JPH05282882A - 不揮発性半導体メモリ - Google Patents

不揮発性半導体メモリ

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JPH05282882A
JPH05282882A JP35514992A JP35514992A JPH05282882A JP H05282882 A JPH05282882 A JP H05282882A JP 35514992 A JP35514992 A JP 35514992A JP 35514992 A JP35514992 A JP 35514992A JP H05282882 A JPH05282882 A JP H05282882A
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data
address
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signal
output
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Application number
JP35514992A
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English (en)
Inventor
Hiroto Nakai
井 弘 人 中
Hideo Kato
藤 秀 雄 加
Masamichi Asano
野 正 通 浅
Kaoru Tokushige
重 芳 徳
Toshio Yamamura
村 俊 雄 山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 メモリ制御チップによるページアドレス管理
を行うことなく動作させると共に、書き込み時間の短縮
を図る。 【構成】 読み出しに当っては、読み出しスタート番地
からその行(ページ)の最終アドレスまでについてのデ
ータをデータレジスタに転送し、さらに次ページの最初
から最後までのアドレスについてのデータをデータレジ
スタに転送し、これを繰り返えす。書き込みに当って
は、ページの途中から書き込む場合には、書き込みデー
タの入力されないデータレジスタについてはデータを設
定して、書き込みを行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、不揮発性半導体メモリ
に関し、特にページ単位での読み出し、書き込み可能な
不揮発性半導体メモリに関するものである。
【0002】
【従来の技術】最近のEEPROM(Electrically Era
sable & Programable Read Only Memory)、特にNAN
DタイプのEEPROMでは、書き込み・消去時にメモ
リセルに流れる電流が少ない点を考慮し、ページ単位
(256ビット〜数Kビット)での読み出し、書き込み
が行なえるよう構成されている。このNANDタイプの
不揮発性半導体メモリとして、現在、4Mビットの記憶
容量を持つものがすでに実用化されている(1989 - ISS
CC An Experimental 4Mb EEROM with a NANDStructured
Cell)。
【0003】図22(a)は8個の浮游ゲート構造を有
するメモリセルMCがビット線とソース間に接続されて
構成されるNAND束2個の構成を示したもので、読み
出し時選択されたメモリセルの選択ゲートは低レベルに
設定され、NAND束中残りの7個のメモリセルの選択
ゲートは高レベルに設定される。またビット線とNAN
D束間の選択トランジスタT1のゲート(セレクト線S
L(1))と、GNDとNAND束間の選択トランジス
タT2のゲート(セレクト線SL(2))とは、高レベ
ルに設定される。NAND構造の不揮発性半導体メモリ
では、図22(b)に示すように書き込まれたメモリセ
ルのしきい値は正に分布するが、NAND束中の非選択
トランジスタのゲート電圧(Hレベル)より書き込み後
のしきい値が低い値となるようメモリセルへの電子の注
入量は制御される。このため選択メモリセルのしきい値
電圧が正であれば、ビット線BLとGND間に電流は流
れずビット線は高レベルとなる。逆に選択メモリセルの
しきい値電圧が負であればビット線とGND間に電流が
流れビット線は低レベルとなる。このビット線の電位を
センスすることにより、メモリセルデータの読み出しを
行なう。
【0004】次に書き込み動作について説明する。図2
3(a)に示すように選択されたメモリセルの選択ゲー
トには20V程度の高電圧(Vpp)がロウデコーダより
供給され、同じNAND束の他の7個のメモリセルの選
択ゲートには10V程度の中間電圧(VPI)が供給さ
れる。また他のNAND束の選択ゲートには0Vが供給
される。この時選択されたメモリセルを含むNAND束
とビット線間の選択トランジスタのゲート電圧は12
V、NAND束とソース線間の選択トランジスタのゲー
ト電圧は0Vに設定される。この状態で、ビット線を0
Vにすると、選択トランジスタにより選択されたNAN
D束中のすべてのメモリセルのドレイン、ソース、及び
チャンネルの電位は0Vとなるため、選択されたメモリ
セルの選択ゲートとチャンネル間に20Vの電位差が生
じ、基板から電子が浮游ゲートに注入される。このとき
同じNAND束中の他の7個のメモリセルの選択ゲート
とチャンネル間には10Vの電位差が生じるが、10V
の電位差では電子の注入がほとんど生じないように浮遊
ゲートとチャンネル間の酸化膜厚を設定しているため、
他の7個のメモリセルには“0”データが書き込まれな
い。また、ビット線を10V程度の書き込み禁止ドレイ
ン電圧(VDPI)にすると選択されたメモリセルの選
択ゲートとチャンネル間の電位差は10Vとなり、書き
込みが行なわれない。この時同じNAND束中の他の7
個のメモリセルの選択ゲートとチャンネル間には電位差
が生じないため書き込みが行なわれない。このようにし
て選択されたメモリセルに“0”データを書く場合はビ
ット線に0Vを、また“1”データを書く場合はビット
線にVDPIの電圧を供給することにより、データの書
き込みを行なう。
【0005】最後に消去動作について説明する。図24
に示すように消去は基板を20V(Vpp)、選択ゲート
を0Vに設定することにより、浮游ゲート中の電子を基
板に引き抜いて消去が行なわれる。このとき選択トラン
ジスタのゲートストレスを緩和するためセレクト線は2
0V(Vpp)に設定される。さらに、メモリアレイ内の
P−N接合部がフォワードバイアス状態とならないよ
う、ビット線、ソース線はOPENにされ、ほぼVpp
電位となる。
【0006】このようにトンネル電流で書き込みが行な
われるNAND構造半導体メモリでは書き込み時にビッ
ト線に流れる電流は小さいため、数1000個のメモリ
セルに同時に書き込みを行なう事が可能である。
【0007】図25は、現在実用化されている4M N
AND構造半導体メモリの動作モードを説明した図面で
あり、図25(a)に示すようにカラム方向に512ビ
ット×8(I/O)=4096本のビット線が配置さ
れ、ロウ方向に128NAND束×8ビット=1024
本のワード線が配置されている。このメモリに書き込む
場合、各ビット線に接続された各データレジスタに、I
/Oバッファ回路から512回データを入力した後(図
25(b))、4096ビットに一括して書き込みが行
なわれる(図25(c))。また読み出し時は、メモリ
セルのデータをデータレジスタに転送した後に特定カラ
ムアドレスデータを読み出すランダム読み出しモード
(図25(d))とデータレジスタの内容だけを読み出
すページ内読み出しモード(図25(e))に分けられ
る。ロウ・アドレス(ページアドレス)が切り換わる場
合はランダム読み出し状態となり、メモリセルのデータ
読み出しに10μsec の時間を要するが、カラムアドレ
ス(ページ内アドレス)が切り換わる場合はページ読み
出しが可能となり、70nsecの高速読み出しが行なえ
る。図26は、このように構成された半導体メモリのブ
ロック系統図で、各ビット線には、ビット線の電位を判
定してメモリセルのデータを読み出すセンスアンプ回路
と、読み出し、書き込み時のデータをラッチしておくデ
ータレジスタが接続される。またこのデータレジスタ
は、カラムアドレスに対応して選択されたカラムデコー
ダ出力により選択的にデータの出力、入力が行なえるよ
う構成される。またロウ・アドレスバッファにより駆動
されるロウ・デコーダ回路は、選択されたワード線と、
選択されたメモリセルを含むNAND束の他の7本のワ
ード線と、他のNAND束のワード線に、読み出し、書
き込み、消去各モードでそれぞれ前述の異なる電圧を供
給するよう構成される。また読み出し、書き込み、消去
の各モードは、I/Oバッファ回路より入力されるコマ
ンドコードにより制御される。コマンドデータは図27
に示すように外部制御信号NWEのクロックによりコマ
ンドレジスタに取り込まれ、取り込まれたコマンドコー
ドに対応するコマンドデコーダ出力により、チップ動作
が決定される。図28は、図27の動作モードにおける
ランダム読み出し(ページ読み出し)とページ内読み出
しのタイミングを示す図で、ロウアドレスが切り換った
場合のアクセスタイム(tacc )は10μsec と遅い
が、カラムアドレスが切り換った場合のアクセスタイム
(tpac)は70nsecと高速なため、1ページ連続読み
