成し、バルブハウジング8は壁部に対向する、他の開口部10が設けられている壁部9を有している。バルブ開口部2および開口部10は、バルブの開状態においてバルブハウジング8により開放されている、直線状の貫通経路の一部をなす。バルブプレート5はバルブハウジング8において、真空バルブの真空領域を表わす内部空間11に保持される。
壁部1は(図15及び図16を用いて後述するように)真空チャンバの一部であってもよい。さらに、真空バルブは真空チャンバの真空領域に挿入されるところの挿入部材を構成してもよい。第2実施形態に関して後述される図34を参照されたい。
続いて、バルブロッド12のための、縦方向6及び横方向7に変位可能なベアリングと、縦駆動装置15及び横駆動装置16とについて詳細に説明する。
真空バルブの真空領域外においてベアリングユニット17が壁部1に固定されている。本実施形態では、ベアリングユニット17は、収容空間19を有する駆動ハウジング18を備えている。駆動ハウジング18は、壁部1又は当該壁部1を有するハウジング8に対して固定されている。収容空間19において、横方向7に直線的に案内されるガイドユニット20が設けられている。一方、バルブロッド12はガイドユニット20により縦方向6に案内される。
この結果、ガイドユニット20の基体23は貫通経路を有する。バルブロッド12は貫通経路を通じてブッシング21、22により縦方向6に案内される。ベアリングユニット17に対してガイドユニット20が案内されるが、その詳細については後述する。
本実施形態では、縦駆動装置15は、ガイドユニット20の基体23における筒状収容部26にそれぞれ配置されている2つのピストン25をアクチュエータとして備えている。筒状収容部26はガイドユニット20のシリンダカバー24により塞がれている。ピストン25に取り付けられているピストンロッド27がシリンダカバー24を貫通している。
ピストン25が圧縮空気等の圧力媒体によって筒状収容部26において駆動される際、バルブロッド12が縦方向6に駆動されるように、ピストンロッド27はくびき28によりバルブロッド12に対して固定されている。バルブロッド12に対する連結のため、くびき28はたとえば当該ロッドにねじ止めされる。
横駆動装置16は、ガイドユニット20の基体23に形成されている筒状収容部30にそれぞれ配置されている2つのピストン29をアクチュエータとして備えている。ピストン29は、本実施形態ではベアリングユニット17の駆動ハウジング18と一体的に形成されているピストンロッド31に対して固定されている。
この意味において、ピストン29はベアリングユニット17の一部である。ピストンロッド31は、ベアリングユニット17の駆動ハウジング18に対して固定されているベアリングユニット17の相互に離間している部分により構成されていてもよい。
本実施形態では、ピストン29は一方向に作用するピストンとして構成されている。ピストン29及びハウジング18の間にあってピストンロッド31の端面に面している空間が加圧されることにより、バルブプレート5を閉位置から中間位置に変位させるように、ガイドユニット20およびバルブロッド12はベアリングユニット17に対して横方向7に変位する。
ガイドユニット20及びバルブロッド12並びにバルブプレート5を反対方向に駆動するため、本実施形態では付勢装置が用いられる。付勢装置はガイドユニット20及び駆動ハウジング18の間で作用する複数のコイルバネ32を備えている。コイルバネ32は各ピストンロッド31を囲むように配置されている(図14において、視認の容易のために単一のピストンロッド31の周囲に配置されたコイルバネ32のみが示されている)。
付勢装置を構成するため、コイルバネ32がさまざまな形態で配置されてもよく、さまざまな種類のバネが用いられてもよい。
バルブプレート5が閉位置にある場合、バルブプレート5をバルブシート4から離間させるような差圧はバルブプレート5に作用しない。このため、バルブ開口部2を密閉する観点から、バルブプレート5のバルブシート4に対する十分な押圧力が確保される。たとえば、真空バルブが2つの真空チャンバを密閉するためにこの真空バルブが用いられ、半導体製品等の真空処理が一方の真空チャンバで実行されうる。
バルブプレート5に対してこれをバルブシート4から離間させるような高い差圧が作用するために、バルブシート4に対するバルブプレート5の当接力を強める必要がある場合、本実施形態では、ガイドユニット20の基体23及びベアリングユニット17の駆動ハウジング18の間に設けられている2つの圧力空間33が圧縮空気等の圧力媒体により加圧される。圧力空間33はシール部材34,35により密閉されている。
たとえば点検修理等のために真空バルブにより連結されている2つの真空チャンバの一方が開放されるような場合、バルブプレート5をバルブシート4に向かう方向に又はバルブシート4から離れる方向に押圧する差圧が高められる。
コイルバネ32又は異なる種類のバネは省略されてもよい。バネ及び圧力空間33のうち少なくとも一方に代えて、2方向に作用するピストン29が設けられていてもよい。
ベアリングユニット17に対して相対的にガイドユニット20を案内するため、ガイドブッシング37がピストンロッド31及びガイドユニット20の基体23の間に配置されている(図4、図8及び図12参照)。シール部材34〜36のうち少なくとも1つが案内機能を有するように構成されていてもよい。この場合、ガイドブッシング37は省略されてもよい。
バルブプレート5とは反対側においてガイドユニット20から突出しているバルブロッド12が、バルブプレート5が閉位置にある状態でガイドユニット20から突出している箇所、好ましくは端部領域において、ベアリングユニット17の駆動ハウジング18に設けられている横ストッパ38に当接する。
バルブプレート5の開位置及び中間位置において、バルブロッド12は横ストッパ38から離間している。バルブプレート5が中間位置から閉位置に変位する際、好ましくはバルブプレート5がバルブシート4に当接するのと同時に、バルブロッド12が横ストッパ38に当接する。
バルブロッド12に対する横駆動装置16の当接領域の両側において、バルブロッド12は壁部1又は壁部1に対して固定されている部材により支持される。当該当接領域は、バルブロッド12においてガイドユニット20に対して変位可能なベアリングの存在領域にある。
したがって、バルブロッド12の縦方向への案内及びガイドユニット20の横方向変の案内によってバルブロッド12を傾動させる強い力を生じさせずに、バルブプレート5にとって必要な当接力がバルブシート4に簡単に伝達される。
縦駆動装置15及び横駆動装置16のうち一方又は両方は2より少ない又は多いピストン25又は29を有していてもよい。ガイドユニット20の基体23における凹部としての、縦駆動装置15のピストン25のための筒状収容部26及び横駆動装置16のピストン29のための筒状収容部30のうち一方又は両方が形成される代わりに、ガイドユニットに対して固定されている別個のシリンダが設けられてもよい。
シリンダ及びピストンが反対に配置されてもよい。たとえば、縦駆動装置15のピストン25がバルブロッド12に連結され、代替的又は付加的に、横駆動装置16のピストン29がガイドユニット20に固定され、当該ピストンのシリンダがベアリングユニット17に固定され、或いは、ベアリングユニット17の筒状収容部として形成されてもよい。
図15及び図16に示されている変形例において、バルブ駆動装置、バルブロッド12及び当該ロッドに連結されているバルブプレート5の構成は、図1〜図14に示されているものと同じである。当該変形例は、バルブ開口部2を有する真空バルブの壁部1が、部分的かつ概略的に図15及び図16に示されている真空チャンバ39の一部である点で相違するのみである。
バルブプレート5は、真空吸引された際にバルブの真空領域を形成する真空チャンバ39の内部空間に配置されている。真空チャンバ39の真空領域からバルブロッド12が導出されるような開口部が形成されている壁部46が、フランジ連結部材により真空チャンバ39に連結され、相互に離間している部分として図15及び図16に示されている。壁部46は、真空チャンバ39の開口部の周辺部分として図示されている。当該フランジ連結が解除されることにより、壁部46は、当該壁部46に対して取り付けられているバルブ駆動装置と、バルブロッド12と、バルブプレート5とともに取り外される。
本発明の第2実施形態について図17〜図34を用いて説明する。
本発明の第1実施形態に関する基本構成に関する先の記載は、第2実施形態と同一であり、類似構成には同一の符号が用いられる。
第1実施形態との相違点は、壁部1がバルブハウジングの一部ではないということである。真空バルブは、図34に示されているように真空チャンバ42において用いられる挿入部材として構成されている。真空チャンバ42の開口部43を囲む領域において、真空バルブの壁部41に対して壁部1を密閉するため、壁部1はバルブシート4の反対側においてバルブ開口部2を囲む弾性シール部材40を有している。
壁部46は壁部1に対して垂直であり、当該壁部46の開口部を通じてバルブロッド12が延在している。壁部46は、壁部44の開口部45及び開口部60を囲む領域において、当該壁部46を真空チャンバの壁部44に対してシールするため、当該開口部を囲む弾性シール部材47を有している。バルブロッド12は、ベローズ13を有するベローズブッシングによって真空バルブの真空領域からシールされている状態で案内されている。真空チャンバ42の取り付け用のピン61が図示されている。
真空チャンバ42において用いられる挿入部材として真空バルブが構成される代わりに、真空バルブが、図1〜図14に関連して説明されているのと同様に構成されているバルブハウジングを有していてもよい。また、壁部1は図15及び図16に示され、当該図面に関して説明されたように真空チャンバの一部であってもよい。
次に、縦方向6及び横方向7へのバルブロッド12の可動ベアリングと、縦駆動装置15及び横駆動装置16の詳細について説明する。
壁部1に対して固定され、かつ、真空領域外に配置されているベアリングユニット17’は、収容空間19’が設けられている駆動ハウジング18’を有している。バルブロッド12を縦方向6に変位可能に支持しているガイドユニット20’が収容空間19’に配置されている。ガイドユニット20は当該空間においてベアリングユニット17’により横方向7に直線的に案内される。
当該案内のため、駆動ハウジング18’のブッシング収容部49に保持されるとともに、ガイドピン50が挿入されるガイドブッシング48が用いられる。ガイドピン50は、ガイドユニット20’の基体23’に固定され、又は、基体23’と一体的に構成されている。ガイドピン50及びガイドブッシング48の軸は横方向7に対して平行である。
本実施形態では、横方向7に対して垂直かつ縦方向8に対して垂直な方向について離間している2つのガイドブッシング48が設けられている。ガイドブッシング48は、ガイドピンが案内駆動されるところのブッシング収容部49に保持されている。
図31には、ガイドピン50から引き抜かれ、ブッシング収容部49から取り外された状態の1つのガイドブッシング48が示されている。ガイドピン50に嵌まっている状態の他のガイドブッシング48が図32から視認される。ガイドブッシング48に嵌入される一又は複数のガイドピン50が設けられてもよい。
縦駆動装置15’は筒状収容部26’に配置されているピストン25’をアクチュエータとして有している。筒状収容部26’はガイドユニット20’の基体23’に形成されている。ピストン25’は、縦駆動装置15’のピストンシリンダユニットのピストンロッドを構成するように、バルブロッド12に取り付けられている。
筒状収容部26’は、バルブロッド12においてバルブプレート5の反対側でシリンダカバー24’により閉塞されている。シリンダカバー24’はブッシング様に形成され、バルブロッド12を案内する。ピストン25’の反対側で、バルブロッド12がガイドユニット20’の基体23’の開口部を通じて通行する領域において、バルブロッド12はバルブユニット20’によって縦方向6に変位可能に支持されている。バルブロッド12の縦軸14は縦方向6に対して平行に維持されている。
横駆動装置16’は2つの駆動部材51を有している。駆動部材51は、横方向6に変位可能であって、本実施形態では横駆動装置16’のアクチュエータとしてのピストンシリンダユニットのピストンを構成する。たとえば、少なくとも1つの電磁式のリニア駆動装置がアクチュエータとして設けられてもよい。
ピストンとして形成されている駆動部材51は、ベアリングユニット17’の駆動ハウジング18’に設けられている筒状収容部30’に配置されている。筒状収容部30’はその両側でシリンダカバー52,53により閉塞されている。
駆動ハウジング18’に筒状収容部30’が設けられる代わりに、駆動ハウジング18’に固定されているベアリングユニット17’の別個のシリンダが設けられていてもよい。ピストンロッド31’は両側で対応する駆動部材51から突出し、かつ、両側で筒状収容部30’から突出している。
筒状収容部30’から突出している両端部において、ピストンロッド31’は伝動要素54,55を介してガイドユニット20’に連結されている。伝動要素は連結ロッドを有している。連結ロッドは、一端においてピストンロッド31’に対して旋回可能(又はピボット可能)に連結され、他端においてベアリングユニット17’に対して旋回可能に連結されている。当該旋回軸は横方向7に対して垂直かつ縦方向6に対して垂直な方向に延在している。ガイドユニット20’に対するピボット可能な連結のため、伝動要素54,55が突出するところのベアリング凹部を通っている揺動ピン56,57が設けられている。
バルブプレート5の開位置及び中間位置において、伝動要素54,55は横方向7に対してある角度をなしている。圧縮空気等の圧力媒体により、対応する筒状収容部30’のシリンダ空間が加圧されることによって駆動部材51が縦に変位することにより、ガイドユニット20’はベアリングユニット17’に対して横方向7に変位し、横方向7に対する当該角度は小さくなる。
ベアリングユニット17’に当接している移動部材58は、バルブプレート5をその閉位置においてバルブシート4に押圧するための横駆動装置16’による力をベアリングユニット17’に伝達するために用いられる。たとえば、ピストンロッド31’が対応する伝動要素54,55に対して連結されている領域において、移動部材58’はその両側で対応するピストンロッド31’に連結されている。
ベアリングユニット17’に対する駆動部材51の縦方向の変位により、移動部材58も変位する。ベアリングユニット17’に対して移動部材58を案内するため、ローラーベアリング59が設けられている。スライド式ベアリングが用いられてもよい。移動部材58により、バルブプレート5の閉位置においてピストンロッド31’がベアリングユニット17’に当接する。このため、ピストンロッド31’の案内に応じた力は伝達されない。移動部材58が省略され、ピストンロッド31’の可動ベアリングにより、ピストンロッド31’からベアリングユニット17’に対する力が伝達されてもよい。
