DE19709228A1 - Geordnete Grenzflächentexturierung für ein lichtemittierendes Bauelement - Google Patents
Geordnete Grenzflächentexturierung für ein lichtemittierendes BauelementInfo
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- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 3
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims 5
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims 4
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 claims 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 18
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003631 wet chemical etching Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/20—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/20—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
- H01L33/22—Roughened surfaces, e.g. at the interface between epitaxial layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
- H01L33/38—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Description
Diese Erfindung bezieht sich auf die Herstellung von licht
emittierenden Halbleiterbauelementen. Insbesondere ist die
Erfindung auf die Verbesserung der Lichtextraktion aus der
artigen Bauelementen gerichtet.
Die Lichtextraktion aus einem lichtemittierenden Halbleiter
bauelement (LED; LED = Light-Emitting Device) ist typischer
weise aufgrund des großen optischen Brechungsindex (n ≈ 2,2-3,8)
des Halbleitermaterials relativ zu dem umgebenden
Raum, typischerweise Luft (n ≈ 1) oder transparentes Epoxid
harz (n ≈ 1,5), begrenzt. Der Betrag der Extraktion hängt
stark von der makroskopischen Geometrie des LEDs und dem
dreidimensionalen Emissionsprofil des Lichts ab, das in der
aktiven Region erzeugt wird. Die lichtemittierende Fähigkeit
der aktiven Region ist durch die Struktur der umgebenden Ma
terialien, wie z. B. der epitaktischen Schichten, der begren
zenden oder "führenden" Bereiche, etc., definiert.
Das Problem der Lichtextraktion aus einem Halbleiter kann
unter Verwendung eines Beispiels aus der elementaren elek
tromagnetischen Theorie verstanden werden: eine ebene elek
tromagnetische Welle, die von einem Medium (I) in ein an
deres Medium (II) einfällt, muß eine Phasenanpassungsbe
dingung an der Grenzfläche zwischen den zwei Medien erfül
len, um transmittiert zu werden. Wellen, die diese Bedingung
nicht erfüllen, werden der inneren Totalreflexion (TIR; TIR
= Total Internal Reflection) unterworfen und breiten sich
nicht in das Medium II aus. Wenn die Lichtgeschwindigkeit in
dem Medium I wesentlich kleiner als dieselbe des Mediums II
ist, d. h. nI » nII, und wenn die Grenzfläche zwischen die
sen Medien planar oder nicht texturiert ist, beschränkt die
Phasenanpassungsbedingung bei herkömmlichen Halbleiter-LEDs
die Transmission auf Strahlen, die von Medium I in einem en
gen Winkelbereich einfallen, der um den senkrechten Einfall
zentriert ist.
Bei einer Galliumphosphid- (GaP- (n₁ ≈ 3,3)) Grenzfläche mit
einem transparentem Epoxidharz (n₂ ≈ 1,5) tritt die TIR für
Einfallswinkel Θi auf, die größer als der Grenzwinkel Θc =
arcsin(n₂/n₁) = 27.0° sind. Es wird lediglich Licht trans
mittiert, das in den Austrittskegel Θi < Θc einfällt. Für
eine isotrope Punktlichtquelle in GaP beträgt der Bruchteil
des Lichts, der in den Austrittskegel an der Grenzfläche
emittiert wird, lediglich [1 - (cosΘc)]/2 = 5.5% des verfüg
baren emittierten Lichtes. Wenn Fresnel-Verluste an der
Grenzfläche eingeschlossen werden, wird etwa ein Anteil von
4.7% des verfügbaren emittierten Lichts durch die Grenz
fläche in das Epoxidharz transmittiert. Für ein würfelför
miges Bauelement, das eine vollständig reflektierende untere
Oberfläche, keinen Oberseitenkontakt und keine innere Ab
sorption aufweist, gibt es sechs derartiger Grenzflächen,
weshalb der Bruchteil des gesamten emittierten Lichts, der
aus dem LED austritt 6 × 4.7% = 28.2% beträgt.
Der oben beschriebene Effekt begrenzt stark den Extraktions
wirkungsgrad der LEDs. Typische Bauelemente erzeugen Pho
tonen an dem p-n-Übergang, die in einen weiten Richtungs
bereich (nahezu isotropische Emission) emittiert werden. Als
Folge kann ein großer Prozentsatz der emittierten Licht
strahlen auf die Bauelements/Raum-Grenzfläche mit großen,
schiefen Winkeln einfallen. Wenn die Grenzfläche planar oder
nicht texturiert ist, werden diese Strahlen der TIR unter
worfen und nicht beim ersten Durchlauf austreten, weshalb
sie für eine Absorption in dem Bauelement empfänglich sind.
Verschiedene Verfahren zum Verbessern der Lichtextraktion
aus einem LED sind vorgeschlagen worden. Ein Verfahren liegt
darin, die makroskopische Geometrie des LEDs zu ändern, um
zu ermöglichen, daß das gesamte oder der größte Teil des in
dem Bauelement erzeugten Lichts in einen Austrittskegel an
der Grenzfläche mit dem Raum eintritt. Eine bevorzugte Form
ist ein kugelförmiges Bauelement mit einer aktiven Region
als Punktquelle, die in der Mitte der Kugel angeordnet ist.
Das gesamte emittierte Licht trifft im senkrechten Einfall
auf die Grenzfläche und tritt in den Raum mit einem mi
nimalen Fresnel-Verlust und ohne TIR aus. Dierschke, u. a.,
in Applied Physics Letters 19, 98 (1971), bemerkten große
Verbesserungen des Extraktionswirkungsgrades eines halb
kugelförmigen Bauelements. Carr, in Infrared Physics 6, 1
(1966), beobachtete, daß andere Formen, wie z. B. Kegel
stümpfe, Pyramidenstümpfe, etc., ebenfalls den Extraktions
wirkungsgrad verbessern. Makroskopische Formungsverfahren
sind kostenintensiv und weisen zugeordnete Herstellbarkeits
probleme auf, wie z. B. eine ineffiziente Materialausnutzung
und komplizierte Fabrikationsprozesse und -Techniken.
Ein anderer Ansatz betrifft die Verwendung einer Antirefle
xionsbeschichtung an der oberen Oberfläche des Bauelements.
Die Beschichtung führt zu verringerten Fresnel-Verlusten für
Lichtstrahlen, die nahezu senkrecht an der Grenzfläche ein
fallen. Da die Dünnfilmbeschichtung typischerweise die Pla
narität bezüglich der Halbleiteroberfläche beibehält, wird
jedoch der wirksame Austrittskegel an der Bauelements/Raum-Grenzfläche
nicht vergrößert, weshalb diese Technik eine be
grenzte Verbesserung der Lichtextraktion schafft.
