JP2003233992A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
発性半導体記憶装置を提供する。 【解決手段】 電気的書き換え可能な不揮発性メモリセ
ルが配列されたメモリセルアレイ100と、このメモリ
セルアレイ100に書き込むべきデータを保持する機能
と前記メモリセルアレイのデータを読み出す機能を有す
る複数の書き換え/読み出し回路200と、データの読
み出し及び書き込み動作を制御する制御回路110とを
備え、書き換え/読み出し回路200に保持された書き
込みデータによるメモリセルアレイ100の第1のペー
ジへのデータ書き込み動作に割り込んで、メモリセルア
レイ100の第2のページのデータの書き換え/読み出
し回路200への読み出し動作を実行する制御モードを
有する。
Description
可能な不揮発性半導体記憶装置に係り、特にその書き込
み制御法に関する。
モリの一つに、NAND型フラッシュメモリがある。こ
のNAND型フラッシュメモリにおいて、あるページの
セルデータを別のページに書き込むというコピー書き込
み動作を行う技術は既に提案されている。この様なコピ
ー書き込み機能を実現する上で、主として要請されるの
は、(1)書き込み転送レートの高速化と、(2)コピ
ー書き込みの高い信頼性、である。
ュメモリのオンチップ動作とすることにより実現でき
る。即ち、メモリセルアレイの第1のページのデータを
センスアンプに読み出し、この読み出しデータを外部端
子に出力することなく第2のページへの書き込むことに
より、高速のコピー動作が可能である。しかしこの方式
は、読み出しデータをチップ外部に出力しないことから
書き込み処理時間が短くなるものの、コピー書き込み動
作を繰り返したときにデータが化けるおそれを排除でき
ない。
アンプに読み出されたデータをチップ外部まで出力すれ
ば、外部のメモリコントローラで書き込みデータを検査
できるため、保証することができる。しかしこの場合に
は、書き込み転送レートは大きく犠牲になる。
で出力するようにしたコピー書き込み動作の例を示して
いる。ここでは、ページアドレスRow1のデータを読
み出してチップ外部にシリアル出力し、そのデータをコ
ントローラで検査して、ページアドレスRowAに書き
込み、同様にページアドレスRow2のデータを読み出
して、これをページアドレスRowBに書き込む、とい
うページ単位の繰り返しコピー動作の例を示している。
出しコマンド(Read com.)及びアドレス(A
dd)を入力して、ページRow1のデータ読み出しが
行われる。メモリセルアレイからセンスアンプへのデー
タ読み出し動作の間、メモリチップはビジー状態とな
る。センスアンプに読み出された1ページ分のデータ
は、読み出しイネーブル信号REBによりシリアルに転
送されてチップ外部に出力される(Data Ou
t)。
れる。そして、ロードコマンド(Load co
m.)、アドレス(Add)、必要に応じて一部の書き
込みデータ(Data(extra))及び書き込みコ
マンド(Prog.com.)を順次入力することで、
ページアドレスRowAへの書き込み動作が行われる。
書き込み動作の間、メモリはビジー状態になる。このと
き外部入力される書き込みデータはなくてもよいし、一
部の修正データ或いは1ページ分のデータであってもよ
い。ページアドレスRowAへの書き込み動作が終了し
た後に、同様にして、ページアドレスRow2のデータ
読み出しと、その読み出しデータのページアドレスRo
wBへの書き込みが行われる。
ピー書き込みでは、信頼性を保証しようとすると、図2
5に示したように、読み出しデータをチップ外部まで出
力し、書き込み動作が終了してから次の読み出し動作を
行うという制御となる。この方式では、コピーデータを
チェックするためのシリアル出力時間がコピー動作の高
速性を損なう大きな要因となる。具体的に説明する。メ
モリセルアレイからセンスアンプへのデータ読み出し時
間を25μsec、メモリセルアレイのデータ書き込み
時間を200μsecとし、ページ長を2kバイト、セ
ンスアンプデータのチップ外部へのシリアル転送のサイ
クルを50nsecとして、転送レートを計算すると、
6.2Mバイト/secとなる。これはコピー動作中の
データ追加時間を無視した場合である。書き込み転送レ
ートの高速化にとっては、読み出しデータのシリアル出
力期間50nsec×2k=100μsecが大きなオ
ーバーヘッドとなっている。
可能とした不揮発性半導体記憶装置を提供することを目
的としている。
半導体記憶装置は、電気的書き換え可能な不揮発性メモ
リセルが配列されたメモリセルアレイと、このメモリセ
ルアレイに書き込むべきデータを保持する機能と前記メ
モリセルアレイのデータを読み出す機能を有する複数の
書き換え/読み出し回路と、データの読み出し及び書き
込み動作を制御する制御回路とを備え、前記書き換え/
読み出し回路に保持された書き込みデータによる前記メ
モリセルアレイの第1のページへのデータ書き込み動作
に割り込んで、前記メモリセルアレイの第2のページの
データの前記書き換え/読み出し回路への読み出し動作
を実行する制御モードを有することを特徴とする。
また、電気的書き換え可能な不揮発性メモリセルが配列
されたメモリセルアレイと、このメモリセルアレイに書
き込むべきデータを保持する機能と前記メモリセルアレ
イのデータを読み出す機能を有する複数の書き換え/読
み出し回路と、データの読み出し及び書き込み動作を制
御する制御回路とを備え、前記書き換え/読み出し回路
に保持された書き込みデータによる前記メモリセルアレ
イの第1のページへのデータ書き込み動作中に、前記メ
モリセルアレイの第2のページから前記書き換え/読み
出し回路に読み出されたデータの外部端子への転送出力
を実行する制御モードを有することを特徴とする。
更に、電気的書き換え可能な不揮発性メモリセルが配列
されたメモリセルアレイと、それぞれ第1の転送ゲート
を介して前記メモリセルアレイの異なるビット線に接続
される複数の第1のラッチ回路を備えて、ページ単位の
データセンス及びデータラッチの機能を有する第1のペ
ージバッファと、それぞれ第2の転送ゲートを介して前
記メモリセルアレイの異なるビット線に接続される複数
の第2のラッチ回路を備えて、ページ単位のデータセン
ス及びデータラッチの機能を有する第2のページバッフ
ァと、前記メモリセルアレイのあるページのデータを前
記第2のページバッファに読み出し、チップ外部に出力
して検査した後、前記第1のページバッファに転送して
前記メモリセルアレイの別のページに書き込むコピー動
作を、第1のページの読み出しデータの書き込み動作と
次に選択される第2のページのデータ読み出し動作を一
部オーバーラップさせて実行する制御回路と、を備えた
ことを特徴とする。
イ内でのページ単位のコピー書き込みを行う場合に、書
き込み動作と読み出し動作を一部オーバーラップさせる
ことによって、転送レートの向上が図られる。
の実施の形態を説明する。 [実施の形態1]図1は、この発明の実施の形態による
NAND型フラッシュEEPROMの全体構成を示すブ
ロック図である。メモリセルアレイ100は、図2に示
すように、複数個(図の例では16個)のスタックト・
ゲート構造の電気的書き換え可能な不揮発性メモリセル
MC0〜MC15を直列接続してNANDセルユニット
NU(NU0,NU1, …)が構成される。各NAN
DセルユニットNUは、ドレイン側が選択ゲートトラン
ジスタSG1を介してビット線BLに接続され、ソース
側が選択ゲートトランジスタSG2を介して共通ソース
線CELSRCに接続される。ロウ方向に並ぶメモリセ
ルMCの制御ゲートは共通にワード線WLに接続され、
選択ゲートトランジスタSG1.SG2のゲート電極は
ワード線WLと平行に配設される選択ゲート線SGD,
SGSに接続される。
リセルの範囲が書き込み及び読み出しの単位となる1ペ
ージである。1ページあるいはその整数倍の範囲の複数
のNANDセルユニットNUの範囲がデータ消去の単位
である1ブロックとなる。書き換え/読み出し回路20
0は、メモリセルアレイ100のページ単位のデータ書
き込み及び読み出しを行うために、ビット線毎に設けら
れたセンスアンプ回路(SA)兼ラッチ回路(DL)を
含む。
びビット線BLの選択を行うために、それぞれロウデコ
ーダ120及びカラムデコーダ150が設けられてい
る。制御回路110は、データ書き込み、消去及び読み
出しのシーケンス制御を行う。制御回路110により制
御される高電圧発生回路130は、データ書き換え、消
去、読み出しに用いられる昇圧された高電圧や中間電圧
を発生する。
及びアドレス信号の入力に用いられる。即ち、入出力バ
ッファ230を介して、I/O端子I/O0〜I/O7
とデータ書き換え/読み出し回路200の間でデータの
転送が行われる。I/O端子から入力されるアドレス信
号は、アドレスレジスタ140,160に保持され、そ
れぞれカラムデコーダ150,ロウデコーダ120に送
られてデコードされる。
力される。入力されたコマンドはデコードされてコマン
ドレジスタ180に保持され、これにより制御回路11
0が制御される。チップイネーブル信号CEB、コマン
ドラッチイネーブルCLE、アドレスラッチイネーブル
ALE、ライトイネーブルWEB、リードイネーブルR
EB、ライトプロテクトWPB等の外部制御信号は、動
作ロジックコントロール回路220に入力され、それら
の論理に基づいて動作モードに応じて内部制御信号が発
生される。内部制御信号は、入出力バッファ50でのデ
ータラッチ、転送等の制御に用いられ、また制御回路1
10に送られて、動作制御が行われる。
ッシュメモリは、アドレス入力を伴うコマンド入力或い
は、コマンド入力のみの制御で動作する。コマンドレジ
スタ180が所定のコマンドを受け付けると、制御回路
110が書き込み等の動作制御を行う。制御回路110
は、コマンドにより支持されて動作を実行するためメモ
リコア部を制御するだけでなく、必要な電圧発生、チッ
プ内部で自動処理中であることを外部に示すビジー信号
の出力、内部的なビジー信号の出力のために、ステータ
スレジスタ210及び190の制御を行う。
制御を行うために、ロウアドレスレジスタ160の他
に、もう一系統のロウアドレスレジスタ165が設けら
れている。これら2系統のロウアドレスレジスタ16
0,165からロウデコーダ120への出力部には、ア
ドレス選択回路170が設けられ、いずれか一方のロウ
アドレスがロウデコーダ120に供給されるようになっ
ている。
ジの中のn本のビット線BLの範囲について、書き換え
/読み出し回路200からデータ線(io,ion)3
9までの経路の構成を示している。ビット線BLは、ビ
ット線電位をクランプするためのビット線クランプ回路
を兼ねたプリセンス回路31を介してセンス線N0に接
続される。
レイに対する書き込み動作と読み出し動作を一部オーバ
ーラップさせてコピー書き込みを実行するために、二つ
のページバッファ200a,200bを備えて構成され
る。第1のページバッファ200aは、主として、書き
込みデータを保持してメモリセルアレイ100へのデー
タ書き込みを行うために使用される。第1のページバッ
ファ200aは、各ビット線毎のラッチ回路32を備
え、それらのノードN11,N12は、制御信号TG
1,TG1Bにより選択される転送ゲート33,34を
介して選択的にセンス線N0に接続されるようになって
いる。
各ビット線毎にラッチ回路36を備え、そのノードN1
1は、制御信号TG2により駆動される転送ゲート35
を介してセンス線N0に接続される。ラッチ回路36の
二つのノードN21,N22は、カラムゲート37,3
8を介して、対をなすデータ線(io,ion)39に
接続されている。
み/読み出しデータを一時保持するキャッシュとして使
用される。即ちページ単位のデータ書き込み時には、カ
ラムゲート37,38がカラム選択線CSLにより順次
駆動されて、入出力バッファからデータ線39をシリア
ルに転送されてくるデータが順次ラッチ回路36にロー
ドされる。このラッチ回路36にロードされたデータ
は、転送ゲート35を介して並列に第1のページバッフ
ァ200aの対応するラッチ回路32に転送され、保持
される。データ読み出し時は、第2のページバッファ2
00bに読み出されたデータは、やはりカラムゲート3
7,38がカラム選択線CSLにより順次駆動されて、
シリアルデータに変換されてデータ線39を転送されて
出力されることになる。
み出しではない通常のデータ読み出し動作では、第1の
ページバッファ200aがセンスアンプとして用いられ
るが、コピー書き込み動作を行う場合には、第1のペー
ジバッファ200aに書き込みデータを保持した状態で
データ読み出しを行うために、第2のページバッファ2
00bが直接ビット線データを取り込むセンスアンプと
して用いられることになる。
一対のデータ線io,ionに接続される範囲を示して
いる。例えばメモリセルアレイ100の1ページが2k
バイト長であるとすると、入力パッドが8個の場合に
は、図3のビット線数は、n=2048となる。即ち、
nビットのデータが第2のページバッファ200bとデ
ータ線39の間で、シリアル/パラレル変換されること
になる。
化して示しているが、実際には書き込み動作時、書き込
みパルス印加とベリファイ読み出し動作を繰り返し行う
ため、ビット毎ベリファイに必要な回路が設けられる。
図4は、そのベリファイ動作に必要な回路部を含めて、
ページバッファ200aの単位回路構成を示している。
ラッチ回路32は、クロックト・インバータCI1,C
I2を逆並列接続して構成される。センス線N0は、転
送ゲート(NMOSトランジスタ)33を介してラッチ
回路32のデータ保持ノードN11に接続されている。
センス線N0には、プリチャージ用NMOSトランジス
タ42が設けられ、またプリチャージ電荷保持のための
キャパシタC2が接続されている。
NMOSトランジスタ44を介してノードN11のデー
タを一時記憶するための一時記憶ノードN2に接続され
ている。この記憶ノードN2には、VREGをプリチャ
ージするためのNMOSトランジスタ46も接続されて
いる。ノードN2にはレベル保持のためのキャパシタC
1が接続されている。キャパシタC1の端子は接地され
る。
ト分の書き換え/読み出し回路200に共通に配設され
るもので、ノードN2により制御される転送スイッチ素
子であるNMOSトランジスタ45と、制御信号REG
により制御される転送スイッチ素子であるNMOSトラ
ンジスタ43を介して、センス線N0に接続されてい
る。この共通信号線COMは、センス線N0を選択的に
充電する際に用いられるVcc電源線として、また書き
込み・消去のベリファイ動作においてはパス/フェイル
判定を行うための信号線として用いられる。
き込み及び書き込みベリファイ動作を簡単に説明する。
この実施の形態でのメモリセルは、図6に示すように、
浮遊ゲートFGと制御ゲートCGが積層されたMOSト
ランジスタ構造を有し、浮遊ゲートFGが電子を保持し
ていない低しきい値状態を消去状態(データ“1”)、
浮遊ゲートFGに電子が注入された高しきい値状態を書
き込み状態(データ“0”)として記憶する。図8はそ
のデータのしきい値分布を示している。
応じて、ビット線BLを介して選択セルのチャネルを
“L”,“H”レベルにプリチャージし、選択ワード線
に正の書き込み電圧Vpgmを与えて行われる。詳細な
説明は省くが、“0”データが与えられた選択セルで
は、浮遊ゲートにチャネルから電子が注入される。
“1”データが与えられた非選択セルでは、フローティ
ングになるチャネルが制御ゲートからの容量カップリン
グにより電位昇圧して、書き込みが禁止される。
の様子と、消去時の電圧印加の様子を示している。デー
タ消去は、ブロック単位で一括して行われるもので、制
御ゲートCGを0Vとし、p型ウェルに消去電圧を印加
して、浮遊ゲートFGの電子を放出させることになる。
に、順次電圧値を高くした書き込みパルス電圧Vpgm
の印加とベリファイ読み出しが繰り返し行われる。ベリ
ファイ読み出し時の選択ワード線に与える電圧は、図8
に示すように、“0”データのしきい値分布を保証する
値Vv0が用いられる。書き込みサイクルの間、図4の
ページバッファ200aは書き込みデータを保持する。
て、ラッチ回路32のノードN11が“L”,“H”と
なるようにロードされるが、ビット毎ベリファイ読み出
しによって、“1”データの“H”レベルは、書き込み
動作が終了するまで保持される。“0”データは、
“0”書き込みが十分になった時点で、読み出しビット
線が“H”レベルになり、これがセンスノードN1を介
してノードN11に“H”が転送され、データ反転され
る。ラッチ回路32のノードN11がオール“H”とな
ったことを、一時記憶ノードN2を介して共通配線CO
Mで検出することによって、書き込みが完了したこと
(ベリファイパス)が判定されることになる。
39について入力バッファ230の近傍の構成を示して
いる。データ線39は、データ線センスアンプ40に接
続され、読み出し出力は出力回路50を介して入出力パ
ッドI/Oに出力される。データ線39には、これらを
VccにイコライズするためのPMOSトランジスタに
より構成されたデータ線イコライズ回路30が接続され
ている。
てページバッファ200に書き込む経路には、データ反
転回路90が設けられている。即ちページバッファ20
0にデータをロードする場合、書き込みデータは、I/
Oパッドから入力バッファ90、データ反転回路90に
より必要に応じて二値レベルを反転し、更にデータ入力
回路70を介してデータ線39に転送される。具体的に
データ反転回路90が用いられるのは、後に説明するよ
うに、コピー書き込み動作において、データを追加する
場合である。
トであり、信号INVERTが”L”の場合、I/Oパ
ッドのデータが“H”の時、データ線ioが“H”、従
って第2のページバッファ200bのラッチ回路36の
ノードN21には“H”が転送される。INVERT
が”H”の場合には、I/Oパッドのデータが“H”の
時、ioには”L”、従ってラッチ回路36のノードN
21が“L”となる。これがデータのレベル反転の意味
である。
ーブル信号DLEにより活性化されて、入力されたデー
タを相補データに変換してデータ線39に転送する。詳
細な説明は省くが、このデータ入力回路70は、PMO
Sトランジスタ71a,71b及びNMOSトランジス
タ72a,72bによる二つの出力ドライバを有し、こ
れらのドライバによって、データ反転回路90の出力が
“H”のとき、データ線io,ionにそれぞれ
“H”,“L”が与えられる。イネーブル信号DLEが
“L”のときは、全てのトランジスタ71a,71b,
72a,72bがオフの高出力インピーダンス状態にな
る。
分の書きこみデータを第2のページバッファ200bに
ロードし、これを第1のページバッファ200aに転送
する。通常の書き込み動作の場合、データ反転回路90
では、信号INVERTを”L”にした状態でデータ入
力が行われる。従って、”1”書きこみの場合、第2の
ページバッファ200bのラッチ回路36のノードN2
1に”H”データが入力され、これが転送ゲート35を
介して第1のページバッファ200aのラッチ回路32
のノードN11に転送される。
の電位を転送することになり、ワード線で選択されたセ
ルに書きこみパルスを与えた場合には、しきい値シフト
をしない書き込み(書き込み禁止)となる。逆に、”
0”書きこみの場合、ラッチ回路32のノードN11に
は”L”データが入力される。これは、ビット線に0V
を転送することになり、ワード線で選択されたセルに書
き込みパルスを与えた場合には、負のしきい値状態の”
1”セルに対してFNトンネル注入によってしきい値シ
フトさせる“0”書き込みとなる。
“0”データの場合について、入出力パッド(“L”レ
ベル)からラッチ回路36のノードN21に“L”レベ
ルが転送され、更にラッチ回路32のノードN11に
“L”レベルが転送され、これにより“0”書き込みが
行われる様子を示している。
作においては、ラッチ回路36のノードN21に読み出
された1ページ分のデータをレベル反転してラッチ回路
32のノードN11に転送することが必要である。何故
なら、セルデータの読み出し時は、“0”データがラッ
チ回路32のノードN11(またはラッチ回路36のノ
ードN21)に“H”として読み出されるのに対し、
“0”データ書き込みのためにはラッチ回路32のノー
ドN11が“L”として書き込みデータを保持しなけれ
ばならないからである。この様にコピー書き込み動作に
おいて、ラッチ回路39のノードN21からラッチ回路
32のノードN11へのデータ転送時にレベル反転する
ことから、コピー書き込みデータを一部変更するために
入出力パッドからデータ追加する場合に、データ反転回
路90でのレベル反転を必要とすることになる。
作を説明する。コピー動作は、メモリセルアレイ100
のあるページのデータをページバッファに読み出し、更
に外部に転送出力してこれを検査し、必要ならデータを
追加して、メモリセルアレイ100の別のページに書き
込むという動作を基本とする。この実施の形態でのコピ
ー書き込み動作は、メモリセルアレイ100からのデー
タ読み出しと同じメモリセルアレイ100へのデータ書
き込み動作を一部オーバーラップさせることにより、高
速化を図っている。
御タイミングを示している。横軸は時間であり、”op
eration”の行に示す記述は、コマンド入力やア
ドレス入力、およびデータの入出力である。”Read
com”は、読み出し動作を起動するコマンドであ
り、それに続く“Add.(Row1)”は、読み出し
動作を行うアドレス入力である。コマンド入力やアドレ
ス入力は、ライトイネーブルWEBの“L”に同期して
行われる。“Ready/BusyB”は、ステータス
レジスタ210によりチップ外部に知らされるレディ/
ビジー状態信号である。“Int.Ready/Bus
yB”は、ステータスレジスタ190によって、チップ
内部でのみ出力されるレディ/ビジー状態信号である。
れた後に、読み出し動作が実行されるものとする。この
読み出し動作は、通常の読み出し動作コマンドであって
もよいし、コピー時の専用の読み出し動作であってもよ
い。この読み出し動作は、図15に示すようなデータ転
送動作になる。通常の読み出し動作では、メモリセルの
データを一旦第1のページバッファ200aのラッチ回
路32のノードN11に読み出してから、これを第2の
ページバッファ200bのラッチ回路36のノードN2
1に転送するが、コピー専用の読み出し動作とする場合
には、メモリセルのデータを、第2のページバッファ2
00bのラッチ回路38のノードN21に直接読み出
す。
であり、ノードN21には“H”電位が読み出されてい
る。この読み出し時の波形図は、図18のようになる。
時刻r0で、選択ワード線に0V、NANDセル内の非
選択ワード線にパス電圧Vread(約4V)、ビット
線側の選択ゲートSGDにパス電圧Vread(約4
V)を印加する。ページバッファ200aでは、制御信
号BLCLAMPにビット線プリチャージ用の電圧を印
加すると、ページバッファ200aからビット線がプリ
チャージレベルVpreまで充電される。
選択ゲートSGSにパス電圧Vread(約4V)を印
加すると、制御ゲートに0Vの読み出し電圧が印加され
た選択メモリセルによるセル電流が流れる。選択セルが
“0”セルならば、しきい値が正なので、実線のように
ビット線電位の変化は小さく、“1”セルならば大きな
セル電流が流れビット線を放電する。
スノードをプリチャージした後に、時刻r3で再び制御
信号BLCLAMPとしてセンス用電圧を与えてビット
線電位をセンスする。このとき、ビット線の電位がVs
enのレベルより高ければ、ノードN21(またはN1
1)は、”H”となる。すなわち、”0”セルの場合
は、”H”がノードN21(またはN11)に読み出さ
れる。このノードN21の“H”は、データ出力経路で
反転されて、I/Oパッドには、“L”として出力され
る。
スレジスタ210はチップ外部にビジー状態(busy
read)を知らせ、ステータスレジスタ190はチ
ップ内部でビジー状態を知らせる。
み出されたデータは、リードイネーブル信号REBによ
り制御されて、シリアル転送されて外部入出力パッドに
出力され、メモリコントローラに取り込まれる。このデ
ータを、メモリコントローラで検査した後、異なるロウ
アドレスRowAのページに書き込むため、データ入力
コマンド”Load com”、書き込み先のロウアド
レス”RowA”、および必要に応じて追加書き込みデ
ータ”Data(extra)”が入力され、コピー書
きこみを実行する書きこみコマンド”Prog.co
m.”が入力される。