出しの場合の平均アクセスタイムは(10μsec +70
nsec×511)/512=89.3nsecと高速読み出し
が可能となっている。図29はシリアルデータ入力後に
一括書き込みを行なう場合の入力波形タイミングを示す
もので、まずI/Oバッファから〔40〕のコマンドコ
ードが入力されると、制御回路により、チップは512
バイトのシリアルデータ入力モードとなり、外部制御信
号NWEのクロックにより、ロウアドレス及び512バ
イトのデータ入力を行なう。第512バイト目のデータ
が入力されると自動的に4096ビットのデータ書き込
みが行なわれる。その後データが正しく書き込まれたか
をチェックするため、ユーザーは、〔CO〕のコマンド
を入力し、書き込み時にワード線及びビット線に供給さ
れた高電圧を放電するリカバリー動作とカラムアドレス
をインクリメントすることにより全カラムアドレスのデ
ータを読み出すベリファイ動作を行なう。読み出された
データが、書き込もうとしたデータと異なる場合、再度
ユーザーは〔40〕のコマンドを入力して書き込みを行
なう必要がある。このように構成された従来のメモリに
おいて、任意番地から任意長のデータを読み書きする場
合、メモリ制御チップは、このメモリのカラム番地とロ
ウ番地を識別して、ページアドレスが切り換るときは1
0μsec 後にデータ読み出しを行ない、ページ内アドレ
スが切り換るときは、70nsec後にデータ読み出しを行
なうようにEEPROMにアクセスしなければならな
い。図30(a)は3カラムアドレス(A0〜A2)、
7ロウアドレス(A3〜A8)で構成された半導体メモ
リの2番地から1F番地までの連続データを読み出す場
合の、メモリ制御チップのプログラムのシーケンスを示
したものである。同図(b)はその概念を示す。最初の
読み出し時は、メモリセルデータをデータレジスタに転
送する必要があるため、アクセスタイムは10μsec と
なる。次に2番地から7番地まではカラムアドレスのみ
切り換るので、カラムアドレスをインクリメントしなが
ら70nsecで読み出し動作を行なう。次に8番地になる
とロウ・アドレスが切り換るため、再度メモリセルデー
タをデータレジスタに転送する必要があり、アクセスタ
イムは10μsec となる。さらに8番地からF番地まで
は、また70nsecの連続読み出しとなる。
【0008】このように、従来の半導体メモリでは、使
用する半導体メモリの1ページ内のビット数を考慮して
読み出し速度を変化させたプログラムを使用する必要が
あった。このため、使用する半導体メモリの1ページ内
のビット数が変わると、再度メモリ制御チップのプログ
ラムを作成し直す必要があった。
【0009】図31(a)は、図30と同じ、カラムア
ドレス、ロウアドレス構成の半導体メモリにおいて、書
き込みを行なう場合の、メモリ制御チップのプログラム
のシーケンスを示したものである。図29の入力波形タ
イミングにも示されるように、従来の半導体メモリは1
ページ分のデータを入力した後、書き込み動作に入る。
このため、図31(a)に示すように、2番地から7番
地までデータを書き込みたい場合でも、0番地、1番地
にダミーの不要なデータを入力する必要があった。例え
ば1ページが512ビットで構成されており、そのうち
の1ビットのみを書き込む場合、511ビットの不要な
データ入力を行なう必要がある。また従来の半導体メモ
リではプログラム後に正常に書き込みが行なわれたかを
判断するためプログラムベリファイモードで読み出しを
行ない、プログラムデータと比較して再度書き込みを行
なうか判断する必要があった。このように従来の半導体
メモリにデータ書き込みを行なう場合、メモリ制御チッ
プのプログラムは複雑となり、半導体メモリへのデータ
書き込み時間が長くなる問題があった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】従来のページ単位での
読み・書き可能な半導体メモリは以上のように構成され
ているので、連続データ読み出し時、前のアドレスと同
じページアドレス内の読み出しか、そうでないかをメモ
リ制御チップが判断するため、1ページのビット数の異
なる半導体メモリを使用する場合、メモリ制御チップの
プログラムを変更する必要があった。また1ページのビ
ット数の異なる半導体メモリを多数個使用する場合、メ
モリ制御チップはそれぞれの半導体メモリの1ページの
アドレス長を個別に管理する必要があった。さらに書き
込み時には、1ページ以下のデータ長の書き込みでも、
1ページ分のデータを入力する必要があり、書き込みに
要する時間が長くなる問題があった。
【0011】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、メモリ制御チップのページアド
レス管理を不要とし、かつ異なるページアドレスの半導
体メモリチップを簡単に制御でき、書き込み時間の短か
い半導体メモリを得ることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の不揮発性
半導体メモリは、ほぼマトリクス状に配列された複数の
メモリセルを有し、前記メモリセルのうちの選択した行
に並ぶもののデータをパラレルに複数のデータレジスタ
に転送し、それらのデータレジスタ内のデータをシリア
ルに外部に出力し、順次この動作を繰り返えす、ページ
読み出し可能な不揮発性半導体メモリにおいて、外部か
ら入力される読み出しスタート番地を記憶するアドレス
入力手段と、前記アドレス入力手段に記憶された内部ア
ドレスをインクリメントするアドレス制御手段と、前記
データレジスタからの1ページ分のデータ出力の終了後
に、前記メモリセルのデータを前記データレジスタに転
送する、読み出し手段と、前記読み出し手段により前記
転送が行われている間、アクセス不可を示すビジー信号
を外部に出力する、ビジー信号出力手段と、を備えるも
のとして構成される。
【0013】本発明の第2の不揮発性半導体メモリは、
ほぼマトリクス状に配列された複数のメモリセルを有
し、前記メモリセルのうちの選択した行に並ぶメモリセ
ルのそれぞれに、外部から複数のデータレジスタのそれ
ぞれに格納した複数のデータを一度に書き込む、ページ
書き込み可能な不揮発性半導体メモリにおいて、外部か
ら入力される書き込みスタート番地を記憶するアドレス
入力手段と、前記アドレス入力手段に記憶された内部ア
ドレスをインクリメントするアドレス制御手段と、前記
データレジスタのうちの前記内部アドレスで指定される
データレジスタへ外部から書き込みデータを入力するデ
ータ入力手段と、前記書き込みデータが入力されない他
のデータレジスタの記憶データを所定の書き込みデータ
に設定するデータ設定手段と、を備えるものとして構成
される。
【0014】本発明の第3の不揮発性半導体メモリは、
ほぼマトリクス状に配列された複数のメモリセルを有
し、前記メモリセルのうちの選択した行に並ぶもののデ
ータをパラレルに複数のデータレジスタに転送し、それ
らのデータレジスタ内のデータをシリアルに外部に出力
し、順次この動作を繰り返えし、前記メモリセルのうち
の選択した行に並ぶメモリセルのそれぞれに、外部から
複数のデータレジスタのそれぞれに格納した複数のデー
タを一度に書き込む、ページ読み出し及びページ書き込
み可能な不揮発性半導体メモリにおいて、外部から入力
される読み出しスタート番地及び書き込みスタート番地
を記憶するアドレス入力手段と、前記アドレス入力手段
に記憶された内部アドレスをインクリメントするアドレ
ス制御手段と、前記データレジスタからの1ページ分の
データ出力の終了後に、前記メモリセルのデータを前記
データレジスタに転送する、読み出し手段と、前記読み
出し手段により前記転送が行われている間、アクセス不
可を示すビジー信号を外部に出力する、ビジー信号出力
手段と、前記データレジスタのうちの前記内部アドレス
で指定されるデータレジスタへ外部から書き込みデータ
を入力するデータ入力手段と、前記書き込みデータが入
力されない他のデータレジスタの記憶データを所定の書
き込みデータに設定するデータ設定手段と、を備えるも
のとして構成される。
【0015】本発明の第4の不揮発性半導体メモリは、
前記第1又は3のメモリにおいて、外部から入力された
前記読み出しスタート番地が前記アドレス入力手段に記
憶されると、自動的に、前記メモリセルデータの前記デ
ータレジスタへの転送が行われると共に、外部に前記ビ
ジー信号を出力するものとして構成される。
【0016】
【作用】本発明による半導体メモリは、読み出しスター
ト番地から1ページの最終アドレスまでの連続読み出し
を行ない、ページ最終アドレスのデータの読み出し終了
後次の1ページ分のデータをメモリセルからデータレジ
スタに転送する。この転送時、チップがアクセス不可で
ある事を示す信号をチップ外部に出力し、転送終了後、
自動的に1ページ分の連続読み出しを行なう。
【0017】また、データ書き込み時には、1ページ分
のデータをデータレジスタに取り込むが、データの入力
されないデータレジスタについてはデータを所定の値に
設定する。
【0018】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図について説明す
る。図1は本発明を適用した不揮発性半導体の一実施例
を示すブロック系統図で、簡単のためにカラムアドレス
(ページ内アドレス)はA0〜A2、ロウアドレス(ペ
ージアドレス)はA3〜A8の1536ビット半導体メ
モリ(512ビット×3 I/O)について示してある。メ
モリセルは図26の従来回路と同様8NAND構成で、
メモリセルの読み出し書き込み時のビット線電位、ワー
ド線電位、選択トランジスタのゲート電位の関係は従来
例と同じである。読み出し時及び書き込み時に外部アド
レスはI/Oバッファ回路を介して入力され、A0〜A
2のカラムアドレスはカラムアドレスバッファ回路に、
またA3〜A8のロウアドレスはロウアドレスバッファ
回路にラッチされる。コマンド回路及び内部動作制御回
路には外部制御信号CLE,ALE,NWP,NCE,
NWE,NREがそれぞれの入力ピンから入力されチッ
プの動作モードが決定される。また、制御回路からはチ
ップがアクセス可能か、不可能かを示す信号が、Ready
/Busyピンを介して外部に出力される。図2に、上記制
御信号によって決定されるチップの動作モードを示して
ある。外部制御信号CLEはコマンド入力モードを決定
し、外部制御信号ALEはアドレス入力モードを決定す
る。さらに外部制御信号NCEはチップセレクト信号で
あり、外部制御信号NWEはコマンド入力モード、アド
レス入力モード及びデータ入力モードでそれぞれの入力
データを取り込むクロック信号の働きをする。また外部
制御信号NREは、データ読み出し時入力されたアドレ
スから連続したアドレスを読み出す際のアドレスインク
リメントと出力バッファのイネーブル機能を持つクロッ
ク信号である。このように構成された半導体メモリで
は、入力データ信号にグリッチが発生し誤まったコマン
ドが入力されると、書き込み又は消去状態となり記憶デ
ータが破壊される可能性がある。このため、本実施例の
半導体メモリでは、外部制御信号NWPが“L”状態で
は、チップが書き込み動作及び消去動作を行なわないよ
う規定する、プログラム/消去のプロテクト機能を有し
ている。Ready /Busy出力端子には、前述したように、
チップがアクセス不可の場合は“L”レベルのBusy
信号が出力され、チップがアクセス可能の場合は“H”
レベルのRead信号が出力される。
【0019】次に、本実施例の不揮発性半導体メモリの
読み出し動作について説明する。図3はカラムアドレス
N番地、ページアドレスM番地から連続読み出しを行な
う場合の制御信号の入力波形とデータ出力タイミングを
示す図面である。
【0020】最初に、第2図のアドレス入力モードで、
カラムアドレス番地、ページアドレス番地をアドレスバ
ッファ内に取り込むと同時に、Busy状態を示す
“L”レベルのアクセス不可信号を外部に出力する。こ
のとき図3−(b)に示すように選択されたワード線に
接続されたメモリセル情報がビット線に出力されデータ
レジスタ回路にラッチされる。このラッチ動作が終了す
るとRead状態を示す“H”レベルのアクセス可能信
号を外部に出力し記憶データ読み出し可能であることを
チップ制御コントローラに知らせる。次に外部制御信号
NREのクロックにより入力されたページ内アドレス
(カラムアドレス)をインクリメントしながらデータを
アクセスタイム70nsecで外部に出力する(図3−
(c))。次にページ内アドレス最終番地の読み出しが
終了すると、ページアドレスをインクリメントすると同
時に、Busy状態を示す“L”レベルのアクセス不可
信号を外部に出力し、新しいページアドレスで選択され
たワード線に接続されたメモリセル情報をデータレジス
タ回路にラッチする(図3−(d))。このラッチ動作
終了とともにReady状態を示す“H”レベルのアク
セス可能信号を外部に出力し、外部制御信号REのクロ
ックに応答してページ内アドレス0番地(カラムアドレ
ス0番地)から、ページアドレスをインクリメントしな
がらデータを出力する(図3−(e))。この連続動作
は、読み出したい連続データのデータ長分くり返され、
最終データ読み出し終了後、外部制御信号NCEを
“H”レベルにすることにより一連の読み出し動作が終
了する。
【0021】図4は、前述のアドレス入力及びアドレス
インクリメント動作を行なえるよう構成されたアドレス
バッファ回路を示す回路図である。このアドレスバッフ
ァ回路は、CMOSトランスファゲートTG1〜4を使
用したバイナリカウンターとバイナリカウンタの内部を
入力アドレス信号に対応する論理レベルに設定する手段
と、バイナリカウンタの内部を所定の論理にリセットす
る手段とで構成される。Dn はI/O入力出端子に接続
され、外部からのアドレス情報を受け付ける。データラ
ッチ制御信号LPn は、アドレス入力動作モードのとき
外部制御信号NWEの立ち上りに応答して所定の期間だ
け“L”レベルとなる内部制御信号であり、LPn が
“L”レベルのときI/O入力出力端子のアドレス情報
は、ノアゲートNOR1、インバータINV1、ナンド
ゲートNAND1、クロックドインバータCINV1、
クロックドインバータCINV2を介してバイナリカウ
ンタの内部ノードN2,N4に転送される。所定の期間
の後、LPn が“H”レベルとなると、クロックドイン
バータCINV1、CINV2が非動作状態、またクロ
ックドインバータCINV3、CINV4が動作状態と
なるため前述のアドレス情報がバイナリカウンター内に
ラッチされ、アドレスバッファ回路の内部アドレス信号
出力端子AiSにはラッチしたアドレス情報と同相、ま
た内部アドレス信号出力端子AiSBには、ラッチした
アドレス情報と逆相の信号が出力される。このアドレス
バッファ回路の入力端子Ai-1 SとAi-1 SBには、こ
のアドレスバッファ回路の1つ前のアドレスバッファ回
路の内部アドレス信号出力端子が接続され、1つ前のア
ドレスバッファ回路の内部アドレス信号が2周期変化す
ると、このアドレスバッファ回路の内部アドレス信号が
1周期変化するよう構成されている。またそれぞれのア
ドレスバッファ回路の内部アドレス信号は、対応するデ
コーダ回路に入力されており、従来回路と同様に内部ア
ドレス信号に対応したワード線及びビット線が選択され
るよう構成される。リセット信号RSTは、内部アドレ
ス信号AiSを“L”レベル、内部アドレス信号AiS
Bを論理“H”にリセットするために使用される信号
で、リセット信号RSTが“L”→“H”→“L”に変
化すると、内部アドレス信号は前述の所定の論理レベル
に設定される。
【0022】図5にカラムアドレスA0〜A2、ロウア
ドレスA3〜A8で構成される1536ビットの半導体
メモリのアドレスバッファ回路の動作を説明するための
回路図を示す。この回路図のシンボルABUF0〜8の
回路は図4のアドレスバッファ回路と等しくそれぞれア
ドレスA0〜A8に対応するアドレスバッファ回路を示
している。
【0023】A0〜A2のアドレスバッファ回路ABU
F0〜2には共通にアドレスラッチ制御信号LP1が入
力され、A3〜A5のアドレスバッファ回路ABUF3
〜5に共通にアドレスラッチ制御信号LP2が、さらに
A6〜A8のアドレスバッファ回路ABUF6〜8には
共通にアドレスラッチ制御信号LP3が入力される。ま
たアドレスバッファ回路ABUF0,3,6のデータ入
出力端子Dn は共通にI/O0の入力出力端子に接続さ
れ、アドレスバッファ回路ABUF1,4,7のデータ
入出力端子Dn は共通にI/O1の入力出力端子に接続
される。さらにアドレスバッファ回路ABUF2,5,
8のデータ入出力端子Dn は共通にI/O2の入力出力
端子に接続される。またA0〜A2のアドレスバッファ
回路のリセット信号入力端子には、電源投入時チップ内
部をリセットするため“H”レベルとなる信号RSTと
後述するデータレジスタ読み出しモードの際、アドレス
レジスタの内容をクリアするために“H”レベルとなる
信号DATARPULのOR論理の信号が入力される。
【0024】図3の読み出しモード動作の場合について
以下に図5の回路動作を説明する。アドレスデータをデ
ータ入力端子より入力するため外部制御信号NWEを
“H”→“L”→“H”レベルに変化すると、“H”→
“L”→“H”レベルに変化するパルスのアドレスラッ
チ制御信号LP1が発生する。このとき他のアドレスラ
ッチ制御信号LP2,LP3は論理“H”に保持され
る。この結果前述したようにデータ入出力端子I/O
0,1,2に供給されているアドレス情報がそれぞれの
A0〜A2のアドレスバッファ回路にラッチされ、内部
アドレス信号は、入力されたアドレス情報に対応した論
理レベルに設定される。次にA3からA5までのアドレ
スデータを入力するため各I/O0からI/O2にA3
からA5までのアドレスデータを入力し、外部制御信号
NWEを“H”→“L”→“H”レベルに変化すると、
“H”→“L”→“H”レベルに変化するパルスのアド
レスラッチ制御信号LP2が発生する。このとき他のア
ドレスラッチ制御信号LP1,LP3は論理“H”に保
持される。
【0025】この結果、データ入出力端子I/O0,
1,2に供給されているA3からA5までのアドレス情
報がそれぞれアドレスバッファ回路ABUF3からAB
UF5にラッチされ、内部アドレス信号が入力されたア
ドレス情報に対応した論理レベルに設定される。最後
に、A6からA8までのアドレスデータをI/O0から
I/O2に入力し、外部制御信号NWEを“H”→
“L”→“H”レベルに変化させると、“H”→“L”
→“H”レベルに変化するパルスのアドレスラッチ制御
信号LP3が発生し、A6からA8までのアドレスデー
タはアドレスバッファ回路ABUF6からABUF8に
ラッチされる。このようにNWEパルスの3ステップで
I/O入出力端子に供給されるA0〜A8までのアドレ
ス情報が各アドレスバッファに入力される。
【0026】図6は前述のアドレスラッチ制御信号LP
1〜LP3を発生する回路を示す回路図である。ここで
シンボル表記してあるシフトレジスタはそれぞれ図7、
図8に示されるシフトレジスタ回路を表わしている。こ
の回路はアドレスデータ入力時、外部制御信号NWEの
立ち上りに対応して所定の期間“H”レベルとなるLA
TPULA信号を受けて負論理のデータラッタパルス信
号LP1,LP2,LP3を形成する。電源投入時及び
外部制御信号ALEが“H”→“L”レベルに変化した
時、リセット信号ARSTが所定の期間“H”レベルと
なるため第1のシフトレジスタの出力は“H”レベル、
また第2から第4のシフトレジスタの出力は“L”レベ
ルにイニシャライズされる。次に、アドレスデータ入力
時、第1ステップのNWEクロックに対応して正論理の
LATPULA信号が出力されると、第1のシフトレジ
スタの出力信号が“H”レベルのため、ナンドゲートN
AND2を介して負論理のアドレスラッチ制御信号LP
1が出力される。またパルス信号LATPULAの立ち
下がりに対応してシフトレジスタが1段進んで、第2の
シフトレジスタの出力は“H”レベル、また第1、第
3、第4のシフトレジスタの出力は“L”レベルとな
る。次に第2ステップのNWEクロックに対応して再度
LATPULA信号が出力されると、第2のシフトレジ
スタ回路の出力信号が“H”レベルのため、ナンドゲー
トNAND3を介して負論理のアドレスラッチ制御信号
LP2が出力される。またパルス信号LATPULAの
立ち下がりに対応してシフトレジスタがさらに1段進
み、第3のシフトレジスタの出力信号が“H”レベル、
第1、第2、第4のシフトレジスタの出力信号が“L”
レベルとなる。同じように第3ステップNWEクロック
に対応して、ナンドゲートNAND4を介してアドレス
ラッチ制御信号LP3が出力される。第3ステップのN
WEクロックでアドレス入力が終了すると、第4のシフ
トレジスタの出力信号が“H”レベルとなり、ノアーゲ
ートNOR2の出力信号である各シフトレジスタのCL
OCK入力信号は、“L”レベルに保持される。またこ
のとき各シフトレジスタのCLOKB入力信号はナンド
ゲートNAND5により“H”レベルに保持される。こ
のため第4、第5ステップのNWEクロック信号が入力
され、パルス信号LATPULAが発生しても第1、第
2、第3のシフトレジスタの出力信号は“L”レベルを
保持し、アドレスラッチ制御信号は出力されないよう構
成されている。
【0027】このようにして、3ステップのNWEクロ
ック信号でアドレス入力が終了すると、第3のラッチデ
ータ制御信号LP3のレベル変化を受けて、Busy信号が
出力され、ロウ・アドレスに対応したアドレスバッファ
回路の内部アドレス信号に対応したワード線が選択され
る。さらに所定の(10μsec )ディレイ時間の後、選
択されたワード線にコントロールゲートが接続された1
ページ分のメモリセルデータがビット線を介して読み出
され、データレジスタにラッチされる。
【0028】次にこのデータレジスタの内容を読み出す
ため外部制御信号NREを“H”→“L”→“H”に変
化させた場合の読み出し動作について図5及び図9を使
用して説明する。パルス信号PULはシリアル読み出し
動作モードで外部制御信号REを“H”→“L”レベル
に変化させた時出力される信号で、この信号PUL及び
その反転信号PULBはそれぞれアドレスバッファ回路
A0の入力端子Ai-1SとAi-1 SBに供給される。た
だしアドレス入力後の最初のカラム番地の読み出し時及
びページアドレスが切り換ってデータレジスタ内容が書
き換えられた後の最初のカラム番地の読み出し時は、Re
ad/Busy信号の“L”→“H”レベルへの変化に対応し
てパルス信号PULは出力されないよう構成されてい
る。このように構成された半導体メモリでアドレス入力
(図9はカラムアドレス=4番地を入力した場合)後に
外部制御信号NREを“H”→“L”レベルに変化させ
ると、4番地のデータレジスタの内容がI/O入出力端
子に出力されI/O入出力端子は高インピーダンス状態
から所定のレベルに変化する。このとき前述したように
パルス信号PULは発生しないため、アドレスバッファ
回路のバイナリ出力信号(=内部アドレス信号)は変化
しない。次に外部制御信号NREが“L”→“H”レベ
ルに変化するとI/O入出力端子は高インピーダンス状
態となる。再度外部制御信号NREを“H”→“L”レ
ベルに変化すると、今度はパルス信号PULが発生する
ため、アドレスバッファ回路ABUF0の内部アドレス
信号A0Sは“L”→“H”レベルに変化する。その後
この内部アドレス信号で選択されるデータレジスタの内
容(カラムアドレス=5番地)がI/O入出力端子に出
力される。その後外部制御信号NREを“L”→“H”
レベルに変化するとI/O入出力端子に高インピーダン
ス状態となる。次に外部制御信号NREが“H”→
“L”レベルに変化すると、パルス信号PULにより内
部アドレスA0Sは“H”→“L”レベルへと変化する
とともに、このA0Sの変化に応答してアドレスバッフ
ァ回路ABUF1の出力信号である内部アドレス信号A
1Sも“L”→“H”レベルへと変化する。このように
内部アドレス信号A0S,A1S,A2Sで決定される
内部アドレスは信号PULによりインクリメントされ
る。4ステップ目に外部制御信号NREが“H”→
“L”レベルに変化すると内部カラムアドレス信号はす
べて“H”レベルとなるため、信号COLENDが
“L”→“H”レベルに変化する。この信号COLEN
Dが“H”レベルのときに、外部制御信号REが“L”
→“H”レベルに変化すると(4ステップ目)パルス信
号PULが出力され内部アドレスはインクリメントされ
るとともにReady /Busy信号が“H”→“L”レベルに
変化する。このように外部制御信号NREのクロックに
より、入力されたアドレスで指定される番地から、カラ
ムの最終番地まで連続読み出しが行なわれた後の内部カ
ラムアドレスは0番地を示しており、ロウ・アドレス
(ページアドレス)はインクリメントされる。またBU
SY信号の出力に応答して、新しく選択されたワード線
にゲートが接続されたメモリセルデータが所定の読み出
し時間後(10μsec )にデータレジスタに転送され、
チップがアクセス可能である事を示すREADY信号が
Ready /Busy出力端子に出力される。チップがRead
y状態に変化した後クロック外部制御信号NREを入力
して読み出し動作を行なうと(5ステップ目)、Ready
/Busy信号が“L”→“H”アドレスに変化した後の最
初の読み出し動作であるため信号PULは出力されず、
カラムアドレス0番地のデータレジスタの内容が、I/
O入出力端子に出力される。
【0029】この後カラムの最終番地まで外部制御信号
NREのクロックにより読み出しを行なうと、前述した
ようにReady /Busy出力端子には再度Busy信号が出
力されるとともに、次のページアドレスのメモリセルデ
ータがデータレジスタに転送される。内部アドレスが最
終番地の読み出し時は、信号COLENDが“L”→
“H”レベルに変化するとともに、信号AENDも
“L”→“H”レベルに変化する。最終番地読み出し後
は次の外部制御信号NREで読み出し動作を行なわない
ように設定される。このため、最終番地読み出し後信号
AENDが“H”レベルに変化すると、Ready /Busy出
力端子にはREADY信号が保持されたままになり、外
部制御信号NREが“L”→“H”レベルに変化しても
パルス信号PULは出力されないよう構成される。また
BUSY信号が出力されないため、メモリセルデータの
データレジスタへの転送も行なわれない。このように、
1チップの最終アドレスまで読み出しが行なわれた場合
に、アドレスがインクリメントされてアドレス0番地の
メモリセルデータが読み出されないように信号AEND
が制御している。
【0030】このように構成された半導体メモリにおい
て連続データ読み出しを行なう場合のメモリ制御チップ
のプログラムのシーケンスを図10に示す。本実施例の
半導体メモリチップでは、チップがアクセス可能状態で
あれば常に同じアクセイタイム(70nsec)で読み出し
が可能であり、かつカラムアドレス(ページ内アドレ
ス)が最終番地かどうか判定するプログラムを必要とし
ない。このため任意のページ内アドレス長のチップを使
用してもメモリ制御チッププログラムを変更する必要が
なく、多数個のメモリを使用した場合でも簡単なメモリ
制御チッププログラムで多数個のメモリを管理できる利
点がある。図11は、このように構成された半導体メモ
リを多数個使用する場合の連続例を示したもので、外部
制御信号NCEを最上位アドレスとして使用することに
より、このシステムを1つの半導体メモリのビット容量
以上のメモリ容量を持つ1つの半導体メモリのように管
理することが可能となる。
【0031】図12は、前述した半導体メモリに書き込
みを行なう場合の外部制御信号の入力波形と、データ入
力タイミングを示す図面である。まずコマンドデータ入
力モードでシリアルデータ入力コマンド80Hが入力さ
れると、チップはプログラムスタート番地を入力するア
ドレス入力モードとなる。アドレス入力モードでは、前
述の読み出しモードと同様に外部制御信号NWEの3ス
テップのクロックでカラムアドレス及びページアドレス
をそれぞれのアドレスバッファ回路に取り込み、各内部
アドレス信号を入力アドレスデータに対応した所定の論
理レベルに設定する。前述の読み出しモードでは、3ス
テップ目のアドレス情報入力後、Ready/Busy出力端子
にはBusy信号が出力され、メモリセルデータがデー
タレジスタに転送されるが、シリアルデータ入力モード
ではReady /Busy出力端子にReady信号が保持され
るよう構成されており、メモリセルデータがデータレジ
スタに転送される読み出し動作は行なわれない。またシ
リアルデータ入力コマンド80Hが入力されるとデータ
レジスタ内のデータがすべて“H”レベルにイニシャラ
イズされる。
【0032】この動作を図13のデータレジスタ回路及
び図14のタイミングチャートを使用して説明する。図
13は各ビット線に1つづつ設けられたデータレジスタ
回路で、クロックドインバータCINV5及びCINV
6はデータラッチの働きをし、かつクロックドインバー
タCINV5はデータ読み出し時センスアンプの役目を
行なう。またゲートに信号PREが供給されたNチャネ
ルトランジスタはデータラッチ部をプリチャージする時
に使用され、この時ビット線とデータラッチ部はゲート
に信号BLCDが供給されたNチャネルトランジスタに
より電気的に切り離される。さらにこのデータレジスタ
回路はゲートにカラムデコーダ出力信号CSLjが入力
されたカラムゲートトランジスタを介して各I/O毎に
1本づつ設けられた共通バスラインIOi/IOiBに
接続されている。まずシリアルデータ入力コマンド80
HがI/O入力出力端子より入力されると、すべてのカ
ラムゲートトランジスタが非導通状態で信号SENB,
RLCHBが“H”レベルに、また信号SEN,RLC
Hが“L”レベルに変化するため、クロックドインバー
タCINV5及びCINV6は非活性となる。それと同
時にプリチャージ信号PREが“H”レベルに変化する
ため、全データレジスタ内のノードBLjは“H”レベ
ルにプリチャージされる。このプリチャージ動作後信号
SENが“L”→“H”レベルへ、また信号RLCHB
が“H”→“L”レベルへ変化しノードNBLjは
“L”レベルに設定される。このようにしてノードBL
j,NBLjの設定が終了した後、信号SENBが
“H”→“L”、また信号RLCHが“L”→“H”レ
ベルに変化して、前述の設定データがデータレジスタ回
路にラッチされる。このイニシャライズ動作によりすべ
てのデータレジスタのノードBLjは“H”レベルとな
り、すべてのデータレジスタのデータは“1”に設定さ
れる。その後アドレス入力動作が終了すると、信号SD
ICが“L”→“H”レベルに変化するため、共通バス
ラインIOi/IOiBに、書き込みデータ及びその反
転データがI/O入出力端子より転送される。次に外部
制御信号NWEが“L”レベルとなっている間入力され
たカラムアドレス(5番地)に対応するカラムデコーダ
出力信号CSL6が“H”レベルとなる。共通バスライ
ンを駆動するバッファインバータBUF1及びBUF2
の電流駆動能力はクロックドインバータCINV5及び
CINV6より充分大きく設定されるため、カラムデコ
ーダ出力信号CSL6によって選択されるデータレジス
タのラッチ内容は、共通バスライン上の書き込みデータ
に書き換えられる。このようにして5番地より7番地ま
で外部制御信号NWEのクロックによりデータ入力が行
なわれる結果、カラムアドレス0番地から4番地までの
データレジスタの内容はイニシャライズされたときのデ
ータ“1”がラッチされており、カラムアドレス5番地
から7番地まではI/O入出力端子から入力されたデー
タがラッチされている。このデータ入力モード後コマン
ド入力モードでプログラムコマンド10Hを入力する
と、チップはメモリセルへのデータ書き込みを行なう。
【0033】このデータ書き込み時、ラッチ回路の電源
VBITHはVcc電位から10VのVDPI電位に変化
する。また同時に信号BLCDの電位は0Vから12V
程度の高電位となり、ビット線とラッチ回路が電気的に
接続される結果、データレジスタのデータが“1”であ
るビット線はVDPI電位に設定され、データレジスタ
のデータが“0”であるビット線は0Vに設定される。
このためデータレジスタのデータが“0”であるビット
線に接続されており、ワード線により選択されたメモリ
セルの浮游ゲートに電子が注入され、“0”データがメ
モリセルに書き込まれる。上記書き込み動作中はReady
/Busy出力端子よりBusy信号が出力され、所定の書
き込み時間が経過すると、自動的にREADY信号が出
力されるように設定されている。この書き込み動作が正
常に終了したかどうかは、コマンド入力モードで70H
のフラグリードコマンドを入力することにより、内部レ
ジスタに記憶された自動ベリファイの結果をI/O入出
力端子より読み出すことが可能である。このようなフラ
グリード機能は、従来の半導体メモリでも実用化されて
いる機能であるので、説明は省略する。
【0034】このように構成された半導体メモリの2番
地から7番地までデータを書き込む場合の、メモリ制御
チッププログラムシーケンスを図15に示す。本発明の
実施例の半導体メモリを使用することにより、1ページ
内の途中のアドレスからデータを入力し、スタートカラ
ムアドレス以前のデータを自動的に所定のデータにイニ
シャライズすることが可能となるため、図31の従来例
で示すダミーデータ入力命令を行なう必要がなく、プロ
グラム時間を短縮することが可能となる。
【0035】次に本実施例の半導体メモリのアドレスレ
ジスタリード機能について説明する。この機能は、デー
タ読み出し時及びデータ書き込み時にアドレス入力した
後に内部アドレスが正常にラッチされているか、又は外
部制御信号NWEクロックで内部アドレスがインクリメ
ントされている途中で、アドレスレジスタ内にラッチさ
れている内部アドレス情報を読み出したい時に使用され
る。
【0036】図16は本実施例回路でアドレスレジスタ
の内容を読み出す場合の外部制御信号の入力タイミング
を示す図面である。図17は、本実施例の不揮発性半導
体装置の出力バッファ回路の回路図を示しており、図1
8は図17の信号AREG1〜3及びNAREG1〜3
の信号を作成するアドレスレジスタリード制御回路の回
路図を示している。図18中のシンボル第1のシフトレ
ジスタ及び第2〜4のシフトレジスタはそれぞれ図7及
び図8のシフトレジスタ回路を表わしている。まずコマ
ンド入力モードでE0Hを入力すると、チップは、レジ
スタ読み出しモードになり、図18の信号ADDRが
“L”→“H”レベルに変化するとともに、所定の期間
の正論理のパルス信号ARRSTにより、図18の各シ
フトレジスタの出力ノードAS1,AS2,AS3,A
S4はそれぞれ“H”,“L”“L”,“L”レベルに
リセットされる。レジスタ読み出しモード以前にチップ
が読み出しモードになっていると、図17のクロックド
インバータCINV7の制御信号READ/NREAD
はそれぞれ“H”/“L”レベルとなっているため、ノ
ードOUTにはカレントミラー回路CMで検出された共
通バスラインIOo Bのデータが転送されている。次に
レジスタ読み出しモードになると、信号READは
“H”→“L”レベルに変化するためクロックドインバ
ータCINV7は非活性状態となるが、ノードOUTに
は電流駆動能力がクロックドインバータCINV7〜1
0より小さく設定されたインバータで形成されるラッチ
回路LATが接続されているため、ノードOUTのレベ
ルはレジスタ読み出しモード以前のレベルに保持され
る。次にアドレスレジスタの内容を読み出すため、外部
制御信号NREを“L”レベルに変化させると図18の
ノードADRのレベルが“L”→“H”レベルに変化
し、信号AREG1はノードAS1の“H”レベルに応
答して“H”レベル変化する。このため図17のクロッ
クドインバータCINV8は活性状態となり、ノードO
UTには内部アドレス信号A0Sの論理レベルに対応し
たデータがラッチされる。図17の信号BUSはReady
/Busy入出力端子に出力される信号と逆位相の内部BU
SY信号でありレジスタ読み出しモードのときチップは
アクセス可能状態であるから、信号BUSは“L”レベ
ルとなっている。このため外部制御信号NREが“L”
レベルに変化すると、ノードOEは“L”→“H”レベ
ルに変化し、ノードOUTにラッチされている内部アド
レス信号A0Sと同位相の信号が入出力端子I/O0に
出力される。このとき入出力端子I/O0,1,2には
それぞれ内部アドレス信号A0S,A1S,A2Sと同
位相の信号が出力されるよう構成することにより、1ス
テップ目の外部制御信号NREクロックにより、内部ア
ドレスA0〜A2を同時に読み出すことが可能である。
次に外部制御信号NREを“L”→“H”レベルに変化
させると、ノードADRが“L”レベルとなりクロック
ドインバータCINV8が非活性状態となる。さらにこ
の外部制御信号NREの変化に応答して図19に示すよ
うに負論理のパルス信号AREGPULが形成され図1
8のシフトレジスタの出力ノードAS1が“H”→
“L”レベルへ、また出力ノードAS2が“L”→
“H”レベルへと変化する。このため2ステップ目の外
部制御信号NREの“H”→“L”レベルへの変化で信
号AREG2が“H”レベルとなり、クロックドインバ
ータCINV9を介して内部アドレス信号A3Sの論理
レベルに対応したデータがノードOUTにラッチされ
る。またこのとき、ノードOEのレベルも“L”→
“H”に変化するため、入出力端子I/O0には、内部
アドレス信号A3Sと同位相の信号が出力される。それ
と同時にI/O1,I/O2にはそれぞれ内部アドレス
A4Sと、A5Sと同位相の信号が出力されるよう構成
されている。2ステップ目で外部制御信号NREが
“L”→“H”レベルに変化するとパルス信号AREG
PULにより、図18シフトレジスタ回路の出力ノード
AS2は“H”→“L”レベルへ、また出力ノードAS
3は“L”→“H”レベルへ変化する。3ステップ目で
外部制御信号NREが“H”→“L”レベルに変化する
と、信号AREG3に応答して内部アドレス信号A6S
と同位相の信号が入出力端子I/O0に出力される。こ
のとき、入出力端子I/O1,I/O2にはそれぞれ内
部アドレス信号A7S,A8Sと同位相の信号が出力さ
れるように構成される。3ステップ目で外部制御信号R
Eが“L”→“H”レベルに変化すると、シフトレジス
タの出力ノードAS4が“H”レベルに変化するため、
信号AREGPULに応答してシフトレジスタの出力レ
ベルが変化しなくなる。このため第4ステップ目の外部
制御信号NREクロックを入力しても信号AREG1〜
3は“H”レベルとならず、最後にノードOUTにラッ
チされている内部アドレスA0Sと同位相の信号が入出
力端子I/O0に出力されることになる。再度レジスタ
リードコマンドEOHを入力すれば、パルス信号ARR
STによりシフトレジスタの内容がリセットされ、内部
アドレスA0〜A8を再度読み出すことができる。
【0037】次にデータレジスタリード機能について説
明する。この機能は書き込みモードでデータ入力後にデ
ータレジスタの内容を確認するため使用される。図16
に示すように、コマンド入力モードでレジスタリードコ
マンドEOHを入力すると、図5のアドレスバッファ回
路にラッチされている内部カラムアドレスを0番地にク
リアする正論理のパルス信号DATARPULが発生さ
れる。このため、前述の読み出し動作で説明したよう
に、外部制御信号NREをクロックで入力すると内部ア
ドレス0番地から最終カラム番地まで、データ入力モー
ドで入力したデータレジスタの内容を連続して読み出す
ことができる。ただし、前述した読み出しモードの場
合、最終のカラムアドレス番地を読み出すと自動的にRe
ady /Busy出力端子からBusy信号が出力されるが、
レジスタ‐読み出しモードでは、前述の信号ADDRの
レベル変化に応答して、Ready /Busy出力端子にはRe
ady信号が保持され、Busy信号が出力されないよ
う構成されている。さらに、前述した読み出しモードで
最終のカラムアドレス番地を読み出すと自動的にロウ・
アドレスがインクリメントされるが、レジスタ‐読み出
しモードでは、信号ADDRによりロウ・アドレスがイ
ンクリメントされなよう制御される。このため、データ
レジスタ読み出しモードでデータレジスタの内容を確認
した後、書き込み動作を行なっても、データレジスタ読
み出しモード以前に入力された所定のロウ・アドレスの
メモリセルに正常にデータレジスタの内容の書き込みを
行なうことができる。
【0038】次に本実施例の半導体記憶メモリにおい
て、電源投入時に内部アドレスレジスタ及びデータレジ
スタがリセットされる動作を説明する。本実施例では電
源投入時は外部制御信号NWPを“L”レベルに設定
し、電源投入後に外部制御信号NWPを“H”レベルに
設定することにより、内部アドレスレジスタ及びデータ
レジスタがリセットされよう構成される。外部制御信号
NWPは、他の外部制御信号にノイズが発生し、チップ
が誤まってデータレジスタの内容の書き換え、メモリセ
ルへのデータ書き込み/消去を行なうことを防止するた
め、それらのモードを実行可能か否かを制御するため設
けられた外部制御信号である。図2の動作モード表に示
されるように、外部制御信号NWPが“L”レベルのと
き、データ入力、プログラム/消去、メモリセルからデ
ータレジスタへのデータ転送動作が行なわれないようチ
ップは構成される。データ入力動作を禁止するには外部
制御信号NWPが“L”レベルのとき図5の信号PUL
を“H”レベルに保持し、内部アドレスのインクリメン
ト動作が行なわれないように構成すると、図13のデー
タレジスタ回路のリセット動作を行なうプリチャージ信
号PREの発生と、信号SEN/SENB,RLCH/
RLCH5,CSLjによる共通バスラインからデータ
レジスタのデータ転送及びラッチ動作が禁止されるよう
構成すればよい。
【0039】図21(a)、(b)、(c)はプログラ
ム/消去のコマンド入力回路の回路図であり、信号CM
DWESは、コマンド入力モードのとき外部制御信号N
WEに応答して“H”→“L”レベルに変化する。また
CMDWESBはCMDWESの逆相の信号である。こ
のため、コマンドモードでI/O入出力端子に所定のコ
マンドコードが入力されると、対応するコマンド入力回
路の制御信号が“H”レベルになる。プログラム/消去
の内部動作は、図21に示すそれぞれのコマンド回路の
出力信号RROG/ERASEにより制御されているた
め、外部制御信号NWPと同相の内部信号WPSBで信
号RROG/ERASEが“H”レベルになるのを禁止
することにより、外部制御信号NWPが“L”レベルの
ときプログラム/消去動作が行なわれないように構成さ
れている。さらにメモリセルからデータレジスタへのデ
ータ転送動作は、Ready /Busy出力端子に出力される信
号と逆相の内部信号が“L”→“H”レベルへと変化す
ることを検知して行なわれるため、前述の内部信号WP
SBでこの信号を“L”レベルに保持することで外部制
御信号NWPがLレベルのときデータ転送動作が禁止さ
れる。このように外部制御信号NWPは、データレジス
タの内容の書き換え、メモリセルへのデータ書き込み/
消去動作を禁止するため使用されるとともに、電源投入
時に、内部アドレスレジスタ及びデータレジスタの内容
をイニシャライズするためにも使用される。図21
(c)は、リセットパルス発生回路を示しており、外部
制御信号NWPが“L”→“H”レベルに変化すると
き、正論理のリセットパルスRSTが発生される。この
リセット信号RSTは図4のアドレスバッファ回路に入
力されるており、すべてのアドレスバッファ回路の出力
信号AiSは正論理のリセット信号RSTにより“L”
レベルにリセットされ、内部アドレスは0番地にリセッ
トされる。また図6に示すデータラッチ制御信号発生回
路に入力されるリセット信号ARSTも、リセット信号
RSTに対応して正論理で出力されるため、データラッ
チ制御信号発生回路のシフトレジスタの出力ノードのレ
ベルも前述したように所定のレベルに設定される。また
図18に示すアドレスレジスタリード制御回路に入力さ
れるリセット信号ARRSTもリセット信号RSTに対
応して出力されるため、各シフトレジスタ回路の各出力
ノードは前述した所定のレベルにリセットされる。また
各データレジスタのラッチデータは、リセット信号RS
Tにより“1”データにリセットされる。この信号RS
Tによるリセット動作は、データ入力モードでデータ入
力コマンド80Hを入力した後のデータレジスタ初期設
定動作と同じてあり、カラムゲートトランジスタCSL
jが非導通状態で信号PREによるプリチャージ動作
と、信号SEN/SENB及び信号RLCH/RLCH
Bによるラッチ動作を行なう。このように構成された不
揮発性半導体装置では電源投入時、外部制御信号NC
E,CLE,ALEが不定状態でも外部制御信号NWP
を“L”レベルに固定することにより書き込み/消去の
誤動作を禁止することができ、電源電圧が所定のレベル
になった後外部制御信号NWPを“L”→“H”レベル
に変化させることにより確実にチップ内部のラッチ回路
をリセットすることが可能である。
【0040】次に、本発明のさらに異なる実施例を説明
する。図32はアドレスバッファ回路を示し、シンボル
表記したアドレスバッファABUFは第1の実施例のも
のと同一のものを示す。本実施例では、カラムアドレス
バッファA0〜A2の出力側にさらにもう一段のラッチ
回路ACLiが接続されている。このシンボル表記の内
容は図33に示す通りである。ラッチ制御信号REP,
PEPBは互いに逆相の信号である。REPが“H”に
なると、アドレスバッファABUF0〜2の出力信号A
0〜2をとり込み、REPが“L”の間データを保持す
る。このようにしてラッチ回路に現在のアドレスを保存
しておき、アドレスバッファ回路自体のアドレスデータ
を前もってインクリメントすることにより、アドレスバ
ッファ回路のインクリメントに要する時間を短くするこ
とができる。
【0041】図35は、データレジスタにラッチされた
データを、データ出力バッファまで転送する回路であ
る。SDiBは、データレジスタにラッチされたデータ
が、図13のバスラインIOi,IOiBを通じて、カ
レントミラー型のセンスアンプに入力されて増幅された
後の信号である。SDiBは、信号CENAが“H”と
なることによりラッチAに入力され、CENAが“L”
となるとラッチAがデータを保持する。さらにCENB
Bが“H”となるとラッチBにデータが転送され、CE
NBBが“L”となることによりラッチBがデータ保持
する。このような回路を用いることにより、ラッチBの
データをチップ外部に出力しながら、データレジスタか
ら次アドレスのデータをラッチAにとり込むことが可能
となる。
【0042】本発明の回路をシリアルリードに適用した
場合について説明する。図34は、ランダムアクセスと
シリアルアクセスの1サイクル分について、主要信号の
動作を示したタイミングチャートである。信号PRE,
BLCD,SEN,SENB,RLCH,RLCHBは
図13に示した信号であり、ランダムアクセス時は図3
4に示したように変化する。アドレス3ステップ入力後
あるいはシリアルアクセスの後、ランダムリードに入
り、Ready状態になった後、前動作で選択されてい
たワード線を非選択にし、アクセスしようとするワード
線を選択する。この後、信号PREが“H”になり、ビ
ット線及びデータレジスタがプリチャージされる。この
とき、BLCDは“H”となっており、ビット線とデー
タレジスタとは接続されている。その後、PREが
“L”となり、次に信号SENが“L”→“H”→
“L”、RLCHBが“H”→“L”→“H”となるこ
とにより、データレジスタ内のノードBLjに“H”レ
ベルがラッチされる。その後、信号RDENBRが
“H”となり、選択した8nandセルのコントロール
ゲートに所定の電圧が設定される。所定時間後、信号S
ENが“L”→“H”、SENBが“H”→“L”に変
化することにより、図15のCINV5が活性化されて
読み出しデータをセンスする。その後、RLCHが
“L”→“H”、RLCHBが“H”→“L”と変化す
ることにより、1ページ分のセンスデータをラッチす
る。この後、所定時間後に、カラム先頭番地のデータ
を、データレジスタから図35の出力ラッチA及びBに
転送する。すなわち、信号CENに応答して先頭アドレ
スに対応したデータレジスタの出力ゲートCSLijが開
き、前記データがカレントミラー型センスアンプに転送
される。同時に、CENABを“H”→“L”→“H”
とすることにより、このデータはラッチAまで転送され
る。このときCENAは“L”→“H”→“L”に変化
する。CENBBは、NREとほぼ同相の波形で動作す
る信号であり、CENABが最初に“H”→“L”→
“H”へ変化するときラッチBの入力ゲートは開いてお
り、データはラッチBまで転送される。これと同時に、
カラムアドレスカウンタABUF0〜2は、PUL1に
よって、1回インクリメントし、その出力は次アドレス
を示す。しかしながら、REPは“L”レベルのままで
あるため内部アドレスは先頭アドレスを示したままとな
る。以上の動作を、ランダムアクセスの時間内に行い、
Ready /Busy信号を“H”として、ランダムリードが終
了したことをチップ外部に知らせる。続いてシリアルア
クセスを行う場合、外部制御信号NREが“L”となる
と、先頭アドレスデータはラッチBから、データ出力バ
ッファを通して、外部に出力される。これと同時に、チ
ップは、次アドレスのデータをラッチAに転送する動作
を行う。すなわち、先頭アドレスのデータを出力するた
めの制御信号NREのクロック入力に応答して、信号R
EPは出力され、ABUF0〜2の次アドレスのデータ
をアドレス出力ラッチACL0〜2にとり込む(このあ
と、信号PUL1によってカラムアドレスバッファをイ
ンクリメントし、ABUF0〜2のデータはさらに次の
番地を示す。)。次アドレスに対応したデータレジスタ
から、信号CEN,CENABによって、ラッチAに次
アドレスのデータが転送される。その後、制御信号NR
Eが“H”となり、先頭アドレスのデータ出力が終了す
ると、CENBBも“H”となり、ラッチAの次アドレ
スのデータがラッチBに移される。このように、制御信
号NREのクロック入力に対してn番地のデータを出力
し、これと同時にn+1番地のデータをデータレジスタ
から転送することにより、チップ外部から見たシリアル
アクセスタイムは、ラッチBからデータ出力バッファを
通して出力する時間となり、データ出力のサイクルタイ
ムを短くすることができる。本実施例では、アドレスバ
ッファABUF0〜2のデータは、そのとき出力してい
るデータに対して2アドレス先を示し、アドレス出力ラ
ッチACL0〜2のデータは1アドレス先を示してい
る。このため、カラム最終番地のデータを出力し終った
後に、ローアドレスA3S〜A8Sをインクリメントす
るための信号が必要となる。図32に示すように、本実
施例では、アドレスバッファABUF3の入力信号とし
て信号PUL2が入力されている。図35には信号PU
L2を出力する回路を示している。NREクロックによ
りシリアルアクセスを行い、カラム最終番地の1つ前の
アドレスのデータを出力するとき、アドレス出力ラッチ
ACL0〜2はカラム最終番地を示す。これに対応し
て、カラム最終番地であることを示す信号COLEND
が出力される。カラム最終番地のデータを出力するため
に制御信号NREのクロックが入ると、図36の回路に
おいて、NREの立ち下がりに対して、ノードNAにパ
ルス信号が出力される。このとき、NAND1のもう一
方のゲートには“H”が入力されており、このためフリ
ップフロップF1はセットされ、ノードNBは“H”レ
ベルとなる。最終番地のデータを出力し終って制御信号
NREが“H”となると、NAND2を通じてPUL2
にHレベルが出力され、遅延回路delay3を通して
フリップフロップF1がリセットされるまで、PUL2
は“H”レベルを保つ。遅延回路delay2の遅延時
間は、カラム最終番地の1つ前でCOLENDが“H”
レベルとなるので、そのときの制御信号NREのクロッ
クによりノードNAに出力されるパルスを拾わないよう
に、設定される。このように、最終番地のデータを出力
したことを検知してPUL2が出力され、アドレスバッ
ファA3〜A8をインクリメントし、次のページに対し
てのランダムアクセスを行う。
【0043】次に、不良ビット線が存在するときにおい
ても適正に書き込みを行えるようにした例を説明する。
【0044】図37は上述の本実施例のチップにおいて
データ入力コマンドを入力した後における内部プリセッ
ト動作を説明するためのフローチャートである。このシ
ーケンスで書き込みを行うと、Alで配線されたビット
線がソース線にショートしているような不良ビット線が
存在する場合には、以下に述べるような問題がある。
【0045】即ち、通常このような不良ビット線のカラ
ムアドレスは、ヒューズの切断等により、リダンダンシ
ー回路で記憶されている。この不良ビット線のアドレス
が選択された場合、この不良ビット線の代わりに、カラ
ムリダンダンシーのビット線が選択されるように構成さ
れている。しかしながら、図37に示すプリチャージ動
作及びデータレジスタの初期データプリセット動作は、
カラムアドレスに関係なく、全てのビット線に対して行
われる。このため、図13に示すように、リダンダンシ
ー回路により救済される前の不良ビットのデータレジス
タも、ゲートに信号PREが入力されたトランジスタが
導通状態となるため書き込みインヒビットの“1”デー
タにプリセットされる。この場合以下に述べるような問
題が生じる。図13のデータラッチ回路において、デー
タレジスタのラッチ回路の電源VBITHは、外部電源
ccから、チップ内蔵の昇圧回路により供給される電源
VDPI(10V)に、切り替わり、信号BLCDも0
Vから内部電源の12Vに変化する。このとき、前述の
不良ビット線が接続されたデータレジスタのノードBL
jは、前述のプリセット動作によりハイレベルとなって
いるため、クロックドインバータCINV6のPチャネ
ルトランジスタが導通状態となっており、電源VBIT
Hからグランド電位にリーク電流が流れる。電源VDP
Iは昇圧回路の出力であるため、電流供給能力は通常1
mA以下と小さい。このため、不良ビット線を介してリ
ーク電流が流れると、電源VDPIの電位は、12Vよ
り低下する。これに伴って、他の書き込みインヒビット
のビット線電位も12Vより低下することになり、誤書
き込みが生じるという問題が生じる。
【0046】図38は、この問題を解決した改良された
本発明の他の実施例の書き込み動作を示すフローチャー
トである。また図39は、この実施例のセンスアンプ・
データレジスタの回路図である。本実施例では、データ
入力コマンドが入力されると、各ビット線に接続されて
いるNチャネルトランジスタTrNlを介して、各ビッ
ト線が充電される。ビット線充電後所定の読み出し時間
をおいて信号BLCDをハイレベルにして、ビット線の
データをデータレジスタに転送する。この所定の時間の
間、全てのセレクト線は非選択状態に設定される。この
ため、リークがあるビット線のレベルはロウレベルに低
下し、ビット線リークのない正常なビット線のレベルは
ハイレベルのままとなる。このビット線のレベルがデー
タレジスタにラッチされる。このようなビット線リーク
テストを行い、不良ビット線が接続されるデータレジス
タには、メモリセルのデータに拘わりなく、書き込みデ
ータとしての“0”データをラッチし、データレジスタ
内のノードBLjのレベルをロウレベルにプリセットす
る。また、正常なビット線が接続されるデータレジスタ
には、書き込みデータとしての“1”データをラッチ
し、データレジスタ内のノードBLjのレベルをハイレ
ベルにプリセットする。図38に示すように、このビッ
ト線リークテストモードが終了すると、アドレス入力モ
ードで指定される所定アドレスから書き込みデータがデ
ータレジスタに入力され、その後書き込みが実施され
る。
【0047】このように、本実施例では、書き込み時
に、不良ビット線が接続されるデータレジスタの内容は
“0”データとなっている。このため、このデータレジ
スタ内のクロックドインバータCINV6のPチャネル
トランジスタTrPlは、非導通状態となっている。こ
のため、書き込み動作が開始されてBLCDが12Vと
なっても、電源VBITHからグランドにリーク電流が
流れることはなく、VBITHの電圧は低下しない。
【0048】このビット線リークテストによるデータレ
ジスタプリセット動作は、たとえば、FF等のリセット
コマンドが入力された際に行うよう構成してもよい。即
ち、この場合には、書き込み開始前、つまり、データ入
力コマンドを入力する前に、FFリセットコマンドを実
行する。これにより、不良ビット線が接続されたデータ
レジスタの内容は“0”データにプリセットされ、正常
なビット線が接続されたデータレジスタの内容は“1”
データにプリセットされる。この後、データ入力コマン
ドを実行し、所定のアドレスからデータを入力した後書
き込み動作を行うようシステムを構成してもよい。
【0049】以上説明してきたように、本発明の実施例
によれば、入力されたアドレス番地から1ページ分のデ
ータレジスタの内容を連続的に読み出した後、チップが
アクセス不可である事を示すBUSY信号をチップ外部
に出力するとともに、自動的にロウ・アドレスをインク
リメントし、メモリセルのデータをデータレジスタに転
送することができ、チップ外部で1ページ分のアドレス
管理することなく、任意のデータ長のメモリデータを連
続読み出しすることができる。
【0050】また、入力アドレスで指定された所定のア
ドレスから任意アドレスまでのデータを入力すると、そ
の1ページ内のアドレスのデータレジスタの内容が所定
の値に自動的に認定されるため、1ページより小さいサ
イズの書き込みを実行する際1ページ分のデータを入力
することなく書き込みを実行することができるので、書
き込みに要する時間を短縮することができる。さらに、
プログラム・消去プロテクト信号で電源投入時のチップ
内部リセット動作を行なっているため、パワーオンリセ
ット回路を使用することなく確実にチップ内容をリセッ
トすることができる。
【0051】
【発明の効果】本発明によれば、メモリ制御チップによ
りページアドレス管理を行うことなく、動作させること
ができ、さらに書き込み時間の短縮を図ることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体メモリのブロック図。
【図2】本発明の半導体メモリの動作モードを説明する
図表。
【図3】本発明の半導体メモリの読み出し動作のタイミ
ング図。
【図4】本発明のアドレスバッファ回路の回路図。
【図5】本発明のアドレス入力手段の回路図。
【図6】本発明のアドレスラッチ制御信号発生回路の回
路図。
【図7】シフトレジスタ回路の回路図。
【図8】シフトレジスタ回路の回路図。
【図9】図5のアドレス入力手段の動作を説明するため
の内部信号タイミングチャート。
【図10】本発明の半導体メモリを読み出し制御プログ
ラムシーケンス図。
【図11】本発明の半導体メモリを多数個接続して使用
する場合の接続例。
【図12】本発明の半導体メモリの書き込み動作のタイ
ミング図。
【図13】データレジスタ回路。
【図14】本発明の半導体メモリの書き込み動作のタイ
ミング図。
【図15】本発明の半導体メモリを書き込み制御プログ
ラムシーケンス図。
【図16】本発明の半導体メモリのレジスタリード動作
を説明するための動作タイミング図。
【図17】本発明の半導体メモリの出力回路の回路図。
【図18】本発明のアドレスレジスタリード制御回路の
回路図。
【図19】図17の出力回路の動作を説明するための内
部信号タイミングチャート。
【図20】本発明の半導体メモリの電源投入時のリセッ
ト動作のタイミング図。
【図21】本発明の半導体メモリの電源投入時のリセッ
ト動作を説明するためのコマンド回路とリセット信号発
生回路。
【図22】メモリセル動作を説明するための図面。
【図23】メモリセル動作を説明するための図面。
【図24】メモリセル動作を説明するための図面。
【図25】従来の読み出し動作を説明するための図面。
【図26】従来の不揮発性半導体装置のブロック図。
【図27】従来の不揮発性半導体装置の動作モードを説
明する表。
【図28】従来の不揮発性半導体装置の読み出し動作の
タイミング図。
【図29】従来の不揮発性半導体装置の書き込み動作の
タイミング図。
【図30】従来の不揮発性半導体装置の読み出すための
制御プログラムシーケンス図。
【図31】従来の不揮発性半導体装置を書き込むための
制御プログラムシーケンス図。
【図32】アドレスバッファ回路の他の例。
【図33】ラッチ回路の詳細図。
【図34】ランダムアクセスとシリアルアクセスの1サ
イクル分における主要信号のタイミングチャート。
【図35】データレジスタ中のデータをデータ出力バッ
ファに転送する回路。
【図36】パルス信号PUL2を出力する回路。
【図37】従来のデータレジスタへの書き込みを示すフ
ローチャート。
【図38】本発明の実施例のデータレジスタへのデータ
書き込みを示すフローチャート。
【図39】本発明の実施例としてのセンスアンプ/デー
タレジスタの1例としての回路図。
【符号の説明】
101 ドレイン側セレクト線 103 ソース側セレクト線 105 カラムアドレスバッファ 107 ロウアドレスバッファ 109 コマンドデコーダ 111 I/O端子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 徳 重 芳 神奈川県川崎市幸区堀川町580番1号 株 式会社東芝半導体システム技術センター内 (72)発明者 山 村 俊 雄 神奈川県川崎市幸区堀川町580番1号 株 式会社東芝半導体システム技術センター内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ほぼマトリクス状に配列された複数のメモ
    リセルを有し、前記メモリセルのうちの選択した行に並
    ぶもののデータをパラレルに複数のデータレジスタに転
    送し、それらのデータレジスタ内のデータをシリアルに
    外部に出力し、順次この動作を繰り返えす、ページ読み
    出し可能な不揮発性半導体メモリにおいて、 外部から入力される読み出しスタート番地を記憶するア
    ドレス入力手段と、 前記アドレス入力手段に記憶された内部アドレスをイン
    クリメントするアドレス制御手段と、 前記データレジスタからの1ページ分のデータ出力の終
    了後に、前記メモリセルのデータを前記データレジスタ
    に転送する、読み出し手段と、 前記読み出し手段により前記転送が行われている間、ア
    クセス不可を示すビジー信号を外部に出力する、ビジー
    信号出力手段と、 を備えることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。
  2. 【請求項2】ほぼマトリクス状に配列された複数のメモ
    リセルを有し、前記メモリセルのうちの選択した行に並
    ぶメモリセルのそれぞれに、外部から複数のデータレジ
    スタのそれぞれに格納した複数のデータを一度に書き込
    む、ページ書き込み可能な不揮発性半導体メモリにおい
    て、 外部から入力される書き込みスタート番地を記憶するア
    ドレス入力手段と、 前記アドレス入力手段に記憶された内部アドレスをイン
    クリメントするアドレス制御手段と、 前記データレジスタのうちの前記内部アドレスで指定さ
    れるデータレジスタへ外部から書き込みデータを入力す
    るデータ入力手段と、 前記書き込みデータが入力されない他のデータレジスタ
    の記憶データを所定の書き込みデータに設定するデータ
    設定手段と、 を備えることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。
  3. 【請求項3】ほぼマトリクス状に配列された複数のメモ
    リセルを有し、前記メモリセルのうちの選択した行に並
    ぶもののデータをパラレルに複数のデータレジスタに転
    送し、それらのデータレジスタ内のデータをシリアルに
    外部に出力し、順次この動作を繰り返えし、前記メモリ
    セルのうちの選択した行に並ぶメモリセルのそれぞれ
    に、外部から複数のデータレジスタのそれぞれに格納し
    た複数のデータを一度に書き込む、ページ読み出し及び
    ページ書き込み可能な不揮発性半導体メモリにおいて、 外部から入力される読み出しスタート番地及び書き込み
    スタート番地を記憶するアドレス入力手段と、 前記アドレス入力手段に記憶された内部アドレスをイン
    クリメントするアドレス制御手段と、 前記データレジスタからの1ページ分のデータ出力の終
    了後に、前記メモリセルのデータを前記データレジスタ
    に転送する、読み出し手段と、 前記読み出し手段により前記転送が行われている間、ア
    クセス不可を示すビジー信号を外部に出力する、ビジー
    信号出力手段と、 前記データレジスタのうちの前記内部アドレスで指定さ
    れるデータレジスタへ外部から書き込みデータを入力す
    るデータ入力手段と、 前記書き込みデータが入力されない他のデータレジスタ
    の記憶データを所定の書き込みデータに設定するデータ
    設定手段と、 を備えることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。
  4. 【請求項4】外部から入力された前記読み出しスタート
    番地が前記アドレス入力手段に記憶されると、自動的
    に、前記メモリセルデータの前記データレジスタへの転
    送が行われると共に、外部に前記ビジー信号を出力す
    る、請求項1又は3に記載のメモリ。
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