JP2003280015A - 液晶滴下装置及び液晶滴下量の制御方法 - Google Patents

液晶滴下装置及び液晶滴下量の制御方法

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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 液晶パネルの基板上に、常に正確な量の液晶
を滴下し得る、液晶滴下装置及び液晶滴下量の制御方法
を提供する。 【解決手段】 排出口１４６が形成されたノズル１４５
と、前記排出口１４６を開閉させる上下部位置間を移動
するニードル１３６と、該ニードル１３６を下部位置に
移動させるスプリング部材１２８と、前記ニードル１３
６に磁気力を提供するソレノイドコイル１３０と、によ
り構成されていて液晶を滴下する液晶滴下部１２０と、
前記ソレノイドコイル１３０に電源を供給して前記ニー
ドル１３６を上部位置に移動させる電源供給部１５０
と、前記液晶滴下部１２０にガス圧力を提供して前記排
出口１４６を通して液晶を排出させるガス供給部１５２
と、基板上に滴下される液晶の滴下量を計算し、前記電
源供給部１５０及びガス供給部１５２を制御して前記計
算された滴下量の液晶を基板上に滴下させる制御部１６
０と、を備えた液晶滴下装置を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶滴下装置及び
液晶滴下量の制御方法に係るもので、詳しくは、液晶パ
ネルの大きさ及びセルギャップに基づいて最適滴下量を
計算して滴下し、実際に滴下される液晶の量を設定され
た滴下量と比較して滴下量を補正することで、常に正確
な量の液晶を基板上に滴下し得る、液晶滴下装置及び液
晶滴下量の制御方法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】最近、携帯電話、携帯端末機及びノートブ
ックコンピュータのような各種携帯用電子機器の発展に
伴って、それらに適用し得る軽薄短小用の平板ディスプ
レー装置に対する要求が増大しつつある。このような平
板ディスプレー装置としては、液晶ディスプレー（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレーパネル（ＰＤＰ）、電界放
出ディスプレー（ＦＥＤ）及び真空蛍光ディスプレー
（ＶＦＤ）などの各種ディスプレー装置が活発に研究さ
れているが、量産化技術や駆動手段の容易性及び高画質
の具現という理由で、現在は、液晶ディスプレー素子
（以下「ＬＣＤ素子」という）が脚光を浴びている。
【０００３】ＬＣＤ素子は、液晶の屈折率異方性を利用
して画面に情報を表示する装置であって、図１３に示し
たように、下部基板５と、上部基板３と、それら上、下
部基板３、５間に形成された液晶層７と、を包含して液
晶パネル１が構成されている。
【０００４】ここで、前記下部基板５は、駆動素子アレ
イ基板であって、図示されてないが、前記下部基板５に
は複数の画素が形成されていて、各画素には薄膜トラン
ジスタ（以下「ＴＦＴ」という）のような駆動素子が形
成されている。
【０００５】又、前記上部基板３は、カラーフィルタ基
板であって、実際のカラーを具現するためのカラーフィ
ルタ層が形成されている。
【０００６】更に、前記下部基板５及び上部基板３には
夫々画素電極及び共通電極が形成され、前記液晶層７の
液晶分子を配向するための配向膜が塗布されている。
【０００７】前記下部基板５及び上部基板３は、シーリ
ング材９により合着され、それらの間に液晶層７が形成
されていて、前記下部基板５に形成された駆動素子によ
り液晶分子を駆動して前記液晶層７を透過する光量を制
御することで、情報を表示するようになっている。
【０００８】ＬＣＤ素子の製造工程は、前記下部基板５
に駆動素子としてのＴＦＴを形成するＴＦＴアレイ工
程、前記上部基板３にカラーフィルタを形成するカラー
フィルタ工程及びセル工程に区分されている。以下、各
工程について、図１４を参照して詳しく説明する。
【０００９】先ず、下部基板５上に配列されて画素領域
を定義する複数のゲートライン及びデータラインをＴＦ
Ｔアレイ工程により形成し、前記各画素領域に前記ゲー
トライン及びデータラインにそれぞれ接続される駆動素
子のＴＦＴを形成する（Ｓ１０１）。又、前記ＴＦＴア
レイ工程により前記ＴＦＴに接続されて、該ＴＦＴを介
して信号が印加されることで液晶層を駆動する画素電極
を形成する。
【００１０】一方、上部基板３にはカラーフィルタ工程
によりカラーを具現するＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層
及び共通電極を形成する（Ｓ１０４）。
【００１１】次いで、前記上部基板３及び下部基板５に
夫々配向膜を塗布した後、それら上部基板３と下部基板
５間に形成される液晶層の液晶分子に配向規制力又は表
面固定力（即ち、プレチルト角及び配向方向）を提供す
るために前記配向膜をラビングする（Ｓ１０２、Ｓ１０
５）。
【００１２】次いで、前記下部基板５に、セルギャップ
を一定に維持するためのスペーサを散布し（Ｓ１０
３）、また、前記上部基板３の外郭部にシーリング材を
塗布した後（Ｓ１０６）、前記下部基板５及び上部基板
３に圧力を加えて合着させる（Ｓ１０７）。
【００１３】一方、前記下部基板５及び上部基板３は、
大面積のガラス基板に構成されている。即ち、前記大面
積のガラス基板に複数のパネル領域が形成され、それら
パネル領域にそれぞれ駆動素子のＴＦＴ及びカラーフィ
ルタ層が形成されるため、一つの液晶パネルを製作する
ためには、前記ガラス基板を切断及び加工しなければな
らない（Ｓ１０８）。その後、このように加工された各
液晶パネルに液晶注入口を通して液晶を注入し、前記液
晶注入口を封止して液晶層を形成した後（Ｓ１０９）、
各液晶パネルを検査することで、ＬＣＤ素子の製作を終
了するようになっていた（Ｓ１１０）。
【００１４】上述したように前記液晶は、パネルに形成
された液晶注入口を通して注入される。この時、液晶の
注入は圧力差により行われる。前記液晶パネルに液晶を
注入する装置においては、図１５に示したように、真空
チャンバ１０内には液晶が充填された容器１２が備えら
れており、その上部に液晶パネル１が配置される。又、
前記真空チャンバ１０は、真空ポンプと連結されて真空
状態を維持している。図示されてないが、前記真空チャ
ンバ１０内には液晶パネル移動用装置が装着されてい
て、前記液晶パネル１を容器１２の上部から容器まで移
動させて、前記液晶パネル１に形成された注入口１６を
液晶１４に接触させる（このような方式を液晶の浸漬注
入方式という）。
【００１５】このように前記液晶パネル１の注入口１６
を液晶１４に接触させた状態で、前記真空チャンバ１０
内に窒素ガス（Ｎ２）を供給して前記チャンバ１０の真
空度を低下させると、前記液晶パネル１の内部圧力と前
記真空チャンバ１０との圧力差により前記液晶１４が前
記注入口１６を通って前記液晶パネル１に注入され、液
晶が前記パネル１内に完全に充填された後、前記注入口
１６を封止材により封止することで、液晶層を形成する
ようになっていた（このような方式を液晶の真空注入方
式という）。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】然るに、このような従
来の液晶注入方法においては、パネル１への液晶注入時
間が長くなるという不都合な点があった。一般に、液晶
パネルの上、下部基板間の間隔は数μm程度と狭いた
め、単位時間当り、極少量の液晶が液晶パネルの内部に
注入される。例えば、約１５インチの液晶パネルを製作
する場合、液晶を完全に注入するのに概略８時間かかる
が、このような長時間の液晶注入により液晶パネルの製
造時間が長くなって、製造効率が低下するという不都合
な点があった。
【００１７】又、従来の液晶注入方法においては、液晶
消耗率が高くなるという不都合な点があった。前記容器