分のデータは、前述のようにラッチ回路36のノードN
21に保持されている読み出しデータをレベル反転して
ラッチ回路32のノードに転送する必要がある。従っ
て、チップ外部に読み出して検査したデータの一部を変
更する追加データを入力する場合には、これをチップ内
で一旦レベル反転してラッチ回路36のノードN21に
ロードすることが必要になる。即ち外部書き込みデータ
は、図17に示すように、制御信号INVERTを”
H”として反転回路90でレベル反転してノードN21
にロードする。
g.com.)が入力されたら、メモリセルにとっての
正しい書きこみデータとなるように、ラッチ回路36の
ノードN21のデータをラッチ回路32のノードN12
に反転転送する。すなわち、図3において、制御信号T
G2とTG1Bを”H”レベルにしてデータ転送を行
い、ノードN21が”H”の場合、ノードN11が”
L”になるような反転転送を行う。
ルをメモリコントローラ内で反転させてチップに供給す
る場合には、データ反転回路90を非活性(INVER
T=“L”)にして、図16に示す通常のデータ書き込
みと同様のデータロードを行えばよい。
第、書き込みパルス印加動作を開始する。書き込みデー
タの転送が終わったところで、第2のページバッファ2
00bのデータは不要になる。そこで、第2のページバ
ッファ200bのラッチ回路36を有効に使用するた
め、チップ内部では書きこみ動作実行中(busy)で
ありながら、外部には、短いビジー(ダミービジー)状
態にした後、レディ(ready)としてコマンド受付
可能な状態にする。
00μsというオーダーであるが、ここでは、数μs程
度の短いダミービジー(Dummy busy)とする
ことが重要である。コピー動作が複数のページのデータ
移動であるとすれば、読み出し、書きこみ、読み出しが
連続する。よって、ここで、次のコピー元のロウアドレ
ス(ページアドレス)”Row2”に対する読み出しコ
マンド(Read com.)とアドレス(Add(R
ow2))を入力する。
ーケンス制御されて、ページバッファ200aのラッチ
回路32とメモリセルとの間で書きこみ動作が行われ、
前述した書き込みパルス印加とベリファイ読み出しを繰
り返す書きこみサイクルが進行中であるが、書きこみパ
ルス印加動作の後や、書きこみベリファイ動作の後に
は、割り込み処理が可能である。即ち、書きこみ中のデ
ータは、ラッチ回路32にスタティックに保持され、ま
た、NMOSトランジスタ33によって、センス線N0
やラッチ回路36とは電気的に切り離されている。従っ
て、図20に示すような書き込みサイクルにおいて、書
きこみパルス印加中であれば、その書きこみパルス印加
動作が終了する時点t2,t4,t6…を待って読み出
し動作を割り込ませ、書きこみベリファイ読み出し動作
中であれば、そのベリファイ読み出し動作が終了する時
点t3,t5,…を待ってから、読み出し動作を割り込
ませればよい。
や、ベリファイ動作の合間に、読み出し動作のためにビ
ット線を解放させることができる。この割り込み処理の
読み出し動作は通常の読み出し動作と同様に、終了する
まで外部にはbusy状態を出力する。読み出しが終了
し次第、Ready/busyBをReadyにするだ
けでなく、中断させた書きこみ処理を再開する。そし
て、Readyとなったため、ページバッファ200b
に読み出されたロウアドレス”Row2”のデータをシ
リアル出力して、チップ外部でそのコピー元データをチ
ェックする、というように同様に繰り返す。
込ませるタイミングは、早ければ早い方がよい。この動
作の効果を出すためには、シリアル出力時間やコマン
ド、アドレス入力、データロード時間をできる限りチッ
プ内部のbusy時間にオーバーラップさせることが必
要である。そのオーバーラップによって、2回目以降の
コピー書き込みでは、書き込み実行コマンド(Pro
g.com.)入力時に、まだチップ内部での書き込み
が終了していない状況となりうる。
ければ、次の書き込みに進めないため、ステータスレジ
スタ210は、書き込みが終了するまで本当のビジー
(True busy)を出すことになる。すなわち、
第2のコピー書き込みのアドレスRowBを入力し、追
加データを第2のページバッファ200bにロードして
も、その書き込みデータを第1のページバッファ200
aに転送するまでは、Ready/BusyBをRea
dy状態にできない。
と、ダミービジー(Dummy busy)の期間をお
いて、外部的には、次のアドレスRow3に対する読み
出し可能なレディ状態になる。内部的には、アドレスR
owBに対する書き込みサイクルが実行され、ビジー状
態が続く。以下、同様の動作が繰り返される。
き込み動作でのページバッファ回りのデータの遷移を示
している。これらの図では、ページ長4bit分を一例
として示している。図10(a)は、コピー元の最初の
ページアドレスRow1のセルcell0,cell
1,cell2,cell3のデータ“1”,“0”,
“1”,“0”が第2のページバッファ200bのノー
ドN21に“L”,“H”,“L”,“H”として読み
出される様子を示している。
は、図10(b)に示すように、シリアル転送されて入
出力バッファを介して外部に読み出される。以上の読み
出し動作が終了した後、必要なら追加データを加えて、
これを第2のページバッファ200bにロードする。図
10(c)がその様子を示しており、ここでは読み出し
データが“L”,“H”,“L”,“H”の状態でラッ
チ回路36のノードN21に保持されており、これが一
部書き換えられて、“L”,“H”,“L”,“L”と
してロードされた例を示している。
21にロードされたデータは、図10(d)に示すよう
に、データ反転されて第1のページバッファ200aの
ノードN11に転送され、コピー先のアドレスRowA
のセルに書き込まれる。その書き込みサイクルの途中で
一時書き込み動作を中断し、第1のページバッファ20
0aに書き込みデータを保持したまま、次のコピー元で
あるページアドレスRow2の読み出しが行われる。そ
の様子が図11(a)であり、セルデータは第2のペー
ジバッファ200bのノードN21に直接読み出され
る。ここでは読み出しデータは、“H”,“L”,
“H”,“L”である例を示している。
ドN21に読み出されたデータがシリアル転送されて外
部に出力される間に、ノードN11の書き込みデータに
よるアドレスRowAのセルへのデータ書き込みが再開
される。即ちここで、チップ外部から見れば、読み出し
動作と書き込み動作とがオーバーラップする。書き込み
動作は、ノードN11のデータ“H”,“L”,
“H”,“H”により、アドレスRowAのセルcel
l0,cell1,cell2,cell3に“1”,
“0”,“1”,“1”を書くものであるが、図11
(b)では、セルcell1がまだ“1”のままで書き
込みが完了していないことを示している。
したら、先のページに対すると同様に必要に応じて変更
書き込みデータを入力して、図11(c)に示すよう
に、第2のページバッファ200bが書き換えられる。
第1のページバッファ200aの書き込みデータによる
セルへのデータ書き込みが完了するまでは、第2のペー
ジバッファ200bのデータを第1のページバッファ2
00aに転送できない。
“H”,“L”,“H”,“H”により、アドレスRo
wAのセルcell0,cell1,cell2,ce
ll3に対する“1”,“0”,“1”,“1”の書き
込みが完了して、ベリファイ読み出しによって“L”を
保持していたノードN11が反転して、第1のページバ
ッファ200aのノードN11がオール“H”になった
状態を示している。以下、第2のページバッファ200
bのノードN21のデータは反転されて第1のページバ
ッファ200aのノードN11に転送され、コピー先で
あるアドレスRowBに対する書き込みが同様に行われ
ることになる。
Aに対する書き込みサイクル中に、別のページアドレス
Row2に対する読み出し動作を割り込ませるから、中
断する書き込みサイクルの書き込みページアドレスRo
wAを記憶しておくことが必要である。そのために、図
1に示したように、2系統のロウアドレスレジスタ16
0,165が用意されている。このロウアドレスレジス
タ160,165の切り換えは次のようにすればよい。
レスレジスタ165に格納する。書きこみ動作中は、ロ
ウアドレス選択スイッチ172をオンさせ、このロウア
ドレスレジスタ165からロウデコーダ120に書きこ
み用のアドレスを出力する。そして、割り込み処理の読
み出し動作に使うアドレスは、ロウアドレスレジスタ1
60に格納する。読み出し動作を割り込ませてよいタイ
ミングになったら、ロウアドレス選択スイッチ172を
オフ、171をオンさせて、ロウデコーダ120に読み
出し用アドレスを出力する。読み出し動作が終わり次
第、再び書きこみ用ロウアドレスをロウデコーダ120
に出力するように、スイッチ171と172を切り替え
る。
ータ読み出し時間を25μsec、データ書き込み時間
を200μsecとし、ページ長を2kバイト、センス
アンプデータのチップ外部へのシリアル転送のサイクル
を50nsecとしたとき、転送レートは、6.2Mバ
イト/secとなる。これに対してこの実施の形態で
は、コピー元のデータのチップ外部へのシリアル出力の
時間100μsecが、書き込み動作によるビジー時間
にオーバーラップするため、見かけ上の動作時間が短く
なり、コピー書き込み動作を複数ページに対して連続的
に行うと、書き込み転送レートは約9Mバイト/sec
に向上する。
では、コピー書き込みを開始した場合に、第2のページ
バッファ200bのラッチ回路36から第1のページバ
ッファ200aのラッチ回路32にデータ転送の後、す
ぐ書き込みパルス印加動作を開始している。このため
に、次のコピー元のデータ読み出しを書き込みパルス印
加動作や書き込みベリファイ動作の境界に割り込ませる
処理が必要であった。これはタイミング的な自由度があ
る反面、読み出しコマンドを入力しているのに、実際の
読み出し動作に待ち時間が発生することを意味する。従
って出力されるビジー時間が、最大で、読み出しビジー
時間+書き込みパルス印加動作1回の時間となったり、
読み出しビジー時間+書き込みベリファイ動作時間とな
ってしまう。結果として、割り込ませた読み出し動作の
ビジー時間をタイミングよく検出しないと、シリアル出
力を始めるまでに時間的に損をすることになる。
みコマンド入力、書き込みデータロードを行った後、直
ちに書き込みパルス印加に進まず、次のコピー元に対す
るデータ読み出しを待ってから、書き込みパルス印加を
開始するような動作制御を行う。その動作制御を図9に
対応させて図12に示す。
レスRow1のデータを読み出し、これをコピー先のア
ドレスRowAに書き込むべく、ロードコマンド(Lo
adcom.)、アドレス(Add.)、書き込みコマ
ンド(Prog.com.)を入力する。ここまでは先
の実施の形態と変わらない。この実施の形態では、第2
のページバッファ200bから第1のページバッファ2
00aに書き込みデータを転送した後に、書き込みパル
ス印加動作に進まずに、書き込みスタンバイ状態とする
猶予期間を設けて、次のコピー元データ読み出しを待ち
受ける。これは、連続動作を想定した典型的な動作制御
である。
対する書き込みコマンドの後のロウアドレスRow2の
読み出し動作のビジーが、通常の読み出し動作の時間で
必ずレディに戻る。従って、書き込みサイクル中の任意
の割り込みでないために設計が容易になる。図12に示
すように、読み出しビジー状態が終了した後、書き込み
サイクルが読み出しデータのシリアル出力と同時に開始
されることになる。
m.)の入力後に読み出しコマンド(Read co
m.)を入力しない限り、内部では書き込み動作が開始
しないという制御にしたとすると、読み出しコマンドの
入力の遅れが大きく転送レートの遅れにつながる。従っ
て、読み出しコマンドに対する待ち時間(書き込みスタ
ンバイの猶予時間)は、予め一定の時間に設定してお
き、その時間を過ぎたら、読み出しコマンドを待たずに
書き込みサイクルを開始するという制御を行うことが好
ましい。
制御では、書き込みを行うロウアドレス(ページアドレ
ス)と次のコピー元のデータ読出しのロウアドレスを別
々のアドレスレジスタに同時に保持して、自動的にこれ
を制御回路が切り換える必要があった。これに対して、
チップ内部でのロウアドレス切り換え制御をなくし、ユ
ーザー、コントローラがアドレスを再入力する制御方法
とすることができる。
図13に示す。ここでは、コマンドやアドレスの入力回
数を増やした場合に、小刻みなレディ/ビジー(Rea
dy/BusyB)制御の必要が生じないように、コマ
ンドやアドレス入力の順番を先の実施の形態とは異なら
せている。すなわち、コピー元のアドレスRow1のデ
ータをメモリセルから読出し、外部にシリアル出力した
後に、ロードコマンド(Load com.)、コピー
先アドレス(Add.(RowA)、追加データ(Da
ta)を入力する。ここで、通常のロードコマンドとの
互換性のため形式的に書き込み先ロウアドレスRowA
を入力しているが、これは続いて入力される次のコピー
元データ読出しコマンド(Read com.)、及び
その読出し先を示すロウアドレス(Add.(Row
2)を入力することによって、先に入力された形式的な
書き込みロウアドレス“RowA”は“Row2”によ
って上書きされる。
g.com.1)を入力すると、第2のページバッファ
200bのデータが、第1のページバッファ200a側
に反転転送され、読出し用アドレスである”Row2”
に対して読出し動作を行う。この時点で、第1のページ
バッファ200aに保持されている書き込みデータはロ
ウアドレスを失っている。そこで、外部から改めて、ロ
ードコマンド(Loadcom.)、書き込みアドレス
(Add.(RowA))及び書き込みコマンド(Pr
og.com.2)を再入力する。これによって、第1
のページバッファ200aの保持データの書き込みがチ
ップ内部で実行され、その間第2のページバッファ20
0bに読み出されたデータは、先の実施の形態と同様シ
リアル出力することが可能になる。この場合、書き込み
動作を始めるには、常にその直前で書き込み用のロウア
ドレスを入力することが必要である。
出し後も同様に、コピー先書き込みアドレスRowBを
一旦入力し、次のコピー元のアドレスRow3を入力し
た後に、改めて書き込みアドレスRowBを再入力す
る。この様にこの実施の形態では、ロウアドレスが入力
されるたびにロウアドレスレジスタの内容を上書きして
いくだけでよいので、ロウアドレスの制御は簡単にな
る。
マンド、アドレス入力方式を採用して、一連のコピー動
作でビジー(busy)が出る回数を最も減らした場合
の動作制御例を、図14に示す。実施の形態3と同様
に、最初のアドレスRow1の読み出しデータのコピー
先アドレスRowAに対する書き込みデータのロード
後、書き込みコマンド(Prog.com.)の入力前
に次のコピー元の読み出しコマンド及びアドレス(Ro
w2)入力を行う。但し実施の形態3とは異なり、書き
込みアドレスRowAの再入力は行うことなく、アドレ
スRow2のページバッファへの読み出し後、アドレス
RowAに対する書き込み動作とアドレスRow2のデ
ータのシリアル出力を並行して行っている。そして、ア
ドレスRowAに対する書き込みサイクル中に、チェッ
クされたデータのコピー先アドレスRowBの入力、引
き続き次のコピー元のアドレスRow3の入力が行われ
る。
のアドレスRowA、データチェックを終えた後の書き
込み先のアドレスRowB及び、このアドレスRowB
への書き込み前に読み出しを行うためのアドレスRow
3を同時にチップ内に保持することが必要になる。これ
を実現するには、図21に示すように、3つのロウアド
レスレジスタ160,166,165を必要とする。こ
れは、図1の構成でのロウアドレスレジスタ160,1
65の間に更にロウアドレスレジスタ166を追加した
形である。入力されるロウアドレスは、書き込みアドレ
スである場合にレジスタ160,166,165の順に
転送される。
って説明すると、次のようになる。まず最初の読み出し
アドレスRow1は、1番目のロウアドレスレジスタ1
60に入力され、これが切り換え回路170により選択
されてロウデコーダ120に出力され、読み出しが行わ
れる。読み出し動作が終了すると、アドレスRow1は
不要であるから、次のコピー先の書き込みアドレスRo
wAは、1番目のロウアドレスレジスタ160に上書き
される。続いて書き込み動作が開始される前に、次のコ
ピー元の読み出しアドレスRow2が入力されるが、こ
のとき1番目のロウアドレスレジスタ160に保持され
ているアドレスRowAは2番目のロウアドレスレジス
タ166にシフトされ、1番目のロウアドレスレジスタ
160にアドレスRow2が入力される。
み出し動作が終了すると、2番目のロウアドレスレジス
タ166のアドレスRowAは3番目のロウアドレスレ
ジスタ165にシフトされ、これに切り換え回路170
により選択されて書き込み動作が行われる。このアドレ
スRowAの書き込みサイクル中に、次の書き込み先の
アドレスRowBが入力されるが、これは1番目のロウ
アドレスレジスタ160に上書きされる。引き続き読み
出し先のアドレスRow3が入力されると、1番目のロ
ウアドレスレジスタ160の書き込みアドレスRowB
は2番目のロウアドレスレジスタ166にシフトされ
て、1番目のロウアドレスレジスタ160にアドレスR
ow3が入る。この時点で、3つのロウアドレスレジス
タ160,166,165にはそれぞれ、Row3,R
owB,RowAが保持されていることになる。
ロウアドレスレジスタ165のアドレスRowAによる
書き込みサイクルが終了した後、2番目のロウアドレス
レジスタ166のアドレスRowBは、3番目のロウア
ドレスレジスタ165に転送される。そして、1番目の
ロウアドレスレジスタ160のアドレスRow3の読み
出し動作が終了した後、3番目のロウアドレスレジスタ
165に転送されたアドレスRowBにより次の書き込
みサイクルが開始される。以上のようなロウデコーダに
出力するロウアドレスのチップ内保持と切り換えを行っ
てコピー書き込み動作を継続することにより、コピー書
き込みの転送レートは大きく向上する。
は、コピーするためのデータ読出しを通常の読出し方式
(図15)で行うことを前提としたため、チップ外部に
シリアル出力されるデータは、正しい論理データとなっ
ていた。一方、その読み出されたデータをページバッフ
ァにロードして書き込みデータにするためには、データ
を反転転送させる必要があった。すなわち、図17に示
すように、第2のページバッファ200bのノードN2
1のデータを第1のページバッファ200aのノードN
11に転送する際に反転させなければ、正しい書き込み
データにならない。また、シリアル出力したコピー元デ
ータをチェックした後、書き込みデータを外部入力して
修正する場合においても、データを反転させてページバ
ッファに入力する必要があった。
を行わないようにすることもできる。そのためには、セ
ルからのデータ読み出しをここまでの実施の形態とは逆
に、“0”データが“L”レベル、“1”データが
“H”レベルとなる読み出し方式を採用すればよい。そ
の様な実施の形態を次に説明する。
データを第2のページバッファ200bに直接読み出す
動作波形を、図18と対応させて示している。反転デー
タ読み出しは、通常のビット線BL側からセル電流を流
す方式に代えて、共通ソース線CELSRC側からセル
電流を流すようにすることで可能になる。時刻r0で選
択ワード線に0〜0.5V程度の読出し用電圧Vcgc
p、NANDセル内の非選択ワード線にはパス電圧Vr
ead(約4V)、共通ソース線CELSRCにVcc
(約3V)、共通ソース線CELSRC側の選択ゲート
SGSにパス電圧Vread(約4V)を印加し、クラ
ンプトランジスタにも”H”レベルの電圧BLCLAM
Pを印加して、センスアンプから選択ビット線を0Vに
プリチャージする。
SGDにパス電圧Vread(約4V)を印加すると、
選択メモリセルが“1”セルの場合には、負のしきい値
のためビット線BLにはVcgcp−Vt(負のしきい
値)、すなわち正の電圧が現れる。逆に、選択メモリセ
ルが”0”セルであった場合には、しきい値Vtが正で
あるため、ビット線に現れる電圧Vcgcp−Vtは、
0V近傍の低い電圧となる。時刻r2でページバッファ
内をプリチャージした後に、時刻r3のタイミングでク
ランプトランジスタに読み出し電圧を印加してビット線
電位をセンスすると、ビット線電位がセンスレベルVs
enより高い”1”セルは、ページバッファ200bの
ノードN21に”H”として読み出される。”0”セル
は、逆に、”L”として読み出される。
ル関係は、書き込みデータと同じである。この読み出し
データをコピー元データとしてチップ外部でチェックす
るためにチップ外部にシリアル出力する場合には、実施
の形態1〜4とは逆に、途中の経路でデータを反転する
必要がある。一方、書き込みデータを追加、修正するデ
ータ入力時は、データの反転は不要となる。
データの入出力回路部のデータ転送の様子を、図17と
対応させて図22に示す。コピーのための読出しを行っ
た後、外部にシリアル出力する場合には、反転回路90
により、制御信号INVERTを”H”にしてデータを
反転させて出力すればよい。
の実施の形態の図10及び図11と対応させて、図23
及び図24に示す。図10(a)と同じセルデータであ
るとして、図11(a)に示すように、第2のページバ
ッファ200bのノードN21に読み出されるデータは
図10(a)とは反転したデータとなる。この読み出し
データは、図13(b)に示すようにシリアル出力され
るが、このとき前述のようにデータ反転される。
ファ200bへのロードは、図23(c)に示すよう
に、図10(c)とは反転したデータとなる。従って、
この後第2のページバッファ200aのノードN11へ
のデータ転送は、図10(d)では反転転送であるのに
対し、図11(d)に示すように反転させないノーマル
転送となる。
に、反転読み出しとなる。以下同様にコピー書き込みが
実行される。書き込みベリファイによって、第1のペー
ジバッファ200aがオール“H”になることで、書き
込みサイクルが終了することは、先の実施の形態と同じ
である。
ピー元データのシリアル出力時間を書き込みサイクルの
ビジー時間にオーバーラップさせることによって、見か
け上の動作時間を短くすることができ、コピー書き込み
動作を複数のページに対して連続的に行うと書き込み転
送レートを大きく向上させることができる。
ッシュメモリの全体構成を示す図である。
す図である。
成を示す図である。
図である。
示す図である。
である。
圧波形を示す図である。
イミング図である。
す図である。
す図である。
イミング図である。
イミング図である。
イミング図である。
ータ読み出しのデータ転送の様子を示す図である。
示す図である。
データ転送の様子を示す図である。
圧波形を示す図である。
形を示す図である。
出し動作の割り込みを説明するための図である。
示す図である。
タ転送の様子を示す図である。
ータ遷移状態を示す図である。
ータ遷移状態を示す図である。
ー書き込み動作のタイミング図である。
…ロウデコーダ、130…高電圧発生回路、140…カ
ラムアドレスレジスタ、150…カラムデコーダ、16
0,165…ロウアドレスレジスタ、170…アドレス
選択回路、180…コマンドレジスタ、190…ステー
タスレジスタ、200…データ書き換え/読み出し回
路、210…ステータスレジスタ、220…ロジックコ
ントロール回路、230…入出力バッファ、200a…
第1のページバッファ、200b…第2のページバッフ
ァ、31…プリセンス回路(クランプ回路)、32,3
6…ラッチ回路、33,34,35…転送ゲート、3
7,38…カラムゲート、39…データ線、30…デー
タ線イコライズ回路、40…データ線センスアンプ、5
0…出力回路、60…入力バッファ、70…データ入力
回路、90…データ反転回路。
Claims (16)
- 【請求項1】 電気的書き換え可能な不揮発性メモリセ
ルが配列されたメモリセルアレイと、 このメモリセルアレイに書き込むべきデータを保持する
機能と前記メモリセルアレイのデータを読み出す機能を
有する複数の書き換え/読み出し回路と、 データの読み出し及び書き込み動作を制御する制御回路
とを備え、 前記書き換え/読み出し回路に保持された書き込みデー
タによる前記メモリセルアレイの第1のページへのデー
タ書き込み動作に割り込んで、前記メモリセルアレイの
第2のページのデータの前記書き換え/読み出し回路へ
の読み出し動作を実行する制御モードを有することを特
徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項2】 前記複数の書き換え/読み出し回路は、
前記メモリセルアレイのページ単位のデータを保持する
ための、前記メモリセルアレイに選択的に接続される第
1及び第2のページバッファを備え、 前記制御モードは、前記第1のページバッファに保持さ
れた書き込みデータによる前記メモリセルアレイの第1
のページへのデータ書き込み動作に割り込んで、前記メ
モリセルアレイの第2のページのデータを前記第2のペ
ージバッファに読み出すものであることを特徴とする請
求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項3】 前記制御モードは、前記メモリセルアレ
イの第2のページのデータの前記第2のページバッファ
への読み出し動作が終了した後に、前記第1のページバ
ッファに保持された書き込みデータによる前記メモリセ
ルアレイの第1のページへのデータ書き込み動作を再開
し、その書き込み動作中に前記第2のページバッファに
読み出されたデータを外部端子にシリアル出力するもの
であることを特徴とする請求項2記載の不揮発性半導体
記憶装置。 - 【請求項4】 電気的書き換え可能な不揮発性メモリセ
ルが配列されたメモリセルアレイと、 このメモリセルアレイに書き込むべきデータを保持する
機能と前記メモリセルアレイのデータを読み出す機能を
有する複数の書き換え/読み出し回路と、 データの読み出し及び書き込み動作を制御する制御回路
とを備え、 前記書き換え/読み出し回路に保持された書き込みデー
タによる前記メモリセルアレイの第1のページへのデー
タ書き込み動作中に、前記メモリセルアレイの第2のペ
ージから前記書き換え/読み出し回路に読み出されたデ
ータの外部端子への転送出力を実行する制御モードを有
することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項5】 前記複数の書き換え/読み出し回路は、
前記メモリセルアレイのページ単位のデータを保持する
ための、前記メモリセルアレイに選択的に接続される第
1及び第2のページバッファを備え、 前記制御モードは、前記第1のページバッファに保持さ
れた書き込みデータによる前記メモリセルアレイの第1
のページへのデータ書き込み動作期間中に、前記メモリ
セルアレイの第2のページから前記第2のページバッフ
ァに読み出されたデータを外部端子へ転送出力するもの
であることを特徴とする請求項4記載の不揮発性半導体
記憶装置。 - 【請求項6】 前記制御モードは、前記第1のページバ
ッファに保持された書き込みデータによる前記メモリセ
ルアレイの第1のページへのデータ書き込み動作に割り
込んで、前記メモリセルアレイの第2のページのデータ
を前記第2のページバッファに読み出すものであること
を特徴とする請求項5記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項7】 電気的書き換え可能な不揮発性メモリセ
ルが配列されたメモリセルアレイと、 それぞれ第1の転送ゲートを介して前記メモリセルアレ
イの異なるビット線に接続される複数の第1のラッチ回
路を備えて、ページ単位のデータセンス及びデータラッ
チの機能を有する第1のページバッファと、 それぞれ第2の転送ゲートを介して前記メモリセルアレ
イの異なるビット線に接続される複数の第2のラッチ回
路を備えて、ページ単位のデータセンス及びデータラッ
チの機能を有する第2のページバッファと、 前記メモリセルアレイのあるページのデータを前記第2
のページバッファに読み出し、チップ外部に出力して検
査した後、前記第1のページバッファに転送して前記メ
モリセルアレイの別のページに書き込むコピー動作を、
第1のページの読み出しデータの書き込み動作と次に選
択される第2のページのデータ読み出し動作を一部オー
バーラップさせて実行する制御回路と、を備えたことを
特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項8】 前記メモリセルアレイは、複数のメモリ
セルが直列接続されたNANDセルユニットを配列して
構成されていることを特徴とする請求項1乃至7のいず
れかに記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項9】 前記メモリセルアレイのデータ書き込み
は、書き込みパルス印加とベリファイ読み出しの繰り返
しにより行われるものであり、 前記第1のページバッファは、書き込みデータを保持し
て、前記メモリセルアレイの選択セルに対する書き込み
パルス印加後の書き込みベリファイ読み出しを行う機能
を有することを特徴とする請求項2,5,7のいずれか
に記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項10】 前記第1のページバッファに保持され
た書き込みデータによる前記メモリセルアレイへのデー
タ書き込み動作期間中の書き込みパルス印加とベリファ
イ読み出しの切り換えタイミングにおいて、前記メモリ
セルアレイの第2のページのデータの前記第2のページ
バッファへの読み出し動作の割り込みが実行されること
を特徴とする請求項9記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項11】 前記第2のページバッファから前記第
1のページバッファに書き込みデータが転送された後、
前記メモリセルアレイへのデータ書き込み動作開始まで
に一定の猶予期間が設定されることを特徴とする請求項
9記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項12】 書き込みページのアドレスを保持する
第1のアドレスレジスタと、 読み出しページのアドレスを保持する第2のアドレスレ
ジスタと、 これら第1及び第2のアドレスレジスタのアドレスを選
択してアドレスデコーダに供給する選択回路と、を有す
ることを特徴とする請求項9記載の不揮発性半導体記憶
装置。 - 【請求項13】 異なる書き込みページのアドレスを保
持する第1及び第2のアドレスレジスタと、 読み出しページのアドレスを保持する第3のアドレスレ
ジスタと、 これら第1乃至第3のアドレスレジスタのアドレスを選
択してアドレスデコーダに供給する選択回路と、を有す
ることを特徴とする請求項9記載の不揮発性半導体記憶
装置。 - 【請求項14】 前記メモリセルアレイから前記第2の
ページバッファに読み出されたデータは、チップ外部に
出力されて検査された後、二値レベルが反転されて前記
第1のページバッファにコピー書き込みデータとして転
送されることを特徴とする請求項9記載の不揮発性半導
体記憶装置。 - 【請求項15】 前記第2のページバッファに読み出さ
れたデータを変更するためにチップ外部から入力される
追加データをその二値レベルを反転して前記第2のペー
ジバッファに転送するためのデータ反転回路を有するこ
とを特徴とする請求項14記載の不揮発性半導体記憶装
置。 - 【請求項16】 前記メモリセルアレイの第1ページか
ら前記第2のページバッファへのデータ読み出しは、通
常のデータ読み出し時とは二値レベルを反転した読み出
し動作として行われるものであって、 前記第2のページバッファに読み出されたデータをチッ
プ外部に出力する経路にはデータの二値レベルを反転す
るデータ反転回路を有することを特徴とする請求項9記
載の不揮発性半導体記憶装置。
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Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005276422A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Samsung Electronics Co Ltd | カップリングノイズを減少させる半導体装置 |
JP2006073141A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Toshiba Corp | 記憶システム及びそのデータコピー方法 |
JP2007012238A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Hynix Semiconductor Inc | データ入出力速度を改善させる構造を有するフラッシュメモリ装置のデータ入出力回路 |
JP2007128402A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Megachips Lsi Solutions Inc | メモリ装置 |
US7236424B2 (en) | 2004-08-25 | 2007-06-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
KR100797229B1 (ko) | 2005-12-14 | 2008-01-23 | 가부시끼가이샤 도시바 | 비휘발성 반도체 메모리 |
JP2008181582A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP2008269773A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Hynix Semiconductor Inc | フラッシュメモリ素子の動作方法及びそのための制御回路 |
US7590027B2 (en) | 2006-10-04 | 2009-09-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device |
JP2011129176A (ja) * | 2009-12-15 | 2011-06-30 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2011150788A (ja) * | 2011-05-13 | 2011-08-04 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP2011222089A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置とその制御方法 |
JP2012014827A (ja) * | 2011-09-12 | 2012-01-19 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP4950886B2 (ja) * | 2005-07-15 | 2012-06-13 | パナソニック株式会社 | 不揮発性記憶装置、メモリコントローラ及び不良領域検出方法 |
US9754672B2 (en) | 2010-08-17 | 2017-09-05 | Toshiba Memory Corporation | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
KR101790632B1 (ko) | 2016-02-09 | 2017-10-26 | 윈본드 일렉트로닉스 코포레이션 | 반도체 메모리 장치 및 그 스크램블 방법 |
WO2019021498A1 (ja) * | 2017-07-26 | 2019-01-31 | 東芝メモリ株式会社 | 半導体記憶装置 |
WO2020095361A1 (ja) * | 2018-11-06 | 2020-05-14 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置 |
Families Citing this family (88)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3631463B2 (ja) | 2001-12-27 | 2005-03-23 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP3977799B2 (ja) * | 2003-12-09 | 2007-09-19 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP4004811B2 (ja) * | 2002-02-06 | 2007-11-07 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP4110000B2 (ja) | 2003-01-28 | 2008-07-02 | 株式会社ルネサステクノロジ | 記憶装置 |
JP2005085428A (ja) * | 2003-09-11 | 2005-03-31 | Renesas Technology Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2005182871A (ja) * | 2003-12-17 | 2005-07-07 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP4170952B2 (ja) | 2004-01-30 | 2008-10-22 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JP4237648B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2009-03-11 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
KR100543474B1 (ko) * | 2004-03-25 | 2006-01-20 | 삼성전자주식회사 | 감지 라인들 사이의 커플링 노이즈로 인한 읽기 에러를방지할 수 있는 플래시 메모리 장치 |
US7490283B2 (en) | 2004-05-13 | 2009-02-10 | Sandisk Corporation | Pipelined data relocation and improved chip architectures |
EP1610343B1 (en) * | 2004-06-24 | 2007-12-19 | STMicroelectronics S.r.l. | An improved page buffer for a programmable memory device |
KR101051703B1 (ko) | 2004-08-09 | 2011-07-25 | 삼성전자주식회사 | 서스펜드/리쥼 기능을 갖는 집적 회로 카드 및 집적 회로카드 시스템 |
KR100645043B1 (ko) * | 2004-09-08 | 2006-11-10 | 삼성전자주식회사 | 테스트용 버퍼를 구비한 불휘발성 메모리 장치 및 그것의테스트 방법 |
JP4515878B2 (ja) * | 2004-10-06 | 2010-08-04 | 株式会社東芝 | フラッシュメモリ及びその書き込み・ベリファイ方法 |
US7120051B2 (en) | 2004-12-14 | 2006-10-10 | Sandisk Corporation | Pipelined programming of non-volatile memories using early data |
US7158421B2 (en) * | 2005-04-01 | 2007-01-02 | Sandisk Corporation | Use of data latches in multi-phase programming of non-volatile memories |
US7420847B2 (en) * | 2004-12-14 | 2008-09-02 | Sandisk Corporation | Multi-state memory having data recovery after program fail |
US7849381B2 (en) | 2004-12-21 | 2010-12-07 | Sandisk Corporation | Method for copying data in reprogrammable non-volatile memory |
US7409473B2 (en) * | 2004-12-21 | 2008-08-05 | Sandisk Corporation | Off-chip data relocation |
DE102004063641B4 (de) * | 2004-12-27 | 2011-12-08 | Infineon Technologies Ag | Nichtflüchtige Speichereinrichtung zum Speichern von Daten und Verfahren zum Löschen oder Programmieren derselben |
KR100666172B1 (ko) * | 2005-01-04 | 2007-01-09 | 삼성전자주식회사 | 로드 공급 와이어드 오어 구조를 가지는 불휘발성 반도체메모리 장치와, 이에 대한 구동방법 |
KR100626392B1 (ko) * | 2005-04-01 | 2006-09-20 | 삼성전자주식회사 | 읽기 속도를 향상시킬 수 있는 플래시 메모리 장치 |
US7463521B2 (en) | 2005-04-01 | 2008-12-09 | Sandisk Corporation | Method for non-volatile memory with managed execution of cached data |
US7447078B2 (en) | 2005-04-01 | 2008-11-04 | Sandisk Corporation | Method for non-volatile memory with background data latch caching during read operations |
US7206230B2 (en) * | 2005-04-01 | 2007-04-17 | Sandisk Corporation | Use of data latches in cache operations of non-volatile memories |
KR100694967B1 (ko) * | 2005-06-29 | 2007-03-14 | 주식회사 하이닉스반도체 | 프로그램 동작시 에러 발생 비율을 감소시키는 플래시메모리 장치 및 그 프로그램 동작 제어 방법 |
KR100833397B1 (ko) * | 2005-08-26 | 2008-05-28 | 주식회사 하이닉스반도체 | 데이터 입력 회로 겸용 센싱 회로를 가지는 페이지 버퍼회로 |
JP2007164893A (ja) | 2005-12-13 | 2007-06-28 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP4761959B2 (ja) * | 2005-12-26 | 2011-08-31 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路装置 |
KR100724334B1 (ko) * | 2006-01-03 | 2007-06-04 | 삼성전자주식회사 | 데이터 전송에 이웃하는 비트라인을 이용하는 불휘발성반도체 메모리 장치 및 그의 구동방법 |
JP4157562B2 (ja) * | 2006-01-31 | 2008-10-01 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路装置 |
KR100784108B1 (ko) * | 2006-03-27 | 2007-12-10 | 주식회사 하이닉스반도체 | 데이터 입력 에러를 감소시키는 기능을 가지는 플래시메모리 소자 및 그 데이터 입력 동작 방법 |
TWI427637B (zh) * | 2006-05-05 | 2014-02-21 | Sandisk Technologies Inc | 在程式執行期間具有背景資料鎖存快取的非揮發性記憶體及方法 |
KR100754226B1 (ko) * | 2006-08-22 | 2007-09-03 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 데이터 저장장치의 프로그래밍 방법 및 그 장치 |
KR100769770B1 (ko) * | 2006-09-29 | 2007-10-23 | 주식회사 하이닉스반도체 | 메모리 장치의 페이지 버퍼 회로 및 프로그램 방법 |
JP4212622B2 (ja) * | 2006-11-30 | 2009-01-21 | 株式会社東芝 | 時限スイッチ付き情報担体及び半導体集積回路 |
US7719899B2 (en) | 2007-02-13 | 2010-05-18 | Micron Technology, Inc. | Circuits, systems and methods for driving high and low voltages on bit lines in non-volatile memory |
US7916557B2 (en) | 2007-04-25 | 2011-03-29 | Micron Technology, Inc. | NAND interface |
WO2009015896A1 (en) * | 2007-08-01 | 2009-02-05 | Otto Bock Healthcare Ip Gmbh & Co. Kg | Vacuum pump and use of a vacuum pump |
KR101401558B1 (ko) * | 2007-08-20 | 2014-06-09 | 삼성전자주식회사 | 플래시 메모리 장치, 그것의 프로그램 및 소거 방법들,그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 및 컴퓨터 시스템 |
KR101373186B1 (ko) * | 2007-08-22 | 2014-03-13 | 삼성전자주식회사 | 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법들, 그리고그것을 포함하는 메모리 시스템 및 컴퓨터 시스템 |
US7855916B2 (en) * | 2007-10-24 | 2010-12-21 | Rao G R Mohan | Nonvolatile memory systems with embedded fast read and write memories |
US7675772B2 (en) * | 2007-10-26 | 2010-03-09 | Micron Technology, Inc. | Multilevel memory cell operation |
US7924628B2 (en) * | 2007-11-14 | 2011-04-12 | Spansion Israel Ltd | Operation of a non-volatile memory array |
US7679972B2 (en) * | 2007-11-19 | 2010-03-16 | Spansion Llc | High reliable and low power static random access memory |
ITRM20070621A1 (it) | 2007-11-28 | 2009-05-29 | Micron Technology Inc | Compensazione dell'effetto della configurazione a ritroso in un dispositivo di memorizzazione. |
JP2009146061A (ja) * | 2007-12-12 | 2009-07-02 | Canon Inc | 情報処理装置及び前記装置の起動方法 |
US7986552B2 (en) * | 2008-03-10 | 2011-07-26 | Hynix Semiconductor Inc. | Nonvolatile memory device and method of operation to program/read data by encoding/decoding using actual data and random data for program/read operation |
US7826277B2 (en) * | 2008-03-10 | 2010-11-02 | Hynix Semiconductor Inc. | Non-volatile memory device and method of operating the same |
US8521979B2 (en) * | 2008-05-29 | 2013-08-27 | Micron Technology, Inc. | Memory systems and methods for controlling the timing of receiving read data |
US7979757B2 (en) | 2008-06-03 | 2011-07-12 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for testing high capacity/high bandwidth memory devices |
KR20090126587A (ko) * | 2008-06-04 | 2009-12-09 | 삼성전자주식회사 | 상 변화 메모리 장치 및 그것의 읽기 방법 |
US20090313074A1 (en) * | 2008-06-11 | 2009-12-17 | International Business Machines Corporation | Enhanced viewing/updating of calendar entries based upon relationships between a viewer and a calendar owner and a relative importance value of the calendar entries |
US8756486B2 (en) | 2008-07-02 | 2014-06-17 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for repairing high capacity/high bandwidth memory devices |
US8289760B2 (en) * | 2008-07-02 | 2012-10-16 | Micron Technology, Inc. | Multi-mode memory device and method having stacked memory dice, a logic die and a command processing circuit and operating in direct and indirect modes |
US7855931B2 (en) | 2008-07-21 | 2010-12-21 | Micron Technology, Inc. | Memory system and method using stacked memory device dice, and system using the memory system |
JP5579972B2 (ja) * | 2008-08-01 | 2014-08-27 | ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル | 半導体記憶装置及び半導体記憶装置のテスト方法 |
JP4776666B2 (ja) * | 2008-08-05 | 2011-09-21 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US8127204B2 (en) | 2008-08-15 | 2012-02-28 | Micron Technology, Inc. | Memory system and method using a memory device die stacked with a logic die using data encoding, and system using the memory system |
ITRM20080543A1 (it) | 2008-10-09 | 2010-04-10 | Micron Technology Inc | Architettura e metodo per la programmazione di memorie. |
KR101532755B1 (ko) * | 2008-10-13 | 2015-07-02 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치, 그것을 포함하는 메모리 시스템, 그것의 프로그램 방법, 및 그것의 프리차지 전압 부스팅 방법 |
US8397024B2 (en) * | 2008-10-25 | 2013-03-12 | Sandisk 3D Llc | Page buffer program command and methods to reprogram pages without re-inputting data to a memory device |
KR101038861B1 (ko) * | 2009-05-11 | 2011-06-02 | 주식회사 하이닉스반도체 | 불휘발성 메모리 소자의 동작 방법 |
US8077515B2 (en) | 2009-08-25 | 2011-12-13 | Micron Technology, Inc. | Methods, devices, and systems for dealing with threshold voltage change in memory devices |
US8850103B2 (en) * | 2009-08-28 | 2014-09-30 | Microsoft Corporation | Interruptible NAND flash memory |
US8510643B2 (en) * | 2009-12-23 | 2013-08-13 | Nvidia Corporation | Optimizing raid migration performance |
US8451664B2 (en) | 2010-05-12 | 2013-05-28 | Micron Technology, Inc. | Determining and using soft data in memory devices and systems |
KR101069013B1 (ko) * | 2010-07-09 | 2011-09-29 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 장치 및 그의 동작 방법 |
KR101666406B1 (ko) * | 2010-08-16 | 2016-10-17 | 삼성전자 주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 그 프로그램 방법, 메모리 시스템 |
US8400808B2 (en) | 2010-12-16 | 2013-03-19 | Micron Technology, Inc. | Phase interpolators and push-pull buffers |
US8472280B2 (en) | 2010-12-21 | 2013-06-25 | Sandisk Technologies Inc. | Alternate page by page programming scheme |
JP2014179151A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP2014186787A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置、メモリコントローラ、及びメモリシステム |
US9171597B2 (en) | 2013-08-30 | 2015-10-27 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for providing strobe signals to memories |
US9520195B2 (en) * | 2013-10-09 | 2016-12-13 | Macronix International Co., Ltd. | Sensing amplifier utilizing bit line clamping devices and sensing method thereof |
US9269447B1 (en) * | 2014-09-05 | 2016-02-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device |
US9891837B2 (en) | 2014-09-08 | 2018-02-13 | Toshiba Memory Corporation | Memory system |
US9881674B2 (en) * | 2014-12-11 | 2018-01-30 | Micron Technology, Inc. | Sequential write and sequential write verify in memory device |
US9548107B1 (en) * | 2015-07-09 | 2017-01-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
US9754645B2 (en) * | 2015-10-27 | 2017-09-05 | Sandisk Technologies Llc | Bit line charging for a device |
KR102425259B1 (ko) * | 2015-11-27 | 2022-07-27 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 비휘발성 메모리 장치, 반도체 장치 및 반도체 장치의 동작 방법 |
JP2018156698A (ja) * | 2017-03-15 | 2018-10-04 | 東芝メモリ株式会社 | メモリシステム |
US10977121B2 (en) | 2018-10-17 | 2021-04-13 | Macronix International Co., Ltd. | Fast page continuous read |
US11048649B2 (en) | 2018-10-17 | 2021-06-29 | Macronix International Co., Ltd. | Non-sequential page continuous read |
US10957384B1 (en) * | 2019-09-24 | 2021-03-23 | Macronix International Co., Ltd. | Page buffer structure and fast continuous read |
US11249913B2 (en) | 2020-03-06 | 2022-02-15 | Macronix International Co., Ltd. | Continuous read with multiple read commands |
US11302366B2 (en) | 2020-03-06 | 2022-04-12 | Macronix International Co., Ltd. | Method and system for enhanced read performance in low pin count interface |
US11747992B2 (en) * | 2020-07-10 | 2023-09-05 | Micron Technology, Inc. | Memory wear management |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5448519A (en) * | 1984-10-05 | 1995-09-05 | Hitachi, Ltd. | Memory device |
