JP2012064982A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. リソグラフィ装置であって、
   基板を保持する基板テーブルと、
   投影システムと前記基板及び／又は前記基板テーブルとの間の空間に液浸液を実質的に閉じ込める液体閉じ込めシステムと、
   前記液体閉じ込めシステムの外側に配置され、且つ、加湿気体を供給する気体シャワー出口と、を備えるリソグラフィ装置。
2. 前記基板、前記基板テーブル及び基板保持器の少なくとも１つの少なくとも一部の局部温度を測定する少なくとも１つの温度センサをさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記温度センサによって測定された前記局所温度に基づいて前記加湿気体が供給される、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記加湿気体を供給する加湿器を更に備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
5. 前記加湿器は、
   浸液蒸気を生成するために１つ以上の浸液槽を加熱する内部加熱要素を備える蒸発容器と、
   気体と浸液蒸気との混合気が過飽和状態になって前記液浸液が冷却されるように前記液浸蒸気を気体と混合する凝縮容器と、
   制御温度及び／又は制御飽和水準で前記加湿気体を生成するために、前記過飽和状態の気体と乾燥気体とを混合する混合室と、を備える、請求項４に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記加湿気体はバブラを用いて供給される、請求項１〜３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
7. 前記バブラは、液体及び液体蒸気を収容する容器中に浸漬けされた多孔装置である、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
8. 前記加湿気体の浄化された流れを生成する加湿キャビネットを用いて供給される、請求項１〜３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
9. 前記加湿キャビネットは、熱交換流体によって前記加湿気体の温度を制御する、請求項８に記載のリソグラフィ装置。
10. 前記加湿キャビネットから前記加湿気体を制御流量で排出可能にする可変排出システムを更に備える、請求項８又は９に記載のリソグラフィ装置。
11. 前記可変排出システムは、前記加湿キャビネットからの流量が一定に留まるように構成される、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
12. 前記可変排出システムは、前記加湿器キャビネットからの流れを制御する流れインピーダンスであって、前記加湿キャビネットの背圧に応答する流れインピーダンスを有するように構成される、請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
13. リソグラフィ装置であって、
    基板を保持する基板テーブルと、
    投影系と前記基板及び／又は基板テーブルとの間の空間の少なくとも一部を液浸液で充満するように構成された液体供給システムと、
    前記基板、前記基板テーブル及び基板保持器の少なくとも１つの対応部分を局部的に加熱するようにそれぞれ構成された複数のヒータと、
    前記基板テーブルの位置、速度、加速度、及び、所定経路の少なくとも１つを含む情報を決定する基板テーブル経路決定装置と、を備え、
    前記ヒータそれぞれの駆動が前記決定された情報に基づいて制御される、リソグラフィ装置。