JPH05239692A - 隔離層を生成する金属上に、必要に応じて改質した酸化物セラミックス層を作りだす方法と、これから作られる物体 - Google Patents
隔離層を生成する金属上に、必要に応じて改質した酸化物セラミックス層を作りだす方法と、これから作られる物体Info
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- JPH05239692A JPH05239692A JP4341294A JP34129492A JPH05239692A JP H05239692 A JPH05239692 A JP H05239692A JP 4341294 A JP4341294 A JP 4341294A JP 34129492 A JP34129492 A JP 34129492A JP H05239692 A JPH05239692 A JP H05239692A
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- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title abstract description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 title abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title abstract 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 title 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 32
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- -1 borate ions Chemical class 0.000 claims description 4
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 claims description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 3
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010431 corundum Substances 0.000 claims description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 6
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000005486 organic electrolyte Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000789 Aluminium-silicon alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N durene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C=C1C SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D11/02—Anodisation
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 隔離層を形成する金属または合金上にプラズ
マ化学的陽極酸化により酸化物セラミックス層を形成す
る。 【構成】 Ａｌ，Ｍｇ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈ
ｆ，Ｓｂ，Ｗ，Ｍｏ，Ｖ，Ｂｉまたはこれらの合金上
に、プラズマ化学的陽極酸化によって酸化物セラミック
ス層を作りだす方法において、ｐＨ値２〜８、浴温度−
３０〜＋１５℃間で一定の、塩化物を含まない電解質浴
中で、電位が最終値に到達するまで少なくとも１Ａ／ｄ
ｍ2 の一定電流密度を維持することを特徴とする。
マ化学的陽極酸化により酸化物セラミックス層を形成す
る。 【構成】 Ａｌ，Ｍｇ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈ
ｆ，Ｓｂ，Ｗ，Ｍｏ，Ｖ，Ｂｉまたはこれらの合金上
に、プラズマ化学的陽極酸化によって酸化物セラミック
ス層を作りだす方法において、ｐＨ値２〜８、浴温度−
３０〜＋１５℃間で一定の、塩化物を含まない電解質浴
中で、電位が最終値に到達するまで少なくとも１Ａ／ｄ
ｍ2 の一定電流密度を維持することを特徴とする。
Description
【０００１】本発明は有機電解質の水性溶液中でプラズ
マ化学的陽極酸化を行って、隔離層を形成する金属、ま
たはその合金上に酸化物セラミックス層を作りだす方法
に関係し、その際酸化物セラミックス層は特殊用途向け
に改質することが可能である。
マ化学的陽極酸化を行って、隔離層を形成する金属、ま
たはその合金上に酸化物セラミックス層を作りだす方法
に関係し、その際酸化物セラミックス層は特殊用途向け
に改質することが可能である。
【０００２】本陽極酸化は電解質の水性溶液中におけ
る、プラズマ条件下のガス−固体反応であって、本条件
下では陽極上の放電パイル底部（Ent Sadungssaiile)で
の高エネルギー供給が液状金属を作りだし、本金属が活
性化された酸素と共に短時間溶融した酸化物を生成す
る。層の生成は陽極の局部（Partialanoden)を覆って進
行する。これに対して火花放電は成形領域（Formierfer
eich) に発生する（P. Kurze：Dechema −モノグラフ１
２１、ＶＣＨ出版社、１９９０、１６７〜１８０頁、ほ
かの文献も表示）。電解質のもつ陽性の性質が一体化さ
れて、陽極で生成した高価値の性質をもつ酸化物セラミ
ックス層が、アルミニウム上に生成するように電解質を
組みあわせた。各種の塩を組みあわせることで浴中の塩
濃度を高めることができ、その結果高粘度になる。この
ような高粘度電解液は熱容量が高く、陽極上に生成した
酸素膜を安定化させ、その結果として均一な酸化物層を
保証することになる（ＤＯ−ＷＰ１４２３６０）。
る、プラズマ条件下のガス−固体反応であって、本条件
下では陽極上の放電パイル底部（Ent Sadungssaiile)で
の高エネルギー供給が液状金属を作りだし、本金属が活
性化された酸素と共に短時間溶融した酸化物を生成す
る。層の生成は陽極の局部（Partialanoden)を覆って進
行する。これに対して火花放電は成形領域（Formierfer
eich) に発生する（P. Kurze：Dechema −モノグラフ１
２１、ＶＣＨ出版社、１９９０、１６７〜１８０頁、ほ
かの文献も表示）。電解質のもつ陽性の性質が一体化さ
れて、陽極で生成した高価値の性質をもつ酸化物セラミ
ックス層が、アルミニウム上に生成するように電解質を
組みあわせた。各種の塩を組みあわせることで浴中の塩
濃度を高めることができ、その結果高粘度になる。この
ような高粘度電解液は熱容量が高く、陽極上に生成した
酸素膜を安定化させ、その結果として均一な酸化物層を
保証することになる（ＤＯ−ＷＰ１４２３６０）。
【０００３】陽極での火花放電に対する電流密度−電位
曲線（ＳＰＫ）の経過をベースにしてファラデー放電、
火花放電、およびアーク放電の三種類の特異な領域が区
別できる（Kurze の上記文献）。
曲線（ＳＰＫ）の経過をベースにしてファラデー放電、
火花放電、およびアーク放電の三種類の特異な領域が区
別できる（Kurze の上記文献）。
【０００４】金属、またはその金属の合金上に隔離層が
存在することは勿論である。陽の極性を与えた金属の電
位を高めることで隔離層が生長する。ついで金属／ガス
／電解液の層の境界に、部分的に酸素プラズマが発生
し、これによって酸化物セラミックス層が生成する。酸
化物セラミックス層中の金属イオンは金属から生じ、酸
素は使用した電解質の水性溶液中の陽極反応から発生す
る。酸化物セラミックスはプラズマの測定温度である約
７０００Ｋ（ケルビン）では液状である。金属側には時
間が十分あるために、酸化物セラミックスの溶融物はう
まく収縮できて、そこでシンターして孔の少ない酸化物
セラミックス層が生成する。電解液側では酸化物セラミ
ックスの溶融物が電解液で迅速に冷却されて、それでも
まだ移動しているガス、特に酸素と水蒸気とが、目があ
らく結合した毛細管系をもつ酸化物セラミックス層を後
に残す。走査パターン電子顕微鏡による検査では、孔の
直径が０．１〜３０μｍと測定された。〔G.P. Wirtz
等：Ceramic Coatings by Anodic Spark Depositio
n, Materials ＆ Manufacturing Processes ６
（１），８７〜１１５頁（１９９１）、特に図１２参
照〕。
存在することは勿論である。陽の極性を与えた金属の電
位を高めることで隔離層が生長する。ついで金属／ガス
／電解液の層の境界に、部分的に酸素プラズマが発生
し、これによって酸化物セラミックス層が生成する。酸
化物セラミックス層中の金属イオンは金属から生じ、酸
素は使用した電解質の水性溶液中の陽極反応から発生す
る。酸化物セラミックスはプラズマの測定温度である約
７０００Ｋ（ケルビン）では液状である。金属側には時
間が十分あるために、酸化物セラミックスの溶融物はう
まく収縮できて、そこでシンターして孔の少ない酸化物
セラミックス層が生成する。電解液側では酸化物セラミ
ックスの溶融物が電解液で迅速に冷却されて、それでも
まだ移動しているガス、特に酸素と水蒸気とが、目があ
らく結合した毛細管系をもつ酸化物セラミックス層を後
に残す。走査パターン電子顕微鏡による検査では、孔の
直径が０．１〜３０μｍと測定された。〔G.P. Wirtz
等：Ceramic Coatings by Anodic Spark Depositio
n, Materials ＆ Manufacturing Processes ６
（１），８７〜１１５頁（１９９１）、特に図１２参
照〕。
【０００５】西独公開特許第２９０２１６２号には陽極
処理中に火花放電を利用することで、アルミニウム上に
多孔質層を作りだす方法が記載されていて、この層はク
ロマトグラフイへ装入用のものである。
処理中に火花放電を利用することで、アルミニウム上に
多孔質層を作りだす方法が記載されていて、この層はク
ロマトグラフイへ装入用のものである。
【０００６】欧州公開特許第２８０８８６号にはＡｌ，
Ｔｉ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｚｒ，およびこれらの合金上で火花
放電を行って、これらの金属上に装飾層を作るために陽
極酸化を利用する記載がある。
Ｔｉ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｚｒ，およびこれらの合金上で火花
放電を行って、これらの金属上に装飾層を作るために陽
極酸化を利用する記載がある。
【０００７】これら周知の方法を用いると、最高３０μ
ｍまでの比較的厚みのうすいセラミックス層だけができ
て、このものは耐摩損と耐蝕用の層としては不十分なも
のである。
ｍまでの比較的厚みのうすいセラミックス層だけができ
て、このものは耐摩損と耐蝕用の層としては不十分なも
のである。
【０００８】従って層厚が１５０μｍまでと本質上厚い
うえに耐摩損性と耐蝕性を備え、さらに繰り返し曲げ強
度の高い酸化物セラミックス層を、上述の金属上に作り
だすことが本発明の課題である。
うえに耐摩損性と耐蝕性を備え、さらに繰り返し曲げ強
度の高い酸化物セラミックス層を、上述の金属上に作り
だすことが本発明の課題である。
【０００９】本発明によるときはアルミニウム、マグネ
シウム、チタン、タンタル、ジルコン、ニオブ、ハフニ
ウム、アンチモン、タングステン、モリブデン、バナジ
ウム、ビスマス、またはこれらの合金上へ、次の因子を
維持しつつプラズマ化学的陽極酸化を行って、酸化物セ
ラミックス層を作りだすことができる。すなわち
シウム、チタン、タンタル、ジルコン、ニオブ、ハフニ
ウム、アンチモン、タングステン、モリブデン、バナジ
ウム、ビスマス、またはこれらの合金上へ、次の因子を
維持しつつプラズマ化学的陽極酸化を行って、酸化物セ
ラミックス層を作りだすことができる。すなわち
【００１０】（１）電解質浴に塩化物を含めないこと
で、このことは塩化物イオン濃度が５×１０-3モル／ｌ
以下であることを意味する。
で、このことは塩化物イオン濃度が５×１０-3モル／ｌ
以下であることを意味する。
【００１１】（２）電解質浴のｐＨ値を２〜８に保つこ
と。
と。
【００１２】（３）浴温が−３０〜＋１５℃の範囲、好
ましくは−１０〜＋１５℃の間にあること。
ましくは−１０〜＋１５℃の間にあること。
【００１３】（４）浴温は±２℃の範囲に一定に保たれ
ること。
ること。
【００１４】（５）少なくとも１Ａ／ｄｍ2 の電流密度
を、電位が最終値に到達するまで一定に保つこと。
を、電位が最終値に到達するまで一定に保つこと。
【００１５】本発明の範囲でアルミニウムとその合金と
は最純アルミニウム、なかでもＡｌＭｎ；ＡｌＭｎＣ
ｕ：ＡｌＭｇ１；ＡｌＭｇ１．５；Ｅ−ＡｌＭｇＳｉ；
ＡｌＭｇＳｉ０．５；ＡｌＺｎＭｇＣｕ０．５；ＡｌＺ
ｎＭｇＣｕ１．５；Ｇ−ＡｌＳｉ−１２，Ｇ−ＡｌＳｉ
５Ｍｇ；Ｇ−ＡｌＳｉ８Ｃｕ３；Ｇ−ＡｌＣｕ４Ｔｉ：
Ｇ−ＡｌＣｕ４ＴｉＭｇの合金を意味するものと理解さ
れたい。
は最純アルミニウム、なかでもＡｌＭｎ；ＡｌＭｎＣ
ｕ：ＡｌＭｇ１；ＡｌＭｇ１．５；Ｅ−ＡｌＭｇＳｉ；
ＡｌＭｇＳｉ０．５；ＡｌＺｎＭｇＣｕ０．５；ＡｌＺ
ｎＭｇＣｕ１．５；Ｇ−ＡｌＳｉ−１２，Ｇ−ＡｌＳｉ
５Ｍｇ；Ｇ−ＡｌＳｉ８Ｃｕ３；Ｇ−ＡｌＣｕ４Ｔｉ：
Ｇ−ＡｌＣｕ４ＴｉＭｇの合金を意味するものと理解さ
れたい。
【００１６】本発明の目的には純マグネシウムの外に、
特にＡＳＴＭ表示のＡＳ４１、ＡＳ６０、ＡＺ６１、Ａ
Ｚ６３、ＡＺ８１、ＡＺ９１、ＡＺ９２、ＮＫ３１、Ｑ
Ｅ２２、ＺＥ４１、ＺＨ６２、ＺＫ５１、ＺＫ６１、Ｅ
Ｚ３３、ＨＺ３２のマグネシウム鋳物合金、およびＡＺ
３１、ＡＺ６１、ＡＺ８０、Ｍ１、ＺＫ６０、ＺＫ４０
の可鍛合金が適している。
特にＡＳＴＭ表示のＡＳ４１、ＡＳ６０、ＡＺ６１、Ａ
Ｚ６３、ＡＺ８１、ＡＺ９１、ＡＺ９２、ＮＫ３１、Ｑ
Ｅ２２、ＺＥ４１、ＺＨ６２、ＺＫ５１、ＺＫ６１、Ｅ
Ｚ３３、ＨＺ３２のマグネシウム鋳物合金、およびＡＺ
３１、ＡＺ６１、ＡＺ８０、Ｍ１、ＺＫ６０、ＺＫ４０
の可鍛合金が適している。
【００１７】さらに純チタン、またはＴｉＡｌ６Ｖ４，
ＴｉＡｌ５Ｆｅ２．５のようなチタン合金も使用でき
る。
ＴｉＡｌ５Ｆｅ２．５のようなチタン合金も使用でき
る。
【００１８】塩化物を含まない電解質浴はプラズマ化学
的陽極酸化法で通常使用される無機陰イオン、すなわち
リン酸塩、ホウ酸塩、ケイ酸塩、アルミン酸塩、フッ化
物、または無機酸の陰イオンであるクエン酸塩、シュウ
酸塩、および酢酸塩を含有することができる。
的陽極酸化法で通常使用される無機陰イオン、すなわち
リン酸塩、ホウ酸塩、ケイ酸塩、アルミン酸塩、フッ化
物、または無機酸の陰イオンであるクエン酸塩、シュウ
酸塩、および酢酸塩を含有することができる。
【００１９】電解質浴がリン酸塩、ホウ酸塩、およびフ
ッ化物イオンを組みあわせて含有し、これらの個々の陰
イオンを少なくとも０．１モル／ｌ、合計量を２モル／
ｌまでの量にとるのが好ましい。
ッ化物イオンを組みあわせて含有し、これらの個々の陰
イオンを少なくとも０．１モル／ｌ、合計量を２モル／
ｌまでの量にとるのが好ましい。
【００２０】電解質浴の陽イオンは、その時の陰イオン
と共にできるだけ易溶性塩を生成して、塩の高濃度と高
粘度が達成できるように選択する。このことは一般にア
ルカリ、アンモニウム、アルカリ土類、およびアンモニ
ウムの各イオンが１モル／ｌまで存在する場合のことで
ある。
と共にできるだけ易溶性塩を生成して、塩の高濃度と高
粘度が達成できるように選択する。このことは一般にア
ルカリ、アンモニウム、アルカリ土類、およびアンモニ
ウムの各イオンが１モル／ｌまで存在する場合のことで
ある。
【００２１】さらに電解質浴は安定剤として尿素、ヘキ
サメチレンジアミン、ヘキサメチレンテトラミン、グリ
コール、またはグリセリンを合計量で１．５モル／ｌま
で含有する。
サメチレンジアミン、ヘキサメチレンテトラミン、グリ
コール、またはグリセリンを合計量で１．５モル／ｌま
で含有する。
【００２２】アルミニウム、またはその合金上に、電位
が最終値に落ちつくまで一定に維持する電流密度を少な
くとも５Ａ／ｄｍ2 に保って、プラズマ化学的陽極酸化
で特に耐摩損性に富む酸化物セラミックス層を作り出す
には、陰イオン濃度が０．０１〜０．１モル／ｌの上述
の組成をもつ、極めて稀薄な電解質浴を使用することも
できる。これらの極めて稀薄な浴中でのｐＨ値は１０〜
１２の間、好ましくは１１になる。本電解質浴は電導度
が低いために、電位の最終値が２０００Ｖにも達するこ
とができる。従ってプラズマ化学的反応によって生じた
エネルギー導入は極めて高い値になる。アルミニウム材
料上に生成する酸化物セラミックス層は、レントゲン検
査が示す通りコランダムからなっている。酸化物セラミ
ックス層の硬度は２０００ＨＶにも達するだろう。これ
らの酸化物セラミックス層は、摩耗に対して極めて高い
耐摩損性が要求される部分に使用することができる。
が最終値に落ちつくまで一定に維持する電流密度を少な
くとも５Ａ／ｄｍ2 に保って、プラズマ化学的陽極酸化
で特に耐摩損性に富む酸化物セラミックス層を作り出す
には、陰イオン濃度が０．０１〜０．１モル／ｌの上述
の組成をもつ、極めて稀薄な電解質浴を使用することも
できる。これらの極めて稀薄な浴中でのｐＨ値は１０〜
１２の間、好ましくは１１になる。本電解質浴は電導度
が低いために、電位の最終値が２０００Ｖにも達するこ
とができる。従ってプラズマ化学的反応によって生じた
エネルギー導入は極めて高い値になる。アルミニウム材
料上に生成する酸化物セラミックス層は、レントゲン検
査が示す通りコランダムからなっている。酸化物セラミ
ックス層の硬度は２０００ＨＶにも達するだろう。これ
らの酸化物セラミックス層は、摩耗に対して極めて高い
耐摩損性が要求される部分に使用することができる。
【００２３】周波数を５００Ｈｚまでに保って直流、交
流、三相交流、インパルス、および／または多相連鎖交
流のように電位と電流形態を選択しても、金属上にセラ
ミックス層を作りだす層の生成プロセスに何の影響も生
じないのは意外なことである。
流、三相交流、インパルス、および／または多相連鎖交
流のように電位と電流形態を選択しても、金属上にセラ
ミックス層を作りだす層の生成プロセスに何の影響も生
じないのは意外なことである。
【００２４】セラミックス層を作りだすためにプラズマ
化学的陽極処理を行うための電力供給は、所要の電流密
度を少なくとも１Ａ／ｄｍ2 の一定に保つことと、出現
する最終値へ電位が移行するように実施する。電位の最
終値は５０〜４００Ｖの間にあって使用した金属、また
はその合金成分と電解質浴の組成と、その浴のコントロ
ールによってきまる。
化学的陽極処理を行うための電力供給は、所要の電流密
度を少なくとも１Ａ／ｄｍ2 の一定に保つことと、出現
する最終値へ電位が移行するように実施する。電位の最
終値は５０〜４００Ｖの間にあって使用した金属、また
はその合金成分と電解質浴の組成と、その浴のコントロ
ールによってきまる。
【００２５】本発明の対象はまた隔離層生成の金属、ま
たはその合金から本発明の方法で作りだして、プラズマ
化学的に作りだした厚みが４０〜１５０μｍ、好ましく
は５０〜１２０ｍｍの酸化物セラミックス層つきの物体
である。
たはその合金から本発明の方法で作りだして、プラズマ
化学的に作りだした厚みが４０〜１５０μｍ、好ましく
は５０〜１２０ｍｍの酸化物セラミックス層つきの物体
である。
【００２６】以下の実施例が本発明を解説しているが、
本解説が本発明を制限するものではない。
本解説が本発明を制限するものではない。
【００２７】実施例 １ 表面が２ｄｍ2 のＡｌＭｇＳｉ１製試験板を脱脂し、つ
いで蒸溜水で洗浄する。
いで蒸溜水で洗浄する。
【００２８】このように処理した試料を水性／有機性
の、塩化物イオンを含まない下記組成の電解質浴中で、 （ａ）陽イオン ０．１３モル／ｌナトリウムイオン ０．２８モル／ｌアンモニウムイオン （ｂ）陰イオン ０．２１４モル／ｌリン酸塩 ０．２３８モル／ｌホウ酸塩 ０．３１４モル／ｌフッ化物 （ｃ）安定剤と０．６モル／ｌヘキサメチレンテトラミ
ン錯化剤 電流密度４Ａ／ｄｍ2 、電解液温度１２±２℃でプラズ
マ化学的に陽極酸化する。６０分間の層形成時間後に、
電位の最終値は２５０Ｖに達する。
の、塩化物イオンを含まない下記組成の電解質浴中で、 （ａ）陽イオン ０．１３モル／ｌナトリウムイオン ０．２８モル／ｌアンモニウムイオン （ｂ）陰イオン ０．２１４モル／ｌリン酸塩 ０．２３８モル／ｌホウ酸塩 ０．３１４モル／ｌフッ化物 （ｃ）安定剤と０．６モル／ｌヘキサメチレンテトラミ
ン錯化剤 電流密度４Ａ／ｄｍ2 、電解液温度１２±２℃でプラズ
マ化学的に陽極酸化する。６０分間の層形成時間後に、
電位の最終値は２５０Ｖに達する。
【００２９】セラミックス化した試験板を洗浄、乾燥す
る。セラミックス層の厚みは１００μｍに達する。セラ
ミックス層の硬度は７５０（ＨＶ０．０１５）と算出さ
れた。
る。セラミックス層の厚みは１００μｍに達する。セラ
ミックス層の硬度は７５０（ＨＶ０．０１５）と算出さ
れた。
【００３０】実施例 ２ 表面が１ｄｍ2 のＧＤ−ＡｌＳｉ１２製のダイカストケ
ーシングを、そのつど半分が４０％ＨＦと６５％のＨＮ
Ｏ3 からなる腐蝕液中で、室温下に１分間処理し、つい
で蒸溜水で洗浄する。
ーシングを、そのつど半分が４０％ＨＦと６５％のＨＮ
Ｏ3 からなる腐蝕液中で、室温下に１分間処理し、つい
で蒸溜水で洗浄する。
【００３１】このように腐蝕させたダイカストケーシン
グを、実施例１の水性／有機性の、塩化物を含まない電
解質浴中で、電流密度８Ａ／ｄｍ2 、電解液温度１０±
２℃でプラズマ化学的に陽極酸化する。３０分間の層形
成時間後に、電位の最終値が２１６Ｖを記録する。
グを、実施例１の水性／有機性の、塩化物を含まない電
解質浴中で、電流密度８Ａ／ｄｍ2 、電解液温度１０±
２℃でプラズマ化学的に陽極酸化する。３０分間の層形
成時間後に、電位の最終値が２１６Ｖを記録する。
【００３２】セラミックス化したダイカストケーシング
を洗滌、乾燥する。
を洗滌、乾燥する。
【００３３】セラミックス層の厚みは４０μｍである。
【００３４】実施例 ３ 表面が１ｄｍ2 のＡＺ９１型のマグネシウム合金製試験
板を、４０％のフッ化水素酸中に室温下で１分間浸して
腐蝕させる。
板を、４０％のフッ化水素酸中に室温下で１分間浸して
腐蝕させる。
【００３５】このように処理した試料を、実施例１の水
性／有機性の、塩化物を含まない電解質浴中で、電流密
度４Ａ／ｄｍ2 、電解液温度１２±２℃でプラズマ化学
的に陽極酸化する。
性／有機性の、塩化物を含まない電解質浴中で、電流密
度４Ａ／ｄｍ2 、電解液温度１２±２℃でプラズマ化学
的に陽極酸化する。
【００３６】１７分後に電位が２５２Ｖに達する。
【００３７】セラミックス層の厚みは５０μｍである。
【００３８】実施例 ４ 純チタン棒（長さ３０ｍｍ、直径５ｍｍ）を実施例２の
腐蝕液中で腐蝕させ、ついで蒸溜水で洗浄する。
腐蝕液中で腐蝕させ、ついで蒸溜水で洗浄する。
【００３９】このように処理した試料を、塩化物を含ま
ない下記組成の水性電解質浴中で、 （ａ）陽イオン０．２モル／ｌカルシウムイオン （ｂ）陰イオン０．４モル／ｌリン酸塩 電流密度１８Ａ／ｄｍ2 、電解液温度１０±２℃でプラ
ズマ化学的に陽極酸化する。
ない下記組成の水性電解質浴中で、 （ａ）陽イオン０．２モル／ｌカルシウムイオン （ｂ）陰イオン０．４モル／ｌリン酸塩 電流密度１８Ａ／ｄｍ2 、電解液温度１０±２℃でプラ
ズマ化学的に陽極酸化する。
【００４０】１０分間の層形成時間後に、電位の最終値
は２１０Ｖに達する。セラミックス化した棒を蒸溜水で
洗浄、乾燥する。層の厚みは４０μｍである。
は２１０Ｖに達する。セラミックス化した棒を蒸溜水で
洗浄、乾燥する。層の厚みは４０μｍである。
【００４１】実施例 ５ 表面が６ｄｍ2 のＡｌＭｇＳｉ１製の歯車を脱脂し、蒸
溜水で洗浄する。塩化物を含まない水性／有機性の電解
質浴として、実施例１の電解質浴を水で１００倍に稀釈
し、さらにアルミン酸ナトリウムとケイ酸ナトリウムを
０．１モル／ｌずつ含有させた電解質浴を使用する。
溜水で洗浄する。塩化物を含まない水性／有機性の電解
質浴として、実施例１の電解質浴を水で１００倍に稀釈
し、さらにアルミン酸ナトリウムとケイ酸ナトリウムを
０．１モル／ｌずつ含有させた電解質浴を使用する。
【００４２】本歯車を電流密度１０Ａ／ｄｍ2 で陽極酸
化する。１２０分間の層形成時間後に、電位の最終値は
８００Ｖに達する。
化する。１２０分間の層形成時間後に、電位の最終値は
８００Ｖに達する。
【００４３】セラミックス化した本歯車を洗浄、乾燥す
る。酸化物セラミックス層の厚みは１３０μｍである。
セラミックス層の硬度は１９００ＨＶ（０．１）と算出
された。このように層をつけた歯車の耐用期間は、従来
のアルマイト加工（eloxiesten Zahnrad) した同一方法
の歯車と比較して４倍に高まる。
る。酸化物セラミックス層の厚みは１３０μｍである。
セラミックス層の硬度は１９００ＨＶ（０．１）と算出
された。このように層をつけた歯車の耐用期間は、従来
のアルマイト加工（eloxiesten Zahnrad) した同一方法
の歯車と比較して４倍に高まる。
【００４４】実施例 ６ 表面が６．４ｄｍ2 のＡｌＺｎＭｇＣｕ１．５製超音波
発生用振動子（Ultraschalls ono trode) を脱脂し、つ
いで蒸溜水で洗浄した。
発生用振動子（Ultraschalls ono trode) を脱脂し、つ
いで蒸溜水で洗浄した。
【００４５】このように処理した超音波発生用振動子
を、実施例１に記載した塩化物を含まない水性／有機性
電解質浴中で、電流密度３．５Ａ／ｄｍ2 、電解液温度
１５℃でプラズマ化学的に陽極酸化する。２５分間の層
形成時間後に、電位の最終値が２５０Ｖに達する。
を、実施例１に記載した塩化物を含まない水性／有機性
電解質浴中で、電流密度３．５Ａ／ｄｍ2 、電解液温度
１５℃でプラズマ化学的に陽極酸化する。２５分間の層
形成時間後に、電位の最終値が２５０Ｖに達する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２５Ｄ 11/34 Ｚ (72)発明者 ハンス−ユルゲン・クレッケ ドイツ連邦共和国デイ−5160 デュレン、 チヴォリシュトラーセ 103
Claims (10)
- 【請求項１】 Ａｌ，Ｍｇ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｎｂ，
Ｈｆ，Ｓｂ，Ｗ，Ｍｏ，Ｖ，Ｂｉまたはこれらの合金上
に、プラズマ化学的陽極酸化によって酸化物セラミック
ス層を作りだす方法において、ｐＨ値２〜８、浴温度−
３０〜＋１５℃間で一定の、塩化物を含まない電解質浴
中で、電位が最終値に到達するまで少なくとも１Ａ／ｄ
ｍ2 の一定電流密度を維持することを特徴とする方法。 - 【請求項２】 浴温度が−１０〜＋１５℃であることを
特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 浴温度が±２℃の範囲に一定に保たれる
ことを特徴とする請求項１、または２記載の方法。 - 【請求項４】 浴が５×１０-3モル／ｌより少ない塩化
物イオンを含有することを特徴とする請求項１〜３の一
つに記載の方法。 - 【請求項５】 電解質浴がリン酸塩イオン、ホウ酸塩イ
オン、およびフッ化物イオンを合計量として２モル／ｌ
まで含有することを特徴とする請求項１〜４の一つに記
載の方法。 - 【請求項６】 電解質浴が尿素、ヘキサメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンテトラミン、グリコール、およびグ
リセリンの群からなる安定剤を１．５モル／ｌまで含有
することを特徴とする請求項１〜５の一つに記載の方
法。 - 【請求項７】 請求項１〜６の一つによる電解質を０．
０１〜０．１モル／ｌ濃度まで稀釈し、ｐＨ値を１０〜
１２、好ましくは１１に高めて使用しつつ、電位が最終
値に到達するまで一定に保つ電流密度を少なくとも５ａ
／ｄｍ2 に維持して、プラズマ化学的陽極酸化によりア
ルミニウム、またはその合金上に極めて耐摩損性に富む
酸化物セラミックス層を作りだす方法。 - 【請求項８】 電位が５００Ｈｚまでの周波数をもつこ
とを特徴とする請求項１〜７の一つに記載の方法。 - 【請求項９】 酸化物セラミックス層の厚みが４０〜１
５０μｍ、好ましくは５０〜１２０μｍであることを特
徴とする、プラズマ化学的に作りだした酸化物セラミッ
クス層つきのアルミニウム、マグネシウム、チタン、ま
たはこれらの合金製物体。 - 【請求項１０】 プラズマ化学的に作りだした酸化物セ
ラミックス層がコランダムであることを特徴とする請求
項９記載のアルミニウム、またはアルミニウム合金製物
体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4139006.7 | 1991-11-27 | ||
| DE4139006A DE4139006C3 (de) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | Verfahren zur Erzeugung von Oxidkeramikschichten auf sperrschichtbildenden Metallen und auf diese Weise erzeugte Gegenstände aus Aluminium, Magnesium, Titan oder deren Legierungen mit einer Oxidkeramikschicht |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05239692A true JPH05239692A (ja) | 1993-09-17 |
| JP2912101B2 JP2912101B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=6445704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4341294A Expired - Fee Related JP2912101B2 (ja) | 1991-11-27 | 1992-11-27 | 隔離層を生成する金属上に、必要に応じて改質した酸化物セラミックス層を作りだす方法と、これから作られる物体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5385662A (ja) |
| EP (1) | EP0545230B2 (ja) |
| JP (1) | JP2912101B2 (ja) |
| AT (1) | ATE124472T1 (ja) |
| DE (2) | DE4139006C3 (ja) |
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| CN109097808A (zh) * | 2017-06-20 | 2018-12-28 | 佳木斯大学 | 具有生物活性的含氮氧化镁涂层的制备方法 |
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