JP2001330840A

JP2001330840A - 液晶表示素子の製造方法

Info

Publication number: JP2001330840A
Application number: JP2000146429A
Authority: JP
Inventors: Hisaaki Ogino; 商明荻野; Takeshi Takase; 剛高瀬
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 2000-05-18
Filing date: 2000-05-18
Publication date: 2001-11-30

Abstract

(57)【要約】【課題】滴下法による液晶の封入工程において、液晶
が均等に広がらずに液晶セル内に真空空間が残留するの
を防止し、液晶表示素子の表示品位向上を図る。【解決手段】アレイ基板１１にシール剤１４を塗布
し、次いでスリットスキージ装置２５によりシール剤１
４に囲われる画素エリア［Ａ］内に液晶１７を薄膜状に
滴下塗布する。そして減圧下でアレイ基板１１及び対向
基板１２を貼り合わせ、その後大気中に戻して、液晶１
７を、液晶セル内に真空空間を残留する事無く均一に封
入する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子の製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】電極を有する一対の基板間に液晶を封入
して成る液晶表示素子にあっては、従来液晶を封入する
方法として、基板対をシール剤により貼り合わせ液晶セ
ルを組み立てた後、シール剤に形成される注入口から液
晶を注入し更に接着剤等で注入口を封止する注入法、あ
るいは図１０に示すようにいずれか一方の基板１にシー
ル剤にて注入口を有しないシールパターン２を形成し、
シール剤で囲まれる領域に所定量の液晶３を水滴状に滴
下した後、液晶セル内に気泡が残らないよう減圧下にて
もう一方の基板４とスペーサを介して貼り合わせ、その
後シールパターン２を硬化する滴下法が適用されてい
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】前記注入法にあって
は、基板を貼り合わせ液晶セルを形成した後に、狭い注
入口から液晶を注入するため、シール剤の硬化から液晶
の注入完了に至るまでに極めて長時間を要し、生産性に
著しく劣ると言う問題を有していた。又、液晶注入後に
封止材により注入口を封止しているため注入口近傍の液
晶表示素子内に特異点を生じ、これが白ズミの原因に成
り表示品位を低下するという問題も生じていた。更に、
封止材の接着性が悪い場合には剥がれを生じたり、ある
いは封止時に気泡を生じ易いという問題も有していた。

【０００４】このため近年、滴下法による液晶の封入方
法が検討されている。この滴下法は、その製造工程にて
基板の一方に液晶を水滴状に滴下した後、もう一方の基
板と対向配置し真空環境下で両基板を貼り合わせ、その
後大気圧環境に戻すものである。この結果、液晶セル内
外の圧力差により水滴状に滴下した液晶が液晶セル内に
押し広げられ、隣り合った液晶が接触され、真空の空間
を液晶により埋めることにより液晶セル内に液晶を均一
に封入するものである。

【０００５】しかしながら、一般に滴下法にあっては、
真空環境下から大気圧環境下に戻した瞬間は液晶セル内
外の圧力差が大きいので液晶が勢いよく広がるものの、
広がった液晶によって液晶セル内の真空空間が埋められ
ていくと、真空であった液晶セル内の容積が減少して液
晶セル内の真空度が低くなり、大気圧との圧力差が小さ
くなる事から液晶が押し広げられる力が次第に弱くな
る。そのため隣り合う滴下された液晶が接触する最も遠
い点まで液晶が広がらずに真空空間が残留するという現
象を来たし表示不良空間を生じてしまい、均一で良好な
表示品位を得られないという問題を生じていた。

【０００６】そこで本発明は上記課題を除去するもの
で、滴下法での液晶封入時に、液晶セル内に、液晶が存
在しない真空空間を残留してしまう事がなく、表示エリ
ア全面にわたり均一で良好な表示品位を得られることに
より、製造時間の短縮を図る滴下法での液晶の封入工程
を実現可能にする液晶表示素子の製造方法を提供するこ
とを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するための手段として、対向配置される一対の基板のど
ちらか一方に液晶を封止するためのシール剤を塗布する
第１の工程と、前記一対の基板のどちらか一方であって
前記シール剤に囲まれる領域内に前記液晶を薄膜状に滴
下する第２の工程と、この第２の工程終了後、前記一対
の基板を減圧下で所定の間隙を保持するよう前記シール
剤にて貼り合せる第３の工程と、この第３の工程終了
後、前記シール剤を硬化させる第４の工程とを実施する
ものである。