ベアリングユニット17’の駆動ハウジング18’に形成されている筒状収容部26におけるピストンの形態で構成されている駆動部材51を保持することに代えて、駆動ハウジング18’に対して固定されている別個のシリンダが設けられてもよい。
横駆動装置16’のために2つよりも多い又は少ない駆動部材51が設けられてもよい。
伝動要素54,55は揺動レバーとは異なる形態で構成されてもよい。たとえば、ベアリングユニット17’に対してガイドユニット20’を平行に変位させるため、楔形要素が用いられてもよい。
駆動部材51を一方向に付勢するバネ装置が採用されてもよい。
縦駆動装置15’が、ピストンがバルブロッド12に連結されている一又は複数のピストンシリンダユニットをアクチュエータとして有していてもよい。
第2実施形態に関して、バルブプレート5の閉位置においてバルブロッド12が、バルブプレート5とは反対側でガイドユニット20’から突出している部分において、ベアリングユニット17’の横ストッパに当接してもよい。このため、縦方向への案内及び横方向への案内によって、縦方向6に対して平行な配置からバルブロッド12を傾動させる力が低減されうる。
第1実施形態において、前記のように挿入部材として構成され、バルブ開口部2が設けられている壁部1を有するバルブボディが設けられる。図34に関して説明された構成が同様に当該変形例に適用されうる。
第1実施形態(図1〜図16)及び第2実施形態(図17〜図34)の両方において、次のような変更が可能である。
弾性シール部材がバルブシート4に取り付けられ、当該シール部材に当接するシール面がバルブプレート5に設けられていてもよい。
バルブプレート5を運搬するための複数のバルブロッド12が設けられていてもよい。
一又は複数のバルブロッド12により運搬される複数のバルブプレート5が設けられてもよい。
異なる動作をする、好ましくは気圧式のピストンシリンダユニットの圧力媒体通路は詳細には図示されていない。圧力媒体の通路を構成する穿孔が断面図から視認されうる。真空バルブの縦駆動装置及び横駆動装置のうち少なくとも一方として、ピストンシリンダユニット以外のアクチュエータが用いられてもよい。
1‥壁部、2‥バルブ開口部、3‥軸、4‥バルブシート、5‥バルブプレート、6‥縦方向、7‥横方向、8‥バルブハウジング、9‥壁部、10‥開口部、11‥内部空間、12‥バルブロッド、13‥ベローズ、14‥縦軸、15,15’‥縦駆動要素、16,16’‥横駆動装置、17,17’‥ベアリングユニット、18,18’‥駆動ハウジング、19,19’‥収容空間、20,20’‥ガイドユニット、21‥ガイドブッシング、22‥ガイドブッシング、23,23’‥基体、24,24’‥シリンダカバー、25,25’‥ピストン、26,26’‥筒状収容部、27‥ピストンロッド、28‥くびき、29‥ピストン、30,30’‥筒状収容部、31,31’‥ピストンロッド、32‥コイルバネ、33‥圧力空間、34‥シール、35‥シール、36‥シール、37‥ガイドブッシング、38‥横ストッパ、39‥真空チャンバ、40‥シール、41‥壁部、42‥真空チャンバ、43‥開口部、44‥壁部、45‥開口部、46‥壁部、47‥シール部材、48‥ガイドブッシング、49‥ブッシング収容部、50‥ガイドピン、51‥駆動部材、52‥シリンダカバー、53‥シリンダカバー、54‥伝動要素、55‥伝動要素、56‥揺動ピン、57‥揺動ピン、58‥移動部材、59‥ローラーベアリング、60‥開口部、61‥ボルト。

Claims (14)

  1. 真空バルブであって、
    バルブシート(4)により囲まれているバルブ開口部(2)が設けられている壁部(1)と、
    前記真空バルブの真空領域に配置され、縦方向(6)について前記バルブ開口部(2)を開放する開位置から、前記バルブ開口部(2)を覆う一方で前記バルブシート(4)から離れている中間位置に変位可能であり、かつ、前記縦方向(6)に対して垂直な横方向(7)について当該中間位置から前記バルブシート(4)に密着して前記バルブ開口部(2)を閉塞する閉位置に変位可能である少なくとも1つのバルブプレート(5)と、
    前記バルブプレート(5)を支持するバルブロッド(12)であって、前記真空バルブの前記真空領域から導出され、前記バルブロッド(12)の縦軸(14)に平行な前記縦方向(6)について前記壁部(1)に対して変位可能であり、かつ、前記壁部(1)に対して前記横方向(7)に平行移動可能な少なくとも1つのバルブロッド(12)と、
    前記真空バルブの前記真空領域外に配置され、前記バルブプレート(5)を前記開位置及び前記中間位置の区間で動かすために前記バルブロッド(12)を前記縦方向(6)に変位させる縦駆動装置(15)(15’)と、
    前記真空バルブの前記真空領域外に配置され、前記バルブプレート(5)を前記中間位置と前記閉位置との区間で動かすために前記バルブロッド(12)を前記横方向(7)に対して平行に変位させる横駆動装置(16)(16’)とを備え、
    前記真空バルブの前記真空領域外に配置されているベアリングユニット(17)(17’)が前記壁部(1)に対して固定され、前記ベアリングユニット(17)(17’)によって前記バルブロッド(12)を前記縦方向(6)に案内するガイドユニット(20)(20’)が前記横方向(7)に案内されることを特徴とする真空バルブ。
  2. 請求項1記載の真空バルブにおいて、
    前記ベアリングユニット(17)(17’)が、前記ガイドユニット(20)(20’)の両側において、前記縦方向(6)に配置されている部分を有することを特徴とする真空バルブ。
  3. 請求項2記載の真空バルブにおいて、
    前記ガイドユニット(20)(20’)が、前記ベアリングユニット(17)(17’)の収容空間(19)(19’)に少なくとも部分的に配置され、かつ、前記収容空間(19)(19’)において前記横方向(7)に案内されて動かされることを特徴とする真空バルブ。
  4. 請求項1〜3のうちいずれか1つに記載の真空バルブにおいて、
    前記縦駆動装置(15)(15’)が、前記バルブロッド(12)に連結されるとともに筒状収容部(26)(26’)に配置されている少なくとも1つのピストン(25)(25’)を備えていることを特徴とする真空バルブ。
  5. 請求項4記載の真空バルブにおいて、
    前記筒状収容部(26)(26’)が前記ガイドユニット(20)(20’)に形成されていることを特徴とする真空バルブ。
  6. 請求項1〜5のうちいずれか1つに記載の真空バルブにおいて、
    前記バルブロッド(12)を前記横方向(7)に駆動するための前記横駆動装置(16)(16’)による力が前記ガイドユニット(20)(20’)を通じて前記バルブロッド(12)に作用し、前記ガイドユニット(20)(20’)が、前記バルブロッド(12)を前記ベアリングユニット(17)(17’)に対して前記横方向(7)に連動させながら変位することを特徴とする真空バルブ。
  7. 請求項6記載の真空バルブにおいて、
    前記横駆動装置(16’)が、前記縦方向(6)に変位可能であり、かつ、少なくとも1つの伝動要素(54)(55)を介して前記ガイドユニット(20’)に連結されている少なくとも1つの駆動部材(51)を備えていることを特徴とする真空バルブ。
  8. 請求項7記載の真空バルブにおいて、
    前記ガイドユニット(20)を前記横方向(7)に平行移動させるため、前記少なくとも1つの駆動部材(51)が、前記縦方向(6)について前記駆動部材(51)の反対側において、対応する前記伝動要素(54)(55)を介して前記ガイドユニット(20’)に連結されていることを特徴とする真空バルブ。
  9. 請求項8記載の真空バルブにおいて、
    前記伝動要素(54)(55)が、前記ガイドユニット(20’)に対して軸回りに旋回可能に連結されているロッドと、前記駆動部材(51)又は前記駆動部材(51)に固定されている部材に対して軸回りに旋回可能に連結されているロッドとから構成されていることを特徴とする真空バルブ。
  10. 請求項6記載の真空バルブにおいて、
    前記横駆動装置(16)が、前記ガイドユニット(20)に形成されている筒状収容部(30)に配置されている少なくとも1つのピストンを有することを特徴とする真空バルブ。
  11. 請求項10記載の真空バルブにおいて、
    圧力媒体によって前記ガイドユニット(20)を前記横方向(7)に対して押圧するための圧力空間(33)が、前記ガイドユニット(20)及び前記ベアリングユニット(17)の間に設けられていることを特徴とする真空バルブ。
  12. 請求項1〜11のうちいずれか1つに記載の真空バルブにおいて、
    前記ガイドユニット(20)(20’)を前記横方向(7)に対して付勢するためのばね装置(32)が、前記ガイドユニット(20)(20’)及び前記ベアリングユニット(17)(17’)の間に設けられていることを特徴とする真空バルブ。
  13. 請求項1〜12のうちいずれか1つに記載の真空バルブにおいて、
    前記バルブプレート(5)の前記閉位置において、前記バルブロッド(12)のうち前記バルブプレート(5)の反対側にあって前記ガイドユニット(20)(20’)から突出している部分が横ストッパ(38)に当接することを特徴とする真空バルブ。
  14. 請求項4〜13のうちいずれか1つに記載の真空バルブにおいて、
    前記バルブロッド(12)が前記ガイドユニット(20’)により、前記縦駆動装置(15’)の前記ピストン(25’)の両側に案内されて動くことを特徴とする真空バルブ。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015515592A (ja) * 2012-04-06 2015-05-28 プリシス カンパニー,リミテッド ゲートバルブ
JP2017512946A (ja) * 2014-03-18 2017-05-25 バット ホールディング アーゲー バルブロッド

Families Citing this family (358)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10378106B2 (en) 2008-11-14 2019-08-13 Asm Ip Holding B.V. Method of forming insulation film by modified PEALD
DE102008061315B4 (de) 2008-12-11 2012-11-15 Vat Holding Ag Aufhängung einer Ventilplatte an einer Ventilstange
US9394608B2 (en) 2009-04-06 2016-07-19 Asm America, Inc. Semiconductor processing reactor and components thereof
US8802201B2 (en) 2009-08-14 2014-08-12 Asm America, Inc. Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species
US9312155B2 (en) 2011-06-06 2016-04-12 Asm Japan K.K. High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules
US9793148B2 (en) 2011-06-22 2017-10-17 Asm Japan K.K. Method for positioning wafers in multiple wafer transport
US10364496B2 (en) 2011-06-27 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Dual section module having shared and unshared mass flow controllers
US10854498B2 (en) 2011-07-15 2020-12-01 Asm Ip Holding B.V. Wafer-supporting device and method for producing same
US20130023129A1 (en) 2011-07-20 2013-01-24 Asm America, Inc. Pressure transmitter for a semiconductor processing environment
US8833383B2 (en) 2011-07-20 2014-09-16 Ferrotec (Usa) Corporation Multi-vane throttle valve
US9017481B1 (en) 2011-10-28 2015-04-28 Asm America, Inc. Process feed management for semiconductor substrate processing
CN102425541B (zh) * 2011-12-20 2013-12-04 无锡威孚精密机械制造有限责任公司 恒功率阀
US8946830B2 (en) 2012-04-04 2015-02-03 Asm Ip Holdings B.V. Metal oxide protective layer for a semiconductor device
US20130276905A1 (en) * 2012-04-19 2013-10-24 Vat Holding Ag Valve housing for a vacuum valve
US9558931B2 (en) 2012-07-27 2017-01-31 Asm Ip Holding B.V. System and method for gas-phase sulfur passivation of a semiconductor surface
US9659799B2 (en) 2012-08-28 2017-05-23 Asm Ip Holding B.V. Systems and methods for dynamic semiconductor process scheduling
US9021985B2 (en) 2012-09-12 2015-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Process gas management for an inductively-coupled plasma deposition reactor
US9324811B2 (en) 2012-09-26 2016-04-26 Asm Ip Holding B.V. Structures and devices including a tensile-stressed silicon arsenic layer and methods of forming same
US10714315B2 (en) 2012-10-12 2020-07-14 Asm Ip Holdings B.V. Semiconductor reaction chamber showerhead
US8960641B2 (en) * 2012-11-14 2015-02-24 Vat Holding Ag Vacuum valve
EP2740979A1 (de) 2012-12-05 2014-06-11 VAT Holding AG Vakuumventil
US9640416B2 (en) 2012-12-26 2017-05-02 Asm Ip Holding B.V. Single-and dual-chamber module-attachable wafer-handling chamber
EP2749798B1 (de) 2012-12-27 2016-03-02 VAT Holding AG Vakuumschieberventil
US20160376700A1 (en) 2013-02-01 2016-12-29 Asm Ip Holding B.V. System for treatment of deposition reactor
US9589770B2 (en) 2013-03-08 2017-03-07 Asm Ip Holding B.V. Method and systems for in-situ formation of intermediate reactive species
US9484191B2 (en) 2013-03-08 2016-11-01 Asm Ip Holding B.V. Pulsed remote plasma method and system
EP2781813A1 (de) 2013-03-21 2014-09-24 VAT Holding AG Vakuumventil
US8993054B2 (en) 2013-07-12 2015-03-31 Asm Ip Holding B.V. Method and system to reduce outgassing in a reaction chamber
US9018111B2 (en) 2013-07-22 2015-04-28 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor reaction chamber with plasma capabilities
US9793115B2 (en) 2013-08-14 2017-10-17 Asm Ip Holding B.V. Structures and devices including germanium-tin films and methods of forming same
US9240412B2 (en) 2013-09-27 2016-01-19 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor structure and device and methods of forming same using selective epitaxial process
US9556516B2 (en) 2013-10-09 2017-01-31 ASM IP Holding B.V Method for forming Ti-containing film by PEALD using TDMAT or TDEAT
US10179947B2 (en) 2013-11-26 2019-01-15 Asm Ip Holding B.V. Method for forming conformal nitrided, oxidized, or carbonized dielectric film by atomic layer deposition
US10683571B2 (en) 2014-02-25 2020-06-16 Asm Ip Holding B.V. Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same
US10167557B2 (en) 2014-03-18 2019-01-01 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system, reactor including the system, and methods of using the same
US9447498B2 (en) 2014-03-18 2016-09-20 Asm Ip Holding B.V. Method for performing uniform processing in gas system-sharing multiple reaction chambers
US11015245B2 (en) 2014-03-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof
US9404587B2 (en) * 2014-04-24 2016-08-02 ASM IP Holding B.V Lockout tagout for semiconductor vacuum valve
TWI656293B (zh) * 2014-04-25 2019-04-11 瑞士商Vat控股股份有限公司
JP6584829B2 (ja) * 2014-07-04 2019-10-02 バット ホールディング アーゲー バルブ
US10858737B2 (en) 2014-07-28 2020-12-08 Asm Ip Holding B.V. Showerhead assembly and components thereof
US9543180B2 (en) 2014-08-01 2017-01-10 Asm Ip Holding B.V. Apparatus and method for transporting wafers between wafer carrier and process tool under vacuum
US9890456B2 (en) 2014-08-21 2018-02-13 Asm Ip Holding B.V. Method and system for in situ formation of gas-phase compounds
US10941490B2 (en) 2014-10-07 2021-03-09 Asm Ip Holding B.V. Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same
US9657845B2 (en) 2014-10-07 2017-05-23 Asm Ip Holding B.V. Variable conductance gas distribution apparatus and method
KR102300403B1 (ko) 2014-11-19 2021-09-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
CN107110402B (zh) 2014-12-19 2019-10-25 Vat控股公司 用于对真空室的室壁中的室开口进行封闭的门
KR102263121B1 (ko) 2014-12-22 2021-06-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 및 그 제조 방법
US9478415B2 (en) 2015-02-13 2016-10-25 Asm Ip Holding B.V. Method for forming film having low resistance and shallow junction depth
MY189235A (en) 2015-03-09 2022-01-31 Vat Holding Ag Vacuum valve
US10529542B2 (en) 2015-03-11 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Cross-flow reactor and method
US10276355B2 (en) 2015-03-12 2019-04-30 Asm Ip Holding B.V. Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same
CN107429857B (zh) 2015-03-27 2019-05-17 Vat控股公司 真空阀
KR101725251B1 (ko) * 2015-05-04 2017-04-11 프리시스 주식회사 진공밸브
WO2016206966A1 (de) 2015-06-22 2016-12-29 Vat Holding Ag Steuerungsvorrichtung für eine pneumatische kolben-zylinder-einheit zum verstellen eines verschlussgliedes eines vakuumventils
US10458018B2 (en) 2015-06-26 2019-10-29 Asm Ip Holding B.V. Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same
US10600673B2 (en) 2015-07-07 2020-03-24 Asm Ip Holding B.V. Magnetic susceptor to baseplate seal
US9899291B2 (en) 2015-07-13 2018-02-20 Asm Ip Holding B.V. Method for protecting layer by forming hydrocarbon-based extremely thin film
US10043661B2 (en) 2015-07-13 2018-08-07 Asm Ip Holding B.V. Method for protecting layer by forming hydrocarbon-based extremely thin film
US10083836B2 (en) 2015-07-24 2018-09-25 Asm Ip Holding B.V. Formation of boron-doped titanium metal films with high work function
US10087525B2 (en) 2015-08-04 2018-10-02 Asm Ip Holding B.V. Variable gap hard stop design
CN107923418B (zh) 2015-08-10 2021-02-26 Vat控股公司 气动的阀驱动装置
US9647114B2 (en) 2015-08-14 2017-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of forming highly p-type doped germanium tin films and structures and devices including the films
US9711345B2 (en) 2015-08-25 2017-07-18 Asm Ip Holding B.V. Method for forming aluminum nitride-based film by PEALD
KR101784839B1 (ko) * 2015-09-25 2017-11-06 프리시스 주식회사 양방향 게이트밸브
US9960072B2 (en) 2015-09-29 2018-05-01 Asm Ip Holding B.V. Variable adjustment for precise matching of multiple chamber cavity housings
US9909214B2 (en) 2015-10-15 2018-03-06 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing dielectric film in trenches by PEALD
US10211308B2 (en) 2015-10-21 2019-02-19 Asm Ip Holding B.V. NbMC layers
US10322384B2 (en) 2015-11-09 2019-06-18 Asm Ip Holding B.V. Counter flow mixer for process chamber
US9455138B1 (en) 2015-11-10 2016-09-27 Asm Ip Holding B.V. Method for forming dielectric film in trenches by PEALD using H-containing gas
US9905420B2 (en) 2015-12-01 2018-02-27 Asm Ip Holding B.V. Methods of forming silicon germanium tin films and structures and devices including the films
US9607837B1 (en) 2015-12-21 2017-03-28 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon oxide cap layer for solid state diffusion process
US9735024B2 (en) 2015-12-28 2017-08-15 Asm Ip Holding B.V. Method of atomic layer etching using functional group-containing fluorocarbon
US9627221B1 (en) 2015-12-28 2017-04-18 Asm Ip Holding B.V. Continuous process incorporating atomic layer etching
US11139308B2 (en) 2015-12-29 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices
TWI705212B (zh) 2016-01-19 2020-09-21 瑞士商Vat控股股份有限公司 用於對壁中開口進行真空密封的密封裝置
US10468251B2 (en) 2016-02-19 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Method for forming spacers using silicon nitride film for spacer-defined multiple patterning
US10529554B2 (en) 2016-02-19 2020-01-07 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches
US9754779B1 (en) 2016-02-19 2017-09-05 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches
US10501866B2 (en) 2016-03-09 2019-12-10 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution apparatus for improved film uniformity in an epitaxial system
US10343920B2 (en) 2016-03-18 2019-07-09 Asm Ip Holding B.V. Aligned carbon nanotubes
US9892913B2 (en) 2016-03-24 2018-02-13 Asm Ip Holding B.V. Radial and thickness control via biased multi-port injection settings
US10865475B2 (en) 2016-04-21 2020-12-15 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides and silicides
US10190213B2 (en) 2016-04-21 2019-01-29 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides
US10087522B2 (en) 2016-04-21 2018-10-02 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides
US10032628B2 (en) 2016-05-02 2018-07-24 Asm Ip Holding B.V. Source/drain performance through conformal solid state doping
US10367080B2 (en) 2016-05-02 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a germanium oxynitride film
KR102592471B1 (ko) 2016-05-17 2023-10-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 금속 배선 형성 방법 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법
US11453943B2 (en) 2016-05-25 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor
US10388509B2 (en) 2016-06-28 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Formation of epitaxial layers via dislocation filtering
US10612137B2 (en) 2016-07-08 2020-04-07 Asm Ip Holdings B.V. Organic reactants for atomic layer deposition
US9859151B1 (en) 2016-07-08 2018-01-02 Asm Ip Holding B.V. Selective film deposition method to form air gaps
US9793135B1 (en) 2016-07-14 2017-10-17 ASM IP Holding B.V Method of cyclic dry etching using etchant film
US10714385B2 (en) 2016-07-19 2020-07-14 Asm Ip Holding B.V. Selective deposition of tungsten
US10381226B2 (en) 2016-07-27 2019-08-13 Asm Ip Holding B.V. Method of processing substrate
US9812320B1 (en) 2016-07-28 2017-11-07 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US9887082B1 (en) 2016-07-28 2018-02-06 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US10177025B2 (en) 2016-07-28 2019-01-08 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US10395919B2 (en) 2016-07-28 2019-08-27 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
KR102532607B1 (ko) 2016-07-28 2023-05-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 가공 장치 및 그 동작 방법
TWI740981B (zh) 2016-08-22 2021-10-01 瑞士商Vat控股股份有限公司 真空閥
US10090316B2 (en) 2016-09-01 2018-10-02 Asm Ip Holding B.V. 3D stacked multilayer semiconductor memory using doped select transistor channel
US10410943B2 (en) 2016-10-13 2019-09-10 Asm Ip Holding B.V. Method for passivating a surface of a semiconductor and related systems
JP7069140B2 (ja) 2016-10-24 2022-05-17 バット ホールディング アーゲー 閉塞装置
US10643826B2 (en) 2016-10-26 2020-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Methods for thermally calibrating reaction chambers
US11532757B2 (en) 2016-10-27 2022-12-20 Asm Ip Holding B.V. Deposition of charge trapping layers
JP6774302B2 (ja) 2016-10-28 2020-10-21 株式会社キッツエスシーティー 真空用ゲートバルブ
US10229833B2 (en) 2016-11-01 2019-03-12 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
US10643904B2 (en) 2016-11-01 2020-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Methods for forming a semiconductor device and related semiconductor device structures
US10714350B2 (en) 2016-11-01 2020-07-14 ASM IP Holdings, B.V. Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
US10435790B2 (en) 2016-11-01 2019-10-08 Asm Ip Holding B.V. Method of subatmospheric plasma-enhanced ALD using capacitively coupled electrodes with narrow gap
US10134757B2 (en) 2016-11-07 2018-11-20 Asm Ip Holding B.V. Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method
KR102546317B1 (ko) 2016-11-15 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US10340135B2 (en) 2016-11-28 2019-07-02 Asm Ip Holding B.V. Method of topologically restricted plasma-enhanced cyclic deposition of silicon or metal nitride
KR20180068582A (ko) 2016-12-14 2018-06-22 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11447861B2 (en) 2016-12-15 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure
US11581186B2 (en) 2016-12-15 2023-02-14 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus
US9916980B1 (en) 2016-12-15 2018-03-13 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
KR20180070971A (ko) 2016-12-19 2018-06-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US10269558B2 (en) 2016-12-22 2019-04-23 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US10867788B2 (en) 2016-12-28 2020-12-15 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11390950B2 (en) 2017-01-10 2022-07-19 Asm Ip Holding B.V. Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process
CN106499873B (zh) * 2017-01-12 2019-03-12 京东方科技集团股份有限公司 一种真空阀门及真空设备
US10655221B2 (en) 2017-02-09 2020-05-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing oxide film by thermal ALD and PEALD
US10468261B2 (en) 2017-02-15 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10283353B2 (en) 2017-03-29 2019-05-07 Asm Ip Holding B.V. Method of reforming insulating film deposited on substrate with recess pattern
US10529563B2 (en) 2017-03-29 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10103040B1 (en) 2017-03-31 2018-10-16 Asm Ip Holding B.V. Apparatus and method for manufacturing a semiconductor device
USD830981S1 (en) 2017-04-07 2018-10-16 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate processing apparatus
KR102457289B1 (ko) 2017-04-25 2022-10-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10770286B2 (en) 2017-05-08 2020-09-08 Asm Ip Holdings B.V. Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US10892156B2 (en) 2017-05-08 2021-01-12 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US10446393B2 (en) 2017-05-08 2019-10-15 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming silicon-containing epitaxial layers and related semiconductor device structures
US10504742B2 (en) 2017-05-31 2019-12-10 Asm Ip Holding B.V. Method of atomic layer etching using hydrogen plasma
US10886123B2 (en) 2017-06-02 2021-01-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming low temperature semiconductor layers and related semiconductor device structures