Ein anderer bekannter Ansatz betrifft ein Zufallstexturieren
oder ein Aufrauhen der Oberflächen der Halbleiter-LEDs, wie
es in Fig. 1 gezeigt ist und durch Schnitzer, u. a. in Ap
plied Physics Letters 63, 2174 (1993), gelehrt ist. Eine Zu
fallsoberflächentextur läßt die Winkelverteilung der Licht
strahlen in dem Bauelement zufällig werden. Dieses Zufällig
machen erhöht die Gesamtwahrscheinlichkeit, daß Licht nach
mehreren Vielfachdurchläufen durch die Bauelementsstruktur
in einen Austrittskegel eintritt. Licht, das von der aktiven
Region emittiert wird, trifft mehrmals auf die obere Ober
fläche auf, bevor dasselbe in einen Austrittskegel eintritt.
In den Applied Physics Letters 62, 131 (1993), haben
Schnitzer, u. a., angemerkt, daß sehr hohe externe Gesamt
quantenwirkungsgrade (< 72%) in optisch gepumpten Strukturen
durch die Extraktion von Vielfachdurchlauf-Licht erreicht
werden konnten. In diesem Fall wurde sorgfältig auf die Mi
nimierung der Absorption in dem Bauelement geachtet. In ei
nem praktischen, elektrisch gepumpten Bauelement verringern
verlustbehaftete oder dämpfende Regionen in dem Bauelement
(z. B. ein absorbierendes Substrat, die aktive Schicht, De
fekte, dotierte Regionen, etc.) oder an den Enden desselben
(d. h. Metallkontakte, Chipbefestigungsepoxidharz, etc.) we
sentlich die Intensität von Vielfachdurchlauf-Lichtstrahlen
und begrenzen somit die Extraktionswirkungsgradgewinne.
Folglich schaffen Vielfachdurchlauf-Lichtextraktionstech
niken lediglich eine bescheidene Verbesserung, da es in
praktischen Bauelementen den Photonen nicht möglich ist,
viele Durchläufe durch das Bauelement zu absolvieren, bevor
sie absorbiert werden.
Ein weiteres bekanntes Verfahren besteht darin, die Photonen
in Oberflächenplasmonmoden (in einer Dünnfilmmetallschicht
an der oberen Oberfläche) zu koppeln, die anschließend in
Strahlungsmoden in den Raum ausgekoppelt werden. Kock, u.
a., lehren in den Applied Physics Letters 57, 2327 (1990),
daß eine periodische Oberflächenstruktur, die in Fig. 2 ge
zeigt ist, die in Verbindung mit einem Metalldünnfilm ver
wendet wird, um das Plasmonmodenkoppeln zu verbessern, den
Quantenwirkungsgrad von LEDs erhöhen kann. Diese Strukturen
basieren auf dem Koppeln von Photonen aus dem Halbleiter in
die Oberflächenplasmonen in der Metallschicht, die weiter in
Photonen gekoppelt werden, die schließlich extrahiert wer
den. Die periodische Struktur ist ein eindimensionales
Strichgitter mit kleinen Rillentiefen (< 0,1 µm). Die exter
nen Gesamtquantenwirkungsgrade sind wahrscheinlich aufgrund
von Ineffizienzen der Photon-zu-Oberflächenplasmon- und der
Oberflächenplasmon-zu-Raumphoton-Umwandlungsmechanismen für
diese Bauelemente gering (1,4-1,5%).
Ein effizientes Verfahren zum Verbessern der Lichtextraktion
aus einem Halbleiter durch eine vorteilhafte Veränderung der
Reflexions- und Transmissionseigenschaften der Halbleiter
grenzflächen ist wünschenswert.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine lichtemit
tierendes Bauelement mit einem hohen Extraktionswirkungsgrad
zu schaffen.
Diese Aufgabe wird durch ein lichtemittierendes Bauelement
gemäß Anspruch 1 und durch ein Verfahren zum Herstellen ei
ner texturierten Grenzfläche gemäß Anspruch 16 gelöst.
Ein LED, das eine geordnete Grenzflächentextur aufweist, die
in mindestens einer Dimension auf irgendeiner oder allen
Grenzflächen eines LEDs periodisch ist, wird die Extraktion
von Erst-Durchlauf-Licht verbessern. Das Strukturieren der
Grenzflächen wird gesteuert, um mehr Licht in den Raum zu
lenken, ohne daß viele Vielfach-Durchläufe durch das Bau
element erforderlich sind, damit Licht austritt. Zusätzlich
kann die geordnete Grenzflächentexturierung den Fresnel-Verlust
für Lichtstrahlen verringern, die in den Raum aus
treten. Die regelmäßig strukturierte texturierte Grenzfläche
kann Merkmalbeabstandungen aufweisen, die zu einer einzelnen
Lichtwellenlänge in dem Bauelement vergleichbar sind. Die
Formen und Abmessungen der Texturmerkmale werden derart ge
wählt, um die Lichtextraktion für die betreffende Anwendung
zu optimieren.
Eine geordnete, gesteuerte Grenzflächentexturierung kann
Lichtextraktionsgewinne durch Ändern oder Vergrößern des
wirksamen Austrittskegels an der Bauelements/Raum-Grenzflä
che zur Folge haben. Im Vergleich zu makroskopischen For
mungstechniken betrifft die geordnete Texturierung einfache
re Fabrikationsprozesse. Fresnel-Verluste können soweit re
duziert werden, wie Reflexionen durch Antireflexionsbe
schichtungen minimiert werden. Schließlich werden Licht
extraktionsgewinne unmittelbar für Erst-Durchlauf-Licht ge
schaffen, weshalb es nicht erforderlich ist, daß das Licht
viele Vielfach-Durchläufe in der Bauelementsstruktur vor dem
Austritt durchführt.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung
werden nachfolgend bezugnehmend auf die beiliegenden Zeich
nungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 ein bekanntes Beispiel;
Fig. 2 ein weiteres bekanntes Beispiel;
Fig. 3 ein k-Raum-Diagramm;
Fig. 4 eine periodische Textur entlang einer Grenzfläche;
Fig. 5a-c Ordnungsanordnungen für die periodische Textur;
Fig. 6 eine herkömmliche lichtemittierende Halbleiterdiode;
Fig. 7a-c ein Verfahren zum Texturieren der oberen Ober
fläche eines LEDs;
Fig. 8 ein texturiertes Bauelement mit transparentem Sub
strat;
Fig. 9 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines texturierten
Bauelements mit transparentem Substrat;
Fig. 10 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines texturierten
Bauelements mit transparentem Substrat;
Fig. 11 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines texturierten
Bauelements mit transparentem Substrat;
Fig. 12 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines texturierten
Bauelements mit transparentem Substrat;
Fig. 13 einen Resonanzhohlraum-LED-Chip, der zwei DBR-Spie
gelstapel mit geordneten, texturierten Grenzflächen
aufweist; und
Fig. 14 einen Resonanzhohlraum-LED-Chip, der einen DBR-Sta
pel- und einen Metallspiegel aufweist, mit einer
geordneten texturierten Grenzfläche an der Ober
fläche des transparenten Substrats.
Die elektromagnetischen Phasenanpassungsbedingungen für eine
planare Grenzfläche werden verändert, wenn die Grenzfläche
texturiert wird. Eine geordnete texturierte Struktur kann
entworfen werden, um die Erst-Durchlauf-Lichtextraktion zu
erhöhen, und um die Leistung zu erhöhen, die von einem Halb
leiter in den Raum transmittiert wird. Die Effekte der ge
ordneten Texturierung eines Halbleiter-LEDs können unter Be
zugnahme auf Fig. 3, die ein Wellenimpuls- oder k-Raum-Dia
gramm für eine Grenzfläche zwischen GaP (n₁ ≈ 3,3) und tran
sparentem Epoxidharz (n₂ ≈ 1,5) darstellt, verstanden wer
den. Die zwei Medien an der Grenzfläche werden durch ihre
zulässigen Wellenzahloberflächen dargestellt, d. h. Halb
kreise mit Radien ks bzw. ke, mit k = k₀n = 2πn/λ₀, wobei n
der Materialbrechungsindex und λ₀ die jeweilige Freiraum
wellenlänge sind. Ohne Texturierung fällt ein Strahl I aus
dem Inneren des Bauelements mit einem großen, schiefen Win
kel, der größer als Θc ist, auf die Grenzfläche ein, und er
füllt nicht die notwendige Phasenanpassungsbedingung, um ei
ne Transmission von Leistung in das Epoxidharz zu ermög
lichen. Daher ist der Strahl I der Totalreflexion unterwor
fen und transmittiert seine Leistung in einen reflektierten
Strahl r₀ zurück in das GaP.
Bei der vorliegenden Erfindung wird die periodische Beab
standung der geordneten Texturierung genügend klein gewählt,
um die Phasenanpassungsbedingung an der Grenzfläche zu än
dern. In Fig. 3 verleiht eine periodische Textur entlang der
Grenzfläche mit einer Wellenzahl K = 2π/Λ entlang der Ein
fallsebene dem einfallenden Strahl einen Impuls und koppelt
Energie in das Epoxidharz über die transmittierten Moden t₁,
t₂ und t₃. Energie wird ferner in reflektierte Moden r₁, r₂,
. . . zurück in das GaP transmittiert. Die periodische Beab
standung und die Form und Tiefe der einzelnen lokalen Merk
male der Textur werden derart gewählt, um die Leistungsüber
tragung in die transmittierten Moden zu begünstigen.
Da die Lichtemission aus der aktiven Schicht im wesentlichen
dreidimensional ist, sollte die Grenzflächentexturierung
vorzugsweise eine Wellenvektorkomponente entlang der Ein
fallsebene für jeden azimutalen Winkel liefern. Folglich ist
die Texturierungsanordnung statt eindimensional, wie ein
einfaches Strichgitter, vorzugsweise zweidimensional entlang
der Grenzfläche. Die zweidimensionale Natur der Texturie
rungsanordnung bietet eine beträchtliche Flexibilität. Bei
spielsweise ist es zulässig, daß die Periodizität in zwei
orthogonalen Richtungen entlang der Ebene der Grenzfläche
unterschiedlich sein kann, wobei in diesem Fall ein aniso
tropes Strahlmuster erzeugt werden kann. Eine derartige
Strahlstruktur kann bei gewissen Anwendungen nützlich sein.
Die Periode der geordneten Texturierung sollte kurz genug
sein, um Leistung in den Raum durch Strahlen zu transmittie
ren, die normalerweise der TIR an der Grenzfläche unterwor
fen sind, jedoch nicht derartig kurz, daß dieselbe bedeu
tende Lichtbeträge von nahezu senkrecht einfallenden Strah
len (die andernfalls austreten würden) in TIR-Moden zurück
in das Bauelement umlenkt. Aus diesem Grund können "spitze"
Texturen weniger wünschenswert sein als "weiche" Texturmerk
male. Texturen mit "spitzen" Merkmalen sind jene, die mit
Licht reagieren, um einige gebeugte Moden höherer Ordnung zu
erzeugen. Dies erhöht die Wahrscheinlichkeit, daß bedeutende
Lichtbetrage in TIR-Moden zurück in das Bauelement gekoppelt
werden können. Andererseits lenken Texturen mit "weichen"
Merkmalen das Licht hauptsächlich in gebeugte Moden niedri
gerer Ordnung um, die in einem richtigen Texturentwurf in
den Raum austreten sollten. Ein typisches Texturprofil mit
"spitzen" Merkmalen kann ein Rechteckwellenprofil (mit spit
zen Ecken) sein, während ein Beispiel einer Textur mit "wei
chen" Merkmalen ein sinusförmiges Profil mit einer gleich
mäßigen Variation entlang der Ebene der Grenzfläche sein
kann.
Zum Zweck der vorliegenden Erfindung soll eine Grenzfläche
als eine beliebige Region zwischen ungleichen Medien oder
als eine beliebige benachbarte Kombination derartiger Re
gionen definiert sein. Außerdem soll eine Grenzfläche nicht
nur durch diese ungleichen Medien sondern ferner durch ihren
Ort und ihre Ausrichtung relativ zu dem Rest der Bauele
mentsgeometrie spezifiziert sein.
Fig. 4 zeigt eine LED mit einer geordneten texturierten
oberen Oberfläche. Ein Lichtstrahl γ, der normalerweise der
TIR unterworfen sein würde, transmittiert statt dessen beim
Erreichen der oberen Oberfläche Leistung in den Raum. Diese
Leistungsübertragung tritt bei dem ersten Durchlauf auf und
verringert die Wahrscheinlichkeit eines optischen Verlusts
in dämpfenden Regionen in oder an Kanten des Bauelements.
Den Lichtstrahlen (γ′) in der durch den Grenzwinkel einer
nicht texturierten Oberfläche definierten Winkelbandbreite
ist es ferner möglich, auszutreten. Der Gesamteffekt der ge
ordneten Texturierung sollte darin liegen, die Emission der
aktiven Schicht an die Bauelementsgeometrie und an den umge
benden Raum anzupassen, derart, daß dies eine bedeutende Er
höhung des Gesamtextraktionswirkungsgrades zur Folge hat.
Die geordnete Texturierung an der Grenzfläche kann ferner in
bedeutend verringerten Reflexionsverlusten für Lichtstrahlen
resultieren, die aus dem Bauelement in den Raum transmit
tiert werden. Gaylord u. a. bemerkten in der Applied Optics
25, 4562 (1986), daß geordnete Oberflächentexturen gute An
tireflexionscharakteristika über eine große Winkelbandbreite
zeigen. Die Abruptheit der Brechungsindexstufe zwischen dem
Bauelement und dem Raum wird verringert, um eine Zwischen
region mit einem effektiven Brechungsindexwert zu schaffen,
der zwischen demselben des Bauelementmaterials und demselben
des Raums übergeht.