【０００８】このような構成により本発明は、液晶封入
時に液晶セル内に真空空間を残留する事無く良好な表示
品位を得られ、滴下法での液晶の封入を実現可能にし、
液晶表示素子の製造時間を短縮し、その生産性向上を図
るものである。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下本発明を、図１乃至図４に示
す第１の実施の形態を参照して説明する。１０は液晶表
示素子であり、ガラス基板上に画素電極（図示せず）、
対向電極（図示せず）をそれぞれ設けてなるアレイ基板
１１及び対向基板１２は、その上に配置される配向膜１
３をそれぞれラビング処理後、例えば紫外線硬化型樹脂
等からなるシール剤１４にて、スペーサ１６により所定
のギャップを隔てて貼り合され、シール剤１４に囲繞さ
れる領域に液晶１７が封入されて成っている。

【００１０】次に液晶表示素子１０の製造方法について
述べる。例えば画素電極を有する画素エリア［Ａ］が１
３．３インチのアレイ基板１１と対向電極を有する対向
基板１２を形成後、夫々に例えばポリイミドを塗布し更
に約２５０℃で３０分の熱処理を行い膜厚１０００オン
グストロームの配向膜１３を焼成し、冷却後ラビング布
等で所定方向にラビング処理する。

【００１１】そして基板の内どちらか一方、例えばアレ
イ基板１１に塗布断面積が約５０００〜１００００μｍ
^２の範囲で画素エリア［Ａ］を囲うようにアクリル等か
らなる紫外線硬化型のシール剤１４を例えばシリンジで
塗布し、枠状の堰を形成する。他方対向基板１２にはア
レイ基板１１及び対向基板１２の間隔を所定の一定のギ
ャップ幅に保持するための例えばφ５μｍのスペーサ１
６を２００個数／ｍｍ ^２散布する。

【００１２】次にアレイ基板１１のシール剤１４にて囲
まれた画素エリア［Ａ］内に、液晶１７を薄膜状に滴下
塗布する。この液晶１７の滴下塗布は、例えば図３に示
すスリットスキージ装置２５によりスリット（図示せ
ず）を設けたスキージ２６を用いて行う。スキージ２６
はスリット幅１８０ｍｍでオリフィス２７の幅１０μｍ
で実施した。液晶導入口２８から液晶１７を一定の圧力
にて印加し、アレイ基板１１とスキージ２６の下端との
間隔をギャップセンサ３０にて測定し、アレイ基板１１
とスキージ２６の下端との間隔が一定となるように制御
する。

【００１３】液晶１７滴下時、アレイ基板１１を図示し
ないＸＹステージ上に設置し、スキージ２６からの液晶
吐出レート０．０３ｃｍ^３／ｓｅｃ、ＸＹステージの走
査速度２ｃｍ／ｓｅｃに設定し液晶の吐出を実施した。
結果、アレイ基板１１に滴下される液晶１７の膜厚は約
６．６μｍとされる。薄膜状の液晶１７の膜厚の精度は
約±２％の精度であった。

【００１４】滴下塗布する液晶１７の総量は画素エリア
［Ａ］の面積と液晶セルを構成するアレイ基板１１及び
対向基板１２間のギャップにより決定される。例えば画
素エリア［Ａ］が１３．３インチで両基板１１、１２の
間隔が５μｍである時の液晶１７を塗布する総量の目標
値は約２８０ｍｌである。この際実際に滴下される液晶
の総量は目標値の±３％以内が理想とされる。

