JPS60257049A - イオン源用真空排気装置 - Google Patents
イオン源用真空排気装置Info
- Publication number
- JPS60257049A JPS60257049A JP59112990A JP11299084A JPS60257049A JP S60257049 A JPS60257049 A JP S60257049A JP 59112990 A JP59112990 A JP 59112990A JP 11299084 A JP11299084 A JP 11299084A JP S60257049 A JPS60257049 A JP S60257049A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pump
- vacuum
- ion source
- oil
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/022—Details
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、イオン源用真空排気装置に関する。
半導体の製造工程では、化学的に活性なハロゲン化合物
ガス（例えば、ＢＦ、、ＣＦ、、ＰＨ，。
ガス（例えば、ＢＦ、、ＣＦ、、ＰＨ，。
（１）
ＡｓＨ，）がよく用いられる。これらのガスを用いる真
空排気装置は、真空ポンプに使用されている油が劣化し
て、排気能力が低下するという問題に有している。ポン
プ油が劣化した場合には、装置の使用を一時停止して、
油を交換したり、ポンプを交換したり、ポンプを交換し
たりして、補修しているのが現状である。
空排気装置は、真空ポンプに使用されている油が劣化し
て、排気能力が低下するという問題に有している。ポン
プ油が劣化した場合には、装置の使用を一時停止して、
油を交換したり、ポンプを交換したり、ポンプを交換し
たりして、補修しているのが現状である。
時にこれらのガスをイオン源に使用しているイオン打込
装置では、装置を止めることがプロセスの停滞をまねく
ことから、上述した作業はさけなければならない。
装置では、装置を止めることがプロセスの停滞をまねく
ことから、上述した作業はさけなければならない。
すなわち従来のイオン打込装置の真空排気系を第２図に
示す。ここに、１はイオン源、２はイオン源真空容器、
３はイオンビーム、４は質量分離器、５は分析管真空容
器、６は打込室、７はターゲット、８はイオン源−分離
器間の真空バルブ、９は分離器−打込室間の真空バルブ
、１０はイオン源用高真空排気ポンプ用のバルブ、１１
は高真空用ポンプで例えば油拡散ポンプ、１２は高真空
排気ポンプ用の荒引用油回転ポンプ、１２′は低（２） 真空側バルブ、１３はイオン源の荒引用バルブ、１４は
イオン源の荒引き用油回転ポンプ、１５゜１５’ 、１
６．１７は、夫々分析部を高真空に排気するバルブ、高
真空ポンプ、荒引用バルブ、荒引き用ポンプに対応し、
１８，１９，２０．２１はそれぞれ同様に打込室用の高
真空排気系としての、高真空側バルブ、高真空ポンプ、
低真空側バルブ、低真空用油回転ポンプである。２２は
、打込室の荒引用バルブである。また２３はイオン源用
のハロゲンガスボンベを示している。
示す。ここに、１はイオン源、２はイオン源真空容器、
３はイオンビーム、４は質量分離器、５は分析管真空容
器、６は打込室、７はターゲット、８はイオン源−分離
器間の真空バルブ、９は分離器−打込室間の真空バルブ
、１０はイオン源用高真空排気ポンプ用のバルブ、１１
は高真空用ポンプで例えば油拡散ポンプ、１２は高真空
排気ポンプ用の荒引用油回転ポンプ、１２′は低（２） 真空側バルブ、１３はイオン源の荒引用バルブ、１４は
イオン源の荒引き用油回転ポンプ、１５゜１５’ 、１
６．１７は、夫々分析部を高真空に排気するバルブ、高
真空ポンプ、荒引用バルブ、荒引き用ポンプに対応し、
１８，１９，２０．２１はそれぞれ同様に打込室用の高
真空排気系としての、高真空側バルブ、高真空ポンプ、
低真空側バルブ、低真空用油回転ポンプである。２２は
、打込室の荒引用バルブである。また２３はイオン源用
のハロゲンガスボンベを示している。
これらの真空ポンプのうち、最も油の劣化の激しいもの
は、イオン源用高真空排気ポンプの補助ポンプとして使
用している油回転ポンプ１２である。このポンプは、イ
オン源に連続にハロゲンガスを流している間に必ず、こ
のポンプ内を通るからである。さらに、大気の酸素にも
さらされているので、劣化したイオンが酸化され、到達
真空度が１０Ｔｏｒｒ以上になることもある。
は、イオン源用高真空排気ポンプの補助ポンプとして使
用している油回転ポンプ１２である。このポンプは、イ
オン源に連続にハロゲンガスを流している間に必ず、こ
のポンプ内を通るからである。さらに、大気の酸素にも
さらされているので、劣化したイオンが酸化され、到達
真空度が１０Ｔｏｒｒ以上になることもある。
このような装置において、油回転ポンプ１２が能力低下
すると、その上の油拡散ポンプ１１を停（３） 止しなければならず、イオン源の動作を止める必要があ
った。油の交換や、ポンプの交換をして、再稼動させる
ためには、１時間以上の装置停止時間が必要であった。
すると、その上の油拡散ポンプ１１を停（３） 止しなければならず、イオン源の動作を止める必要があ
った。油の交換や、ポンプの交換をして、再稼動させる
ためには、１時間以上の装置停止時間が必要であった。
装置の停止は、ウェハ処理能力の低下につながる。
本発明の目的は、荒引き用の油回転ポンプの油が劣化し
ても、装置を止めることなく、油の交換を容易にするよ