Die Texturstruktur für optimales Licht hängt von der Winkel
verteilung der Lichtemission, die an der Grenzfläche ein
fällt, und von der Form der Grenzfläche ab, wobei beides
stark die Wahrscheinlichkeit definiert, daß ein Lichtstrahl
auf die Grenzfläche mit einem gegebenen Winkel trifft. Wenn
die aktive Region eines LEDs aus vielen (nahezu) isotropen
Emittern besteht, dann muß der Texturentwurf derart sein,
daß Licht, das auf eine ebene Grenzfläche einfällt, wir
kungsvoll über einen großen Winkelbereich transmittiert wer
den muß, d. h., daß die Transmission an der geordneten Grenz
fläche eine große Winkelbandbreite aufweisen muß. Wenn die
Emission der aktiven Region anisotrop ist, d. h. bei Mikro
hohlraumemission, sollte die geordnete Texturierung wir
kungsvoll innerhalb der Winkelbandbreite transmittieren, die
aus der anisotropen Emission und der Ausrichtung der Grenz
fläche (n) resultiert.
Die Geometrie oder Form der LED-Struktur definiert die Win
kellichtverteilung, die auf jede Grenzfläche trifft. In ei
ner würfelförmigen Struktur könnte ein sinnvoller maximaler
Einfallswinkel auf einer ebenen oberen Oberfläche
tan-1 (√2a/h) sein, wobei a die Breite des Würfels und h die
Entfernung der aktiven Schicht zu der oberen Oberfläche ist
(z. B. a = 0,254 mm = 10 Millizoll, h = 0,0508 mm = 2 Mil
lizoll, Θmax = 82°). Licht, das sich innerhalb des Grenz
winkels an den Seitenoberflächen befindet, wird jedoch aus
den Seitenoberflächen austreten, es gilt somit Θmax = 90° -
Θc = 63° ( für ns = 3,3, ne = 1,5). Folglich sollte die ge
ordnete Texturierung derart entworfen sein, daß dieselbe
wirkungsvoll über eine Winkelbandbreite von -63° < Θ < 63°
transmittiert.
Zusätzlich sollte die dreidimensionale Natur der Winkel
lichtverteilung berücksichtigt werden. Beispielsweise be
trägt für einen isotropen Emitter unter einer planaren
Grenzfläche der Prozentsatz des Lichts, das für |Θ|i < 20°
emittiert wird (1-cos20)/2 = 3%. Dies ist weniger, als für
20° < |Θ| < 40° emittiert wird, wo der Prozentsatz (cos20-cos40)/2
= 8.7% beträgt. Für 40° < |Θ| < 60° beträgt der
Prozentsatz (cos40-cos60)/2 = 13.3%. Die geordnete Textu
rierung der Grenzfläche kann, wenn dies gewünscht ist, ent
worfen werden, um Licht wirkungsvoller bei größeren schiefen
Winkeln auf Kosten von kleineren Winkeln zu transmittieren.
Dies kann aufgrund des Kompromisses, der im allgemeinen zwi
schen dem Beugungswirkungsgrad und der Winkelbandbreite in
beugenden Strukturen inhärent ist, wichtig sein. Es kann
folglich wünschenswert sein, daß Gitter auf einen maximalen
Extraktionswirkungsgrad bei großen schiefen Winkeln (bei de
nen der Großteil des Lichts einfällt), einzustellen.
Die aktive Schicht und die umgebenden Strukturen können
ebenfalls die Winkellichtverteilung beeinflussen, die an ei
ner Grenzfläche einfällt. Für eine dicke dämpfende aktive
Schicht ist die Lichtemission bei größeren Werten von e auf
grund der längeren möglichen Weglänge in der dämpfenden ak
tiven Schicht weniger wahrscheinlich. Die Winkelbandbreite
des Lichts, das an der oberen Oberfläche einfällt, würde
relativ zu einem Bauelement mit einer dünnen aktiven Schicht
oder einer aktiven Schicht mit hohem internen Quantenwir
kungsgrad (hohe Wahrscheinlichkeit der Photonenrückgewin
nung) verringert.
Bei Resonanzhohlraum-LED-Strukturen (siehe z. B., Schubert
u. a., Science 265,943 [1994)] haben die aktive Schicht und
der Hohlraumentwurf starke Auswirkungen auf die Winkellicht
verteilung. Die aktive Schicht ist in einem kleinen verti
kalen Hohlraum positioniert, der durch hochreflektierende
Spiegel definiert ist, die reflektierende Metalle, dielek
trische Verteilter-Bragg-Reflektor- (DBR-; DBR = Distribu
ted-Bragg-Reflector) Stapel, oder Halbleiter-DBR-Stapel sein
können. Wenn die aktive Schicht an einem Hohlraum-Feld
schwingungsbauch positioniert ist und die DBR(s) auf maxi
male Reflexion bei senkrechtem Einfall eingestellt sind,
wird ein großer Teil des emittierten Lichts in einem engen
Winkelbereich um 0° gehäuft. Wenn jedoch die aktive Schicht
von einem Feldschwingungsbauch entfernt positioniert ist,
oder der Hohlraum verstimmt ist, ist die Winkellichtver
teilung auf einen engen Bereich von neben der Achse liegen
den Winkeln begrenzt. Der Prozentsatz des gesamten emit
tierten Lichts nimmt mit schieferen Winkel (relativ zu der
oberen Oberfläche) für eine gegebene Winkellichtverteilung
zu, wie es vorher dargelegt wurde. Wenn ein Anteil von 80%
des nach oben emittierten Lichtes auf einen engen Bereich
von Winkeln begrenzt werden könnte, für den eine geordnete
texturierte Grenzfläche eine Transmission von 60% liefern
könnte, würde der sich ergebende Aufwärtsextraktionswir
kungsgrad 0,8 × 0,6 = 48% betragen.