１２に充填されてある液晶１４のうち、実際に液晶パネ
ル１０に注入される量は極少量である。一方、液晶は大
気や特定ガスに露出されると、ガスと反応して劣化され
てしまう。従って、前記容器１２に充填された液晶１４
が複数枚の液晶パネル１０に注入される場合も、注入後
に残された高価な液晶１４を廃棄しなければならず、そ
の結果、液晶パネルの製造費用が増加するという不都合
な点があった。
【００１８】本発明は、このような従来の課題に鑑みて
なされたもので、少なくとも1つの液晶パネルを包含す
る大面積のガラス基板上に直接液晶を滴下し得る、液晶
滴下装置を提供することを目的とする。
【００１９】本発明の他の目的は、液晶の滴下量を正確
に制御し得る、液晶滴下装置及び液晶滴下量の制御方法
を提供することである。
【００２０】本発明のその他の目的は、常に正確な量の
液晶を少なくとも1つの液晶パネル領域を包含する基板
上に滴下し得る、液晶滴下量補正装置を備えた液晶滴下
装置及び液晶滴下量の制御方法を提供することである。
【００２１】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るため、本発明に係る液晶滴下装置においては、基板上
に液晶を滴下するための排出口が形成されたノズルと、
前記排出口を閉鎖する下部位置と前記排出口を開放する
上部位置との間を移動するニードルと、該ニードルを下
部位置に移動させるスプリング部材と、前記ニードルを
上部位置に移動させるために該ニードルに磁気力を提供
するソレノイドコイルと、により構成された液晶を滴下
する液晶滴下部と、前記ソレノイドコイルに電源を供給
して前記ニードルを上部位置に移動させる電源供給部
と、前記ニードルが上部位置に移動した時、液晶滴下部
にガス圧力を提供して前記排出口を通して液晶を排出さ
せるガス供給部と、基板上に滴下される液晶の滴下量を
計算し、前記電源供給部及びガス供給部を制御して前記
計算された滴下量の液晶を基板上に滴下させる制御部
と、を備えて構成されることを特徴とする。
【００２２】そして、前記目的を達成するため、本発明
に係る液晶滴下量の制御方法においては、基板上に液晶
を滴下するための排出口が形成されるノズルと、前記排
出口を閉鎖する下部位置と前記排出口を開放する上部位
置との間を移動するニードルと、該ニードルを下部位置
に移動させるスプリング部材と、前記ニードルを上部位
置に移動させるように該ニードルに磁気力を提供するソ
レノイドコイルと、を包含して構成される少なくとも一
つの液晶滴下器の液晶に圧力を印加して、少なくとも一
つの液晶パネル領域を包含する基板上に液晶を滴下する
方法であって、データを入力する段階と、前記入力され
たデータに基づいて基板に滴下される液晶の総滴下量を
算出する段階と、前記算出された総滴下量に基づいて基
板上に滴下される液晶の滴下位置を算出する段階と、前
記算出された総滴下量に基づいて１回の液晶滴下量を算
出する段階と、前記算出された１回の液晶滴下量に基づ
いて、ソレノイドコイルに供給される電源供給量及び液
晶滴下器に供給されるガス圧力を計算する段階と、前記
計算された電源供給量を前記ソレノイドコイルに印加
し、前記計算されたガス圧力を前記液晶滴下器に供給し
て液晶を滴下させる段階と、を順次行うことを特徴とす
る。
【００２３】且つ、前記目的を達成するため、本発明に
係る液晶滴下装置においては、液晶を滴下する液晶滴下
部と、前記液晶滴下部から滴下される液晶の滴下量を測
定する測定システムと、前記測定システムにより測定さ
れた液晶の滴下量を入力して、滴下される液晶の目標滴
下量と測定された滴下量とを比較し、測定された滴下量
が目標滴下量と相違するときは、前記液晶滴下部の少な
くとも一つの滴下特性を電気的に調整する制御部と、を
包含して構成されたことを特徴とする。
【００２４】また、前記目的を達成するため、本発明に
係る液晶滴下装置においては、基板上に液晶を滴下する
ための排出口が形成されたノズルと、前記排出口を閉鎖
する下部位置と前記排出口を開放する上部位置との間を
移動するニードルと、該ニードルを下部位置に移動させ
るスプリング部材と、前記ニードルが上部位置に移動す
るように該ニードルに磁気力を提供するソレノイドコイ
ルと、により構成されて、液晶を滴下する液晶滴下部
と、滴下される液晶の滴下量を測定する滴下量測定部
と、測定された滴下量を目標とする滴下量と比較して補
正値を算出する補正量算出部と、前記補正値に基づき、
前記ソレノイドコイルに供給される電源量及びガス圧力
のうちの少なくとも何れか一つを制御する補正量制御部
と、を包含して構成されることを特徴とする。
【００２５】更に、前記目的を達成するため、本発明に
係る液晶滴下方法においては、液晶滴下部に液晶を充填
する段階と、基板上に第１滴下量の液晶を滴下する段階
と、前記液晶滴下部の少なくとも一つの滴下特性を自動
補正する段階と、自動補正により決定された第２滴下量
の液晶を基板上に滴下する段階と、を順次行うことを特
徴とする。
【００２６】そして、前記目的を達成するため、本発明
に係る液晶滴下方法においては、基板上に液晶を滴下す
るための排出口が形成されたノズルと、前記排出口を閉
鎖する下部位置と前記排出口を開放する上部位置との間
を移動するニードルと、該ニードルを下部位置に移動さ
せるスプリング部材と、前記ニードルが上部位置に移動
するように該ニードルに磁気力を提供するソレノイドコ
イルと、を包含して構成される少なくとも一つの液晶滴
下器の液晶に圧力を印加して液晶を滴下する方法であっ
て、滴下される液晶の滴下量を設定する段階と、滴下さ
れた液晶の滴下量を測定する段階と、前記設定された滴
下量と測定された滴下量とを比較して補正量を算出する
段階と、前記算出された補正量に基づき、前記ソレノイ
ドコイルに印加される電源量及び前記液晶滴下器に印加
されるガス圧力のうちの少なくとも何れか一つを制御す
る段階と、を順次行うことを特徴とする。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に対
し、図面を用いて説明する。浸漬方式又は真空注入方式
のような従来の液晶注入方式の短所を克服するために、
近来提案されている方法が液晶滴下方式（Liquid Crys
tal Dropping Method）による液晶層形成方法であ
る。前記液晶滴下方式は、パネルの内部と外部との圧力
差によって液晶を注入するものではなく、液晶を基板上
に直接滴下（Dropping）及び分配（Dispensing）した
後、パネルの合着圧力を利用して滴下された液晶をパネ
ル全体に均一に分布させることで、液晶層を形成するも
のである。このような液晶滴下方式は、短時間内に基板
上に直接液晶を滴下するので、大面積のＬＣＤ素子の液
晶層を非常に迅速に形成し得るだけでなく、必要量の液
晶だけを基板上に直接滴下するため、液晶の消耗を最小
化して、ＬＣＤ素子の製造費用を大幅に節減し得るとい
うメリットがある。
【００２８】図１は、液晶滴下方式の基本概念を示した
もので、図示されたように、駆動素子及びカラーフィル
タが夫々形成された下部基板１０５と上部基板１０３と
を合着する前に、前記下部基板１０５上に水滴状の液晶
１０７を滴下する。一方、前記液晶１０７をカラーフィ
ルタの形成された前記上部基板１０３上に滴下すること
もできる。即ち、液晶滴下方式において、液晶滴下の対
象となる基板は、ＴＦＴ基板及びＣＦ基板の何れでも構
わないが、但し、基板を合着する時、液晶が滴下された
基板は必ず下部に置かれるべきである。
【００２９】この時、前記上部基板１０３の外郭領域に
は、シーリング材１０９が塗布され、前記上部基板１０
３及び下部基板１０５に圧力を加えると、それら上部基
板１０３と下部基板１０５とが合着されると同時に、前
記圧力により前記液晶１０７の滴が広がって前記上部基
板１０３と下部基板１０５間に均一厚さの液晶層が形成
される。このように、前記液晶滴下方式の最大特徴は、
前記パネル１０１を合着する前に前記下部基板１０５上