【００１５】もし実際に滴下される液晶の総量が目標値
より３％以上多いと、アレイ基板１１及び対向基板１２
を真空中にて貼り合わせ大気圧に戻した後、両基板１
１、１２間を所定のギャップにするために加圧する際
に、スペーサ１６の高さに達する前にシール剤１４に囲
われた液晶セルの内部に液晶１７が満たされてしまう。
そしてシール剤１４が硬化前であるために、液晶１７が
シール剤１４にて形成した堰を決壊して液晶セルの外部
にあふれ出てしまう。このためシール剤１４を硬化した
際、液晶１７があふれ出した部分の接着不良により液晶
セルの組み立て強度が著しく損なわれ信頼性を損なって
しまう。

【００１６】他方実際に滴下される液晶の総量が目標値
より３％以上少ないと、アレイ基板１１及び対向基板１
２を真空中にて貼り合わせ大気圧に戻した後、両基板１
１、１２間を所定のギャップにするために加圧する際
に、シール剤１４に囲われた液晶セルの内部の真空空間
を埋めるだけの液晶が足りなく成ってしまう、その結
果、最終的に完成された液晶表示素子１０の画素エリア
［Ａ］にて両基板１１、１２間に液晶１７の満たされな
い真空空間が残留し、著しい表示不良を生じてしまっ
た。

【００１７】更に薄膜状に滴下塗布する液晶１７の周辺
部分では、端部の膜厚が安定せず、なだらかに膜が切れ
るため、液晶１７はレイ基板１１上に形成されたシール
剤１４より約１０ｍｍ離したところに端部が来るように
薄膜状の滴下塗布を実施した。

【００１８】この結果液晶１７の薄膜の厚みは約６．６
μｍ、薄膜のサイズは縦約１８３ｍｍ、横約２３０ｍｍ
であった。

【００１９】この様にアレイ基板１１に液晶１７を薄膜
状に滴下する一方、対向基板１２にスペーサ１６を散布
した状態で組み立て装置４０により両基板１１、１２を
貼り合せ液晶表示素子１０を組立てる。即ち１Ｔｏｒｒ
の真空槽４１内でアレイ基板１１をＸＹＺ方向に調整可
能な下ステージ４２に真空吸着する一方、対向基板１２
をＸＹＺ方向に調整可能な上ステージ４３に真空吸着
し、両基板１１、１２を離間した状態で上下ステージ４
２、４３を移動して位置合わせを行う。次いで両基板１
１、１２を４０ｋｇｆの圧力で加圧し、両基板１１、１
２の貼り合わせを行う。

【００２０】この後貼り合わせを実施した両基板１１、
１２を大気中に戻すと液晶セル内外の圧力差によって液
晶１７が広がり液晶セル内の真空空間を埋める。次いで
両基板１１、１２間を所定の５μｍのギャップ幅にする
ように約３００ｋｇｆにて加圧し、シール剤１４を硬化
させるために下ステージ４２に内蔵される紫外線照射ラ
ンプ４２ａにより紫外線を約３０００ｍＪ／ｃｍ^２照射
してシール剤１４を硬化させて液晶表示素子１０を完成
する。

【００２１】このような製造方法によれば、滴下法によ
る液晶封入時、減圧下でアレイ基板１１及び対向基板１
２を貼り合わせた後に大気圧に戻した時、液晶セル内に
真空空間が残留する事が無く、液晶１７は液晶セル内で
均一に広がり、良好な表示品位の液晶表示素子１０を得
られる。従って滴下法での液晶の封入を実現可能にし液
晶表示素子の製造時間の短縮による生産性向上を図る。

【００２２】次に本発明を、図５に示す第２の実施の形
態を参照して説明する。この第２の実施の形態は、第１
の実施の形態において、アレイ基板への液晶の滴下をイ
ンクジェット方式で行うものであり、他は第１の実施の
形態と同一であることから同一部分については同一符号
を付しその説明を省略する。

【００２３】本実施の形態にあっては、アレイ基板１１
のシール剤１４にて囲まれた画素エリア［Ａ］内への液
晶１７の薄膜状の滴下塗布は、図５に示すインクジェッ
ト方式の液晶塗布ヘッド１８を用いて行う。液晶塗布ヘ
ッド１８はノズルブロック２０内にピエゾ素子２１を板
バネ状のスプリング２２にて上部に固定した形となって
いる。ノズルブロック２０内のスプリング２２の下の空
間に液晶導入口２３より液晶１７を注入し、ピエゾ素子
２１を振動させることによりノズル口２４より液晶１７
を吐出させる構造となっている。