US11306395B2 (en) 2017-06-28 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus
US10685834B2 (en) 2017-07-05 2020-06-16 Asm Ip Holdings B.V. Methods for forming a silicon germanium tin layer and related semiconductor device structures
KR20190009245A (ko) 2017-07-18 2019-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물
US10541333B2 (en) 2017-07-19 2020-01-21 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11018002B2 (en) 2017-07-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11374112B2 (en) 2017-07-19 2022-06-28 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10605530B2 (en) 2017-07-26 2020-03-31 Asm Ip Holding B.V. Assembly of a liner and a flange for a vertical furnace as well as the liner and the vertical furnace
US10590535B2 (en) 2017-07-26 2020-03-17 Asm Ip Holdings B.V. Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same
US10312055B2 (en) 2017-07-26 2019-06-04 Asm Ip Holding B.V. Method of depositing film by PEALD using negative bias
US10692741B2 (en) 2017-08-08 2020-06-23 Asm Ip Holdings B.V. Radiation shield
US10770336B2 (en) 2017-08-08 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Substrate lift mechanism and reactor including same
US11139191B2 (en) 2017-08-09 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US10249524B2 (en) 2017-08-09 2019-04-02 Asm Ip Holding B.V. Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly
US11769682B2 (en) 2017-08-09 2023-09-26 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US10236177B1 (en) 2017-08-22 2019-03-19 ASM IP Holding B.V.. Methods for depositing a doped germanium tin semiconductor and related semiconductor device structures
USD900036S1 (en) 2017-08-24 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Heater electrical connector and adapter
US11830730B2 (en) 2017-08-29 2023-11-28 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
US11056344B2 (en) 2017-08-30 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method
US11295980B2 (en) 2017-08-30 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
KR102491945B1 (ko) 2017-08-30 2023-01-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR102401446B1 (ko) 2017-08-31 2022-05-24 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US10607895B2 (en) 2017-09-18 2020-03-31 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming a semiconductor device structure comprising a gate fill metal
KR102630301B1 (ko) 2017-09-21 2024-01-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 침투성 재료의 순차 침투 합성 방법 처리 및 이를 이용하여 형성된 구조물 및 장치
US10844484B2 (en) 2017-09-22 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
US10658205B2 (en) 2017-09-28 2020-05-19 Asm Ip Holdings B.V. Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber
US10403504B2 (en) 2017-10-05 2019-09-03 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a metallic film on a substrate
US10319588B2 (en) 2017-10-10 2019-06-11 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition
US10923344B2 (en) 2017-10-30 2021-02-16 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures
US10910262B2 (en) 2017-11-16 2021-02-02 Asm Ip Holding B.V. Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure
KR102443047B1 (ko) 2017-11-16 2022-09-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 방법 및 그에 의해 제조된 장치
US11022879B2 (en) 2017-11-24 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer
KR102633318B1 (ko) 2017-11-27 2024-02-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 청정 소형 구역을 포함한 장치
WO2019103613A1 (en) 2017-11-27 2019-05-31 Asm Ip Holding B.V. A storage device for storing wafer cassettes for use with a batch furnace
US10290508B1 (en) 2017-12-05 2019-05-14 Asm Ip Holding B.V. Method for forming vertical spacers for spacer-defined patterning
US10872771B2 (en) 2018-01-16 2020-12-22 Asm Ip Holding B. V. Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures
US11482412B2 (en) 2018-01-19 2022-10-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a gap-fill layer by plasma-assisted deposition
TW202325889A (zh) 2018-01-19 2023-07-01 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 沈積方法
USD903477S1 (en) 2018-01-24 2020-12-01 Asm Ip Holdings B.V. Metal clamp
US11018047B2 (en) 2018-01-25 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Hybrid lift pin
USD880437S1 (en) 2018-02-01 2020-04-07 Asm Ip Holding B.V. Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus
US10535516B2 (en) 2018-02-01 2020-01-14 Asm Ip Holdings B.V. Method for depositing a semiconductor structure on a surface of a substrate and related semiconductor structures
US11081345B2 (en) 2018-02-06 2021-08-03 Asm Ip Holding B.V. Method of post-deposition treatment for silicon oxide film
US10896820B2 (en) 2018-02-14 2021-01-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
EP3737779A1 (en) 2018-02-14 2020-11-18 ASM IP Holding B.V. A method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
US10731249B2 (en) 2018-02-15 2020-08-04 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus
US10658181B2 (en) 2018-02-20 2020-05-19 Asm Ip Holding B.V. Method of spacer-defined direct patterning in semiconductor fabrication
KR102636427B1 (ko) 2018-02-20 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 장치
US10975470B2 (en) 2018-02-23 2021-04-13 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment
US11473195B2 (en) 2018-03-01 2022-10-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate
US11629406B2 (en) 2018-03-09 2023-04-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate
US11114283B2 (en) 2018-03-16 2021-09-07 Asm Ip Holding B.V. Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same
KR102646467B1 (ko) 2018-03-27 2024-03-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조
US10510536B2 (en) 2018-03-29 2019-12-17 Asm Ip Holding B.V. Method of depositing a co-doped polysilicon film on a surface of a substrate within a reaction chamber
US11088002B2 (en) 2018-03-29 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate rack and a substrate processing system and method
US11230766B2 (en) 2018-03-29 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102501472B1 (ko) 2018-03-30 2023-02-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법
TWI811348B (zh) 2018-05-08 2023-08-11 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構
TWI816783B (zh) 2018-05-11 2023-10-01 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 用於基板上形成摻雜金屬碳化物薄膜之方法及相關半導體元件結構
KR102596988B1 (ko) 2018-05-28 2023-10-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치