に予め液晶１０７を滴下した後、シーリング材１０９に
よりパネルを合着することである。
【００３０】このような液晶滴下方式を適用したＬＣＤ
素子の製造方法は、従来の液晶注入方式による製造方法
と次のような相違点を有する。即ち、従来の液晶注入方
式では、複数のパネルが形成される大面積のガラス基板
をパネル単位に分離して液晶を注入していたが、液晶滴
下方式では、予め基板上に液晶を滴下して液晶層を形成
した後、ガラス基板をパネル単位に加工分離するように
なっている。このような工程上の相違点は、実際にＬＣ
Ｄ素子を製造する時、数多くの長所を提供する。勿論、
液晶滴下方式自体による長所（即ち、迅速な液晶層の生
成）もあるが、複数のパネルが形成されたガラス基板単
位に液晶層を形成することから生じる長所もある。例え
ば、ガラス基板に４個の液晶パネルを形成する場合、従
来の液晶注入方式による液晶層の形成工程では、加工さ
れた４個の液晶パネルのそれぞれに液晶を一度に注入す
るとき、同一条件（同じ液晶容器及び同じ注入圧力な
ど）によって同一セルギャップを有する液晶パネルを形
成するが、液晶滴下方式を適用すると、１回の滴下によ
って前記４個の液晶パネルにそれぞれ滴下される液晶量
を制御することで、それぞれ異なるセルギャップを有す
る液晶パネルを形成することができる。
【００３１】このような液晶滴下方式が適用されたＬＣ
Ｄ素子の製造方法においては、図２に示したように、Ｔ
ＦＴアレイ工程及びカラーフィルタ工程により上部基板
１０５及び下部基板１０３に駆動素子のＴＦＴ及びカラ
ーフィルタ層をそれぞれ形成する（Ｓ２０１、Ｓ２０
４）。このとき、前記ＴＦＴアレイ工程及びカラーフィ
ルタ工程は、図１４に示された従来の製造方法と同様で
あって、複数のパネル領域が形成される大面積のガラス
基板に一括的に進行される。特に、本発明では液晶滴下
方式が適用されるので、従来の製造方法よりも一層広い
ガラス基板、例えば、１０００×１２００mm２以上の大
面積のガラス基板に有効に使用することができる。
【００３２】次いで、ＴＦＴが形成された前記下部基板
１０５及びカラーフィルタ層が形成された前記上部基板
１０３に夫々配向膜を塗布し、ラビングを行った後（Ｓ
２０２、Ｓ２０５）、前記下部基板１０５の液晶パネル
領域には液晶１０７を滴下し（Ｓ２０３）、前記上部基
板１０３の液晶パネルの外郭部領域にはシーリング材１
０９を塗布する（Ｓ２０６）。
【００３３】次いで、前記上部基板１０３と下部基板１
０５とを整列した状態で圧力を加えて、前記シーリング
材により前記下部基板１０５と上部基板１０３とを合着
させると同時に、圧力の印加により滴下された液晶１０
７がパネル全体に均一に広がるようにする（Ｓ２０
７）。このような工程により大面積のガラス基板（下部
基板及び上部基板）には液晶層が形成された複数の液晶
パネルが形成され、前記ガラス基板を加工及び切断して
複数の液晶パネルに分離して、各液晶パネルを検査する
ことで、ＬＣＤ素子を製作するようになる（Ｓ２０８、
Ｓ２０９）。
【００３４】ここで、図２に示した液晶滴下方式が適用
されたＬＣＤ素子の製造方法と、図１４に示した従来の
液晶注入方式が適用されたＬＣＤ素子の製造方法と、を
比較してみると、液晶の真空注入と液晶の滴下及び、大
面積ガラス基板の加工時期の差の外にも、従来液晶注入
方式が適用されたＬＣＤ素子の製造方法においては、注
入口を通して液晶を注入した後、該注入口を封止材によ
り封止するべきであるが、液晶滴下方式が適用された製
造方法においては、液晶が基板に直接滴下されるので、
そのような注入口の封止工程が不必要になる。又、従来
の液晶注入方式が適用された製造方法においては、液晶
の注入時に基板が液晶に接触するので、パネルの外部面
が液晶により汚染され、従って、該汚染された基板を洗
浄するための工程が必要であったが、液晶滴下方式が適
用された製造方法では、液晶が基板に直接滴下されるの
で、パネルが液晶により汚染されず、従って、洗浄工程
が不必要である。このように、液晶滴下方式によるＬＣ
Ｄ素子の製造方法は、従来の液晶注入方式による製造方
法よりも簡単な工程で構成されているため、製造効率及
び収率が向上する。
【００３５】前記液晶滴下方式が適用されたＬＣＤ素子
の製造方法において、液晶層を所望の厚さに正確に形成
するための最も重要な要因は、滴下される液晶の位置及
び液晶の滴下量である。特に、液晶層の厚さは、液晶パ
ネルのセルギャップと密接な関係を有するため、正確な
液晶の滴下位置及び滴下量は、液晶パネルの不良を防止
するために非常に重要な要素である。従って、正確な位
置に正確な量の液晶を滴下する装置が必要となり、本発
明ではそのための液晶滴下装置を提供する。
【００３６】図３は、本発明に係る液晶滴下装置１２０
を利用して基板（大面積のガラス基板）１０５上に液晶
１０７を滴下する基本的な概念を示したもので、前記液
晶滴下装置１２０は、基板１０５の上部に設置されてい
る。図示されてないが、前記液晶滴下装置１２０の内部
には液晶が充填されていて基板上に一定量を滴下する。
【００３７】通常、液晶は、水滴状に基板上に滴下され
る。前記基板１０５は、設定された速度で ｘ、ｙ 方向
に移動し、また、前記液晶滴下装置１２０は、設定され
た時間間隔で液晶を排出するため、前記基板１０５上に
滴下される液晶１０７は ｘ、ｙ 方向に一定の間隔に配
置される。反対に、液晶滴下時、前記基板１０５は固定
されて、前記液晶滴下装置１２０が ｘ、ｙ 方向に移動
して液晶を所定間隔に滴下することもできるが、この場
合、前記液晶滴下装置１２０の移動によって水滴状の液
晶が揺れて液晶の滴下位置及び滴下量に誤差が発生する
ことがあるので、前記液晶滴下装置１２０は固定させ
て、前記基板１０５を移動させることが好ましい。
【００３８】ここで、前記液晶滴下装置１２０において
は、図４〜図６に示したように、液晶１０７が充填され
た円筒形の液晶容器１２４がケース１２２に収納されて
いる。前記液晶容器１２４は、ポリエチレンにより形成
されており、前記ケース１２２はステンレス鋼のような
金属により形成されている。通常、ポリエチレンは成形
性に優れていて所望の形状の容器を形成することが容易
であるだけでなく、液晶と反応しないので液晶容器１２
４として主に使用される。然し、前記ポリエチレンは強
度が弱いため外部の衝撃で変形しやすく、特に、液晶容
器１２４としてポリエチレンを使用する場合、容器１２
４が変形すると、正確な位置に液晶１０７を滴下するこ
とができないので、強度の強いステンレス鋼からなる前
記ケース１２２に収納して使用する。また、図示されて
ないが、前記液晶容器１２４の上部には外部のガス供給
部に連結されたガス供給管が連結されているので、該ガ
ス供給管を介して外部のガス供給部から窒素のようなガ
スが供給され、前記液晶容器１２４の液晶が充填されて
ない領域にガスが充填されて前記液晶に圧力を加えるこ
とで、液晶が滴下される。
【００３９】前記ケース１２２の下端部には開口１２３
が形成され、前記液晶容器１２４が前記ケース１２２に
収納されるとき、前記液晶容器１２４の下端部に形成さ
れた突起１３８が前記開口１２３に挿入されて、前記液
晶容器１２４を前記ケース１２２に結合させる。また、
前記突起１３８は第１結合部１４１と結合される。前記
突起１３８にはナットが形成され、前記第１結合部１４
１の一方側にはボルトが形成されて、それらナット及び
ボルトにより前記突起１３８と第１結合部１４１とが結
合される。
【００４０】前記第１結合部１４１の他方端にはナット
が形成され、第２結合部１４２の一方側にはボルトが形
成されて、それら第１結合部１４１と第２結合部１４２
とが結合される。この時、前記第１結合部１４１と第２
結合部１４２間にはニードルシート１４３が配置され
る。
【００４１】又、前記ニードルシート１４３は、前記第
１結合部１４１のナットに挿入されて、前記第２結合部
１４２のボルトが挿入して結合される時、前記第１結合
部１４１と第２結合部１４２間に固定される。又、前記