うにしたイオン源用真空排気装置を提供するにある。
ても、装置を止めることなく、油の交換を容易にするよ
うにしたイオン源用真空排気装置を提供するにある。
本発明のイオン淵部真空排気系を第１図に示す。
第２図と同符号のものは同材料を示している。第２図と
異なる構成は、荒引用ポンプと、高真空排気ポンプの低
真空側に、排気用パイプ（ダクト）で連結し、中間バル
ブ２５を備えたところにある。
異なる構成は、荒引用ポンプと、高真空排気ポンプの低
真空側に、排気用パイプ（ダクト）で連結し、中間バル
ブ２５を備えたところにある。
このようにすれば、油回転ポンプ１２が故障した場合、
バルブ１２′を閉じ、中間バルブ２５を開くと、荒引用
の油回転ポンプ１４で、高真空用油拡散ポンプ内を排気
することができるので、装（４） 置を止める必要がなくなる。
バルブ１２′を閉じ、中間バルブ２５を開くと、荒引用
の油回転ポンプ１４で、高真空用油拡散ポンプ内を排気
することができるので、装（４） 置を止める必要がなくなる。
このようにして、故障した油回転ポンプ１２の、結合部
２６をはずして、油交換するが別のポンプに交換するこ
とにより、再び中間バルブ２５を閉じてバルブ１２′を
開ければ通常の構成からなる装置となる。
２６をはずして、油交換するが別のポンプに交換するこ
とにより、再び中間バルブ２５を閉じてバルブ１２′を
開ければ通常の構成からなる装置となる。
上述した実施例では、イオン打込装置について説明した
ものであるが、これに限定されることなくスパッタ装置
、エツチング装置等にも適用できることはいうまでもな
い。
ものであるが、これに限定されることなくスパッタ装置
、エツチング装置等にも適用できることはいうまでもな
い。
以上述べたことから明らかなように、本発明によるイオ
ン源用真空排気装置によれば、荒引き用の油回転ポンプ
の油が劣化しても、装置を止めることなく油の交換を容
易にすることができる。
ン源用真空排気装置によれば、荒引き用の油回転ポンプ
の油が劣化しても、装置を止めることなく油の交換を容
易にすることができる。
第１図は本発明によるイオン源用真空排気装置の一実施
例を示す構成図、第２図は従来のイオン源用真空排気装
置の一例を示す構成図である。 １・・・イオン源、２・・・イオン源真空容器、４・・
・質量（５） 分離器、５・・・分析管真空容器、１１・・・高真空用
ポンプ、１２．１４・・・油回転ポンプ、２５・・・中
間バルブ。 代理人 弁理士 高橋明夫 （６）
例を示す構成図、第２図は従来のイオン源用真空排気装
置の一例を示す構成図である。 １・・・イオン源、２・・・イオン源真空容器、４・・
・質量（５） 分離器、５・・・分析管真空容器、１１・・・高真空用
ポンプ、１２．１４・・・油回転ポンプ、２５・・・中
間バルブ。 代理人 弁理士 高橋明夫 （６）
Claims (1)
- １、化学的活性なガスを使用するイオン源の真空排気装
置において、イオン源容器を大気圧から０．１ＴＯＲＲ
程度まで荒引きする真空排気系と、０、ＩＴＯＲＲから
１０−’ＴＯＲＲ以下に真空排気する高真空排気系の２
系統で真空排気する装置において、２系統に使用される
荒引用真空ポンプが上記イオン源容器とは別に、真空バ
ルブを介して連結されており、どちらかの真空ポンプが
不調になっても、真空バルブを開いて別の系統の真空排
気ができるようにしたことを特徴とするイオン源用真空
排気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59112990A JPS60257049A (ja) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | イオン源用真空排気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59112990A JPS60257049A (ja) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | イオン源用真空排気装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60257049A true JPS60257049A (ja) | 1985-12-18 |
Family
ID=14600656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59112990A Pending JPS60257049A (ja) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | イオン源用真空排気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60257049A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02109240A (ja) * | 1988-10-17 | 1990-04-20 | Sony Corp | イオンビーム装置およびその使用方法 |
-
1984
- 1984-06-04 JP JP59112990A patent/JPS60257049A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02109240A (ja) * | 1988-10-17 | 1990-04-20 | Sony Corp | イオンビーム装置およびその使用方法 |
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