US11718913B2 (en) 2018-06-04 2023-08-08 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system and reactor system including same
US11270899B2 (en) 2018-06-04 2022-03-08 Asm Ip Holding B.V. Wafer handling chamber with moisture reduction
US11286562B2 (en) 2018-06-08 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase chemical reactor and method of using same
US10797133B2 (en) 2018-06-21 2020-10-06 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures
KR102568797B1 (ko) 2018-06-21 2023-08-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 시스템
US11492703B2 (en) 2018-06-27 2022-11-08 Asm Ip Holding B.V. Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material
KR20210027265A (ko) 2018-06-27 2021-03-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 금속 함유 재료를 형성하기 위한 주기적 증착 방법 및 금속 함유 재료를 포함하는 막 및 구조체
US10612136B2 (en) 2018-06-29 2020-04-07 ASM IP Holding, B.V. Temperature-controlled flange and reactor system including same
KR20200002519A (ko) 2018-06-29 2020-01-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10388513B1 (en) 2018-07-03 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10755922B2 (en) 2018-07-03 2020-08-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10767789B2 (en) 2018-07-16 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Diaphragm valves, valve components, and methods for forming valve components
US10483099B1 (en) 2018-07-26 2019-11-19 Asm Ip Holding B.V. Method for forming thermally stable organosilicon polymer film
US11053591B2 (en) 2018-08-06 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Multi-port gas injection system and reactor system including same
US10883175B2 (en) 2018-08-09 2021-01-05 Asm Ip Holding B.V. Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein
US10829852B2 (en) 2018-08-16 2020-11-10 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution device for a wafer processing apparatus
US11430674B2 (en) 2018-08-22 2022-08-30 Asm Ip Holding B.V. Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
US11024523B2 (en) 2018-09-11 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR20200030162A (ko) 2018-09-11 2020-03-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
US11049751B2 (en) 2018-09-14 2021-06-29 Asm Ip Holding B.V. Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith
CN110970344A (zh) 2018-10-01 2020-04-07 Asm Ip控股有限公司 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法
US11232963B2 (en) 2018-10-03 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102592699B1 (ko) 2018-10-08 2023-10-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치
US10847365B2 (en) 2018-10-11 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Method of forming conformal silicon carbide film by cyclic CVD
US10811256B2 (en) 2018-10-16 2020-10-20 Asm Ip Holding B.V. Method for etching a carbon-containing feature
KR102546322B1 (ko) 2018-10-19 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102605121B1 (ko) 2018-10-19 2023-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
USD948463S1 (en) 2018-10-24 2022-04-12 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus
US10381219B1 (en) 2018-10-25 2019-08-13 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a silicon nitride film
US11087997B2 (en) 2018-10-31 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
KR20200051105A (ko) 2018-11-02 2020-05-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US11572620B2 (en) 2018-11-06 2023-02-07 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate
US11031242B2 (en) 2018-11-07 2021-06-08 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a boron doped silicon germanium film
US10818758B2 (en) 2018-11-16 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures
US10847366B2 (en) 2018-11-16 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process
US10559458B1 (en) 2018-11-26 2020-02-11 Asm Ip Holding B.V. Method of forming oxynitride film
US11217444B2 (en) 2018-11-30 2022-01-04 Asm Ip Holding B.V. Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film
KR102636428B1 (ko) 2018-12-04 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치를 세정하는 방법
US11158513B2 (en) 2018-12-13 2021-10-26 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
TW202037745A (zh) 2018-12-14 2020-10-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成裝置結構之方法、其所形成之結構及施行其之系統
TW202405220A (zh) 2019-01-17 2024-02-01 荷蘭商Asm Ip 私人控股有限公司 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法
KR20200091543A (ko) 2019-01-22 2020-07-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN111524788B (zh) 2019-02-01 2023-11-24 Asm Ip私人控股有限公司 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法
KR20200102357A (ko) 2019-02-20 2020-08-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 3-d nand 응용의 플러그 충진체 증착용 장치 및 방법
CN111593319B (zh) 2019-02-20 2023-05-30 Asm Ip私人控股有限公司 用于填充在衬底表面内形成的凹部的循环沉积方法和设备
KR102626263B1 (ko) 2019-02-20 2024-01-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치
TW202044325A (zh) 2019-02-20 2020-12-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 填充一基板之一表面內所形成的一凹槽的方法、根據其所形成之半導體結構、及半導體處理設備
JP2020133004A (ja) 2019-02-22 2020-08-31 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 基材を処理するための基材処理装置および方法
KR20200108243A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
KR20200108242A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체
KR20200108248A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOCN 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
KR20200116033A (ko) 2019-03-28 2020-10-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도어 개방기 및 이를 구비한 기판 처리 장치
KR20200116855A (ko) 2019-04-01 2020-10-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자를 제조하는 방법
US11447864B2 (en) 2019-04-19 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
KR20200125453A (ko) 2019-04-24 2020-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
KR20200130121A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기
KR20200130118A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법
KR20200130652A (ko) 2019-05-10 2020-11-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
JP2020188255A (ja) 2019-05-16 2020-11-19 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
JP2020188254A (ja) 2019-05-16 2020-11-19 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
USD975665S1 (en) 2019-05-17 2023-01-17 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD947913S1 (en) 2019-05-17 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD935572S1 (en) 2019-05-24 2021-11-09 Asm Ip Holding B.V. Gas channel plate
USD922229S1 (en) 2019-06-05 2021-06-15 Asm Ip Holding B.V. Device for controlling a temperature of a gas supply unit
KR20200141002A (ko) 2019-06-06 2020-12-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 배기 가스 분석을 포함한 기상 반응기 시스템을 사용하는 방법
KR20200143254A (ko) 2019-06-11 2020-12-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
USD944946S1 (en) 2019-06-14 2022-03-01 Asm Ip Holding B.V. Shower plate
USD931978S1 (en) 2019-06-27 2021-09-28 Asm Ip Holding B.V. Showerhead vacuum transport
KR20210005515A (ko) 2019-07-03 2021-01-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
JP7499079B2 (ja) 2019-07-09 2024-06-13 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法
CN112216646A (zh) 2019-07-10 2021-01-12 Asm Ip私人控股有限公司 基板支撑组件及包括其的基板处理装置
KR20210010307A (ko) 2019-07-16 2021-01-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210010820A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법
KR20210010816A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법
US11643724B2 (en) 2019-07-18 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Method of forming structures using a neutral beam
CN112242296A (zh) 2019-07-19 2021-01-19 Asm Ip私人控股有限公司 形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法
TW202113936A (zh) 2019-07-29 2021-04-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於利用n型摻雜物及/或替代摻雜物選擇性沉積以達成高摻雜物併入之方法
CN112309899A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112309900A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
US11227782B2 (en) 2019-07-31 2022-01-18 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587814B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587815B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
CN112323048B (zh) 2019-08-05 2024-02-09 Asm Ip私人控股有限公司 用于化学源容器的液位传感器
USD965524S1 (en) 2019-08-19 2022-10-04 Asm Ip Holding B.V. Susceptor support
USD965044S1 (en) 2019-08-19 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
JP2021031769A (ja) 2019-08-21 2021-03-01 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
USD930782S1 (en) 2019-08-22 2021-09-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor
USD940837S1 (en) 2019-08-22 2022-01-11 Asm Ip Holding B.V. Electrode
KR20210024423A (ko) 2019-08-22 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법
USD979506S1 (en) 2019-08-22 2023-02-28 Asm Ip Holding B.V. Insulator
USD949319S1 (en) 2019-08-22 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Exhaust duct
KR20210024420A (ko) 2019-08-23 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법
US11286558B2 (en) 2019-08-23 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
KR20210029090A (ko) 2019-09-04 2021-03-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
KR20210029663A (ko) 2019-09-05 2021-03-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11562901B2 (en) 2019-09-25 2023-01-24 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing method
CN112593212B (zh) 2019-10-02 2023-12-22 Asm Ip私人控股有限公司 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
KR20210042810A (ko) 2019-10-08 2021-04-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 활성 종을 이용하기 위한 가스 분배 어셈블리를 포함한 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
CN112635282A (zh) 2019-10-08 2021-04-09 Asm Ip私人控股有限公司 具有连接板的基板处理装置、基板处理方法
KR20210043460A (ko) 2019-10-10 2021-04-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체
US12009241B2 (en) 2019-10-14 2024-06-11 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette
TWI834919B (zh) 2019-10-16 2024-03-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法
US11637014B2 (en) 2019-10-17 2023-04-25 Asm Ip Holding B.V. Methods for selective deposition of doped semiconductor material
KR20210047808A (ko) 2019-10-21 2021-04-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
KR20210050453A (ko) 2019-10-25 2021-05-07 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 표면 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
US11646205B2 (en) 2019-10-29 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same
DE102019129344A1 (de) 2019-10-30 2021-05-06 Vat Holding Ag Vakuumventil
KR20210054983A (ko) 2019-11-05 2021-05-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템
US11501968B2 (en) 2019-11-15 2022-11-15 Asm Ip Holding B.V. Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps
KR20210062561A (ko) 2019-11-20 2021-05-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템
KR20210065848A (ko) 2019-11-26 2021-06-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 제1 유전체 표면과 제2 금속성 표면을 포함한 기판 상에 타겟 막을 선택적으로 형성하기 위한 방법
CN112951697A (zh) 2019-11-26 2021-06-11 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885693A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885692A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
JP2021090042A (ja) 2019-12-02 2021-06-10 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 基板処理装置、基板処理方法
KR20210070898A (ko) 2019-12-04 2021-06-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
TW202125596A (zh) 2019-12-17 2021-07-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成氮化釩層之方法以及包括該氮化釩層之結構
US11527403B2 (en) 2019-12-19 2022-12-13 Asm Ip Holding B.V. Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures
TW202140135A (zh) 2020-01-06 2021-11-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 氣體供應總成以及閥板總成
US11993847B2 (en) 2020-01-08 2024-05-28 Asm Ip Holding B.V. Injector
US11551912B2 (en) 2020-01-20 2023-01-10 Asm Ip Holding B.V. Method of forming thin film and method of modifying surface of thin film
TW202130846A (zh) 2020-02-03 2021-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成包括釩或銦層的結構之方法
TW202146882A (zh) 2020-02-04 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 驗證一物品之方法、用於驗證一物品之設備、及用於驗證一反應室之系統
US11776846B2 (en) 2020-02-07 2023-10-03 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices
TW202146715A (zh) 2020-02-17 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於生長磷摻雜矽層之方法及其系統
TW202203344A (zh) 2020-02-28 2022-01-16 荷蘭商Asm Ip控股公司 專用於零件清潔的系統
KR20210116240A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치
US11876356B2 (en) 2020-03-11 2024-01-16 Asm Ip Holding B.V. Lockout tagout assembly and system and method of using same
CN113394086A (zh) 2020-03-12 2021-09-14 Asm Ip私人控股有限公司 用于制造具有目标拓扑轮廓的层结构的方法
KR20210124042A (ko) 2020-04-02 2021-10-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법
TW202146689A (zh) 2020-04-03 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip控股公司 阻障層形成方法及半導體裝置的製造方法
TW202145344A (zh) 2020-04-08 2021-12-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法
US11821078B2 (en) 2020-04-15 2023-11-21 Asm Ip Holding B.V. Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film