ニードルシート１４３には排出孔１４４が形成されてい
て、前記液晶容器１２４に充填された液晶１０７が前記
第２結合部１４２を経て前記排出孔を通って排出され
る。
【００４２】又、前記第２結合部１４２にはノズル１４
５が結合される。前記ノズル１４５は、前記液晶容器１
２４に充填された液晶１０７を少量ずつ滴下させるため
のものであって、前記第２結合部１４２の一方側に形成
されたナットと結合されて、前記ノズル１４５と第２結
合部１４２とを結合させるボルトを包含する支持部１４
７と、該支持部１４７から突出して少量の液晶を水滴状
に基板上に滴下させる排出口１４６と、により構成され
る。
【００４３】又、前記支持部１４７の内部には前記ニー
ドルシート１４３の排出孔１４４から延長された排出管
が形成され、該排出管が前記排出口１４６と連結されて
いる。通常、前記ノズル１４５の排出口１４６は、極小
直径に形成されて（微細な液晶の滴下量を調節するため
に）、前記支持部１４７から突出している。
【００４４】又、前記液晶容器１２４にはニードル１３
６が挿入されて、その一方側を前記ニードルシート１４
３に接触させる。特に、前記ニードルシート１４３と接
触させる前記ニードル１３６の端部は円錐状に形成され
ているため、該当端部が前記ニードルシート１４３の排
出孔に挿入されて該排出孔を遮断する。
【００４５】又、前記ニードル１３６の他端部にはスプ
リング１２８が装着され、その上部には間隙調整部１３
４が付着された磁性棒１３２が装着されている。該磁性
棒１３２は、強磁性物質又は軟磁性物質により形成され
ていて、その外部には円筒状のソレノイドコイル１３０
が装着されている。前記ソレノイドコイル１３０は、電
源供給部１５０に接続されて電源が印加され、それによ
って、前記磁性棒１３２に磁気力が発生される。
【００４６】このとき、前記ニードル１３６と磁性棒１
３２とは所定間隔Ｄを有して装着されている。前記電源
供給部１５０から前記ソレノイドコイル１３０に電源が
供給されて、前記磁性棒１３２に磁気力が発生すると、
該磁気力によって前記ニードル１３６が前記磁性棒１３
２に接触し、一方、電源供給が中断されると、前記ニー
ドル１３６の端部に装着されたスプリング１２８の弾性
により前記ニードル１３６は元の位置に復帰する。この
ような前記ニードル１３６の上下移動によって、前記ニ
ードルシート１４３に形成された排出孔１４４が開放又
は遮断される。このように前記ニードル１３６の端部と
ニードルシート１４３とは、前記ソレノイドコイル１３
０に電源が供給又は中断されることで、反復的に接触
し、このような反復的な接触によって前記ニードル１３
６の端部及びニードルシート１４３が連続的な衝撃に曝
されて破損される恐れがある。従って、前記ニードル１
３６の端部及びニードルシート１４３を衝撃に強い物
質、例えば、超硬合金により形成して衝撃による破損を
防止することが好ましい。
【００４７】図５に示したように前記ニードル１３６が
上昇して前記ニードルシート１４３の排出孔１４４が開
放されると、前記液晶容器１２４に供給されるガス（即
ち、窒素ガス）が液晶に圧力を加えるので、前記ノズル
１４５から液晶１０７の滴下が開始される。この時、滴
下される前記液晶１０７の量は、前記排出孔１４４の開
放時間及び液晶に加えられる圧力によって相違し、前記
開放時間は、前記ニードル１３６と磁性棒１３２との間
隔Ｄ、前記ソレノイドコイル１３０により発生する磁性
棒１３２の磁気力及び、前記ニードル１３６に装着され
たスプリング１２８の張力によって決定される。ここ
で、前記磁性棒１３２の磁気力は、該磁性棒１３２の周
囲に装着される前記ソレノイドコイル１３０の巻線数及
び前記ソレノイドコイル１３０に印加される電源の大き
さによって調整することが可能で、前記ニードル１３６
と磁性棒１３２との間隔Ｄは、前記磁性棒１３２の端部
に装着された間隙調整部１３４により調整することがで
きる。
【００４８】前記ニードル１３６と磁性棒１３２間の間
隔Ｄ及びスプリング１２８の張力は、作業者により設定
される。即ち、作業者が前記間隙調整部１３４を直接操
作することで、前記ニードル１３６と磁性棒１３２の間
隔Ｄを設定するか、または、スプリング調整手段（図示
せず）を操作して前記スプリング１２８の長さを変化さ
せることで、該スプリング１２８の張力を設定すること
ができる。
【００４９】一方、前記ソレノイドコイル１３０に印加
される電源の大きさや前記液晶容器１２４に供給される
窒素ガスの量は、前記ガス供給部１５２に連結されてい
て前記液晶容器１２４内にガスを供給する前記ガス供給
管１５３に設置された流量制御バルブ１５４及び、前記
電源供給部１５０を制御する主制御部１６０により決定
される。言い換えると、電源供給量及びガス流入量は、
作業者の直接操作により決定されるものではなく前記主
制御部１６０の制御により決定されるもので、入力され
るデータに基づいて電源供給量及びガス流入量を算出し
て決定するものである。
【００５０】前記主制御部１６０は、図７に示したよう
に、製作しようとする液晶パネルの大きさ、基板に包含
される液晶パネルの枚数、液晶パネルのセルギャップ
（即ち、スペーサの高さ）及び液晶に対する情報などの
各種データが入力される入力部１６１と、前記入力され
たデータに基づいて基板全体に滴下される液晶の量、液
晶滴下回数、１回の液晶滴下量及び液晶滴下位置を算出
して信号を出力する滴下量算出部１７０と、該滴下量算
出部１７０により算出された液晶の滴下位置に基づいて
基板を駆動する基板駆動部１６３と、前記滴下量算出部
１７０により算出された１回の液晶滴下量に基づいて前
記電源供給部１５０を制御して前記ソレノイドコイル１
３０に電源を供給する電源制御部１６５と、前記滴下量
算出部１７０により算出された１回の液晶滴下量に基づ
いて前記流量制御バルブ１５４を制御することで前記ガ
ス供給部１５４から前記液晶容器１２４内にガスを供給
する流量制御部１６７と、入力データ、算出された滴下
量及び滴下位置並びに、液晶滴下の現在状況などを出力
する出力部１６９と、により構成されている。
【００５１】そして、前記入力部１６１は、キーボー
ド、マウスまたはタッチパネルのような通常の操作手段
によりデータを入力するものであって、製作しようとす
る液晶パネルの大きさ、基板の大きさ及び液晶パネルの
セルギャップなどのようなデータが作業者により入力さ
れる。
【００５２】また、前記出力部１６９は、作業者に各種
情報を知らせるためのものであって、ＣＲＴやＬＣＤの
ようなディスプレーまたはプリンタのような各種出力装
置を包含する。
【００５３】また、前記滴下量算出部１７０は、液晶パ
ネルに滴下される液晶の滴下量だけでなく、複数の液晶
パネルが形成される基板全体に滴下される液晶の滴下
量、１回の液晶滴下量及び液晶の滴下位置などを算出す
る。詳しくは、前記滴下量算出部１７０は、図８に示し
たように、前記入力部１６１を介して入力される液晶パ
ネルの大きさ及びセルギャップに基づき、パネルに滴下
される液晶の総滴下量及び複数の液晶パネルが形成され
る基板全体に滴下される液晶の総滴下量を算出する総滴
下量算出部１７１と、該総滴下量算出部１７１により算
出された総滴下量データに基づいて基板上に滴下される
滴下回数を算出する滴下回数算出部１７５と、基板上の
特定位置に滴下される１回の液晶滴下量を算出する１回
滴下量算出部１７３と、基板上に液晶が滴下される位置
を算出する滴下位置算出部１７７と、により構成されて
いる。
【００５４】詳しく説明すると、前記総滴下量算出部１
７１は、入力されるパネルの大きさ（ｄ）及びセルギャ
ップ（ｔ）に基づいて液晶パネルの滴下量（Ｑ）を計算
し（Ｑ＝ｄ×ｔ）、基板上に形成されるパネルの枚数に
基づいて基板に滴下される総滴下量を算出する。
【００５５】また、前記滴下回数算出部１７５は、入力
される総滴下量及びパネルの面積や、液晶及び基板の特
性に基づいて、１枚のパネル内に滴下される滴下回数を
