JPS6231929A - 電子顕微鏡の真空排気装置 - Google Patents
電子顕微鏡の真空排気装置Info
- Publication number
- JPS6231929A JPS6231929A JP17029085A JP17029085A JPS6231929A JP S6231929 A JPS6231929 A JP S6231929A JP 17029085 A JP17029085 A JP 17029085A JP 17029085 A JP17029085 A JP 17029085A JP S6231929 A JPS6231929 A JP S6231929A
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- JP
- Japan
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- electron gun
- chamber
- vacuum
- valve
- high vacuum
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は電子顕微鏡等に於ける真空排気系に係り、特に
電子銃室及び電子線加速管内の真空を常にポンプで排気
し良好な真空に保ち従って高安定な高電圧印加及び電子
ビームを得るに好適な真空排気装置に関する。
電子銃室及び電子線加速管内の真空を常にポンプで排気
し良好な真空に保ち従って高安定な高電圧印加及び電子
ビームを得るに好適な真空排気装置に関する。
従来の装置は、実公昭５０−１８４４２号公報又は、第
２図に示すように電子銃室の粗引排気及び高真空排気系
に於いて、何らかの理由で鏡体の真空を破り電子銃室と
鏡体を機械的に分離したい場合、電子銃室及び鏡体両方
の真空を必ず破らなければならない排気機構となってい
る為、真空度が１０−８〜１０−９Ｔｏｒｒに保られて
いる電子銃の真空を破る為非効率的であり、高電圧印加
条件を著しく損い、又、フィラメントの寿命をも短かく
する等の大きい欠点がある。
２図に示すように電子銃室の粗引排気及び高真空排気系
に於いて、何らかの理由で鏡体の真空を破り電子銃室と
鏡体を機械的に分離したい場合、電子銃室及び鏡体両方
の真空を必ず破らなければならない排気機構となってい
る為、真空度が１０−８〜１０−９Ｔｏｒｒに保られて
いる電子銃の真空を破る為非効率的であり、高電圧印加
条件を著しく損い、又、フィラメントの寿命をも短かく
する等の大きい欠点がある。
本発明の目的は前述の欠点を排除する如く真空排管及び
バルブを配置し、鏡体の真空を破り、電子銃室を機械的
に分離しリフターにより持ち上げる場合に於いても電子
銃室の真空は常に真空ポンプにより排気状態とし、１０
−ａ〜１０−ＩＩＴｏｒｒのオーダーの高真空に保ち得
る電子機銃等の排気装置を提供するにある。
バルブを配置し、鏡体の真空を破り、電子銃室を機械的
に分離しリフターにより持ち上げる場合に於いても電子
銃室の真空は常に真空ポンプにより排気状態とし、１０
−ａ〜１０−ＩＩＴｏｒｒのオーダーの高真空に保ち得
る電子機銃等の排気装置を提供するにある。
近年電子顕微鏡等に於いても超高真空が要求される中で
従来の真空排気機構では鏡体側に問題があり、この鏡体
の真空を破りメンタナンスを行う場合その作業時間中は
電子銃室をも大気に曝されていることなる。これ等の時
間は往々にして４〜５時間以上必要とする場合が多く、
以上のように長時間電子銃室及び加速管を大気に曝すと
電子銃室及び加速管内にガス吸着し元の真空度に戻るに
は１日２４時間以内排気が必要であり、非能率的である
。一方真空に対する影響のみならず電子銃及び加速管に
対しても大気に曝す時間とその回数が多ければ多い程高
電圧の印加条件がその倍変化悪化させ、装置の安定な使
用に相反する条件を与え高置放電の原因にもなる。
従来の真空排気機構では鏡体側に問題があり、この鏡体
の真空を破りメンタナンスを行う場合その作業時間中は
電子銃室をも大気に曝されていることなる。これ等の時
間は往々にして４〜５時間以上必要とする場合が多く、
以上のように長時間電子銃室及び加速管を大気に曝すと
電子銃室及び加速管内にガス吸着し元の真空度に戻るに
は１日２４時間以内排気が必要であり、非能率的である
。一方真空に対する影響のみならず電子銃及び加速管に