US11996289B2 (en) 2020-04-16 2024-05-28 Asm Ip Holding B.V. Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods
US11898243B2 (en) 2020-04-24 2024-02-13 Asm Ip Holding B.V. Method of forming vanadium nitride-containing layer
KR20210132600A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템
KR20210132605A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리
KR20210134226A (ko) 2020-04-29 2021-11-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고체 소스 전구체 용기
KR20210134869A (ko) 2020-05-01 2021-11-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환
KR20210141379A (ko) 2020-05-13 2021-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구
TW202147383A (zh) 2020-05-19 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基材處理設備
KR20210145078A (ko) 2020-05-21 2021-12-01 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법
TW202200837A (zh) 2020-05-22 2022-01-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於在基材上形成薄膜之反應系統
TW202201602A (zh) 2020-05-29 2022-01-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
TW202218133A (zh) 2020-06-24 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成含矽層之方法
TW202217953A (zh) 2020-06-30 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
TW202202649A (zh) 2020-07-08 2022-01-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
TW202219628A (zh) 2020-07-17 2022-05-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於光微影之結構與方法
TW202204662A (zh) 2020-07-20 2022-02-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於沉積鉬層之方法及系統
TW202212623A (zh) 2020-08-26 2022-04-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成金屬氧化矽層及金屬氮氧化矽層的方法、半導體結構、及系統
USD990534S1 (en) 2020-09-11 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
USD1012873S1 (en) 2020-09-24 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Electrode for semiconductor processing apparatus
US12009224B2 (en) 2020-09-29 2024-06-11 Asm Ip Holding B.V. Apparatus and method for etching metal nitrides
TW202229613A (zh) 2020-10-14 2022-08-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 於階梯式結構上沉積材料的方法
KR20220053482A (ko) 2020-10-22 2022-04-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐 금속을 증착하는 방법, 구조체, 소자 및 증착 어셈블리
TW202223136A (zh) 2020-10-28 2022-06-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統
KR20220076343A (ko) 2020-11-30 2022-06-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치의 반응 챔버 내에 배열되도록 구성된 인젝터
CN114639631A (zh) 2020-12-16 2022-06-17 Asm Ip私人控股有限公司 跳动和摆动测量固定装置
TW202231903A (zh) 2020-12-22 2022-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成
USD1023959S1 (en) 2021-05-11 2024-04-23 Asm Ip Holding B.V. Electrode for substrate processing apparatus
USD980814S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor for substrate processing apparatus
USD980813S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate for substrate processing apparatus
USD981973S1 (en) 2021-05-11 2023-03-28 Asm Ip Holding B.V. Reactor wall for substrate processing apparatus
USD990441S1 (en) 2021-09-07 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0353678U (ja) * 1989-09-30 1991-05-23
JPH03234979A (ja) * 1990-02-09 1991-10-18 Canon Inc 仕切り弁
JPH07158767A (ja) * 1993-12-09 1995-06-20 Kokusai Electric Co Ltd ゲートバルブ
JPH1172167A (ja) * 1997-08-29 1999-03-16 Hitachi Ltd 無摺動真空仕切弁
JPH11351419A (ja) * 1998-06-08 1999-12-24 Irie Koken Kk 無摺動ゲート弁
JP2003097736A (ja) * 2001-09-26 2003-04-03 Fec:Kk ゲートバルブの閉鎖方法および装置

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6220973A (ja) 1985-07-19 1987-01-29 Hitachi Ltd 真空バルブ
US4721282A (en) * 1986-12-16 1988-01-26 Lam Research Corporation Vacuum chamber gate valve
JPH01172167A (ja) * 1987-12-25 1989-07-07 Matsushita Graphic Commun Syst Inc 記録紙の残量検出装置
JPH0353678A (ja) 1989-07-21 1991-03-07 Mitsubishi Electric Corp 撮像装置
US5120019A (en) * 1989-08-03 1992-06-09 Brooks Automation, Inc. Valve
JP2613171B2 (ja) * 1993-07-22 1997-05-21 株式会社岸川特殊バルブ ゲートバルブ
DE4418019A1 (de) * 1994-05-24 1995-11-30 Vse Vakuumtechn Gmbh Ventilmechanik für ein Vakuumventil
US5934646A (en) * 1997-04-04 1999-08-10 Nok Corporation Gate valve and cylinder apparatus
DE19746241C2 (de) * 1997-10-20 2000-05-31 Vat Holding Ag Haag Einrichtung zum Verschließen einer Öffnung
US6056267A (en) * 1998-05-19 2000-05-02 Applied Materials, Inc. Isolation valve with extended seal life
JP2000028013A (ja) * 1998-07-13 2000-01-25 Ckd Corp ゲート式真空遮断弁
US6095741A (en) * 1999-03-29 2000-08-01 Lam Research Corporation Dual sided slot valve and method for implementing the same
WO2000075542A1 (fr) * 1999-06-02 2000-12-14 Tokyo Electron Limited Soupape obturatrice pour systeme de traitement de semi-conducteurs
US6237892B1 (en) 2000-02-18 2001-05-29 V Tex Corporation Gate valve
US6913243B1 (en) * 2000-03-30 2005-07-05 Lam Research Corporation Unitary slot valve actuator with dual valves
JP3674768B2 (ja) 2000-09-07 2005-07-20 Smc株式会社 ゲートバルブ
US6421518B1 (en) * 2000-11-28 2002-07-16 Xerox Corporation Toner loading system
US7021882B2 (en) * 2000-11-30 2006-04-04 Hirata Corporation Drive-section-isolated FOUP opener
US6416037B1 (en) 2001-01-11 2002-07-09 Vat Holding Ag Vacuum pipe
US6431518B1 (en) 2001-01-11 2002-08-13 Vat Holding Ag Vacuum valve
US6899316B2 (en) 2003-04-16 2005-05-31 Vat Holding Ag Closure device for vacuum closure of at least one opening in a wall
US7100892B2 (en) * 2003-08-26 2006-09-05 Kitz Sct Corporation Non-rubbing gate valve for semiconductor fabrication apparatus
JP3912604B2 (ja) 2003-11-04 2007-05-09 入江工研株式会社 ゲート弁
CN2675978Y (zh) * 2003-12-11 2005-02-02 广州市东山南方阀门有限公司 平行式双闸板闸阀撑杆式关闭装置
JP2006038121A (ja) 2004-07-28 2006-02-09 Ono Beroo Kogyo Kk ゲート弁及び真空ゲート弁
US7011294B1 (en) * 2004-09-08 2006-03-14 Vat Holding Ag Vacuum valve
KR20070113122A (ko) 2006-05-24 2007-11-28 배트 홀딩 아게 벽 내의 개구부의 진공 밀봉 폐쇄를 위한 폐쇄장치
DE102007030006B4 (de) 2006-07-19 2009-12-17 Vat Holding Ag Vakuumventil

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0353678U (ja) * 1989-09-30 1991-05-23
JPH03234979A (ja) * 1990-02-09 1991-10-18 Canon Inc 仕切り弁
JPH07158767A (ja) * 1993-12-09 1995-06-20 Kokusai Electric Co Ltd ゲートバルブ
JPH1172167A (ja) * 1997-08-29 1999-03-16 Hitachi Ltd 無摺動真空仕切弁
JPH11351419A (ja) * 1998-06-08 1999-12-24 Irie Koken Kk 無摺動ゲート弁
JP2003097736A (ja) * 2001-09-26 2003-04-03 Fec:Kk ゲートバルブの閉鎖方法および装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015515592A (ja) * 2012-04-06 2015-05-28 プリシス カンパニー,リミテッド ゲートバルブ
JP2017512946A (ja) * 2014-03-18 2017-05-25 バット ホールディング アーゲー バルブロッド

Also Published As

Publication number Publication date
KR101726452B1 (ko) 2017-04-12
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