計算する。一般に液晶滴下方式の場合は、基板に滴下さ
れた液晶が上下基板の合着時に印加される圧力によって
基板上で拡散され、このような液晶の拡散は、液晶の粘
度のような液晶の特性や、パターンの配置などのような
液晶が滴下される基板の構造によって左右され、このよ
うな特性により１回滴下された液晶の拡散領域が決定さ
れるので、該拡散領域を勘案してパネルに滴下される液
晶の滴下回数を計算する。また、前記パネルにおける滴
下回数に基づいて基板全体への滴下回数を算出する。
【００５６】また、前記１回滴下量算出部１７３は、入
力される総滴下量に基づいて１回の液晶滴下量を算出す
る。図面では、前記滴下回数算出部１７５と１回滴下量
算出部１７３とが別個に形成されて、入力される総滴下
量に基づいて滴下回数及び１回の滴下量を算出するよう
になっているが、実際に前記滴下回数算出部１７５と１
回滴下量算出部１７３とは密接な関係を有し、滴下回数
及び１回の滴下量もやはり相互関係を有する。即ち、滴
下回数によって１回の滴下量が決定される。
【００５７】また、前記滴下位置算出部１７７は、滴下
される液晶の滴下量及び液晶の特性に基づいて滴下され
た液晶の拡散範囲を計算し、滴下される位置を算出す
る。そして、このように算出された滴下回数、１回の滴
下量及び滴下位置は、図７に示したように、基板駆動部
１６３、電源制御部１６５及び流量制御部１６７にそれ
ぞれ入力される。すると、前記電源制御部１６５は、入
力されたデータ（滴下回数及び１回の滴下量）に基づい
て供給される電源を計算した後、前記電源供給部１５０
に信号を出力して前記ソレノイドコイル１３０に該当電
源を供給する。また、前記流量制御部１６７は、入力さ
れたデータに基づいて供給されるガスの流量を計算し、
流量制御バルブ１５４を制御して該当する量の窒素を前
記液晶容器１２４に供給する。また、前記基板駆動部１
６３は、算出された滴下位置データに基づいて基板駆動
信号を出力し、基板駆動用モータ（図示せず）を作動さ
せて前記基板を移動させることで、液晶滴下装置を基板
の滴下位置に整列させる。
【００５８】一方、前記出力部１６９は、前記入力部１
６１を利用して作業者が直接入力した液晶パネルの大き
さ、セルギャップ及び液晶の特性情報を表示するだけで
なく、前記入力されたデータに基づいて算出された滴下
回数、１回の滴下量、滴下位置、現在液晶が滴下された
回数や位置及び滴下量のような現在の滴下状態を表示し
て、作業者が常にそれを確認できるようにする。
【００５９】以上のように、本発明に係る液晶滴下装置
においては、作業者が入力したデータに基づいて液晶の
滴下位置、滴下回数及び１回の滴下量を算出した後、基
板上に自動的に液晶を滴下させることができる。
【００６０】以下、このように構成された本発明に係る
液晶滴下装置を利用した液晶滴下方法について、図９に
基づいて説明する。
【００６１】先ず、作業者がキーボード、マウスまたは
タッチパネルなどの入力部１６１を操作して液晶パネル
の大きさ、セルギャップ及び液晶の特性情報を入力する
と（Ｓ３０１）、総滴下量算出部１７１は、基板または
パネルに滴下される液晶の総滴下量を算出する（Ｓ３０
２）。
【００６２】次いで、滴下回数算出部１７５、１回滴下
量算出部１７３及び滴下位置算出部１７７は、前記算出
された総滴下量に基づいて滴下回数、滴下位置及び１回
の液晶滴下量をそれぞれ算出する（Ｓ３０３、Ｓ３０
５）。
【００６３】一方、液晶滴下装置１２０の下部に配置さ
れる基板は、モータにより ｘ、ｙ方向に移動するの
で、前記滴下位置算出部１７７は、入力される総滴下
量、液晶の特性情報及び基板情報に基づいて液晶が滴下
される位置を算出し、それに基づいて前記モータを作動
させて設定された滴下位置に前記液晶滴下装置１２０が
位置するように前記基板を移動させる（Ｓ３０４）。
【００６４】このように前記基板が移動した状態で、電
源制御部１６５及び流量制御部１６７は、前記算出され
た１回の液晶滴下量に基づいて該当する排出孔１４４の
開放時間に対応する電源量及び流量を算出し（Ｓ３０
６）、電源供給部１５０及び流量制御バルブ１５４を制
御してソレノイドコイル１３０及び液晶容器１２４に電
源及び窒素をそれぞれ供給することで、設定された位置
への液晶滴下を開始する（Ｓ３０７、Ｓ３０８）。
【００６５】上述したように、１回の滴下量は、前記ソ
レノイドコイル１３０に供給される電源の供給量及び、
前記液晶容器１２４に供給されて液晶に圧力を加える窒
素の供給量によって決定されるため、上述したように前
記二つの因子を一緒に変化させて液晶滴下量を調整する
こともできるし、または、一つの因子は固定させてもう
一つの因子を変化させることで液晶滴下量を調整するこ
ともできる。即ち、前記液晶容器１２４に供給される窒
素の流量を設定された量に固定させ、前記ソレノイドコ
イル１３０に供給される電源の量だけを変化させること
でも、所望量の液晶を基板に滴下させることが可能で、
また、前記ソレノイドコイル１３０に供給される電源の
量は設定された量に固定させて、前記液晶容器１２４に
供給される窒素の量だけを変化させることでも所望量の
液晶を基板に滴下させることができる。
【００６６】一方、基板の特定位置に滴下される１回の
液晶滴下量は、スプリング１２８の張力を調整するか、
ニードル１３６と磁性棒１３２間の間隔Ｄを調整するこ
とで決定され、前記スプリング１２８の張力や間隔Ｄの
調整は、作業者の簡単な操作により容易に行われるの
で、液晶の滴下時に予め設定しておくことが好ましい。
【００６７】基板上に液晶を滴下する時、滴下される液
晶の滴下量は数mg程度の極めて微細な量であり、従っ
て、このような微細な量を正確に滴下することは非常に
困難である。例えば、設定された量は各種要因によって
簡単に変化するため、滴下される液晶量を補正して常に
正確な量の液晶を基板上に滴下することが必要で、この
ような液晶滴下量の補正は、図４に示された前記主制御
部１６０に包含される補正制御部より実行される。
【００６８】詳しくは、前記補正制御部は、図１０に示
したように、滴下される液晶の量を測定する滴下量測定
部１８１と、前記測定された滴下量を設定された滴下量
と比較して液晶の補正量を算出する補正量算出部１９０
と、により構成されている。
【００６９】図示されてないが、液晶滴下装置（または
液晶滴下装置の外部）には液晶の重量を精密に測定する
ための重量計が設置されていて、液晶の重量を周期的ま
たは非周期的に測定し得るようになっている。通常、液
晶は、数mgの微細な量が使用されるため、そのような微
細な量を正確に測定することには限界がある。従って、
本発明では、一定滴下回数の液晶量、例えば、１０回、
５０回または１００回の液晶量を測定することで１回の
液晶滴下量を検出するようになっている。
【００７０】図１１に示したように、前記補正量算出部
１９０は、図８の１回滴下量算出部１７３により算出さ
れた滴下量を現在の滴下量として設定する滴下量設定部
１９１と、前記設定された滴下量と前記滴下量測定部１
８１により測定された滴下量とを比較し、その差値を計
算する比較部１９２と、該比較部１９２によって計算さ
れた滴下量差値が入力され、該差値に該当する圧力の誤
差値を算出する誤差圧力算出部１９４と、前記比較部１
９２により計算された滴下量差値が入力されて、該差値
に該当する電源量の誤差値を算出する誤差電源量算出部
１９６と、により構成されている。
【００７１】そして、前記誤差圧力算出部１９４は、算
出された圧力の誤差値を流量制御部１６７に出力し、該
流量制御部１６７は、入力された圧力の誤差値をガス供
給量に変換した後、前記流量制御バルブ１５４に制御信
号を出力することで、液晶容器１２４に流入されるガス
の流量を増加または減少させる。
【００７２】また、前記誤差電源量算出部１９６は、算
出された圧力の誤差値を電源制御部１６５に出力し、該
電源制御部１６５は、入力された圧力の誤差値を電源量
に変換した後、前記ソレノイドコイル１３０に増加また
は減少された電源を印加することで液晶の滴下量を補正