対しても大気に曝す時間とその回数が多ければ多い程高
電圧の印加条件がその倍変化悪化させ、装置の安定な使
用に相反する条件を与え高置放電の原因にもなる。
以下本発明の一実施例を第１及び２図により説明する。
１は電子線を発生し、高電圧が印加され電子線を加速す
る部分である。従って非常に高い安定度が要求され加速
電圧に対しＩ Ｘ １０−８／ｍｉｎ以下の安定度であ
る。２は集束レンズ、３は試料室、４，５は結像レンズ
系、６はｍｅ室、７はカメラ室であり以上で、電子顕微
鏡本体の構成となる。
る部分である。従って非常に高い安定度が要求され加速
電圧に対しＩ Ｘ １０−８／ｍｉｎ以下の安定度であ
る。２は集束レンズ、３は試料室、４，５は結像レンズ
系、６はｍｅ室、７はカメラ室であり以上で、電子顕微
鏡本体の構成となる。
８ａ、ｂ、ｃ、ｄは電子銃、鏡体、＊察室、カメラ室、
各々の部分を真空粗引する場合に使用される各々独立し
たバルブである。９ａ、ｂ、ｃ。
各々の部分を真空粗引する場合に使用される各々独立し
たバルブである。９ａ、ｂ、ｃ。
ｄは前記同一部分を各々エアーリークする為のバルブで
ある。１０ａ、ｂ、ｃ、は低真空ポンプ１７ａ、ｂ、ｃ
が始動と同時に閉じ、停止時には該ポンプ内にエアーリ
ークする為のバルブである。
ある。１０ａ、ｂ、ｃ、は低真空ポンプ１７ａ、ｂ、ｃ
が始動と同時に閉じ、停止時には該ポンプ内にエアーリ
ークする為のバルブである。
１１ａ、ｂはストップバルブで１７ａ、ｂ、ｏの低真空
ポンプが始動し、該ポンプｌｌａ、ｂ、ｃのストップバ
ルブ間が真空〜Ｉ Ｘ １０−１Ｔｏｒｒ位になった時
点で開きそれから先の真空排気シーケンスが始まる。１
２ａ、ｂ、Ｑ、ｄは鏡体、カメラ室、観察室、電子銃室
、各々の主バルブで前記各々の部分をエアーリークする
場合は閉じ、高真空に排気する場合は開き各々独立した
動作を行う。
ポンプが始動し、該ポンプｌｌａ、ｂ、ｃのストップバ
ルブ間が真空〜Ｉ Ｘ １０−１Ｔｏｒｒ位になった時
点で開きそれから先の真空排気シーケンスが始まる。１
２ａ、ｂ、Ｑ、ｄは鏡体、カメラ室、観察室、電子銃室
、各々の主バルブで前記各々の部分をエアーリークする
場合は閉じ、高真空に排気する場合は開き各々独立した
動作を行う。
１３ａ、ｂは電子銃の高真空粗引時に使用し、又１３ｂ
は本発明の電子銃室を鏡体と切り離した時閉じ電子銃を
高真空排気状態のまま保つことが ｌできるバルブ
である。本発明の実装効果を第２図に示す。従って電子
銃室の真空排気について順次説明すると、電子銃室が大
気圧の状態から排気する場合は、通常電子銃以外は高真
排気状態にある。
は本発明の電子銃室を鏡体と切り離した時閉じ電子銃を
高真空排気状態のまま保つことが ｌできるバルブ
である。本発明の実装効果を第２図に示す。従って電子
銃室の真空排気について順次説明すると、電子銃室が大
気圧の状態から排気する場合は、通常電子銃以外は高真
排気状態にある。
又８ａの低真空粗引バルブ、１２ｄの主バルブ１３ａの
電子銃高真空粗引バルブ及び１５ａの電子銃と鏡体のセ
パレートバルブが閉じていて、９ａのリークバルブと１
３ｂのバルブは開いた状態になっている。排気が始まる
と同時に９８のリークバルブが閉じ８ａの粗引バルブが
開き、１の電子銃室を１８の主排管から１．３ ｂバル
ブ、１９徘管、８ａバルブ、２０の排管を通じて１７ｃ
の低真空ポンプにより〜Ｉ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒまで
排気し８ａを閉じ１３ａの電子銃高真空排気バルブを開
きｌｅａの超高真空ポンプにより１０−Ｂ〜１Ｏ−７Ｔ
ｏｒｒ位まで排気する。この時１２ａバルブを開いた状
態で鏡体と同時に排気しても又閉じて１６ａポンプによ
り電子銃のみ排気してもよい。
電子銃高真空粗引バルブ及び１５ａの電子銃と鏡体のセ
パレートバルブが閉じていて、９ａのリークバルブと１
３ｂのバルブは開いた状態になっている。排気が始まる
と同時に９８のリークバルブが閉じ８ａの粗引バルブが
開き、１の電子銃室を１８の主排管から１．３ ｂバル
ブ、１９徘管、８ａバルブ、２０の排管を通じて１７ｃ
の低真空ポンプにより〜Ｉ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒまで
排気し８ａを閉じ１３ａの電子銃高真空排気バルブを開
きｌｅａの超高真空ポンプにより１０−Ｂ〜１Ｏ−７Ｔ