【００２４】今回使用した液晶塗布ヘッド１８は、例え
ばノズル口の径が５０μｍであり、これが２００μｍピ
ッチにて７０個並んだ、塗布幅が約１４ｍｍとされてい
る。この液晶塗布ヘッド１８のピエゾ素子２１に電圧を
１０００ｍＶ印可し、５０Ｈｚの周波数を印可すること
により液晶１７は噴霧状に吐出する事が出来る。液晶１
７滴下時、シール剤１４を塗布されたアレイ基板１１を
図示しないＸＹステージ上に設置し、ＸＹステージを走
査させながら、液晶塗布ヘッド１８から液晶１７を噴霧
し、アレイ基板１１上に液晶１７を薄膜状に滴下塗布し
て行く。この時のＸＹステージの走査速度を例えば５０
ｍｍ／ｓｅｃとすると、アレイ基板１１に滴下される液
晶１７の膜圧は約６．７μｍとされ所望の液晶１７の滴
下量を得られる。

【００２５】そして第１の実施の形態と同様、組み立て
装置４０により１Ｔｏｒｒの真空槽４１内でアレイ基板
１１と対向基板１２を４０ｋｇｆの圧力で加圧して貼り
合わせ、この後両基板１１、１２を大気中に戻すと、液
晶セル内外の圧力差によって液晶１７は真空空間を残留
する事無く液晶セル内に広がる。次いで両基板１１、１
２を３００ｋｇｆの圧力で加圧し、紫外線を約３０００
ｍＪ／ｃｍ^２照射してシール剤１４を硬化させて液晶表
示素子１０を完成する。

【００２６】このような製造方法によれば、第１の実施
の形態と同様、滴下法による液晶封入時、液晶セル内に
真空空間が残留する事が無く、液晶１７は液晶セル内で
均一に広がり、良好な表示品位の液晶表示素子１０を得
られ、滴下法での液晶の封入が実現可能となる。

【００２７】次に本発明を、図６乃至図８に示す第３の
実施の形態を参照して説明する。この第３の実施の形態
は、第１の実施の形態において、マザーガラス基板に２
面分のアレイ基板及び対向基板を形成しそれらの貼り合
わせを行う。且つアレイ基板及び対向基板を貼り合せる
時に、基板の同一平面に異なる複数の圧力を同時に加え
るものである。他は第１の実施の形態と同一であること
から同一部分については同一符号を付しその説明を省略
する。

【００２８】本実施の形態にあっては、例えば３００×
３００×０．７ｍｍのマザーガラス基板５１上に、成膜
技術及びフォトリソグラフィ技術を繰り返し、３２０×
２４０ドットのマトリクス状の画素電極（図示せず）を
有するアレイ基板５２を２面形成する一方、３００×３
００×０．７ｍｍのマザーガラス基板５３上に、平面状
の対向電極（図示せず）を有する対向基板５４を２面形
成する。更にアレイ基板５２及び対向基板５４に例えば
ポリイミドを塗布し更に約２５０℃で３０分の熱処理を
行い膜厚１０００オングストロームの配向膜（図示せ
ず）を焼成し、冷却後ラビング処理する。

【００２９】そして基板の内どちらか一方、例えばアレ
イ基板５２に、画素エリア［Ｂ］を囲うように例えばア
クリルからなる紫外線硬化型のシール剤５６を例えばシ
リンジで塗布して枠状の堰を形成する。他方対向基板５
４にはアレイ基板５２及び対向基板５４の間隔を所定の
一定のギャップ幅に保持するための例えばφ５μｍのス
ペーサ１６を２００個数／ｍｍ^２散布する。