する。
【００７３】ここで、液晶滴下量の補正方法を説明する
と、図１２に示したように、先ず、設定された回数の液
晶滴下が終了すると、重量計を利用して滴下された液晶
の滴下量を測定する（S４０１）。
【００７４】次いで、測定された滴下量を設定された測
定量と比較して、滴下量の誤差値が存在するか否かを判
断し（S４０２、S４０３）、誤差値がないと、現在滴下
中の液晶量が設定された量であると判断して滴下を継続
して進行する。
【００７５】一方、誤差値があると、誤差圧力算出部１
９４は、誤差値に該当する窒素ガスの圧力を計算し（S
４０４）、流量制御部１６７は、前記誤差値に該当する
圧力から液晶容器１２４に供給される窒素の流量を算出
すると共に（S４０５）、流量制御バルブ１５４を作動
させて、窒素の流量を算出された流量だけ増加または減
少させて前記液晶容器１２４に供給することで、補正さ
れた滴下量の液晶を基板上に滴下するようになっている
（S４０６、S４０９）。
【００７６】一方、液晶の滴下量に誤差値がある場合、
誤差電源量算出部１９６は、前記誤差値に該当する電源
量を算出して前記電源供給部１５０を制御することで、
前記ソレノイドコイル１３０に該当の電源量だけ増加ま
たは減少された電源を供給して、調整された滴下量の液
晶を基板上に滴下する（S４０７、S４０８、S４０
９）。
【００７７】上述したような液晶量の補正工程は反復し
て行われる。即ち、設定された回数の液晶滴下が終了す
る度毎に上述した補正工程が繰り返し行われて、基板上
には常に正確な量の液晶が滴下される。
【００７８】また、前記液晶滴下量の補正時、前記液晶
容器１２４に供給される窒素の流量や前記ソレノイドコ
イル１３０に供給される電源の制御は、それらを一緒に
制御することで液晶の滴下量を補正することもできる
し、何れか一つは固定させてもう一つを制御することで
液晶の滴下量を補正することもできる。且つ、このよう
な液晶滴下量の補正時、スプリング１２８の張力や間隔
Ｄは、最初の設定値に固定することが好ましい。
【００７９】以上のように、本発明は、液晶滴下装置を
提供する。特に、本発明は、入力されたパネルの大き
さ、セルギャップ及び液晶の特性情報に基づいて基板に
滴下される液晶の滴下量を自動的に算出して基板上に液
晶を滴下し、滴下される液晶の滴下量を測定して、誤差
がある場合は補正することで、基板上に常に正確な量の
液晶を滴下し得る液晶滴下装置を提供する。このような
本発明の最も大きい特徴は、入力データに基づいて液晶
の滴下位置、滴下回数及び滴下量を自動的に算出し、滴
下量を測定して設定された滴下量と差がある場合は、そ
れを自動的に補正することにある。
【００８０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る液晶
滴下装置においては、入力されるデータ、即ち、パネル
の大きさ、セルギャップ及び液晶の特性情報に基づいて
基板上に滴下される液晶の位置及び滴下量を算出するの
で、常に正確な位置に正確な量の液晶を滴下することが
できるという効果がある。
【００８１】また、本発明に係る液晶滴下量の制御方法
においては、液晶の滴下量が設定された滴下量と相違す
る場合、それを周期的に補正するので、液晶の滴下量誤
差によって発生する液晶パネルの不良を效果的に防止す
ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶滴下装置により製作されたＬ
ＣＤ素子を示した概略断面図である。
【図２】液晶滴下方式によりＬＣＤ素子を製作する方法
を示したフローチャートである。
【図３】液晶滴下方式の基本概念を示した概略図であ
る。
【図４】本発明に係る液晶滴下装置を示したもので、液
晶を滴下する時の構造を示した概略図である。
【図５】図４の液晶滴下装置において、液晶を滴下させ
るときの構造を示した概略図である。
【図６】本発明に係る液晶滴下装置を示した分解斜視図
である。
【図７】図４の主制御部を示したブロック図である。
【図８】図７の滴下量算出部の構造を示したブロック図
である。
【図９】本発明に係る液晶滴下方法を示したフローチャ
ートである。
【図１０】１回の液晶滴下量補正を行う主制御部の構造
を示したブロック図である。
【図１１】図１０の補正量制御部の構造を示したブロッ
ク図である。
【図１２】本発明に係る液晶の滴下量補正方法を示した
フローチャートである。
【図１３】従来のＬＣＤ素子を示した断面図である。
【図１４】従来のＬＣＤ素子の製造方法を示したフロー
チャートである。
【図１５】従来のＬＣＤ素子の液晶注入方法を示した概
略図である。
【符号の説明】
１０１：液晶パネル領域 １０３、１０５：基板 １０７：液晶 １２０：液晶滴下装置 １２２：ケース １２４：液晶容器 １２８：スプリング １３０：ソレノイドコイル １３２：磁性棒 １３４：間隙調整部 １３６：ニードル １４１：第１結合部 １４２：第２結合部 １４３：ニードルシート １４４：排出孔 １４５：ノズル １４６：排出口 １５０：電源供給部 １５２：ガス供給部 １５４：流量制御バルブ １６０：主制御部 １６３：基板駆動部 １６５：電源制御部 １６７：流量制御部 １７０：滴下量算出部 １８１：滴下量測定部 １９０：補正量算出部 １９１：滴下量設定部 １９２：比較部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 孫 海 ▲チュン▼ 大韓民国 釜山廣域市 蓮提區 蓮山 ２ 洞 861−６ Ｆターム(参考） 2H088 FA09 FA20 FA30 MA17 MA20 2H089 NA22 NA39 NA60 QA12 QA13 QA14 QA16 4F041 AA05 AB02 BA04 BA36 BA53 4F042 AA10 BA02 BA06 BA08 BA12 BA13 BA14 CB03 CB08 CB11

Claims (40)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板上に液晶を滴下するための排出口が
    形成されたノズルと、前記排出口を閉鎖する下部位置と
    前記排出口を開放する上部位置との間を移動するニード
    ルと、該ニードルを下部位置に移動させるスプリング部
    材と、前記ニードルを上部位置に移動させるために該ニ
    ードルに磁気力を提供するソレノイドコイルと、により
    構成されて液晶を滴下する液晶滴下部と、 前記ソレノイドコイルに電源を供給して前記ニードルを
    上部位置に移動させる電源供給部と、 前記ニードルが上部位置に移動した時、液晶滴下部にガ
    ス圧力を提供して前記排出口を通して液晶を排出させる
    ガス供給部と、 基板上に滴下される液晶の滴下量を計算し、前記電源供
    給部及びガス供給部を制御して前記計算された滴下量の
    液晶を基板上に滴下させる制御部と、 を備えて構成されることを特徴とする、少なくとも一つ
    のパネル領域を包含する基板上に液晶を滴下する液晶滴
    下装置。
  2. 【請求項２】 前記制御部は、 データが入力される入力部と、 前記入力されたデータに基づいて液晶の滴下量を算出
    し、基板上に滴下される液晶の滴下位置を算出する滴下
    量算出部と、 前記滴下量算出部により算出された液晶滴下量に基づい
    て、前記電源供給部から前記ソレノイドコイルに供給さ
    れる電源量を制御する電源制御部と、 前記滴下量算出部により算出された液晶滴下量に基づい
    て、前記ガス供給部から前記液晶滴下部に供給されるガ
    ス量を制御する流量制御部と、 前記滴下量算出部により算出された液晶の滴下位置にノ
    ズルが位置するように前記基板及び液晶滴下部のうちの
    何れか一つを駆動する基板駆動部と、 により構成されることを特徴とする、請求項１に記載の
    液晶滴下装置。
  3. 【請求項３】 前記入力部は、液晶パネルの面積、液晶