JP3594626B2 (ja) | 1993-03-04 | 2004-12-02 | 株式会社ルネサステクノロジ | 不揮発性メモリ装置 |
JP2922116B2 (ja) * | 1993-09-02 | 1999-07-19 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JPH07226097A (ja) * | 1994-02-15 | 1995-08-22 | Mitsubishi Electric Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
KR0172366B1 (ko) | 1995-11-10 | 1999-03-30 | 김광호 | 불휘발성 반도체 메모리 장치의 독출 및 프로그램 방법과 그 회로 |
US5822244A (en) | 1997-09-24 | 1998-10-13 | Motorola, Inc. | Method and apparatus for suspending a program/erase operation in a flash memory |
DE69820246D1 (de) * | 1998-07-20 | 2004-01-15 | St Microelectronics Srl | Schaltung und Verfahren zum Lesen eines nichtflüchtigen Speichers |
TW475267B (en) * | 1999-07-13 | 2002-02-01 | Toshiba Corp | Semiconductor memory |
JP3983969B2 (ja) * | 2000-03-08 | 2007-09-26 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP3871184B2 (ja) * | 2000-06-12 | 2007-01-24 | シャープ株式会社 | 半導体記憶装置 |
US6266273B1 (en) | 2000-08-21 | 2001-07-24 | Sandisk Corporation | Method and structure for reliable data copy operation for non-volatile memories |
JP2003030993A (ja) * | 2001-07-17 | 2003-01-31 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US6671204B2 (en) * | 2001-07-23 | 2003-12-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nonvolatile memory device with page buffer having dual registers and methods of using the same |
KR100432884B1 (ko) * | 2001-08-28 | 2004-05-22 | 삼성전자주식회사 | 공유된 행 선택 구조를 갖는 불 휘발성 반도체 메모리 장치 |
US6507514B1 (en) * | 2001-10-10 | 2003-01-14 | Integrated Memory Technologies, Inc. | Integrated circuit memory chip for use in single or multi-chip packaging |
US6687158B2 (en) * | 2001-12-21 | 2004-02-03 | Fujitsu Limited | Gapless programming for a NAND type flash memory |
JP4004811B2 (ja) * | 2002-02-06 | 2007-11-07 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
-
2002
- 2002-02-06 JP JP2002029972A patent/JP4004811B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-02-05 KR KR10-2003-0007142A patent/KR100485107B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-02-06 US US10/360,586 patent/US6798697B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-08-13 US US10/918,686 patent/US6882569B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-03-09 US US11/077,046 patent/US7038946B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2006
- 2006-03-01 US US11/366,110 patent/US7330372B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2008
- 2008-01-28 US US12/020,981 patent/US7586785B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005276422A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Samsung Electronics Co Ltd | カップリングノイズを減少させる半導体装置 |
US7236424B2 (en) | 2004-08-25 | 2007-06-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
US7369457B2 (en) | 2004-08-25 | 2008-05-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
JP4504138B2 (ja) * | 2004-09-03 | 2010-07-14 | 株式会社東芝 | 記憶システム及びそのデータコピー方法 |
JP2006073141A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Toshiba Corp | 記憶システム及びそのデータコピー方法 |
JP2007012238A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Hynix Semiconductor Inc | データ入出力速度を改善させる構造を有するフラッシュメモリ装置のデータ入出力回路 |
JP4950886B2 (ja) * | 2005-07-15 | 2012-06-13 | パナソニック株式会社 | 不揮発性記憶装置、メモリコントローラ及び不良領域検出方法 |
JP2007128402A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Megachips Lsi Solutions Inc | メモリ装置 |
KR100797229B1 (ko) | 2005-12-14 | 2008-01-23 | 가부시끼가이샤 도시바 | 비휘발성 반도체 메모리 |
US7590027B2 (en) | 2006-10-04 | 2009-09-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device |
JP2008181582A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP2008269773A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Hynix Semiconductor Inc | フラッシュメモリ素子の動作方法及びそのための制御回路 |
JP2011129176A (ja) * | 2009-12-15 | 2011-06-30 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2011222089A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置とその制御方法 |
US10685715B2 (en) | 2010-08-17 | 2020-06-16 | Toshiba Memory Corporation | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US11062777B2 (en) | 2010-08-17 | 2021-07-13 | Toshiba Memory Corporation | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US9754672B2 (en) | 2010-08-17 | 2017-09-05 | Toshiba Memory Corporation | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US11664077B2 (en) | 2010-08-17 | 2023-05-30 | Kioxia Corporation | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US10157675B2 (en) | 2010-08-17 | 2018-12-18 | Toshiba Memory Corporation | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
JP2011150788A (ja) * | 2011-05-13 | 2011-08-04 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP2012014827A (ja) * | 2011-09-12 | 2012-01-19 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
KR101790632B1 (ko) | 2016-02-09 | 2017-10-26 | 윈본드 일렉트로닉스 코포레이션 | 반도체 메모리 장치 및 그 스크램블 방법 |
WO2019021498A1 (ja) * | 2017-07-26 | 2019-01-31 | 東芝メモリ株式会社 | 半導体記憶装置 |
US11158645B2 (en) | 2017-07-26 | 2021-10-26 | Kioxia Corporation | Semiconductor memory device |
US11706916B2 (en) | 2017-07-26 | 2023-07-18 | Kioxia Corporation | Semiconductor memory device |
WO2020095361A1 (ja) * | 2018-11-06 | 2020-05-14 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置 |
US11532363B2 (en) | 2018-11-06 | 2022-12-20 | Kioxia Corporation | Semiconductor memory device |
US11783899B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-10-10 | Kioxia Corporation | Semiconductor memory device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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