【００３０】次に第１の実施の形態と同様スキージ２６
を用いて、アレイ基板５２のシール剤５６に囲まれた画
素エリア［Ｂ］内に、液晶５７を膜厚約６．６μｍの薄
膜状に滴下塗布する。一方、対向基板１２にスペーサ
（図示せず）を散布した状態で図７に示す組み立て装置
３１により両マザーガラス基板５１、５３を貼り合せシ
ール剤５６を硬化後１面づつに切り離して液晶表示素子
５８を組み立てる。

【００３１】組み立て装置３１は、真空槽３２内にＸＹ
Ｚ方向に調整可能でありマザーガラス基板５１を真空吸
着する下ステージ３３及びＸＹＺ方向に調整可能であり
マザーガラス基板５３を真空吸着する上ステージ３４を
有している。下ステージ３３内には紫外線照射ランプ３
６が内蔵されている。

【００３２】上ステージ３４は、シール剤５６に対応す
る領域を加圧する第１枠加圧ステージ３７及びこの第１
枠加圧ステージ３７外周であってシール剤５６の外側の
領域を加圧する第２枠加圧ステージ３８の二重枠構造と
なっていて、第１枠加圧ステージ３７及び第２枠加圧ス
テージ３８はそれぞれ異なる加圧力での加圧が可能とさ
れる。これにより加圧時、マザーガラス基板５１、５３
平面には、第１枠加圧ステージ３７による加圧と、第２
枠加圧ステージ３８による加圧の複数の加圧が同時に加
えられる様になっている。

【００３３】そして液晶表示素子５８の組み立て時、
０．１Ｔｏｒｒの真空槽３２内にてマザーガラス基板５
１を下ステージ３３に真空吸着する一方、マザーガラス
基板５３を上ステージ３４に真空吸着し、両基板５１、
５３を離間した状態で上下ステージ３３、３４を移動し
て位置合わせを行う。次いで両基板５１、５３の貼り合
わせを行いその後貼り合わせを実施した両基板５１、５
３を大気中に戻すと液晶セル内外の圧力差によって液晶
５７が広がり液晶セル内の真空空間を埋める。

【００３４】次いで、例えば、第１枠加圧ステージ３７
によりシール剤５６領域を０．５ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で
加圧し、第２枠加圧ステージ３８によりシール剤５６の
外側領域を１ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で加圧し、且つ紫外線
照射ランプ３６により紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ^２照
射して、シール剤５６を硬化する。更に１面づつの液晶
表示素子５８とするようマザーガラス基板５１、５３を
半分に切り離して液晶表示素子５８を完成する。

【００３５】この結果従来図８に示すように液晶表示素
子６０のシール剤６１の内外の気圧差により基板６２、
６３の周辺部が撓みギャップむらを生じて、表示品位を
著しく低下させるという現象が解消された。

【００３６】このような製造方法によれば、第１の実施
の形態と同様、滴下法による液晶封入時、液晶セル内に
真空空間が残留する事が無く、液晶１７は液晶セル内で
均一に広がり、液晶表示素子１０の表示品位が向上され
滴下法での液晶の封入が実現可能となる。しかもシール
剤５６の硬化時、シール剤５６領域に比しシール剤５６
の外側領域の圧力を大きく出来る事から、シール剤５６
内外の気圧差にかかわらず液晶セルに撓みを生じる事が
なく、従来生じていた液晶セル周辺部のギャップむらを
解消出来る。従って液晶表示素子５８全面にわたり均一
なギャップを得られ表示品位の向上を図れる。

【００３７】尚本発明は上記実施の形態に限られるもの
でなく、その趣旨を変えない範囲での変更は可能であっ
て、例えば表示領域に液晶を薄膜状に滴下塗布可能であ
ればその方法は限定されないし、所定の液晶量を得られ
ればその液晶の厚さも任意であるし、組み立て工程にお
ける真空槽内の真空度も必要に応じて任意である。又、
シール剤も紫外線照射により硬化されるものに限らず、
加熱により硬化される熱硬化型樹脂を用いたり、あるい
は紫外線照射及び加熱の両方により硬化される紫外線・
熱硬化型樹脂を用いる等してもよい。