    パネルのセルギャップ及び液晶の特性情報を包含するこ
    とを特徴とする、請求項２に記載の液晶滴下装置。
  4. 【請求項４】 前記制御部は、入力されるデータ、算出
    された液晶滴下量及び液晶の滴下状態を表示する出力部
    をさらに包含することを特徴とする、請求項２に記載の
    液晶滴下装置。
  5. 【請求項５】 前記滴下量算出部は、 前記入力部を介して入力されるデータに基づいて基板に
    滴下される液晶の総滴下量を算出する総滴下量算出部
    と、 前記総滴下量算出部により算出された総滴下量に基づい
    て液晶の滴下位置を算出する滴下位置算出部と、 前記総滴下量算出部により算出された総滴下量に基づい
    て液晶の滴下回数を算出する滴下回数算出部と、 前記総滴下量算出部により算出された総滴下量に基づい
    て液晶の１回の滴下量を算出する１回滴下量算出部と、 により構成されることを特徴とする、請求項２に記載の
    液晶滴下装置。
  6. 【請求項６】 基板に滴下される液晶の滴下量を測定
    し、その測定量が前記制御部により算出された滴下量と
    相違する場合に前記液晶の滴下量を補正する補正部をさ
    らに包含することを特徴とする、請求項１に記載の液晶
    滴下装置。
  7. 【請求項７】 前記補正部は、 液晶の滴下量を測定する滴下量測定部と、 前記測定された滴下量と算出された滴下量とを比較して
    補正量を算出し、該補正量に基づいて前記電源制御部及
    び流量制御部を駆動する補正量算出部と、 により構成されることを特徴とする、請求項６に記載の
    液晶滴下装置。
  8. 【請求項８】 前記補正量算出部は、 前記制御部により算出された滴下量が設定される滴下量
    設定部と、 前記滴下量設定部により設定された滴下量と測定された
    滴下量とを比較して差値を算出する比較部と、 前記比較部により算出された差値を補正するために、滴
    下特性の誤差値を算出する補正算出部と、 により構成されることを特徴とする、請求項７に記載の
    液晶滴下装置。
  9. 【請求項９】 前記補正量算出部は、 前記比較部により算出された差値に基づいて前記液晶滴
    下部の液晶に印加されるガス圧力の誤差値を算出し、該
    誤差値に対応するガスの流量を算出して、ガス圧力が補
    正された流量を出力する誤差圧力算出部と、 前記比較部により算出された差値に基づいて前記ソレノ
    イドコイルに印加される電源量の誤差を算出し、前記補
    正された電源量を前記電源制御部に出力する誤差電源量
    算出部と、 により構成されることを特徴とする、請求項８に記載の
    液晶滴下装置。
  10. 【請求項１０】 基板上に液晶を滴下するための排出口
    が形成されるノズルと、前記排出口を閉鎖する下部位置
    と前記排出口を開放する上部位置との間を移動するニー
    ドルと、該ニードルを下部位置に移動させるスプリング
    部材と、前記ニードルを上部位置に移動させるように該
    ニードルに磁気力を提供するソレノイドコイルと、を包
    含して構成される少なくとも一つの液晶滴下器の液晶に
    圧力を印加して、少なくとも一つの液晶パネル領域を包
    含する基板上に液晶を滴下する方法であって、 データを入力する段階と、 前記入力されたデータに基づいて基板に滴下される液晶
    の総滴下量を算出する段階と、 前記算出された総滴下量に基づいて基板上に滴下される
    液晶の滴下位置を算出する段階と、 前記算出された総滴下量に基づいて１回の液晶滴下量を
    算出する段階と、 前記算出された１回の液晶滴下量に基づいて、ソレノイ
    ドコイルに供給される電源供給量及び液晶滴下器に供給
    されるガス圧力を計算する段階と、 前記計算された電源供給量を前記ソレノイドコイルに印
    加し、前記計算されたガス圧力を前記液晶滴下器に供給
    して液晶を滴下させる段階と、 を順次行うことを特徴とする、液晶滴下量の制御方法。
  11. 【請求項１１】 前記データを入力する段階は、液晶パ
    ネルの面積、液晶パネルのセルギャップ及び液晶の特性
    情報を入力する段階を包含することを特徴とする、請求
    項１０に記載の制御方法。
  12. 【請求項１２】 スプリングの張力を調整する段階をさ
    らに行うことを特徴とする、請求項１０に記載の制御方
    法。
  13. 【請求項１３】 前記スプリングの張力を調整する段階
    は、作業者が液晶滴下の初期に張力を設定する段階であ
    ることを特徴とする、請求項１２に記載の制御方法。
  14. 【請求項１４】 １回の滴下量に対する電源量は、液晶
    滴下の初期に固定されることを特徴とする、請求項１０
    に記載の制御方法。
  15. 【請求項１５】 １回の滴下量に対するガスの圧力は、
    液晶滴下の初期に固定されることを特徴とする、請求項
    １０に記載の制御方法。
  16. 【請求項１６】 基板に滴下される液晶の滴下量が算出
    された滴下量と相違する場合は、液晶の滴下量を補正す
    る段階をさらに行うことを特徴とする、請求項１０に記
    載の制御方法。
  17. 【請求項１７】 前記液晶の滴下量を補正する段階は、 滴下される液晶の滴下量を測定する段階と、 測定された液晶滴下量と算出された１回の液晶滴下量と
    を比較して補正量を算出する段階と、 前記算出された補正量に基づいて前記ソレノイドコイル
    に供給される電源量及びガス圧力のうちの少なくとも何
    れか一つを制御する段階と、 を順次行うことを特徴とする、請求項１６に記載の制御
    方法。
  18. 【請求項１８】 入力されるデータ、算出された液晶滴
    下量及び液晶の滴下状態を表示する段階をさらに行うこ
    とを特徴とする、請求項１０に記載の制御方法。
  19. 【請求項１９】 液晶を滴下する液晶滴下部と、 前記液晶滴下部から滴下される液晶の滴下量を測定する
    測定システムと、 前記測定システムにより測定された液晶の滴下量を入力
    して、滴下される液晶の目標滴下量と測定された滴下量
    とを比較し、測定された滴下量が目標滴下量と相違する
    ときは、前記液晶滴下部の少なくとも一つの滴下特性を
    電気的に調整する制御部と、 を包含して構成されたことを特徴とする、基板上に液晶
    を滴下する液晶滴下装置。
  20. 【請求項２０】 前記液晶滴下部は、 液晶を滴下するための排出口が形成されたノズルと、 前記排出口が開閉される上下位置間を移動するニードル
    と、 前記ニードルを下部位置に移動させるスプリングと、 磁気力を提供して前記ニードルを上部位置に移動させる
    ことで前記排出口を開放するソレノイドコイルと、 により構成されることを特徴とする、請求項１９に記載
    の液晶滴下装置。
  21. 【請求項２１】 前記ニードルが上部位置に移動した
    時、ガス圧力を利用して前記排出口を介して液晶を滴下
    させることを特徴とする、請求項２０に記載の液晶滴下
    装置。
  22. 【請求項２２】 前記制御部は、ガス圧力及びソレノイ
    ドコイルのうちの少なくとも何れか一つを制御すること
    で、前記液晶滴下部の少なくとも一つの滴下特性を調整
    することを特徴とする、請求項２１に記載の液晶滴下装
    置。
  23. 【請求項２３】 基板上に液晶を滴下するための排出口
    が形成されたノズルと、前記排出口を閉鎖する下部位置
    と前記排出口を開放する上部位置との間を移動するニー
    ドルと、該ニードルを下部位置に移動させるスプリング
    部材と、前記ニードルが上部位置に移動するように該ニ
    ードルに磁気力を提供するソレノイドコイルと、により
    構成されて、液晶を滴下する液晶滴下部と、 滴下される液晶の滴下量を測定する滴下量測定部と、 測定された滴下量を目標とする滴下量と比較して補正値