Die besonderen Formen, Abmessungen und Anordnungen der ge
ordneten Texturierung, die für ein optimales Verhalten not
wendig sind, sind anwendungsabhängig. Eine Merkmalsform
kann ein kegelförmiger Vorstand oder eine kegelförmige Ver
tiefung sein. Eine typische geordnete Anordnung kann ein
quadratisches, rechteckiges oder hexagonal-eng-gepacktes
(HCP-; HCP = Hexagonal-Close-Packed) Array sein. Diese An
ordnungen sind in den Fig. 5a-c dargestellt, von denen jede
eine Draufsicht einer geordneten texturierten Grenzfläche
zeigt. Die periodischen Beabstandungen sind vorzugsweise
vergleichbar oder kleiner als eine Wellenlänge des Lichts in
dem Bauelement. Querschnittsprofile der texturierten Grenz
fläche zeigen Spitzen und Täler gemäß den Vorständen oder
Vertiefungen und die Ausdehnung jedes einzelnen Merkmals
entlang der Ebene der Grenzfläche, die durch die Halbwerts
breiten- (FWHM-; FWHM = full-width-at-half-maximum = Halb
wertsbreite) Höhe oder Tiefe derselben definiert ist. Die
selbe kann jedoch ebenfalls mit einigen Vielfachen ver
gleichbar oder kleiner als die Lichtwellenlänge in dem Bau
element sein. Die maximale Höhe oder Tiefe eines Vorstands
oder einer Vertiefung kann vergleichbar zu einer oder eini
gen Lichtwellenlängen in dem Bauelement sein. Die Beabstan
dung der geordneten Struktur ist Wellenlängen-abhängig. Es
ist daher wesentlich die elektromagnetische Phasenanpas
sungsbedingung an der Grenzfläche optimal zu verändern, um
die Gesamtleistung zu erhöhen, die in den Raum transmittiert
wird. Die Ausdehnung und die Tiefe der topologischen Merk
male der Struktur bewirken die Effizienz der Phasenbe
dingungsveränderung, daß Licht transmittiert wird. Die
Struktur kann ferner "gechirpt" oder auf andere Art und Wei
se bezüglich ihrer einzelnen topologischen Merkmal-Größen
und/oder -Formen verteilt sein, um die gesamte optische
Transmission und die Bauelementsleistung zu maximieren.
Es seien zum Beispiel LEDs für sichtbare Wellenlängen be
trachtet, bei denen λ ≈ 400-700 nm ist. In diesem Fall zeigt
die geordnete Texturierung für die Grenzfläche, die in Fig.
4 beschrieben ist, eine Quadrat- oder HCP-Anordnung. Die
Merkmale haben potentiell eine Ausdehnung von 0,1-0,9 µm
und sind mit 0,1-5,0 µm beabstandet, und zwar mit Merk
malstiefen in der Größenordnung von 0,2-15,0 µm. Die
Periode oder Beabstandung muß kurz genug sein, um Licht bei
großen schiefen Winkeln in den Raum zu koppeln. Für typische
LED-Strukturen für sichtbare Wellenlängen beträgt die Peri
ode weniger als 1,0 µm. Die maximale Tiefe der Merkmale kann
0,5 µm oder größer sein, um höhere Extraktionswirkungsgrade
zu erreichen. Da die interessierenden Grenzflächen zwei
dimensional sind, muß die Gitterstruktur zweidimensional
sein und nicht eindimensional wie ein einfaches Gitter.
Ein herkömmliches lichtemittierendes Halbleiterbauelement
ist in Fig. 6 gezeigt. Dasselbe weist epitaktische Halb
leiterschichten (1) auf, die eine aktive Region mit einem
p-n-Übergang (2) auf einem Substrat (3) mit elektrischen
Kontakten (4), die zur Strominjektion geschaffen sind, ent
halten. Die elektrischen Kontakte sind, wie es in Fig. 6
gezeigt ist, sowohl an der oberen als auch an der unteren
Oberfläche des Bauelements geschaffen, es ist jedoch mög
lich, beide Kontakte auf eine Seite des Bauelements zu set
zen, um den Lichtextraktionswirkungsgrad aus der anderen
Seite zu erhöhen. In diesem letzteren Fall muß das Substrat
(3) weder leitfähig noch ein Halbleiter sein, vorausgesetzt,
daß die epitaktischen Schichten (1) auf das Substrat aufge
wachsen oder an demselben auf eine zufriedenstellende Art
und Weise befestigt werden können.
Die Fig. 7a-c stellen Prozeßablaufschritte zum Texturieren
der oberen Oberfläche eines lichtemittierenden Bauelements
dar. Ein elektro- oder photosensitiver Dünnfilm (5) wird an
der Oberseite des Bauelements (Fig. 7a) angebracht. Der Film
wird unter Verwendung einer Elektronenstrahllithographie,
einer Laserstrahlinterferenz oder von UV-Strahlung etc. be
lichtet, wonach die gewünschte Struktur (6) entwickelt wird
(Fig. 7b). Nach dem Entwickeln schützt die verbleibende mas
kierende Struktur Bereiche des Bauelementsmaterials vor ei
nem folgenden Ätz- oder Fräsprozeß (z. B. einem Ionenfräsen,
einem reaktiven Ionenätzen, einem naßchemischen Ätzen, einem
elektrochemischen Ätzen, einem photochemischen Ätzen, einem
chemisch unterstützten Ionenstrahlätzen oder einer Kombina
tionen davon, etc.), um eine gewünschte Struktur (7) in das
Bauelementsmaterial zu übertragen, wonach die maskierende
Schicht (6) entfernt wird (Fig. 7c). Der Metallkontakt dient
als eine Maske gegen den Ätz- oder Fräsprozeß und wird sel
ber nicht texturiert. Der photosensitive maskierende Film
(5) kann durch Verwenden einer selbststrukturierenden Ätz
technik (z. B. dem photoelektrochemischen Ätzen, einem lo
kalen Laserschmelzen und einem selektiven Ätzen von ge
schmolzenen Regionen, etc.) beseitigt werden, wobei der che
mische, mechanische oder elektrische Zustand des Bauele
mentsmaterials gemäß der Struktur verändert wird und an
schließend oder gleichzeitig Material selektiv entfernt
wird, um eine geordnet texturierte Grenzfläche zu erzeugen.
Alternativ wird ein dielektrischer maskierender Film oder
ein anderer Dünnfilm (Metall, Polymer, etc.) vor dem pho
tosensitiven Film aufgebracht. Der Typ und die Dicke dieser
Maske wird derart gewählt, um das notwendige Ätzverhältnis
zwischen dem maskierenden Material und dem Bauelements
material zu erreichen, um eine tief geätzte Texturierung zu
erreichen, die für eine optimale Lichtextraktion erwünscht
sein kann. Zusätzlich kann dieser Film ein Teil des fertigen
Bauelements sein, da derselbe eine geeignete transparente
Fensterschicht ist, die texturiert werden kann, um die
Lichtextraktion in den Raum zu verbessern. Dies kann nüt
zlich sein, wenn der Index des Dielektrikums größer als der
selbe des Raums ist, da die resultierende Struktur eine Ver
größerung des wirksamen Austrittskegels aus dem Bauelement
schafft.
