JP6367382B2 - リソグラフィ装置、対象物位置決めシステムおよびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2014年6月19日に出願された欧州出願14173146.3号の利益を主張し、その全体が参照により本書に援用される。
圧力変化=ρ・加速・L
ここで、Lは(圧力変化が計算される場所である)点から圧力パルス制限器PPLまでの距離であり、ρは流体CFの密度である。圧力変化は、準静的圧力の変化と称されてもよい。圧力変化の大きさは、基板テーブルWTで最大となるであろう。例えば図2のように、圧力パルス制限器PPLが特定の場所に位置するとき、原理上、圧力パルス制限器PPLでの圧力変動は0であるからである。導管システムCCSのある例および従来技術の圧力変動モデルが図2に示される。圧力パルス制限器PPLを基板テーブルWTにできるだけ近づけて配置すること、好ましくは基板テーブルの下に配置することは、基板テーブルWT内の流体CFの圧力変動を低減させる。しかしながら、圧力パルス制限器PPLおよび基板テーブルWTのそれぞれのサイズが原因で、基板テーブルWTの下に圧力パルス制限器PPLを配置することはたいていの場合不可能であり、基板テーブルWT上または基板テーブルWT内に必要とする他の構成部品が存在しうる。
上述の実施の形態において、測定システムMSは、流体CFの流体圧を直接的に測定するセンサSEを備える。ある実施の形態において、測定システムMSは、流体CFの流体圧を間接的に測定するセンサSEを備える。圧力を間接測定するセンサSEは、例えば、導管システムCCSの圧力とは異なる特性を測定してもよい。例えば、歪みゲージ圧力センサといった歪みセンサは、導管システムCCSの壁内の歪みを測定するために用いられてもよい。歪みの測定結果は、圧力の推定に用いられてもよく、これを推定オフセットまたは推定オフセット力を決定するために使用し、上述の対象物OBの制御に用いることができる。任意の形式の歪みセンサが歪みの測定に用いられてもよく、例えば、圧電歪みセンサである。好ましくは、用いる歪みセンサが、nεのオーダ、可能であればさらにpεのオーダで歪みを測定するように構成される。歪みセンサは、導管システムの壁の外側、内側、または内部に位置してもよい。代わりに、測定されうる導管システムCCSの異なる特性は、流体CFの密度、流体CFの光学特性であってもよく、例えば、複屈折センサまたは干渉計などが用いられる。
Claims (15)
- 少なくとも一方向に移動可能な対象物と、
前記対象物の温度を調整するための温度調整システムであって、当該温度調整システムが流体を輸送するための導管システムを備え、当該導管システムの少なくとも一部が前記対象物上または前記対象物内に配置される温度調整システムと、
前記導管システム内の少なくとも一つの場所での前記流体の圧力を示す測定信号を与えるセンサを備える測定システムと、
前記対象物の前記少なくとも一方向の動きを前記測定信号の制御下で前記流体の測定圧力と前記対象物の推定オフセットとの間の所定の関係を用いて制御する制御システムと、を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記対象物の動きは、前記流体の圧力の変化を誘起し、前記測定システムは、前記流体の圧力の変化を検知するよう構成されることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記導管システムは、導管部分および導管接続部分を含み、前記導管部分は、前記対象物上または前記対象物内に配置され、前記導管接続部分は、前記対象物上または前記対象物内に配置されておらず、前記導管部分および前記導管接続部分は、互いに接続されており、前記センサは、前記導管接続部分に位置することを特徴とする請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御システムは、前記導管接続部分に接続される少なくとも一つの圧力パルス制限器をさらに備え、前記センサは、前記対象物と前記圧力パルス制限器の間の前記導管部分に位置することを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記導管システムは、導管部分および導管接続部分を含み、前記導管部分は、前記対象物上または前記対象物内に配置され、前記導管接続部分は、前記対象物上または前記対象物内に配置されておらず、前記導管部分および前記導管接続部分は、互いに接続されており、前記センサは、前記導管部分上または前記導管部分上の場所に位置することを特徴とする請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサは、前記少なくとも一つの場所の圧力を測定して前記測定信号を与える圧力センサであることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサは、前記測定信号を与えるよう構成される歪みゲージであり、前記測定信号は、前記少なくとも一つの場所における前記導管システムの壁の一部の歪みを示し、前記歪みは、前記圧力と相関することを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- アクチュエータシステムおよび位置測定システムをさらに備え、前記位置測定システムは、前記対象物の位置を示す位置信号を与えるよう配置され、制御器は、前記アクチュエータシステムを制御して前記位置信号の制御下で前記対象物を移動させることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記対象物の加速は、圧力勾配を生じさせ、前記センサは、前記圧力勾配を示す測定信号を与えるよう構成されることを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記導管システムに沿って前記流体を輸送するためのポンプをさらに備え、前記流体の流れは、流体雑音を有し、前記センサは、前記流体雑音を示す前記測定信号を与えるよう構成されることを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 投影システムと、基板テーブルと、サポート構造とをさらに備え、前記投影システムは、パターニングデバイス上に配置されるパターンを基板上に投影するよう構成され、前記サポート構造は、前記パターニングデバイスを保持するよう構成され、前記基板テーブルは、前記基板を保持するよう構成され、前記対象物は、前記サポート構造および前記基板テーブルの少なくとも一方を備えることを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも一方向は、前記対象物の重要な動作中における主移動方向に対応することを特徴とする請求項1から11のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定信号を変換して前記対象物の推定オフセットを表すよう構成される予測部を備えることを特徴とする請求項1から12のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 少なくとも一方向に移動可能な対象物と、
前記対象物の温度を調整するための温度調整システムであって、当該温度調整システムが流体を輸送するための導管システムを備え、当該導管システムの少なくとも一部が前記対象物上または前記対象物内に配置される温度調整システムと、
前記導管システム内の少なくとも一つの場所での前記流体の圧力を示す測定信号を与えるセンサを備える測定システムと、
前記対象物の前記少なくとも一方向の動きを前記測定信号の制御下で前記流体の測定圧力と前記対象物の推定オフセットとの間の所定の関係を用いて制御する制御システムと、を備えることを特徴とする対象物位置決めシステム。 - 請求項1から13のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
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