JPS6220973A - 真空バルブ - Google Patents
真空バルブInfo
- Publication number
- JPS6220973A JPS6220973A JP60158240A JP15824085A JPS6220973A JP S6220973 A JPS6220973 A JP S6220973A JP 60158240 A JP60158240 A JP 60158240A JP 15824085 A JP15824085 A JP 15824085A JP S6220973 A JPS6220973 A JP S6220973A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- ring
- metal
- spatter shield
- valve plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の利用分野〕
本発明は、ビーム通路の途中に取付けられる真空バルブ
に係り、特に、１０ ’ Ｔｏｒｒ。
に係り、特に、１０ ’ Ｔｏｒｒ。
Ｑ／Ｓ以下のリーク量を要求される個所に好敵な真空バ
ルブのシール用Ｏリングの保護構造に関する。
ルブのシール用Ｏリングの保護構造に関する。
イオンあるいは中性粒子ビームがその通路やビームリミ
タに衝突し、該金属が周囲にスパッタ金属がＯリングに
付着し、亀裂を発生させ、Ｏリングのシール性能を低下
させることは知られておらず、従ってスパッタシールド
を備えた超高真空弁はなかった。（公開枝根８４−００
７９５６）〔発明の目的〕 本発明の目的は、シール用Ｏリングがスパッタされない
ように、ビーム発射中、つまり、弁板引抜き時は、ビー
ム通路にスパッタシールドが配置される真空バルブを堤
供することにある。
タに衝突し、該金属が周囲にスパッタ金属がＯリングに
付着し、亀裂を発生させ、Ｏリングのシール性能を低下
させることは知られておらず、従ってスパッタシールド
を備えた超高真空弁はなかった。（公開枝根８４−００
７９５６）〔発明の目的〕 本発明の目的は、シール用Ｏリングがスパッタされない
ように、ビーム発射中、つまり、弁板引抜き時は、ビー
ム通路にスパッタシールドが配置される真空バルブを堤
供することにある。
本発明はバルブ閉時つまり、ビームを発射しない時は、
弁板の移動を紡げない位置にあり、バルブ開時、つまり
、ビーム発射時にはビーム通路に来るような内筒を設け
たものである。
弁板の移動を紡げない位置にあり、バルブ開時、つまり
、ビーム発射時にはビーム通路に来るような内筒を設け
たものである。
第１図および第２図により本発明を説明する６第１図は
バルブ閉の状態を示し、５ＵＳ３０４あるいは、Ｍｏ板
等高融点金属で製作されたスパッタシールド１はバルブ
本体７の照射側のスペースに引き込まれており、弁板３
は弁押し４によリロツド６の上方のエヤシリンダ等（図
示せず）からの推力でリンク５を介し、バルブ本体７に
押付けられ弁板３に装置された０リング２を押し、ビ−
ム源側と照射側を真空的に切離している。
バルブ閉の状態を示し、５ＵＳ３０４あるいは、Ｍｏ板
等高融点金属で製作されたスパッタシールド１はバルブ
本体７の照射側のスペースに引き込まれており、弁板３
は弁押し４によリロツド６の上方のエヤシリンダ等（図
示せず）からの推力でリンク５を介し、バルブ本体７に
押付けられ弁板３に装置された０リング２を押し、ビ−
ム源側と照射側を真空的に切離している。
ビームＢを発射する際は、弁板３が上方に引き上げられ
る。このときの状態を第２図に示す。弁板３が上方に引
き上げられると、スパッタシールド１はバルブ本体の照
射側スペースから、リンク又はラック＆ピニオン方式（
図示せず）により、ビーム源偏に移動し、弁板３の引込
部を閉鎖する。
る。このときの状態を第２図に示す。弁板３が上方に引
き上げられると、スパッタシールド１はバルブ本体の照
射側スペースから、リンク又はラック＆ピニオン方式（
図示せず）により、ビーム源偏に移動し、弁板３の引込
部を閉鎖する。
図中８はベローズ。
本実施例によれば、ビーム発射中に発生する蒸発金属は
スパッタシールド１にさえぎられ、Ｏリング２に到達し
ないという効果がある。
スパッタシールド１にさえぎられ、Ｏリング２に到達し
ないという効果がある。
本発明によれば、ビーム発射中に発生する蒸発金属はス
パッタシールドにさえぎられ、Ｏリングには到達しない
のでＯリングがスパッタされることはなく、縦って亀裂
の生じることが無く、真空バルブとしてのシール性能が
維持できる。
パッタシールドにさえぎられ、Ｏリングには到達しない
のでＯリングがスパッタされることはなく、縦って亀裂
の生じることが無く、真空バルブとしてのシール性能が
維持できる。
第１図は本発明の一実施例のスパッタシールドを設は閉
時の真空バルブの断面図、第２図は本発明のスパッタシ
ールドを設は開時の真空バルブの断面図である。
時の真空バルブの断面図、第２図は本発明のスパッタシ
ールドを設は開時の真空バルブの断面図である。
Claims (1)
- １、シールリングが金属によりスパッタされないように
、ビーム発射中は真空バルブのビーム通路に移動可能な
スパッタシールドを設けたことを特徴とするスパッタシ
ールド付真空バルブ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60158240A JPS6220973A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 真空バルブ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60158240A JPS6220973A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 真空バルブ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6220973A true JPS6220973A (ja) | 1987-01-29 |
| JPH0361862B2 JPH0361862B2 (ja) | 1991-09-24 |
Family
ID=15667326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60158240A Granted JPS6220973A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 真空バルブ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6220973A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008293773A (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置 |
| JP2009129625A (ja) * | 2007-11-21 | 2009-06-11 | Tdk Corp | ミリング装置 |
| JP2010203585A (ja) * | 2009-03-05 | 2010-09-16 | Smc Corp | 真空バルブ |
| US8672293B2 (en) | 2008-09-29 | 2014-03-18 | Vat Holding Ag | Vacuum valve |
| CN114657538A (zh) * | 2022-03-25 | 2022-06-24 | 厦门韫茂科技有限公司 | 一种连续式ald镀膜设备的腔体结构 |
-
1985
- 1985-07-19 JP JP60158240A patent/JPS6220973A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008293773A (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置 |
| JP2009129625A (ja) * | 2007-11-21 | 2009-06-11 | Tdk Corp | ミリング装置 |
| US8672293B2 (en) | 2008-09-29 | 2014-03-18 | Vat Holding Ag | Vacuum valve |
| JP2010203585A (ja) * | 2009-03-05 | 2010-09-16 | Smc Corp | 真空バルブ |
| CN114657538A (zh) * | 2022-03-25 | 2022-06-24 | 厦门韫茂科技有限公司 | 一种连续式ald镀膜设备的腔体结构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0361862B2 (ja) | 1991-09-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |