EP0545230A1 - Verfahren zur Erzeugung von ggf. modifizierten Oxidkeramikschichten auf sperrschichtbildenden Metallen und damit erhaltene Gegenstände - Google Patents
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- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 26
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 title abstract description 13
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 title abstract description 7
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 title abstract description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000010431 corundum Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 5
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 5
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- -1 fluoride ions Chemical class 0.000 claims description 4
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 claims 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 abstract 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 6
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005486 organic electrolyte Substances 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 235000021110 pickles Nutrition 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/026—Anodisation with spark discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/26—Anodisation of refractory metals or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/30—Anodisation of magnesium or alloys based thereon
Definitions
- the invention relates to a method for producing oxide ceramic layers on barrier layer-forming metals or their alloys by plasma-chemical anodic oxidation in aqueous organic electrolytes, wherein the oxide ceramic layer can also be modified for special applications.
- this anodic oxidation is a gas-solid reaction under plasma conditions, in which the high energy input at the base of the discharge column produces liquid metal on the anode, which forms a briefly melted oxide with the activated oxygen.
- the layer formation takes place via partial anodes.
- the spark discharge is preceded by a formation area (P. Kurz; Dechema-Monographien Volume 121 - VCH Verlagsgesellschaft 1990, pages 167-180 with further references).
- the electrolytes were combined in such a way that their positive properties are combined and high-quality anodic oxide ceramic layers are created on aluminum.
- higher salt concentrations in the electrolyte bath and thus higher viscosities can be achieved.
- Such highly viscous electrolytes have a high heat capacity, stabilize the oxygen film formed on the anode and thus guarantee a uniform oxide layer formation (DD-WP 142 360).
- SPK current density-potential curves
- the barrier layer grows by increasing the voltage of the anodically polarized metal.
- An oxygen plasma then partially forms at the metal / gas / electrolyte phase boundary, through which the oxide ceramic layer is formed.
- the metal ion in the oxide ceramic layer comes from the metal, the oxygen from the anodic reaction in the aqueous electrolyte used.
- the oxide ceramic is liquid at the determined plasma temperatures of around 7,000 Kelvin. There is enough time on the side of the metal so that the melt of the oxide ceramic can contract well and thus form a sintered, low-pore oxide ceramic layer.
- the melt of the oxide ceramic is quickly cooled by the electrolyte and the gases that migrate, in particular oxygen and water vapor, leave an oxide ceramic layer with a capillary system with a wide-meshed connection.
- Pore diameters from 0.1 ⁇ m to 30 ⁇ m were determined from scanning electron microscopic investigations (CERAMIC COATINGS BY ANODIC SPARK DEPOSITION G.P. Wirtz et al, MATERIALS & MANUFACTURING PROCESSES 6 (1), 87-115 (1991), in particular FIG. 12).
- DE-A-2 902 162 describes a process in which, by using spark discharges during the anodization, porous layers on aluminum are produced which are intended for use in chromatography.
- EP-A-280 886 describes the use of anodic oxidation under spark discharges on Al, Ti, Ta, Nb, Zr and their alloys for the production of decorative layers on these metals.
- oxide ceramic layers on the above-mentioned metals which have a substantially higher layer thickness up to 150 ⁇ m, are abrasion-resistant and corrosion-resistant and have a high flexural fatigue strength.
- pure aluminum and, inter alia, aluminum and its alloys are the alloys AlMn; AlMnCu; AlMgl; AlMgl, 5; E-AlMgSi; AlMgSi0.5; AlZnMgCu0.5; AlZnMgCu1.5; G-AlSi-12; G-AlSi5Mg; G-AlSi8Cu3; G-AlCu4Ti; G-AlCu4TiMg understood.
- magnesium casting alloys of the ASTM designations AS41, AM60, AZ61, AZ63, AZ81, AZ91, AZ92, HK31, QE22, ZE41, ZH62, ZK51, ZK61, EZ33, HZ32 and the wrought alloys AZ31 are also particularly suitable for the purposes of the invention , AZ61, AZ 80, M1, ZK60, ZK40.
- TiAl6V4 Pure titanium or titanium alloys such as TiAl6V4; TiAl5Fe2.5 and others deploy.
- the chloride-free electrolyte bath can contain the inorganic anions customary in processes for plasma chemical anodic oxidation, namely phosphate, borate, silicate, aluminate, fluoride or anions of inorganic acids such as citrate, oxalate and acetate.
- the electrolytic bath preferably contains phosphate, borate and fluoride ions in combination and in an amount of at least 0.1 mol / l of each of these anions up to a total of 2 mol / l.
- the cations of the electrolyte bath are chosen so that they form salts which are as soluble as possible with the respective anions in order to enable high salt concentrations and viscosities. This is usually the case with alkali, ammonium, alkaline earth and aluminum ions up to 1 mol / l.
- the electrolyte bath contains urea, hexamethylenediamine, hexamethylenetetramine, glycol or glycerin in an amount up to a total of 1.5 mol / l as a stabilizer.
- very dilute electrolyte baths of the composition described above can also be used use in which the concentration of the anions is only 0.01 to 0.1 mol / l.
- the pH value is between 10 and 12, preferably 11. Because of the low conductivity of this electrolyte bath, the final voltage value can reach up to 2,000 V. The energy input caused by the plasma chemical reaction is accordingly very high.
- the oxide ceramic layer that forms on the aluminum materials consists of corundum, as X-ray diffraction studies show. The oxide ceramic layer can be hardened up to 2,000 HV. These oxide ceramic layers can be used in particular where extremely high abrasive wear protection is required.
- the choice of the voltage and current form such as direct, alternating, three-phase, pulse and / or multiphase alternating current in the frequencies up to 500 Hz, surprisingly has no influence on the layer formation process for producing the ceramic layer on the metals.
- the power supply for plasma chemical anodizing to form the ceramic layer takes place in such a way that the required current density of at least 1 A / dm 2 is kept constant and that the voltage is brought to a final value which is set.
- the final voltage value is between 50 and 400 volts and is determined by the metal used or by its alloy components, by the composition of the electrolyte bath and by its bath management.
- the invention also relates to the objects made of barrier layer-forming metals or their alloys produced by the method according to the invention with plasma-chemically produced oxide ceramic layers with a thickness of 40 to 150 ⁇ m, preferably 50 to 120 ⁇ m.
- a sample plate made of AlMgSi1 with a surface area of 2 dm2 is degreased and then rinsed with distilled water.
- the sample thus treated is in an aqueous / organic chloride-free electrolyte bath of the composition a) cations 0.13 mol / l sodium ions 0.28 mol / l ammonium ions b) anions 0.214 mol / l phosphate 0.238 mol / l borate 0.314 mol / l fluoride c) stabilizer and complexing agent 0.6 mol / l hexamethylenetetramine at a current density of 4 A / dm2 and an electrolyte temperature of 12 ° C ⁇ 2 ° C plasma-anodized. After a coating time of 60 minutes, the final voltage value of 250 V is reached.
- the ceramicized sample plate is rinsed and dried.
- the layer thickness of the ceramic layer is 100 ⁇ m.
- the hardness of the ceramic layer was determined to be 750 (HV 0.015).
- a die-cast housing made of GD-AlSi12 with a surface area of 1 dm2 is treated in a stain, each consisting of half of 40% HF and 65% HNO3, for 1 minute at room temperature and then rinsed with distilled water.
- the die-cast housing thus pickled is oxidized in the aqueous / organic chloride-free electrolyte bath from Example 1 at a current density of 8 A / dm 2 and an electrolyte temperature of 10 ° C. ⁇ 2 ° C. in a plasma-chemical-anodic manner. After a coating time of 30 minutes, a final voltage value of 216 volts is registered.
- the ceramic die-cast housing is rinsed and dried.
- the layer thickness of the ceramic layer is 40 ⁇ m.
- a sample plate made of a magnesium alloy of type AZ 91 with a surface area of 1 dm2 is pickled in 40% hydrofluoric acid at room temperature for 1 minute.
- the sample treated in this way is oxidized in an aqueous / organic chloride-free electrolyte bath according to Example 1 at a current density of 4 A / dm 2 and an electrolyte temperature of 12 ° C. ⁇ 2 ° C. in a plasma-chemical-anodic manner.
- the ceramic layer has a layer thickness of 50 ⁇ m.
- a rod made of pure titanium (length: 30 mm, diameter: 5 mm) is pickled in a pickle as in Example 2 and then rinsed with distilled water.
- the sample treated in this way is placed in an aqueous, chloride-free electrolyte bath of the composition: a) cations 0.2 mol / l calcium ions b) anions 0.4 mol / l phosphate at a current density of 18 A / dm2 and an electrolyte temperature of 10 ° C ⁇ 2 ° C oxidized by chemical anodizing.
- the ceramized rod is rinsed with distilled water and dried.
- the layer thickness is 40 ⁇ m.
- a gear wheel made of AlMgSi1 with a surface area of 6 dm2 is degreased and rinsed with distilled water.
- An aqueous / organic chloride-free electrolyte bath is an electrolyte bath from Example 1 diluted 100 times with water, which additionally contains 0.1 mol / l sodium aluminate and sodium silicate.
- the gearwheel is oxidized with anodic plasma chemistry at a current density of 10 A / dm2. After a coating time of 120 minutes, a final voltage value of 800 volts is reached.
- the ceramized gear is rinsed and dried.
- the layer thickness of the oxide ceramic layer is 130 ⁇ m.
- the hardness of the ceramic layer was determined to be 1900 HV (0.1). The service life of the gear coated in this way increases fourfold compared to the conventional anodized gear of the same size.
- An ultrasonic sonotrode made of AlZnMgCu1.5 with a surface area of 6.4 dm2 is degreased and then rinsed with distilled water.
- the ultrasound sonotrode treated in this way is oxidized in an aqueous / organic chloride-free electrolyte bath, as described in Example 1, at a current density of 3.5 A / dm 2 and an electrolyte temperature of 15 ° C. in a plasma-chemical-anodic manner. After a coating time of 25 minutes, the voltage value of 250 volts is reached.
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Abstract
Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung von Oxidkeramikschichten auf sperrschichtbildenden Metallen oder deren Legierungen durch plasmachemische anodische Oxidation in wäßrig organischen Elektrolyten, wobei die Oxidkeramikschicht für spezielle Anwendungen auch noch modifiziert werden kann.
- Diese anodische Oxidation ist in wäßrigen Elektrolyten eine Gas-Festkörper-Reaktion unter Plasmabedingungen, bei der der hohe Energieeintrag am Fußpunkt der Entladungssäule auf der Anode flüssiges Metall erzeugt, das mit dem aktivierten Sauerstoff ein kurzzeiterschmolzenes Oxid bildet. Die Schichtbildung erfolgt über Partialanoden. Der Funkenentladung ist ein Formierbereich vorgelagert (P. Kurze; Dechema-Monographien Band 121 - VCH Verlagsgesellschaft 1990, Seite 167-180 mit weiteren Literaturhinweisen). Die Elektrolyte wurden so kombiniert, daß ihre positiven Eigenschaften vereint werden und qualitativ hochwertige anodisch erzeugte Oxidkeramikschichten auf Aluminium entstehen. Durch Kombination verschiedener Salze können höhere Salzkonzentrationen im Elektrolytbad und damit höhere Viskositäten erreicht werden. Solche hochviskosen Elektrolyte haben eine hohe Wärmekapazität, stabilisieren den ausgebildeten Sauerstoffilm auf der Anode und garantieren damit eine gleichmäßige Oxidschichtausbildung (DD-WP 142 360).
- Aufgrund des Verlaufs der Stromdichte-Potential-Kurven (SPK) für die anodische Funkenentladung lassen sich drei markante Bereiche unterscheiden, der Faraday-, Funkenentladungs-, und Bogenentladungsbereich (s.P. Kurze loc.cit).