    を算出する補正量算出部と、 前記補正値に基づき、前記ソレノイドコイルに供給され
    る電源量及びガス圧力のうちの少なくとも何れか一つを
    制御する補正量制御部と、 を包含して構成されることを特徴とする、少なくとも一
    つのパネル領域に対応する基板上に液晶を滴下する液晶
    滴下装置。
  24. 【請求項２４】 前記補正量制御部は、 前記補正量算出部により算出された補正量に基づいて前
    記ソレノイドコイルに供給される電源を制御する電源制
    御部及び、前記補正量算出部により算出された補正量に
    基づいて前記液晶滴下部の液晶に印加されるガス圧力を
    制御する流量制御部のうちの少なくとも何れか一つを包
    含することを特徴とする、請求項２３に記載の液晶滴下
    装置。
  25. 【請求項２５】 前記滴下量測定部は、基板近くに設置
    された重量計を包含することを特徴とする、請求項２３
    に記載の液晶滴下装置。
  26. 【請求項２６】 前記滴下量測定部は、設定された回数
    の総滴下量を測定することで滴下量を測定することを特
    徴とする、請求項２３に記載の液晶滴下装置。
  27. 【請求項２７】 前記補正量算出部は、 目標滴下量を設定する滴下量設定部と、 設定された滴下量と測定された滴下量とを比較して差値
    を算出する比較部と、 前記比較部により算出された差値に基づいて前記ソレノ
    イドコイルに印加される電源量の誤差値を算出し、該誤
    差値を出力することで前記ソレノイドコイルに印加され
    る電源量を制御する誤差電源量算出部と、 により構成されることを特徴とする、請求項２３に記載
    の液晶滴下装置。
  28. 【請求項２８】 前記補正量算出部は、 目標滴下量を設定する滴下量設定部と、 設定された滴下量と測定された滴下量とを比較して差値
    を算出する比較部と、 前記比較部により算出された差値に基づいて前記液晶滴
    下部内の液晶に印加される圧力の誤差値を算出し、該誤
    差値に該当するガスの流量を計算して前記誤差値を出力
    することでガス圧力を制御する誤差圧力算出部と、 により構成されることを特徴とする、請求項２３に記載
    の液晶滴下装置。
  29. 【請求項２９】 前記補正量算出部は、 目標滴下量を設定する滴下量設定部と、 設定された滴下量と測定された滴下量とを比較して差値
    を算出する比較部と、 前記比較部により算出された差値に基づいて前記液晶滴
    下部内の液晶に印加される圧力の誤差値を算出し、該誤
    差値に該当するガスの流量を計算して前記誤差値を出力
    することでガス圧力を制御する誤差圧力算出部と、 前記比較部により算出された差値に基づいて前記ソレノ
    イドコイルに印加される電源量の誤差値を算出し、該誤
    差値を出力して前記ソレノイドコイルに印加される電源
    量を制御する誤差電源量算出部と、 により構成されることを特徴とする、請求項２３に記載
    の液晶滴下装置。
  30. 【請求項３０】 液晶滴下部に液晶を充填する段階と、 基板上に第1滴下量の液晶を滴下する段階と、 前記液晶滴下部の少なくとも一つの滴下特性を自動補正
    する段階と、 自動補正により決定された第2滴下量の液晶を基板上に
    滴下する段階と、 を順次行うことを特徴とする、少なくとも一つのパネル
    領域を包含する基板上に液晶を滴下する液晶滴下方法。
  31. 【請求項３１】 前記自動補正段階は、 基板の近くに設置された測定システムに試験滴下量の液
    晶を滴下する段階と、 試験滴下量に滴下された液晶の量を測定する段階と、 測定された量と目標量とを比較する段階と、 前記液晶滴下部の少なくとも一つの滴下特性を自動調整
    する段階と、 を順次行うことを特徴とする、請求項３０に記載の方
    法。
  32. 【請求項３２】 前記液晶滴下部は、液晶の滴下を制御
    する電気的に制御されるバルブ構造及び、該バルブ構造
    が開放された時に液晶を滴下するためにガス圧力を印加
    する電気的に制御されるガス供給部のうちの少なくとも
    何れか一つを包含して構成され、 前記滴下特性を自動調整する段階は、電気的に制御され
    るバルブ構造及びガス供給部のうちの少なくとも何れか
    一つを電気的に制御する段階を包含することを特徴とす
    る、請求項３１に記載の方法。
  33. 【請求項３３】 前記電気的に制御されるバルブ構造
    は、排出口が形成されたノズル及び、該排出口を開閉さ
    せる上下位置間を移動するニードルを包含することを特
    徴とする、請求項３２に記載の方法。
  34. 【請求項３４】 基板上に液晶を滴下するための排出口
    が形成されたノズルと、前記排出口を閉鎖する下部位置
    と前記排出口を開放する上部位置との間を移動するニー
    ドルと、該ニードルを下部位置に移動させるスプリング
    部材と、前記ニードルが上部位置に移動するように該ニ
    ードルに磁気力を提供するソレノイドコイルと、を包含
    して構成される少なくとも一つの液晶滴下器の液晶に圧
    力を印加して液晶を滴下する方法であって、 滴下される液晶の滴下量を設定する段階と、 滴下された液晶の滴下量を測定する段階と、 前記設定された滴下量と測定された滴下量とを比較して
    補正量を算出する段階と、 前記算出された補正量に基づき、前記ソレノイドコイル
    に印加される電源量及び前記液晶滴下器に印加されるガ
    ス圧力のうちの少なくとも何れか一つを制御する段階
    と、 を順次行うことを特徴とする、液晶滴下方法。
  35. 【請求項３５】 前記液晶の滴下量は、液晶パネルの面
    積、液晶パネルのセルギャップ及び液晶の特性情報に基
    づいて算出されることを特徴とする、請求項３４に記載
    の方法。
  36. 【請求項３６】 前記液晶の滴下量を測定する段階は、
    滴下された液晶の重量を測定する段階を包含することを
    特徴とする、請求項３４に記載の方法。
  37. 【請求項３７】 前記補正量を算出する段階は、 設定された滴下量と測定された滴下量とを比較して差値
    を算出する段階と、 前記算出された滴下量の差値に基づいて液晶滴下器内の
    液晶に印加されるガス圧力の誤差値を算出する段階と、 前記算出された誤差値に該当するガスの流量を計算する
    段階と、 を順次行うことを特徴とする、請求項３４に記載の方
    法。
  38. 【請求項３８】 前記補正量を算出する段階は、 設定された滴下量と測定された滴下量とを比較して差値
    を算出する段階と、 前記算出された差値に基づいて前記ソレノイドコイルに
    印加される電源の誤差値を算出する段階と、 前記算出された誤差値に該当する電源量を計算する段階
    と、 を順次行うことを特徴とする、請求項３４に記載の方
    法。
  39. 【請求項３９】 前記補正量を算出する段階は、 設定された滴下量と測定された滴下量とを比較して差値
    を算出する段階と、前記算出された滴下量の差値に基づ
    いて液晶滴下器内の液晶に印加されるガス圧力の誤差値
    を算出し、該誤差値に該当するガスの流量を決定する段
    階と、 前記算出された滴下量の差値に基づいて前記ソレノイド
    コイルに印加される電源の誤差値を算出し、該誤差値に
    該当する電源量を決定する段階と、 を順次行うことを特徴とする、請求項３４に記載の方
    法。
  40. 【請求項４０】 前記算出された補正量に基づいてスプ
    リングの張力を調整する段階をさらに行うことを特徴と
    する、請求項３４に記載の方法。
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