ｏｒｒ位まで排気する。この時１２ａバルブを開いた状
態で鏡体と同時に排気しても又閉じて１６ａポンプによ
り電子銃のみ排気してもよい。
次に１３ａ、ｂを閉じ１２ｄバルブを開いて１６ｃの電
子銃専用超高真空ポンプ（イオンポンプ）にて排気して
始めて１０−”Ｔｏｒｒ以下の高真空が得られる。
子銃専用超高真空ポンプ（イオンポンプ）にて排気して
始めて１０−”Ｔｏｒｒ以下の高真空が得られる。
次に鏡体の真空を大気圧にする場合は通常ｆＲ祭室及び
カメラ室を同時に大気圧にする、この時１２ａ、ｂ、ａ
が閉じ９ｂ、ｃ、ｄのリークバルブが開いて大気圧にす
る。この状態で鏡体３の試料室近傍及び結像レンズ系等
の保守調整を行うとき、電子顕微鏡に組込まれたリフタ
ー２１により往々にして試料室から上を電子銃と共に切
り離し持ち上げられる。（第２図参照）この時１５ａバ
ルブ及び１３ｂバルブを閉じた状態で１４ａ、ｂの排管
の機械的分離部で切り離され、ｌ、２，３゜１２ｄ、１
３ｂ、１５ａが一緒に４のレンズ上部より持ち上げられ
る。従ってこの時電子銃室は１６ｃの超高真空ポンプに
より高真空排気状態に保ち高電圧印加部分を大気にさら
すことなく、結像系の保守調整を行うことができる為、
電子顕微鏡の中で最も大気のガス吸着により安定性を損
う部分を保護し常に安定な電子線が得られる極めて有効
な方法である。
カメラ室を同時に大気圧にする、この時１２ａ、ｂ、ａ
が閉じ９ｂ、ｃ、ｄのリークバルブが開いて大気圧にす
る。この状態で鏡体３の試料室近傍及び結像レンズ系等
の保守調整を行うとき、電子顕微鏡に組込まれたリフタ
ー２１により往々にして試料室から上を電子銃と共に切
り離し持ち上げられる。（第２図参照）この時１５ａバ
ルブ及び１３ｂバルブを閉じた状態で１４ａ、ｂの排管
の機械的分離部で切り離され、ｌ、２，３゜１２ｄ、１
３ｂ、１５ａが一緒に４のレンズ上部より持ち上げられ
る。従ってこの時電子銃室は１６ｃの超高真空ポンプに
より高真空排気状態に保ち高電圧印加部分を大気にさら
すことなく、結像系の保守調整を行うことができる為、
電子顕微鏡の中で最も大気のガス吸着により安定性を損
う部分を保護し常に安定な電子線が得られる極めて有効
な方法である。
又この部分の排気系統として１２ｄのバルブは１６ｃポ
ンプの真空排気抵抗を大きくする為使用しない場合も多
い。
ンプの真空排気抵抗を大きくする為使用しない場合も多
い。
本発明によれば電子銃室及び加速管を鏡体と切り離すと
き、加速管の下部に設けである電子銃部と鏡体のセパレ
ートバルブを閉じ、加速管粗引排管部に本発明のバルブ
が設置されてあり、このバルブを閉じた状態で電子銃及
び加速管をイオンポンプにより超高真空に排気状態のま
ま鏡体の真空を破り、前述のように機械的に切り離しリ
フターにより持ち上げて鏡体側のメインテナンスを行な
えることを可能にした電子銃及び加速管の真空排気装置
であり、本発明の方法によれば前述の欠点を排除出来、
高安定な性能及び装置使用上の効率の向上があり実験の
結果極めて効果大である。
き、加速管の下部に設けである電子銃部と鏡体のセパレ
ートバルブを閉じ、加速管粗引排管部に本発明のバルブ
が設置されてあり、このバルブを閉じた状態で電子銃及
び加速管をイオンポンプにより超高真空に排気状態のま
ま鏡体の真空を破り、前述のように機械的に切り離しリ
フターにより持ち上げて鏡体側のメインテナンスを行な
えることを可能にした電子銃及び加速管の真空排気装置
であり、本発明の方法によれば前述の欠点を排除出来、
高安定な性能及び装置使用上の効率の向上があり実験の
結果極めて効果大である。
第１図は本発明の一実施例の真空排気系統図、第２図は
本発明の一実施例としての実装説明図、第３図は従来例
の真空排気系統図である。 １・・・電子銃加速管室、２・・・集束レンズ、３・・
・試料室、４，５・・・結像レンズ、６・・・観察室、
７・・・カメラ室、８ａ、ｂ、ｃ、ｄ−粗引バルブ、９
ａ、ｂ。 ｏ、ｄ・・・エアーリークバルブ＋ １０ａ、ｂ、ｃ
・・・ポンプリークバルブ、ｌｌａ、ｂ・・・ストップ
バルブ、１２ａ、ｂ、ｃ、ｄ−主バルブ、１３ａ、ｂ・
・・電子特高真空ポンプ粗引バルブ、１４ａ、ｂ・・・
排管切り離し部、１５ａ、ｂ、ｃ・・・セパレートバル
ブ、１６ａ、ｂ、ａ−高真空ポンプ、１７ａ。 ｂ、ｃ・・・低真空ポンプ、１８・・・電子銃主排管、
１９・・・電子銃粗引排管、２０・・・粗引排管、２１
・・・リフター。