- Auf dem Metall oder der Metallegierung befindet sich natürlicherweise eine Sperrschicht. Durch Erhöhung der Spannung des anodisch gepolten Metalls wächst die Sperrschicht. Dann entsteht an der Phasengrenze Metall/Gas/Elektrolyt partiell ein Sauerstoffplasma, durch das sich die Oxidkeramikschicht bildet. Das Metallion in der Oxidkeramikschicht stammt aus dem Metall, der Sauerstoff aus der anodischen Reaktion in dem verwendeten wäßrigen Elektrolyten. Die Oxidkeramik ist bei den ermittelten Plasmatemperaturen von etwa 7.000 Kelvin flüssig. Zur Seite des Metalls hin ist die Zeit ausreichend, damit sich die Schmelze der Oxidkeramik gut zusammenziehen kann und so eine aufgesinterte porenarme Oxidkeramikschicht bildet. Zur Seite des Elektrolyten hin wird die Schmelze der Oxidkeramik schnell durch den Elektrolyten abgekühlt und die noch abwandernden Gase, insbesondere Sauerstoff und Wasserdampf hinterlassen eine Oxidkeramikschicht mit einem weitmaschig verknüpften Kapillarsystem. Aus rasterelektronenmikroskopischen Untersuchungen wurden Porendurchmesser von 0,1 µm bis 30 µm bestimmt (CERAMIC COATINGS BY ANODIC SPARK DEPOSITION G.P. Wirtz et al, MATERIALS & MANUFACTURING PROCESSES 6 (1), 87-115 (1991), insbesondere Figur 12).
- In der DE-A-2 902 162 wird ein Verfahren beschrieben, in dem durch Nutzung von Funkenentladungen während der Anodisation poröse Schichten auf Aluminium hergestellt werden, die für den Einsatz in der Chromatographie bestimmt sind.
- Die EP-A-280 886 beschreibt die Nutzung der anodischen Oxidation unter Funkenentladungen auf Al, Ti, Ta, Nb, Zr und deren Legierungen zur Herstellung dekorativer Schichten auf diesen Metallen.
- Mit den vorbekannten Verfahren lassen sich nur Keramikschichten mit verhältnismäßig geringen Stärken bis maximal 30 µm herstellen, die für den Einsatz als Verschleiß- und Korrosionsschutzschichten unzureichend sind.
- Es ist deshalb Aufgabe der Erfindung, auf den zuvor genannten Metallen Oxidkeramikschichten zu erzeugen, die eine wesentlich höhere Schichtdicke bis zu 150 µm haben, abriebfest und korrosionsbeständig sind und eine hohe Biegewechselfestigkeit aufweisen.
- Erfindungsgemäß werden Oxidkeramikschichten auf Aluminium, Magnesium, Titan, Tantal, Zirkon, Niob, Hafnium, Antimon, Wolfram, Molybdän, Vanadium, Wismut oder deren Legierungen durch plasmachemische anodische Oxidation bei Einhaltung der folgenden Parameter erzeugt:
- 1. Das Elektrolytbad soll chloridfrei sein, was bedeutet, daß es weniger als 5 x 10⁻³ mol/l Chloridionen enthält.
- 2. Das Elektrolytbad wird auf einen pH-Wert von 2 bis 8 eingestellt.
- 3. Die Badtemperatur liegt im Bereich von -30 bis +15°C und vorzugsweise zwischen -10 und +15°C.
- 4. Die Badtemperatur wird in den Grenzen von ± 2°C konstant gehalten.
- 5. Die Stromdichte von mindestens 1 A/dm² wird konstant gehalten bis sich die Spannung auf einen Endwert einstellt.
- Unter Aluminium und dessen Legierungen werden im Rahmen der vorliegenden Erfindung Reinstaluminium und u.a. die Legierungen AlMn; AlMnCu; AlMgl; AlMgl,5; E-AlMgSi; AlMgSi0,5; AlZnMgCu0,5; AlZnMgCu1,5; G-AlSi-12; G-AlSi5Mg; G-AlSi8Cu3; G-AlCu4Ti; G-AlCu4TiMg verstanden.
- Für die Zwecke der Erfindung eignen sich ferner außer Reinmagnesium insbesondere die Magnesiumgußlegierungen der ASTM-Bezeichnungen AS41, AM60, AZ61, AZ63, AZ81, AZ91, AZ92, HK31, QE22, ZE41, ZH62, ZK51, ZK61, EZ33, HZ32 sowie die Knetlegierungen AZ31, AZ61, AZ 80, M1, ZK60, ZK40.
- Des weiteren lassen sich Reintitan oder auch Titanlegierungen wie TiAl6V4; TiAl5Fe2,5 u.a. einsetzen.
- Das chloridfreie Elektrolytbad kann die in Verfahren für die plasmachemische anodische Oxidation üblichen anorganischen Anionen, nämlich Phosphat, Borat, Silicat, Aluminat, Fluorid oder Anionen anorganischer Säuren wie Citrat, Oxalat und Acetat enthalten.
- Vorzugsweise enthält das Elektrolytbad Phosphat-, Borat- und Fluoridionen in Kombination und in einer Menge von wenigstens 0,1 mol/l von jedem einzelnen dieser Anionen bis insgesamt 2 mol/l.
- Die Kationen des Elektrolytbads werden so gewählt, daß sie mit den jeweiligen Anionen möglichst gut lösliche Salze bilden, um hohe Salzkonzentrationen und Viskositäten zu ermöglichen. Das ist in der Regel bei Alkali-, Ammonium-, Erdalkali und Aluminiumionen bis 1 mol/l der Fall.
- Darüber hinaus enthält das Elektrolytbad Harnstoff, Hexamethylendiamin, Hexamethylentetramin, Glykol oder Glycerin in einer Menge bis insgesamt 1,5 mol/l als Stabilisator.
- Zur Erzeugung von besonders verschleißfesten Oxidkeramikschichten auf Aluminium oder deren Legierungen durch plasmachemische anodische Oxidation bei einer Stromdichte von mindestens 5 A/dm², die konstant gehalten wird, bis sich die Spannung auf einen Endwert einstellt, lassen sich auch sehr stark verdünnte Elektrolytbäder der oben beschriebenen Zusammensetzung einsetzen, in denen die Konzentration der Anionen nur 0,01 bis 0,1 mol/l beträgt. In diesen stark verdünnten Bädern liegt der PH-Wert zwischen 10 und 12, vorzugsweise bei 11. Aufgrund der geringen Leitfähigkeit dieses Elektrolytbades kann sich der Spannungsendwert bis auf 2.000 V einstellen. Der durch die plasmachemische Reaktion verursachte Energieeintrag ist dementsprechend sehr hoch. Die sich bildende Oxidkeramikschicht auf den Aluminiumwerkstoffen besteht aus Korund, wie Röntgenbeugungsuntersuchungen zeigen. Es werden Härten der Oxidkeramikschicht bis 2.000 HV erreicht. Diese Oxidkeramikschichten sind insbesondere dort einsetzbar, wo ein extrem hoher abrasiver Verschleißschutz gefordert ist.
- Die Wahl der Spannungs- und Stromform, wie Gleich-, Wechsel-, Dreh-, Impuls- und/oder mehrphasig verketteter Wechselstrom in den Frequenzen bis 500 Hz hat überraschenderweise auf den Schichtbildungsprozeß zur Erzeugung der Keramikschicht auf den Metallen keinen Einfluß.
- Die Stromversorgung zum plasmachemischen Anodisieren zur Bildung der Keramikschicht erfolgt in der Weise, daß die erforderliche Stromdichte von mindestens 1 A/dm² konstant gehalten und daß die Spannung auf einen sich einstellenden Endwert gefahren wird. Der Spannungsendwert liegt zwischen 50 und 400 Volt und wird durch das verwendete Metall, bzw. durch dessen Legierungsbestandteile, durch die Zusammensetzung des Elektrolytbades und durch seine Badführung bestimmt.
- Gegenstand der Erfindung sind auch die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren erzeugten Gegenstände aus sperrschichtbildenden Metallen oder deren Legierungen mit plasmachemisch erzeugten Oxidkeramikschichten einer Dicke von 40 bis 150 µm, vorzugsweise 50 bis 120 µm.
- Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung, ohne sie zu beschränken.
- Eine Probeplatte aus AlMgSi1 mit einer Oberfläche von 2 dm² wird entfettet und anschließend mit destilliertem Wasser gespült.
- Die so behandelte Probe wird in einem wäßrig/organischen chloridfreien Elektrolytbad der Zusammensetzung
a) Kationen 0,13 mol/l Natriumionen 0,28 mol/l Ammoniumionen b) Anionen 0,214 mol/l Phosphat 0,238 mol/l Borat 0,314 mol/l Fluorid c) Stabilisator und Komplexbildner 0,6 mol/l Hexamethylentetramin
bei einer Stromdichte von 4 A/dm² und einer Elektrolyttemperatur von 12°C ± 2°C plasmachemisch anodisch oxidiert. Nach einer Beschichtungszeit von 60 Minuten wird der Spannungsendwert von 250 V erreicht. - Die keramisierte Probeplatte wird gespült und getrocknet. Die Schichtdicke der Keramikschicht beträgt 100 µm. Die Härte der Keramikschicht wurde mit 750 (HV 0.015) bestimmt.
- Ein Druckgußgehäuse aus GD-AlSi12 mit einer Oberfläche von 1 dm² wird in einer Beize, die jeweils zur Hälfte aus 40%iger HF und 65%iger HNO₃ besteht, 1 Minute bei Raumtemperatur behandelt und anschließend mit destilliertem Wasser gespült.
- Das so gebeizte Druckgußgehäuse wird in dem wäßrig/organischen chloridfreien Elektrolytbad aus Beispiel 1 bei einer Stromdichte von 8 A/dm² und einer Elektrolyttemperatur von 10°C ± 2°C plasmachemisch-anodisch oxidiert. Nach einer Beschichtungszeit von 30 Minuten wird ein Spannungsendwert von 216 Volt registriert.
- Das keramisierte Druckgußgehäuse wird gespült und getrocknet.
- Die Schichtdicke der Keramikschicht beträgt 40 µm.
- Eine Probeplatte aus einer Magnesiumlegierung des Typs AZ 91 mit einer Oberfläche von 1 dm² wird 1 Minute in einer 40%igen Flußsäure bei Raumtemperatur gebeizt.
- Die so behandelte Probe wird in einem wäßrig/organischen chloridfreien Elektrolytbad nach Beispiel 1 bei einer Stromdichte von 4 A/dm² und einer Elektrolyttemperatur von 12°C ± 2°C plasmachemisch-anodisch oxidiert.
- Nach 17 Minuten wird der Spannungswert von 252 Volt erreicht.
- Die Keramikschicht hat eine Schichtdicke von 50 µm.
- Ein Stab aus Reintitan (Länge: 30 mm, Durchmesser: 5 mm) wird in einer Beize wie in Beispiel 2 gebeizt und anschließend mit destilliertem Wasser gespült.
- Die so behandelte Probe wird in einem wäßrigen chloridfreien Elektrolytbad der Zusammensetzung:
a) Kationen 0,2 mol/l Calciumionen b) Anionen 0,4 mol/l Phosphat
bei einer Stromdichte von 18 A/dm² und einer Elektrolyttemperatur von 10°C ± 2°C plasmachemisch-anodisch oxidiert. - Nach einer Beschichtungszeit von 10 Minuten wird der Spannungsendwert von 210 Volt erreicht.
Der keramisierte Stab wird mit destilliertem Wasser gespült und getrocknet.
Die Schichtdicke beträgt 40 µm. - Ein Zahnrad aus AlMgSi1 mit einer Oberfläche von 6 dm² wird entfettet und mit destilliertem Wasser gespült. Als wäßrig/organisches chloridfreies Elektrolytbad wird ein in 100-facher mit Wasser verdünntes Elektrolytbad aus Beispiel 1 eingesetzt, daß zusätzlich je 0,1 mol/l Natriumaluminat und Natriumsilikat enthält.
Das Zahnrad wird bei einer Stromdichte von 10 A/dm² plasmachemisch-anodisch oxidiert. Nach einer Beschichtungszeit von 120 Minuten wird ein Spannungsendwert von 800 Volt erreicht.
Das keramisierte Zahnrad wird gespült und getrocknet. Die Schichtdicke der Oxidkeramikschicht beträgt 130 µm. Die Härte der Keramikschicht wurde mit 1900 HV (0,1) bestimmt. Die Standzeit des so beschichteten Zahnrades erhöht sich auf das Vierfache im Vergleich mit dem konventionell eloxierten Zahnrad gleicher Abmessung. - Eine Ultraschallsonotrode aus AlZnMgCu1,5 mit einer Oberfläche von 6,4 dm² wird entfettet und anschließend mit destilliertem Wasser gespült.
- Die so behandelte Ultraschallsonotrode wird in einem wäßrig/organischen chloridfreien Elektrolytbad, wie im Beispiel 1 beschrieben, bei einer Stromdichte von 3,5 A/dm² und einer Elektrolyttemperatur von 15°C plasmachemisch-anodisch oxidiert. Nach einer Beschichtungszeit von 25 Minuten wird der Spannungswert von 250 Volt erreicht.
Claims (10)
- Verfahren zur Erzeugung von Oxidkeramikschichten auf Al, Mg, Ti, Ta, Zr, Nb, Hf, Sb, W, Mo, V, Bi oder deren Legierungen durch plasmachemische anodische Oxidation, dadurch gekennzeichnet, daß in einem chloridfreien Elektrolytbad mit einem pH-Wert von 2 bis 8 bei konstanter Badtemperatur von -30 bis +15°C eine Stromdichte von mindestens 1 A/dm² konstant gehalten wird bis sich die Spannung auf einen Endwert einstellt.
- Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Badtemperatur -10 bis +15°C beträgt.
- Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Badtemperatur in den Grenzen ± 2°C konstant gehalten wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad weniger als 5 x 10⁻³ mol/l Chloridionen enthält.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektrolytbad Phosphat-, Borat- und Fluoridionen bis insgesamt 2 mol/l enthält.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektrolytbad einen Stabilisator aus der Gruppe von Harnstoff, Hexamethylendiamin und Hexamethylentetramin, Glykol und Glycerin bis 1,5 mol/l enthält.
- Verfahren zur Erzeugung von besonders verschleißfesten Oxidkeramikschichten auf Aluminium oder deren Legierungen durch plasmachemische anodische Oxidation bei einer Stromdichte von mindestens 5 a/dm², die konstant gehalten wird bis sich die Spannung auf einen Endwert einstellt, unter Verwendung des Elektrolyten nach einem der Ansprüche 1 bis 6 nach Verdünnung auf eine Konzentration von 0,01 bis 0,1 mol/l und Anheben des pH-Wertes auf 10 bis 12, vorzugsweise 11.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Spannung Frequenzen bis 500 Hz hat.
- Gegenstand aus Aluminium, Magnesium, Titanium oder deren Legierungen mit einer plasmachemisch erzeugten Oxidkeramikschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Oxidkeramikschicht eine Dicke von 40 bis 150 µm, vorzugsweise 50 bis 120 µm hat.
- Gegenstand aus Aluminium oder Aluminiumlegierungen nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die plasmachemisch erzeugte Oxidkeramikschicht aus Korund besteht.
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ID=6445704
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US (2) | US5385662A (de) |
EP (1) | EP0545230B2 (de) |
JP (1) | JP2912101B2 (de) |
AT (1) | ATE124472T1 (de) |
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EP0545230B1 (de) | 1995-06-28 |
ATE124472T1 (de) | 1995-07-15 |
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EP0545230B2 (de) | 2003-03-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PUAI | Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012 |
|
AK | Designated contracting states |
Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AT BE CH DE FR GB IT LI NL SE |
|
17P | Request for examination filed |
Effective date: 19930930 |
|
17Q | First examination report despatched |
Effective date: 19941031 |
|
GRAA | (expected) grant |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210 |
|
AK | Designated contracting states |
Kind code of ref document: B1 Designated state(s): AT BE CH DE FR GB IT LI NL SE |
|
REF | Corresponds to: |
Ref document number: 124472 Country of ref document: AT Date of ref document: 19950715 Kind code of ref document: T |
|
REF | Corresponds to: |
Ref document number: 59202722 Country of ref document: DE Date of ref document: 19950803 |
|
GBT | Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977) |
Effective date: 19950719 |
|
ET | Fr: translation filed | ||
ITF | It: translation for a ep patent filed |
Owner name: ING. C. GREGORJ S.P.A. |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: SE Effective date: 19950928 |
|
PLBQ | Unpublished change to opponent data |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS OPPO |
|
PLBI | Opposition filed |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009260 |
|
PLBF | Reply of patent proprietor to notice(s) of opposition |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS OBSO |
|
26 | Opposition filed |
Opponent name: NUSSBAUM OBERFLAECHENTECHNIKGMBH Effective date: 19960327 |
|
NLR1 | Nl: opposition has been filed with the epo |
Opponent name: NUSSBAUM OBERFLAECHENTECHNIKGMBH |
|
PLBF | Reply of patent proprietor to notice(s) of opposition |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS OBSO |
|
PLAW | Interlocutory decision in opposition |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IDOP |
|
APAC | Appeal dossier modified |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS NOAPO |
|
APAE | Appeal reference modified |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS REFNO |
|
APAC | Appeal dossier modified |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS NOAPO |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: GB Ref legal event code: IF02 |
|
APAC | Appeal dossier modified |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS NOAPO |
|
PLAW | Interlocutory decision in opposition |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IDOP |
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RTI2 | Title (correction) |
Free format text: PROCESS FOR PREPARING MODIFIED OXIDE CERAMIC COATINGS ON BARRIER-LAYER METALS. |
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PUAH | Patent maintained in amended form |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009272 |
|
STAA | Information on the status of an ep patent application or granted ep patent |
Free format text: STATUS: PATENT MAINTAINED AS AMENDED |
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27A | Patent maintained in amended form |
Effective date: 20030312 |
|
AK | Designated contracting states |
Designated state(s): AT BE CH DE FR GB IT LI NL SE |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: CH Ref legal event code: AEN Free format text: AUFRECHTERHALTUNG DES PATENTES IN GEAENDERTER FORM |
|
NLR2 | Nl: decision of opposition |
Effective date: 20030312 |
|
GBTA | Gb: translation of amended ep patent filed (gb section 77(6)(b)/1977) |
Effective date: 20030502 |
|
NLR3 | Nl: receipt of modified translations in the netherlands language after an opposition procedure | ||
ET3 | Fr: translation filed ** decision concerning opposition | ||
APAH | Appeal reference modified |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSCREFNO |
|
PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: IT Payment date: 20081227 Year of fee payment: 17 |
|
PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: FR Payment date: 20081127 Year of fee payment: 17 |
|
PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: DE Payment date: 20100527 Year of fee payment: 18 |
|
PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: BE Payment date: 20100527 Year of fee payment: 18 Ref country code: CH Payment date: 20100528 Year of fee payment: 18 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: IT Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20091125 |
|
BERE | Be: lapsed |
Owner name: *ELECTRO CHEMICAL ENGINEERING G.M.B.H. Effective date: 20101130 |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: NL Ref legal event code: V1 Effective date: 20110601 |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: CH Ref legal event code: PL |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: NL Ref legal event code: BK Free format text: ONTERECHT VERVALLEN OP 01.06.2011PUBLICATIE VERVAL I.E. 2011/24UITGEGEVEN 15.06.2011 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: LI Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20101130 Ref country code: CH Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20101130 |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: FR Ref legal event code: ST Effective date: 20110801 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: NL Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20110601 Ref country code: BE Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20101130 |
|
PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: AT Payment date: 20110531 Year of fee payment: 19 Ref country code: GB Payment date: 20110531 Year of fee payment: 19 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: FR Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20101130 |
|
PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: NL Payment date: 20110702 Year of fee payment: 19 |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: NL Ref legal event code: V1 Effective date: 20120601 |
|
GBPC | Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee |
Effective date: 20111125 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: NL Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20120601 |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: DE Ref legal event code: R119 Ref document number: 59202722 Country of ref document: DE Effective date: 20110601 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: GB Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20111125 |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: AT Ref legal event code: MM01 Ref document number: 124472 Country of ref document: AT Kind code of ref document: T Effective date: 20111125 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: AT Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20111125 |
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PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: DE Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20110601 |