【００３８】更に液晶表示素子の構造も任意であり、ア
レイ基板あるいは対向基板にカラーフィルタ層を形成し
たり、あるいは図９に示す他の変形例のようにアレイ基
板６６上に柱状スペーサ６７を形成して、対向基板６８
とのギャップを所望のギャップ幅に保持する等しても良
い。又、マザーガラス基板上に同時に形成する液晶表示
素子の面数も任意である。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、製
造時間を短縮可能な滴下法による液晶封入方法におい
て、液晶封入後に液晶セル内に真空空間が残留するのを
防止出来、液晶セル全面にわたり液晶を均一に充填出
来、液晶表示素子の表示品位を向上出来、滴下法での液
晶の封入を実現可能にする。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態の液晶の封入方法を
示す分散概略説明図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態の液晶表示素子を示
す概略説明図である。

【図３】本発明の第１の実施の形態のスリットスキージ
装置を示す概略構成図である。

【図４】本発明の第１の実施の形態の組み立て装置を示
す概略構成図である。

【図５】本発明の第２の実施の形態の液晶塗布ヘッドを
示す概略構成図である。

【図６】本発明の第３の実施の形態のマザーガラス基板
上の液晶表示素子を示す分散概略構成図である。

【図７】本発明の第３の実施の形態の組み立て装置を示
す概略構成図である。

【図８】本発明の第３の実施の形態において従来技術で
生じていたガラス基板の撓み現象を示す概略説明図であ
る。

【図９】本発明の他の変形例の液晶表示素子を示す概略
説明図である。

【図１０】従来の滴下法による液晶の封入方法を示す分
散概略説明図である。

【符号の説明】１０…液晶表示素子１１…アレイ基板１２…対向基板１３…配向膜１４…シール剤１６…スペーサ１７…液晶１８…液晶塗布ヘッド２０…ノズルブロック２１…ピエゾ素子２２…スプリング２３…液晶導入口２４…ノズル口２５…スリットスキージ装置２６…スキージ２７…オリフィス２８…液晶導入口３０…ギャップセンサ４０…組み立て装置４１…真空槽４２…下ステージ４３…上ステージ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】対向配置される一対の基板のどちらか一
方に液晶を封止するためのシール剤を塗布する第１の工
程と、前記一対の基板のどちらか一方であって前記シール剤に
囲まれる領域内に前記液晶を薄膜状に滴下する第２の工
程と、この第２の工程終了後、前記一対の基板を減圧下で所定
の間隙を保持するよう前記シール剤にて貼り合せる第３
の工程と、この第３の工程終了後、前記シール剤を硬化させる第４
の工程とを具備することを特徴とする液晶表示素子の製
造方法。
【請求項２】前記第２の工程を、インクジェット方式
の塗布装置を用いて行う事を特徴とする請求項１に記載
の液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】前記第２の工程を、スリット状の溝が設
けられるスキージ状の塗布装置を用いて行う事を特徴と
する請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項４】前記第２の工程における薄膜状に塗布す
る前記液晶の塗布量は、（既定の液晶塗布量）±３％で
ある事を特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに
記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項５】前記第２の工程における薄膜状に塗布す
る前記液晶の塗布範囲は、前記シール剤の内法から所定
幅均等に離間している事を特徴とする請求項１乃至請求
項４のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項６】前記第１の工程で塗布する前記シール剤
が紫外線硬化型のシール剤である事を特徴とする請求項
１乃至請求項５のいずれかに記載の液晶表示素子の製造
方法。
【請求項７】前記第１の工程で塗布する前記シール剤
が熱硬化型のシール剤である事を特徴とする請求項１乃
至請求項５のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方
法。
【請求項８】前記第１の工程で塗布する前記シール剤
が紫外線硬化及び熱硬化の両方を必要とするシール剤で
ある事を特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに
記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項９】前記第３の工程における前記所定の間隙
は、前記一対の基板間に散布される球状スペーサにより
保持される事を特徴とする請求項１乃至請求項８のいず
れかに記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１０】前記第３の工程における前記所定の間
隙は、前記一対の基板のいずれかにフォトリソグラフィ
工程を用いて形成される柱状スペーサにより保持される
事を特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載
の液晶表示素子の製造方法。