Fig. 8 stellt ein weiteres Ausführungsbeispiel dar, bei dem
die obere und die rückseitige Oberfläche eines Bauelements
mit transparentem Substrat texturiert sind. Da die aktive
Region typischerweise bei der Emissionslänge stark dämpft,
ist die rückseitige Oberfläche texturiert, um das Licht, das
von der rückseitigen Oberfläche zu den Seiten des Bauele
ments hin reflektiert wird, umzulenken, um einen zweiten
Durchlauf durch die aktive Region und den Oberseitenmetall
kontakt zu vermeiden. Die Texturierung der oberen und un
teren Oberfläche kann unterschiedlich sein, da das Licht an
beiden Seiten unterschiedlich umgelenkt wird. Im Fall eines
Bauelements mit einer dünnen aktiven Schicht oder eines Bau
elements mit hohem internen Quantenwirkungsgrad (< 80%), bei
dem eine kleine Dämpfung in dieser Schicht auftritt, kann
die Textur der unteren Oberfläche statt dessen entworfen wer
den, um Licht in einen Austrittswinkel der oberen Oberfläche
zu lenken.
Fig. 9 stellt ein Ausführungsbeispiel dar, bei dem die Rück
seitenmetallkontakte auf die texturierte Oberfläche gesetzt
sind. Alternativ können die Vorderseiten- und/oder Rücksei
tenkontakte außerhalb der texturierten Regionen angebracht
sein. In dem Fall von Fig. 9 bietet die Wellung der Rücksei
tenmetallkontakte (9) einen vergrößerten Oberflächenbereich
für eine gegebene Kontaktabmessung an, wodurch diese Kontak
te einen verringerten elektrischen Widerstand im Vergleich
zu ebenen Kontakten der gleichen Abmessung zeigen. Die ge
wellten Kontakte können relativ zu den ebenen Kontakten bei
einem gleichen Kontaktwiderstand kleiner dimensioniert sein.
Sie können weniger dämpfend als herkömmliche ebene Kontakte
sein, da die Wellung als eine wirkungsvolle reflektierende
oder beugende Barriere für das einfallende Licht dienen
kann. Die Strukturierung in den Kontaktregionen kann un
abhängig von der Strukturierung auf dem Rest der Bauele
mentsgrenzflächen für erhöhte TIR- oder Fresnel-Reflexion in
den Kontaktregionen optimiert werden, um die Dämpfung an den
Kontakten zu verringern. Die optimale Strukturierung in die
sen Regionen kann ähnlich zu der optimalen Strukturierung
anderer Regionen des Bauelements sein oder nicht.
Fig. 10 stellt ein Ausführungsbeispiel dar, das eine makros
kopische Formung und eine Grenzflächentexturierung kombi
niert. Die Grenzflächentexturierung ist an einer oder sowohl
an der Oberseite als auch an der Unterseite eines kegel
stumpfförmigen lichtemittierenden Bauelements geschaffen.
Dieses Bauelement mit einem transparenten Substrat wird be
züglich zu dem Bauelement von Fig. 9 verkehrt herum ange
bracht, um die Extraktionsgewinne auszunützen, die mittels
des dicken kegelförmigen Fensters geschaffen sind. Die Tex
turierung kann auf der Rückseite durchgeführt und entworfen
werden, um Licht auf die Seiten des Bauelements umzulenken,
um das Durchlaufen desselben durch die dämpfende aktive Re
gion zu vermeiden. Alternativ können sowohl die Oberseiten
als auch die Rückseitenmetallkontakte gewellt oder "flach"
sein. Das kegelförmige Fenster trägt dazu bei, um einen
großen Teil des Lichts, das von der aktiven Region emittiert
wird, auf die obere Oberfläche mit nahezu senkrechtem Ein
fall auf derselben umzulenken. Dies verringert die Winkel
bandbreite des Lichts, das an der oberen Oberfläche ein
fällt, und ermöglicht einen wirkungsvolleren Texturierungs
entwurf, da im allgemeinen ein Kompromiß zwischen dem Beu
gungswirkungsgrad und der Bandbreite in beugenden Strukturen
besteht. Der umgekehrte Fall tritt ebenfalls auf, bei dem
eine Vergrößerung des wirksamen Austrittskegels an der
oberen Oberfläche (aufgrund der Texturierung) lockere Ent
wurfseinschränkungen beim Chip-Formen ermöglichen kann, was
zu weniger aufwendigen Entwürfen führt. Die Texturierung der
oberen Oberflächen schafft eine maximale Lichtextraktion bei
der interessierenden Wellenlänge und den interessierenden
Winkeln, während die Kontaktbereichstexturierung entworfen
sein kann, um die Reflektivität zu maximieren, um die Dämp
fung an den Metallkontakten zu verringern.
Fig. 11 stellt ein Ausführungsbeispiel dar, das die geord
nete Grenzflächentexturierung mit dem Chipformen kombiniert.
Es wird, wegen der Ähnlichkeit derselben zu einer Halbkugel,
eine Pyramidenstumpfform ausgewählt. Es wird eine Texturie
rung auf mindestens einer der freiliegenden Oberflächen ge
schaffen. Vorzugsweise wird dies an abgeschrägten Seiten
(10) des Bauelements sowie an der Oberseite und Unterseite
durchgeführt, um den Fresnel-Verlust zu verringern und den
Extraktionswirkungsgrad zu erhöhen. Das Strukturieren auf
den abgeschrägten Oberflächen (10) wird am besten durch be
rührungsfreie Strukturierungstechniken bewirkt, wie z. B.
dem photochemischen Ätzen unter Verwendung eines Lasers. Zu
sätzliche Variationen können ebenso bestimmte Typen von ge
ordneten Texturierungen an den äußersten Kanten eines Bau
elements umfassen, um die Emissionsstrukturen zu verändern,
und/oder um den Extraktionswirkungsgrad weiter zu erhöhen.
Fig. 12 stellt ein Bauelement mit einer geordneten textu
rierten Grenzfläche nahe der aktiven Schicht dar. Eine
transparente Fensterschicht (12) ist an der texturierten
Grenzfläche befestigt. Diese Fensterschicht kann geschaffen
sein, um die Stromausbreitung von dem Oberseitenkontakt für
eine gleichmäßige Injektion in die aktive Schicht zu er
höhen. Die geschichtete oder "gesandwichte" Grenzfläche zwi
schen der Fensterschicht und der texturierten Grenzfläche
würde normalerweise aus Leerräumen (13) bestehen, diese
Leerräume können jedoch mit einem geeigneten Material (z. B.
einem Dielektrikum, einem Halbleitermaterial, einem Eigen
oxid) vor der Fensterschichtbefestigung gefüllt werden, um
eine strukturelle Integrität zu schaffen, und um die gegen
wärtige Strompumpgeometrie des Bauelements vorteilhaft zu
modifizieren. Die Texturierung und die Wahl des
mehrschichtigen oder "gesandwichten" Materials sollten
derart gewählt werden, um die elektrischen und optischen
Charakteristika des Bauelements für die interessierende
Anwendung zu optimieren. Die Nähe der geordneten Textu
rierung zu der aktiven Schicht kann verbesserte Licht
emissionscharakteristika zur Folge haben, wobei Licht ge
zwungen wird, nach oben aus der aktiven Schicht zu emit
tieren, und zwar mit einem nahezu senkrechten Einfall auf
der oberen Oberfläche. Bei diesem letzteren Fall sollte das
Gitter innerhalb von ≈ 5 λ und vorzugsweise innerhalb von
weniger als ≈ 2 λ bezüglich der aktiven Region plaziert
sein. Das Gitter kann ebenfalls unterhalb der aktiven
Schicht plaziert sein, um Licht nach oben oder vorzugsweise
zu den Kanten des LEDs hin umzulenken.
Fig. 13 zeigt ein LED mit einer Resonanzhohlraum- (RC-; RC =
Resonant Cavity) Struktur (20), die aus einer aktiven Region
(2), die zwischen zwei DBR-Spiegelstapeln (22A, 22B) ge
schichtet ist, besteht. Der Hohlraum wird verstimmt, um eine
anisotrope Emission aus der aktiven Schicht (eine neben der
Achse liegende Emission) zur Folge zu haben. Die geordnete
texturierte obere Oberfläche ist entworfen, um dieses Licht
effizient in den Raum hinaus zu koppeln. Wenn das Bauelement
auf einem transparenten Substrat angebracht wird, kann die
untere Oberfläche texturiert werden, um vorzugsweise das
Licht in Austrittskegel an den Seiten des Bauelements zu
lenken. Zusätzlich können die texturierten Grenzflächen
statt dessen in dem Bauelement an Grenzflächen, die näher bei
der aktiven Region liegen, eingebettet sein.
Fig. 14 zeigt ein RCLED, bei dem eine Seite des Hohlraums
(20) durch einen Hochreflexionsmetallspiegel (24) definiert
ist und die andere Seite ein DBR-Stapel (22) ist. Das Bau
element ist mit dem (transparenten) Substrat nach oben an
geordnet. Der Hohlraum wird für eine neben der Achse lie
gende Emission verstimmt und die obere Oberfläche wird tex
turiert, um ein wirkungsvolles Koppeln der Emission in den
Raum zu schaffen. Zusätzlich können die RCLED-Bauelemente
der Fig. 13 und 14 (zusätzlich zu der Texturierung) geformt
werden, um das Licht aus der neben der Achse liegenden Emis
sion optimal auszukoppeln.
Claims (22)
1. Lichtemittierendes Bauelement, mit folgenden Merkmalen:
einem Bauelement, das folgende Merkmale aufweist:
ein Substrat (3),
eine p-n-Übergangsregion (2) mit mehreren Schichten, wobei Teilsätze der mehreren Schichten eine entge gengesetzte Polarität aufweisen, derart, daß ein p-n-Übergang gebildet ist, wobei sich eine der Schich ten neben dem Substrat befindet,
eine transparente Fensterschicht, die neben der p-n-Übergangsregion positioniert ist, und
elektrische Kontakte (4), die mit der p-n-Übergangs region verbunden und wirksam sind, um den p-n-Über gang in Flußrichtung vorzuspannen; und
einer primären Grenzfläche (7, 8, 11), die in dem Bau element positioniert ist, die mit sich wiederholenden Merkmalen in mindestens einer ausgewählten Richtung texturiert ist, die eine zugeordnete Periodizität in jeder der ausgewählten Richtungen aufweist, um die Lichtextraktion zu erhöhen, und innerhalb einer Periode ein Querschnittsprofil aufweist, das mindestens einen Berg und mindestens ein Tal aufweist.
einem Bauelement, das folgende Merkmale aufweist:
ein Substrat (3),
eine p-n-Übergangsregion (2) mit mehreren Schichten, wobei Teilsätze der mehreren Schichten eine entge gengesetzte Polarität aufweisen, derart, daß ein p-n-Übergang gebildet ist, wobei sich eine der Schich ten neben dem Substrat befindet,
eine transparente Fensterschicht, die neben der p-n-Übergangsregion positioniert ist, und
elektrische Kontakte (4), die mit der p-n-Übergangs region verbunden und wirksam sind, um den p-n-Über gang in Flußrichtung vorzuspannen; und
einer primären Grenzfläche (7, 8, 11), die in dem Bau element positioniert ist, die mit sich wiederholenden Merkmalen in mindestens einer ausgewählten Richtung texturiert ist, die eine zugeordnete Periodizität in jeder der ausgewählten Richtungen aufweist, um die Lichtextraktion zu erhöhen, und innerhalb einer Periode ein Querschnittsprofil aufweist, das mindestens einen Berg und mindestens ein Tal aufweist.
2. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 1, bei dem
die primäre Grenzfläche sich wiederholende Merkmale in
mindestens zwei ausgewählten Richtungen aufweist, die
identische Periodizitäten aufweisen.
3. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 1 oder 2,
bei dem die primäre Grenzfläche sich wiederholende
Merkmale aufweist, die ein rechteckiges Array bilden.
4. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 1 oder 2,
bei dem die primäre Grenzfläche sich wiederholende
Merkmale aufweist, die eine hexagonal eng gepackte
Struktur aufweisen.
5. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorher
gehenden Ansprüche, bei dem die maximale Berg-zu-Tal-Tiefe
zwischen 0,2 und 15 µm liegt.
6. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorherge
henden Ansprüche, bei dem die Periodizitäten zugeordne
te Perioden zwischen 0,1 und 5,0 µm aufweisen.
7. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorherge
henden Ansprüche, bei dem sich das Tal innerhalb von
zwei Mikrometern bezüglich der p-n-Übergangsregion be
findet.
8. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorherge
henden Ansprüche 1, bei dem die Berge und Täler des
Querschnittsprofils der primären Grenzfläche eine Halb
wertsbreite von 10-90% einer Periode der texturierten
Anordnung aufweisen.
9. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorherge
henden Ansprüche 1, bei dem ein Teil der primären
Grenzfläche elektrisch leitend ist.
10. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorherge
henden Ansprüche, das ferner einen metallischen Film an
einem Teil der primären Grenzfläche aufweist.
11. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorherge
henden Ansprüche, bei dem mindestens ein gewisser Teil
des Tals mit einem Material ausgefüllt ist, das einen
Brechungsindex von weniger als 2,0 aufweist.
12. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 11, bei
dem:
das Material, das einen Brechungsindex von weniger als 2,0 aufweist, ein dielektrisches Material ist; und
das Bauelement ferner eine Schicht aus Metall aufweist, die über dem dielektrischen Material positioniert ist.
das Material, das einen Brechungsindex von weniger als 2,0 aufweist, ein dielektrisches Material ist; und
das Bauelement ferner eine Schicht aus Metall aufweist, die über dem dielektrischen Material positioniert ist.
13. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorherge
henden Ansprüche, das ferner folgende Merkmale auf
weist:
N sekundäre Grenzflächen (10) (wobei N 1 gilt), die in dem Bauelement positioniert sind, wobei jede der sekundären Grenzflächen mit sich wiederholenden Merk malen in mindestens einer ausgewählten Richtung tex turiert ist, eine Periodizität in jeder ausgewählten Richtung aufweist, um die Lichtextraktion zu erhöhen, und innerhalb jeder Periode ein Querschnittsprofil auf weist, das mindestens einen Berg und mindestens ein Tal aufweist.
N sekundäre Grenzflächen (10) (wobei N 1 gilt), die in dem Bauelement positioniert sind, wobei jede der sekundären Grenzflächen mit sich wiederholenden Merk malen in mindestens einer ausgewählten Richtung tex turiert ist, eine Periodizität in jeder ausgewählten Richtung aufweist, um die Lichtextraktion zu erhöhen, und innerhalb jeder Periode ein Querschnittsprofil auf weist, das mindestens einen Berg und mindestens ein Tal aufweist.
14. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 13, bei
dem mindestens eine der N sekundären Grenzflächen und
die primäre Grenzfläche unterschiedliche Querschnitts
profile aufweisen.
15. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 13 oder
14, bei der mindestens eine der N sekundären Grenz
flächen und die primäre Grenzfläche mit unterschied
lichen Periodiziäten texturiert sind.
16. Verfahren zum Herstellen einer texturierten Grenzfläche
für ein lichtemittierendes Bauelement, mit folgenden
Schritten:
Übertragen mindestens einer Struktur auf mindestens eine Grenzfläche des Bauelements, wobei jede Struktur sich wiederholende Merkmale aufweist, die eine Perio dizität in mindestens einer ausgewählten Richtung auf weisen; und
Entfernen eines bestimmten Teils des Bauelementmate rials gemäß der Struktur, um eine Grenzfläche zu er zeugen, die mit den sich wiederholenden Merkmalen mit einer Periodizität in mindestens einer Richtung textu riert ist.
Übertragen mindestens einer Struktur auf mindestens eine Grenzfläche des Bauelements, wobei jede Struktur sich wiederholende Merkmale aufweist, die eine Perio dizität in mindestens einer ausgewählten Richtung auf weisen; und
Entfernen eines bestimmten Teils des Bauelementmate rials gemäß der Struktur, um eine Grenzfläche zu er zeugen, die mit den sich wiederholenden Merkmalen mit einer Periodizität in mindestens einer Richtung textu riert ist.
17. Verfahren gemäß Anspruch 16, bei dem der Schritt des
Übertragens der Struktur folgende Schritte aufweist:
Aufbringen einer Schicht aus Photolack über die Grenz fläche des Bauelements;
Belichten eines Teils der Schicht aus Photolack, um die Struktur zu erzeugen; und
Entfernen der nicht strukturierten Regionen des Photo lacks, um die Maskierungsschicht zu erzeugen.
Aufbringen einer Schicht aus Photolack über die Grenz fläche des Bauelements;
Belichten eines Teils der Schicht aus Photolack, um die Struktur zu erzeugen; und
Entfernen der nicht strukturierten Regionen des Photo lacks, um die Maskierungsschicht zu erzeugen.
18. Verfahren gemäß Anspruch 16, bei dem das Übertragen der
Struktur folgende Schritte aufweist:
Aufbringen einer Schicht aus dielektrischem Material über die Grenzfläche des Bauelements; und
Aufbringen einer Schicht aus Photolack über die Schicht aus dielektrischem Material;
Belichten eines Abschnitts der Schicht aus Photolack, um die Struktur zu erzeugen;
Entfernen der nicht strukturierten Regionen des Photo lacks; und
Ätzen der Schicht aus dielektrischem Material gemäß der Struktur.
Aufbringen einer Schicht aus dielektrischem Material über die Grenzfläche des Bauelements; und
Aufbringen einer Schicht aus Photolack über die Schicht aus dielektrischem Material;
Belichten eines Abschnitts der Schicht aus Photolack, um die Struktur zu erzeugen;
Entfernen der nicht strukturierten Regionen des Photo lacks; und
Ätzen der Schicht aus dielektrischem Material gemäß der Struktur.
19. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 16 bis 18, das fer
ner den Schritt des Ausfüllens zumindest des bestimmten
Teils der Grenzfläche unter Verwendung eines Materials
mit einem Brechungsindex von weniger als 2,0 aufweist.
20. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 16 bis 19, das fer
ner den Schritt des Anbringens von elektrischen Kontak
ten an der Grenzfläche aufweist.
21. Verfahren gemäß Anspruch 16, bei dem der Schritt des
Übertragens der Struktur den Schritt des Modifizierens
des Zustands des Bauelementmaterials gemäß einer Struk
tur aufweist, wobei die Struktur sich wiederholende
Merkmale aufweist, die eine Periodizität in mindestens
einer Richtung aufweisen.
22. Verfahren gemäß Anspruch 21, bei dem der Schritt des
Modifizierens und der Schritt des Entfernens gleichzei
tig durchgeführt werden.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/620,518 US5779924A (en) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | Ordered interface texturing for a light emitting device |
US620518 | 1996-03-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19709228A1 true DE19709228A1 (de) | 1997-09-25 |
DE19709228B4 DE19709228B4 (de) | 2010-11-04 |
Family
ID=24486294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19709228A Expired - Lifetime DE19709228B4 (de) | 1996-03-22 | 1997-03-06 | Geordnete Grenzflächentexturierung für ein lichtemittierendes Bauelement |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5779924A (de) |
JP (4) | JPH104209A (de) |
DE (1) | DE19709228B4 (de) |
GB (1) | GB2311413B (de) |
SG (1) | SG54385A1 (de) |
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WO2002041410A1 (de) * | 2000-11-14 | 2002-05-23 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Lumineszenzdiode mit hoher auskoppeleffizienz |
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US10615309B2 (en) | 2017-03-13 | 2020-04-07 | Azur Space Solar Power Gmbh | Light emitting diode |
DE102019212944A1 (de) * | 2019-08-28 | 2021-03-04 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Halbleiterbauelement, vorrichtung mit einem halbleiterbauelement und verfahren zur herstellung von halbleiterbauelementen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19709228B4 (de) | 2010-11-04 |
GB2311413A (en) | 1997-09-24 |
JPH104209A (ja) | 1998-01-06 |
GB2311413B (en) | 2001-04-11 |
JP2007142483A (ja) | 2007-06-07 |
SG54385A1 (en) | 1998-11-16 |
JP2011029667A (ja) | 2011-02-10 |
US5779924A (en) | 1998-07-14 |
GB9705173D0 (en) | 1997-04-30 |
JP5741996B2 (ja) | 2015-07-01 |
JP2014131078A (ja) | 2014-07-10 |
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