本発明の一実施例としての実装説明図、第３図は従来例
の真空排気系統図である。 １・・・電子銃加速管室、２・・・集束レンズ、３・・
・試料室、４，５・・・結像レンズ、６・・・観察室、
７・・・カメラ室、８ａ、ｂ、ｃ、ｄ−粗引バルブ、９
ａ、ｂ。 ｏ、ｄ・・・エアーリークバルブ＋ １０ａ、ｂ、ｃ
・・・ポンプリークバルブ、ｌｌａ、ｂ・・・ストップ
バルブ、１２ａ、ｂ、ｃ、ｄ−主バルブ、１３ａ、ｂ・
・・電子特高真空ポンプ粗引バルブ、１４ａ、ｂ・・・
排管切り離し部、１５ａ、ｂ、ｃ・・・セパレートバル
ブ、１６ａ、ｂ、ａ−高真空ポンプ、１７ａ。 ｂ、ｃ・・・低真空ポンプ、１８・・・電子銃主排管、
１９・・・電子銃粗引排管、２０・・・粗引排管、２１
・・・リフター。
Claims (1)
- １、電子顕微鏡等の真空排気装置で電子銃室と鏡体とを
真空的に分離し電子銃側を高真空に保持したまま鏡体側
を大気にできる機能を有する装置に於いて、電子銃を真
空ポンプで高真空に排気状態のままリフター等により電
子銃室と鏡体とを機械的に切り離すことが可能なように
排気管とバルブを構成したことを特徴とする電子顕微鏡
等の排気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60170290A JPH077651B2 (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 電子顕微鏡の真空排気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60170290A JPH077651B2 (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 電子顕微鏡の真空排気装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6231929A true JPS6231929A (ja) | 1987-02-10 |
| JPH077651B2 JPH077651B2 (ja) | 1995-01-30 |
Family
ID=15902211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60170290A Expired - Lifetime JPH077651B2 (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 電子顕微鏡の真空排気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH077651B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006025705A1 (en) * | 2004-09-01 | 2006-03-09 | Cebt Co. Ltd. | Portable electron microscope using micro-column |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5912258U (ja) * | 1982-07-16 | 1984-01-25 | 日本電子株式会社 | 電子線照射装置 |
-
1985
- 1985-08-01 JP JP60170290A patent/JPH077651B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5912258U (ja) * | 1982-07-16 | 1984-01-25 | 日本電子株式会社 | 電子線照射装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006025705A1 (en) * | 2004-09-01 | 2006-03-09 | Cebt Co. Ltd. | Portable electron microscope using micro-column |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH077651B2 (ja) | 1995-01-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |