DE19709228B4 - Geordnete Grenzflächentexturierung für ein lichtemittierendes Bauelement - Google Patents

Geordnete Grenzflächentexturierung für ein lichtemittierendes Bauelement Download PDF

Info

Publication number
DE19709228B4
DE19709228B4 DE19709228A DE19709228A DE19709228B4 DE 19709228 B4 DE19709228 B4 DE 19709228B4 DE 19709228 A DE19709228 A DE 19709228A DE 19709228 A DE19709228 A DE 19709228A DE 19709228 B4 DE19709228 B4 DE 19709228B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
interface
light
emitting device
region
light emitting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE19709228A
Other languages
English (en)
Other versions
DE19709228A1 (de
Inventor
Michael R. Mountain View Krames
Fred A. San Jose Kish jun.
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lumileds LLC
Original Assignee
Philips Lumileds Lighing Co LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=24486294&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=DE19709228(B4) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Philips Lumileds Lighing Co LLC filed Critical Philips Lumileds Lighing Co LLC
Publication of DE19709228A1 publication Critical patent/DE19709228A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19709228B4 publication Critical patent/DE19709228B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/20Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/20Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
    • H01L33/22Roughened surfaces, e.g. at the interface between epitaxial layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/36Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
    • H01L33/38Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

Lichtemittierendes Bauteil, mit folgenden Merkmalen:
ein Substrat (3),
eine p-n-Übergangsregion (2) mit mehreren p-Schichten und n-Schichten, um einen p-n-Übergang zu bilden, wobei sich eine der Schichten benachbart zu dem Substrat befindet,
elektrische Kontakte, die mit der p-n-Übergangsregion verbunden und wirksam sind, um den p-n-Übergang in Flußrichtung vorzuspannen, wobei zumindest ein elektrischer Kontakt (9) oberhalb einer Kontaktregion einer Grenzfläche (7, 8) des lichtemittierenden Bauteils angeordnet ist, wobei Licht beim Austreten aus dem Bauteil einen Restbereich der Grenzfläche passiert, wobei die Grenzfläche an der Kontaktregion und dem Restbereich
mit einer zweidimensionalen Anordnung mit sich wiederholenden Merkmalen in zumindest zwei ausgewählten Richtungen vollständig texturiert ist,
eine zugeordnete Periodizität in jeder der ausgewählten Richtungen aufweist, um im Restbereich die Extraktion von Erst-Durchlauf-Licht zu erhöhen, und um in der Kontaktregion den elektrischen Widerstand im Vergleich zu ebenen Kontakten zu verringern, und
innerhalb einer Periode ein Querschnittsprofil aufweist, das mindestens...

Description

  • Diese Erfindung bezieht sich auf die Herstellung von lichtemittierenden Halbleiterbauelementen. Insbesondere ist die Erfindung auf die Verbesserung der Lichtextraktion aus derartigen Bauelementen gerichtet.
  • Die Lichtextraktion aus einem lichtemittierenden Halbleiterbauelement (LED; LED = Licht emittierende Diode) ist typischerweise aufgrund des großen optischen Brechungsindex (n ≈ 2,2–3,8) des Halbleitermaterials relativ zu dem umgebenden Raum, typischerweise Luft (n ≈ 1) oder transparentes Epoxidharz (n ≈ 1,5), begrenzt. Der Betrag der Extraktion hängt stark von der makroskopischen Geometrie der LED und dem dreidimensionalen Emissionsprofil des Lichts ab, das in der aktiven Region erzeugt wird. Die lichtemittierende Fähigkeit der aktiven Region ist durch die Struktur der umgebenden Materialien, wie z. B. der epitaktischen Schichten, der begrenzenden oder ”führenden” Bereiche, etc., definiert.
  • Das Problem der Lichtextraktion aus einem Halbleiter kann unter Verwendung eines Beispiels aus der elementaren elektromagnetischen Theorie verstanden werden: eine ebene elektromagnetische Welle, die von einem Medium (I) in ein anderes Medium (II) einfällt, muß eine Phasenanpassungsbedingung an der Grenzfläche zwischen den zwei Medien erfüllen, um transmittiert zu werden. Wellen, die diese Bedingung nicht erfüllen, werden der inneren Totalreflexion (TIR; TIR = Total Internal Reflection) unterworfen und breiten sich nicht in das Medium II aus. Wenn die Lichtgeschwindigkeit in dem Medium I wesentlich kleiner als dieselbe des Mediums II ist, d. h. nI >> nII, und wenn die Grenzfläche zwischen diesen Medien planar oder nicht texturiert ist, beschränkt die Phasenanpassungsbedingung bei herkömmlichen Halbleiter-LEDs die Transmission auf Strahlen, die von Medium I in einem engen Winkelbereich einfallen, der um den senkrechten Einfall zentriert ist.
  • Bei einer Galliumphosphid-(GaP-(n1 ≈ 3,3))Grenzfläche mit einem transparentem Epoxidharz (n2 ≈ 1,5) tritt die TIR für Einfallswinkel θi auf, die größer als der Grenzwinkel θc = arcsin(n2/n1) = 27.0° sind. Es wird lediglich Licht transmittiert, das in den Austrittskegel θi < θc einfällt. Für eine isotrope Punktlichtquelle in GaP beträgt der Bruchteil des Lichts, der in den Austrittskegel an der Grenzfläche emittiert wird, lediglich [1 – (cosθc)]/2 = 5.5% des verfügbaren emittierten Lichtes. Wenn Fresnel-Verluste an der Grenzfläche eingeschlossen werden, wird etwa ein Anteil von 4.7% des verfügbaren emittierten Lichts durch die Grenzfläche in das Epoxidharz transmittiert. Für ein würfelförmiges Bauelement, das eine vollständig reflektierende untere Oberfläche, keinen Oberseitenkontakt und keine innere Absorption aufweist, gibt es sechs derartiger Grenzflächen, weshalb der Bruchteil des gesamten emittierten Lichts, der aus der LED austritt 6 × 4.7% = 28.2% beträgt.
  • Der oben beschriebene Effekt begrenzt stark den Extraktionswirkungsgrad der LEDs. Typische Bauelemente erzeugen Photonen an dem p-n-Übergang, die in einen weiten Richtungsbereich (nahezu isotrope Emission) emittiert werden. Als Folge kann ein großer Prozentsatz der emittierten Lichtstrahlen auf die Bauelements/Raum-Grenzfläche mit großen, schiefen Winkeln einfallen. Wenn die Grenzfläche planar oder nicht texturiert ist, werden diese Strahlen der TIR unterworfen und nicht beim ersten Durchlauf austreten, weshalb sie für eine Absorption in dem Bauelement empfänglich sind.
  • Verschiedene Verfahren zum Verbessern der Lichtextraktion aus einer LED sind vorgeschlagen worden. Ein Verfahren liegt darin, die makroskopische Geometrie der LED zu ändern, um zu ermöglichen, daß das gesamte oder der größte Teil des in dem Bauelement erzeugten Lichts in einen Austrittskegel an der Grenzfläche mit dem Raum eintritt. Eine bevorzugte Form ist ein kugelförmiges Bauelement mit einer aktiven Region als Punktquelle, die in der Mitte der Kugel angeordnet ist. Das gesamte emittierte Licht trifft im senkrechten Einfall auf die Grenzfläche und tritt in den Raum mit einem minimalen Fresnel-Verlust und ohne TIR aus. Dierschke, u. a., Efficient Elektroluminescence from Zinc-Diffuses Ga1-xAlxAs Diodes at 25°C Applied Physics Letters 19, S. 98ff (1971), zeigt große Verbesserungen des Extraktionswirkungsgrades eines halbkugelförmigen Bauelements. Carr, in Infrared Physics 6, 1 (1966), beobachtete, daß andere Formen, wie z. B. Kegelstümpfe, Pyramidenstümpfe, etc., ebenfalls den Extraktionswirkungsgrad verbessern. Makroskopische Formungsverfahren sind kostenintensiv und weisen zugeordnete Herstellbarkeitsprobleme auf, wie z. B. eine ineffiziente Materialausnutzung und komplizierte Fabrikationsprozesse und -Techniken.
  • Ein anderer Ansatz betrifft die Verwendung einer Antireflexionsbeschichtung an der oberen Oberfläche des Bauelements. Die Beschichtung führt zu verringerten Fresnel-Verlusten für Lichtstrahlen, die nahezu senkrecht an der Grenzfläche einfallen. Da die Dünnfilmbeschichtung typischerweise die Planarität bezüglich der Halbleiteroberfläche beibehält, wird jedoch der wirksame Austrittskegel an der Bauelements/Raum-Grenzfläche nicht vergrößert, weshalb diese Technik eine begrenzte Verbesserung der Lichtextraktion schafft.
  • Ein anderer bekannter Ansatz betrifft ein Zufallstexturieren oder ein Aufrauhen der Oberflächen der Halbleiter-LEDs, wie es in 1 gezeigt ist und durch Schnitzer, u. a., 30% external quantum efficiency from Surface textured, thin-film light-emitting diodes Applied Physics Letters 63, S. 2174–2176 (1993), gelehrt ist. Eine Zufallsoberflächentextur läßt die Winkelverteilung der Lichtstrahlen in dem Bauelement zufällig werden. Dieses Zufälligmachen erhöht die Gesamtwahrscheinlichkeit, daß Licht nach mehreren Vielfachdurchläufen durch die Bauelementsstruktur in einen Austrittskegel eintritt. Licht, das von der aktiven Region emittiert wird, trifft mehrmals auf die obere Oberfläche auf, bevor dasselbe in einen Austrittskegel eintritt. In Ultrahigh spontaneous emission quantum effiziency, 99.7% internally and 72% externally, from AlGaAs/GaAs/AlGaAs double heterostructures, Appl. Phys. Lett. 62, Schnitzer, u. a., S. 131–133 (1993), ist angemerkt, daß sehr hohe externe Gesamtquantenwirkungsgrade (> 72%) in optisch gepumpten Strukturen durch die Extraktion von Vielfachdurchlauf-Licht erreicht werden konnten. In diesem Fall wurde sorgfältig auf die Minimierung der Absorption in dem Bauelement geachtet. In einem praktischen, elektrisch gepumpten Bauelement verringern verlustbehaftete oder dämpfende Regionen in dem Bauelement (z. B. ein absorbierendes Substrat, die aktive Schicht, Defekte, dotierte Regionen, etc.) oder an den Enden desselben (d. h. Metallkontakte, Chipbefestigungsepoxidharz, etc.) wesentlich die Intensität von Vielfachdurchlauf-Lichtstrahlen und begrenzen somit die Extraktionswirkungsgradgewinne. Folglich schaffen Vielfachdurchlauf-Lichtextraktionstechniken lediglich eine bescheidene Verbesserung, da es in praktischen Bauelementen den Photonen nicht möglich ist, viele Durchläufe durch das Bauelement zu absolvieren, bevor sie absorbiert werden.
  • Ein weiteres bekanntes Verfahren besteht darin, die Photonen in Oberflächenplasmonmoden (in einer Dünnfilmmetallschicht an der oberen Oberfläche) zu koppeln, die anschließend in Strahlungsmoden in den Raum ausgekoppelt werden. Köck, u. a., Strongly directional emission from AlGaAs/GaAs light-emitting diodes Applied Physics Letter 57, S. 2327–2329 (1990), lehrt daß eine periodische Oberflächenstruktur, die in] 2 gezeigt ist, die in Verbindung mit einem Metalldünnfilm verwendet wird, um das Plasmonmodenkoppeln zu verbessern, den Quantenwirkungsgrad von LEDs erhöhen kann. Diese Strukturen basieren auf dem Koppeln von Photonen aus dem Halbleiter in die Oberflächenplasmonen in der Metallschicht, die weiter in Photonen gekoppelt werden, die schließlich extrahiert werden. Die periodische Struktur ist ein eindimensionales Strichgitter mit kleinen Rillentiefen (< 0,1 μm). Die externen Gesamtquantenwirkungsgrade sind wahrscheinlich aufgrund von Ineffizienzen der Photon-zu-Oberflächenplasmon- und der Oberflächenplasmon-zu-Raumphoton-Umwandlungsmechanismen für diese Bauelemente gering (1,4–1,5%).
  • Ein effizientes Verfahren zum Verbessern der Lichtextraktion aus einem Halbleiter durch eine vorteilhafte Veränderung der Reflexions- und Transmissionseigenschaften der Halbleitergrenzflächen ist wünschenswert.
  • Die US 5 132 751 A betrifft ein Array aus lichtemittierenden Dioden, welches Vorsprünge aufweist. Das Array umfaßt ein Substrat und eine aktive Region, wobei an einer Schnittstelle ein p-n-Übergang gebildet ist. Auf einer Oberfläche, an der das Licht aus dem Bauelement emittiert wird, sind Vorsprünge gebildet, die eine Struktur mit konzentrischen Kreisen oder mit vertikalen Rillen ergeben.
  • Die DE 4218806 A1 betrifft ein Lumineszenzelement, welches ein Substrat umfaßt, auf dem eine Epitaxialschicht aufgewachsen ist, um einen p-n-Übergang zu bilden. Die Oberfläche der Epitaxialschicht umfaßt halbkugelförmige Ausnehmungen, die sich bis zu der Peripherie der Epitaxialschicht erstrecken. Die Ausnehmungen sind nur an elektroden- bzw. metallisierungsfreien Stellen gebildet.
  • Die DE 2030974 B betrifft ein lichtemittierendes Bauteil mit einem Substrat, in dem ein p-n-Übergang vorgesehen ist, wobei das Licht, das von der aktiven Region emittiert wird, das Bauteil erst nach mehreren Durchläufen durch die Bauteilstruktur verläßt.
  • Die GB 2221791 A beschreibt einen oberflächenemittierenden Laser mit einer Gitterstruktur aus Rillen, die vorgesehen ist, um einen Teil des Lichts von der Laserregionen zurück zu reflektieren, um die optische Rückkopplung zu erhöhen und dabei die Laserwirkung, wie z. B. die Frequenzverriegelung, des oberflächenemittierenden Lasers zu verbessern.
  • Die EP 0442002 A1 beschreibt ein strahlerzeugendes Halbleiterbauelement mir einer aktiven Schicht und einer Confinement-Schicht, die eine periodische Strukturierung aufweist. Auf der strukturierten Confinement-Schicht befindet sich ein Kontakt aus Metall, der der periodischen Strukturierung der Confinement-Schicht angepaßt ist. Auf der Oberfläche des metallischen Kontakts werden Oberflächenplasmonpolaritonen angeregt, die als Ausgangsstrahlung abgestrahlt werden.
  • Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine lichtemittierendes Bauelement mit einem hohen Extraktionswirkungsgrad zu schaffen.
  • Diese Aufgabe wird durch ein lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 1 und durch ein Verfahren zum Herstellen einer texturierten Grenzfläche gemäß Anspruch 18 gelöst.
  • Eine LED, die eine geordnete Grenzflächentextur aufweist, die in mindestens einer Dimension auf irgendeiner oder allen Grenzflächen einer LED periodisch ist, wird die Extraktion von Erst-Durchlauf-Licht verbessern. Das Strukturieren der Grenzflächen wird gesteuert, um mehr Licht in den Raum zu lenken, ohne daß viele Vielfach-Durchläufe durch das Bauelement erforderlich sind, damit Licht austritt. Zusätzlich kann die geordnete Grenzflächentexturierung den Fresnel-Verlust für Lichtstrahlen verringern, die in den Raum austreten. Die regelmäßig strukturierte texturierte Grenzfläche kann Merkmalbeabstandungen aufweisen, die zu einer einzelnen Lichtwellenlänge in dem Bauelement vergleichbar sind. Die Formen und Abmessungen der Texturmerkmale werden derart gewählt, um die Lichtextraktion für die betreffende Anwendung zu optimieren.
  • Eine geordnete, gesteuerte Grenzflächentexturierung kann Lichtextraktionsgewinne durch Ändern oder Vergrößern des wirksamen Austrittskegels an der Bauelements/Raum-Grenzfläche zur Folge haben. Im Vergleich zu makroskopischen Formungstechniken betrifft die geordnete Texturierung einfachere Fabrikationsprozesse. Fresnel-Verluste können soweit reduziert werden, wie Reflexionen durch Antireflexionsbeschichtungen minimiert werden. Schließlich werden Lichtextraktionsgewinne unmittelbar für Erst-Durchlauf-Licht geschaffen, weshalb es nicht erforderlich ist, daß das Licht viele Vielfach-Durchläufe in der Bauelementsstruktur vor dem Austritt durchführt.
  • Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend bezugnehmend auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
  • 1 ein bekanntes Beispiel;
  • 2 ein weiteres bekanntes Beispiel;
  • 3 ein k-Raum-Diagramm;
  • 4 eine periodische Textur entlang einer Grenzfläche;
  • 5ac Ordnungsanordnungen für die periodische Textur;
  • 6 eine herkömmliche lichtemittierende Halbleiterdiode;
  • 7ac ein Verfahren zum Texturieren der oberen Oberfläche eines LEDs, wobei das sich ergebende Bauelement jedoch nicht gemäß der vorliegenden Erfindung ist;
  • 8 ein texturiertes Bauelement mit transparentem Substrat, das nicht gemäß der vorliegenden Erfindung ist;
  • 9 ein Ausführungsbeispiel eines texturierten Bauelements mit transparentem Substrat;
  • 10 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines texturierten Bauelements mit transparentem Substrat;
  • 11 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines texturierten Bauelements mit transparentem Substrat;
  • 12 ein Vergleichsbeispiel eines texturierten Bauelements mit transparentem Substrat;
  • 13 ein Ausführungsbeispiel eines Resonanzhohlraum-LED-Chip, der zwei DBR-Spiegelstapel mit geordneten, texturierten Grenzflächen aufweist; und
  • 14 einen Resonanzhohlraum-LED-Chip, der nicht gemäß der Erfindung ist, und der einen DBR-Stapel- und einen Metallspiegel aufweist, mit einer geordneten texturierten Grenzfläche an der Oberfläche des transparenten Substrats.
  • Die elektromagnetischen Phasenanpassungsbedingungen für eine planare Grenzfläche werden verändert, wenn die Grenzfläche texturiert wird. Eine geordnete texturierte Struktur kann entworfen werden, um die Erst-Durchlauf-Lichtextraktion zu erhöhen, und um die Leistung zu erhöhen, die von einem Halbleiter in den Raum transmittiert wird. Die Effekte der geordneten Texturierung eines Halbleiter-LEDs können unter Bezugnahme auf 3, die ein Wellenimpuls- oder k-Raum-Diagramm für eine Grenzfläche zwischen GaP (n1 ≈ 3,3) und transparentem Epoxidharz (n2 ≈ 1,5) darstellt, verstanden werden. Die zwei Medien an der Grenzfläche werden durch ihre zulässigen Wellenzahloberflächen dargestellt, d. h. Halbkreise mit Radien ks bzw. ke, mit k = k0n = 2πn/λ0, wobei n der Materialbrechungsindex und λ0 die jeweilige Vakuumwellenlänge sind. Ohne Texturierung fällt ein Strahl i aus dem Inneren des Bauelements mit einem großen, schiefen Winkel, der größer als θc ist, auf die Grenzfläche ein, und erfüllt nicht die notwendige Phasenanpassungsbedingung, um eine Transmission von Leistung in das Epoxidharz zu ermöglichen. Daher ist der Strahl i der Totalreflexion unterworfen und transmittiert seine Leistung in einen reflektierten Strahl r0 zurück in das GaP.
  • Bei der vorliegenden Erfindung wird die periodische Beab standung der geordneten Texturierung genügend klein gewählt, um die Phasenanpassungsbedingung an der Grenzfläche zu ändern. In 3 verleiht eine periodische Textur entlang der Grenzfläche mit einer Wellenzahl K = 2π/λ entlang der Einfallsebene dem einfallenden Strahl einen Impuls und koppelt Energie in das Epoxidharz über die transmittierten Moden t1, t2 und t3. Energie wird ferner in reflektierte Moden r1, r2, ... zurück in das GaP transmittiert. Die periodische Beabstandung und die Form und Tiefe der einzelnen lokalen Merkmale der Textur werden derart gewählt, um die Leistungsübertragung in die transmittierten Moden zu begünstigen.
  • Da die Lichtemission aus der aktiven Schicht im wesentlichen dreidimensional ist, sollte die Grenzflächentexturierung vorzugsweise eine Wellenvektorkomponente entlang der Einfallsebene für jeden azimutalen Winkel liefern. Folglich ist die Texturierungsanordnung statt eindimensional, wie ein einfaches Strichgitter, erfindungsgemäß zweidimensional entlang der Grenzfläche. Die zweidimensionale Natur der Texturierungsanordnung bietet eine beträchtliche Flexibilität. Beispielsweise ist es zulässig, daß die Periodizität in zwei orthogonalen Richtungen entlang der Ebene der Grenzfläche unterschiedlich sein kann, wobei in diesem Fall ein anisotropes Strahlmuster erzeugt werden kann. Eine derartige Strahlstruktur kann bei gewissen Anwendungen nützlich sein.
  • Die Periode der geordneten Texturierung sollte kurz genug sein, um Leistung in den Raum durch Strahlen zu transmittieren, die normalerweise der TIR an der Grenzfläche unterworfen sind, jedoch nicht derartig kurz, daß dieselbe bedeutende Lichtbeträge von nahezu senkrecht einfallenden Strahlen (die andernfalls austreten würden) in TIR-Moden zurück in das Bauelement umlenkt. Aus diesem Grund können ”spitze” Texturen weniger wünschenswert sein als ”weiche” Texturmerkmale. Texturen mit ”spitzen” Merkmalen sind jene, die mit Licht reagieren, um einige gebeugte Moden höherer Ordnung zu erzeugen. Dies erhöht die Wahrscheinlichkeit, daß bedeutende Lichtbeträge in TIR-Moden zurück in das Bauelement gekoppelt werden können. Andererseits lenken Texturen mit ”weichen” Merkmalen das Licht hauptsächlich in gebeugte Moden niedrigerer Ordnung um, die in einem richtigen Texturentwurf in den Raum austreten sollten. Ein typisches Texturprofil mit ”spitzen” Merkmalen kann ein Rechteckwellenprofil (mit spitzen Ecken) sein, während ein Beispiel einer Textur mit ”wei chen” Merkmalen ein sinusförmiges Profil mit einer gleichmäßigen Variation entlang der Ebene der Grenzfläche sein kann.
  • Zum Zweck der vorliegenden Erfindung soll eine Grenzfläche als eine beliebige Region zwischen ungleichen Medien oder als eine beliebige benachbarte Kombination derartiger Regionen definiert sein. Außerdem soll eine Grenzfläche nicht nur durch diese ungleichen Medien sondern ferner durch ihren Ort und ihre Ausrichtung relativ zu dem Rest der Bauelementsgeometrie spezifiziert sein.
  • 4 zeigt eine LED mit einer geordneten texturierten oberen Oberfläche. Ein Lichtstrahl γ, der normalerweise der TIR unterworfen sein würde, transmittiert stattdessen beim Erreichen der oberen Oberfläche Leistung in den Raum. Diese Leistungsübertragung tritt bei dem ersten Durchlauf auf und verringert die Wahrscheinlichkeit eines optischen Verlusts in dämpfenden Regionen in oder an Kanten des Bauelements. Den Lichtstrahlen (γ') in der durch den Grenzwinkel einer nicht texturierten Oberfläche definierten Winkelbandbreite ist es ferner möglich, auszutreten. Der Gesamteffekt der geordneten Texturierung sollte darin liegen, die Emission der aktiven Schicht an die Bauelementsgeometrie und an den umgebenden Raum anzupassen, derart, daß dies eine bedeutende Erhöhung des Gesamtextraktionswirkungsgrades zur Folge hat.
  • Die geordnete Texturierung an der Grenzfläche kann ferner in bedeutend verringerten Reflexionsverlusten für Lichtstrahlen resultieren, die aus dem Bauelement in den Raum transmittiert werden. Gaylord u. a. bemerkten in der Applied Optics 25, S. 4562 (1986), daß geordnete Oberflächentexturen gute Antireflexionscharakteristika über eine große Winkelbandbreite zeigen. Die Abruptheit der Brechungsindexstufe zwischen dem Bauelement und dem Raum wird verringert, um eine Zwischenregion mit einem effektiven Brechungsindexwert zu schaffen, der zwischen demselben des Bauelementmaterials und demselben des Raums übergeht.
  • Die Texturstruktur für optimales Licht hängt von der Winkelverteilung der Lichtemission, die an der Grenzfläche einfällt, und von der Form der Grenzfläche ab, wobei beides stark die Wahrscheinlichkeit definiert, daß ein Lichtstrahl auf die Grenzfläche mit einem gegebenen Winkel trifft. Wenn die aktive Region eines LEDs aus vielen (nahezu) isotropen Emittern besteht, dann muß der Texturentwurf derart sein, daß Licht, das auf eine ebene Grenzfläche einfällt, wirkungsvoll über einen großen Winkelbereich transmittiert werden kann, d. h., daß die Transmission an der geordneten Grenzfläche eine große Winkelbandbreite aufweisen muß. Wenn die Emission der aktiven Region anisotrop ist, d. h. bei Mikrohohlraumemission, sollte die geordnete Texturierung wirkungsvoll innerhalb der Winkelbandbreite transmittieren, die aus der anisotropen Emission und der Ausrichtung der Grenzflächen) resultiert.
  • Die Geometrie oder Form der LED-Struktur definiert die Winkellichtverteilung, die auf jede Grenzfläche trifft. In einer würfelförmigen Struktur könnte ein sinnvoller maximaler Einfallswinkel auf einer ebenen oberen Oberfläche tan–1(√2a/h) sein, wobei a die Breite des Würfels und h die Entfernung der aktiven Schicht zu der oberen Oberfläche ist (z. B. a = 0,254 mm = 10 Millizoll, h = 0,0508 mm = 2 Millizoll, θmax = 82°). Licht, das sich innerhalb des Grenzwinkels an den Seitenoberflächen befindet, wird jedoch aus den Seitenoberflächen austreten, es gilt somit θmax = 90° – θc = 63° (für ns = 3,3, ne = 1,5). Folglich sollte die geordnete Texturierung derart entworfen sein, daß dieselbe wirkungsvoll über eine Winkelbandbreite von –63° < θ < 63° transmittiert.
  • Zusätzlich sollte die dreidimensionale Natur der Winkellichtverteilung berücksichtigt werden. Beispielsweise beträgt für einen isotropen Emitter unter einer planaren Grenzfläche der Prozentsatz des Lichts, das für |θ| < 20° emittiert wird (1 – cos20°)/2 = 3%. Dies ist weniger, als für 20° < |θ| < 40° emittiert wird, wo der Prozentsatz (cos20° – cos40°)/2 = 8.7% beträgt. Für 40° < |θ| < 60° beträgt der Prozentsatz (cos40° – cos60°)/2 = 13.3%. Die geordnete Texturierung der Grenzfläche kann, wenn dies gewünscht ist, entworfen werden, um Licht wirkungsvoller bei größeren schiefen Winkeln auf Kosten von kleineren Winkeln zu transmittieren. Dies kann aufgrund des Kompromisses, der im allgemeinen zwischen dem Beugungswirkungsgrad und der Winkelbandbreite in beugenden Strukturen inhärent ist, wichtig sein. Es kann folglich wünschenswert sein, daß Gitter auf einen maximalen Extraktionswirkungsgrad bei großen schiefen Winkeln (bei denen der Großteil des Lichts einfällt), einzustellen.
  • Die aktive Schicht und die umgebenden Strukturen können ebenfalls die Winkellichtverteilung beeinflussen, die an einer Grenzfläche einfällt. Für eine dicke dämpfende aktive Schicht ist die Lichtemission bei größeren Werten von θ aufgrund der längeren möglichen Weglänge in der dämpfenden aktiven Schicht weniger wahrscheinlich. Die Winkelbandbreite des Lichts, das an der oberen Oberfläche einfällt, würde relativ zu einem Bauelement mit einer dünnen aktiven Schicht oder einer aktiven Schicht mit hohem internen Quantenwirkungsgrad (hohe Wahrscheinlichkeit der Photonenrückgewinnung) verringert.
  • Bei Resonanzhohlraum-LED-Strukturen (siehe z. B., Schubert u. a., Science 265, S. 943 [1994]) haben die aktive Schicht und der Hohlraumentwurf starke Auswirkungen auf die Winkellichtverteilung. Die aktive Schicht ist in einem kleinen vertikalen Hohlraum positioniert, der durch hochreflektierende Spiegel definiert ist, die reflektierende Metalle, dielektrische Verteilter-Bragg-Reflektor-(DBR-; DBR = Distributed-Bragg-Reflector)Stapel, oder Halbleiter-DBR-Stapel sein können. Wenn die aktive Schicht an einem Hohlraum-Feldschwingungsbauch positioniert ist und die DBR(s) auf maximale Reflexion bei senkrechtem Einfall eingestellt sind, wird ein großer Teil des emittierten Lichts in einem engen Winkelbereich um 0° gehäuft. Wenn jedoch die aktive Schicht von einem Feldschwingungsbauch entfernt positioniert ist, oder der Hohlraum verstimmt ist, ist die Winkellichtverteilung auf einen engen Bereich von neben der Achse liegenden Winkeln begrenzt. Der Prozentsatz des gesamten emittierten Lichts nimmt mit schieferen Winkel (relativ zu der oberen Oberfläche) für eine gegebene Winkellichtverteilung zu, wie es vorher dargelegt wurde. Wenn ein Anteil von 80% des nach oben emittierten Lichtes auf einen engen Bereich von Winkeln begrenzt werden könnte, für den eine geordnete texturierte Grenzfläche eine Transmission von 60% liefern könnte, würde der sich ergebende Aufwärtsextraktionswirkungsgrad 0,8 × 0,6 = 48% betragen.
  • Die besonderen Formen, Abmessungen und Anordnungen der geordneten Texturierung, die für ein optimales Verhalten notwendig sind, sind anwendungsabhängig. Eine Merkmalsform kann ein kegelförmiger Vorstand oder eine kegelförmige Vertiefung sein. Eine typische geordnete Anordnung kann eine regelmäßige, quadratische, rechteckige oder hexagonale bzw. hexagonal dicht gepackte (HCP-)Anordnung sein. Diese Anordnungen sind in den 5ac dargestellt, von denen jede eine Draufsicht einer geordneten texturierten Grenzfläche zeigt. Die periodischen Beabstandungen sind vorzugsweise vergleichbar oder kleiner als eine Wellenlänge des Lichts in dem Bauelement. Querschnittsprofile der texturierten Grenzfläche zeigen Spitzen und Täler gemäß den Vorständen bzw. Erhebungen oder Vertiefungen und die Ausdehnung jedes einzelnen Merkmals entlang der Ebene der Grenzfläche, die durch die Halbwertsbreiten (FWHM-; FWHM = full-width-at-half-maximum = Halbwertsbreite) derselben definiert ist. Dieselbe kann jedoch ebenfalls mit einigen Vielfachen der Lichtwellenlänge in dem Bauelement vergleichbar oder kleiner als die Lichtwellenlänge in dem Bauelement sein. Die maximale Höhe oder Tiefe einer Erhebung oder einer Vertiefung kann vergleichbar zu einer oder einigen Lichtwellenlängen in dem Bauelement sein. Die Beabstandung der geordneten Struktur ist Wellenlängen-abhängig. Es ist daher wesentlich die elektromagnetische Phasenanpassungbedingung an der Grenzfläche optimal zu verändern um die Gesamtleistung zu erhöhen, die in den Raum transmittiert wird. Die Ausdehnung und die Tiefe der topologischen Merkmale der Struktur beeinflussen die Effizienz der Phasenbedingungsveränderung. Die Struktur kann ferner ”gechirpt” sein bzw. eine größer bzw. geringer werdende Periode aufweisen oder auf andere Art und Weise bezüglich ihrer einzelnen topologischen Merkmal-Größen und/oder -Formen verteilt sein, um die gesamte optische Transmission und die Bauelementsleistung zu maximieren.
  • Es seien zum Beispiel LEDs für sichtbare Wellenlängen betrachtet, bei denen λ ≈ 400–700 nm ist. In diesem Fall zeigt die geordnete Texturierung für die Grenzfläche, die in 4 beschrieben ist, eine Quadrat- oder Hexagonal-Anordnung. Die Merkmale haben potentiell eine Ausdehnung von 0,1–0,9 μm und sind mit 0,1–5,0 μm beabstandet, und zwar mit Merkmalstiefen in der Größenordnung von 0,2–15,0 μm. Die Periode oder Beabstandung muß kurz genug sein, um Licht bei großen schiefen Winkeln in den Raum zu koppeln. Für typische LED-Strukturen für sichtbare Wellenlängen beträgt die Periode weniger als 1,0 μm. Die maximale Tiefe der Merkmale kann 0,5 μm oder größer sein, um höhere Extraktionswirkungsgrade zu erreichen. Da die interessierenden Grenzflächen zweidimensional sind, muß die Gitterstruktur zweidimensional sein und nicht eindimensional wie ein einfaches Gitter.
  • Ein herkömmliches lichtemittierendes Halbleiterbauelement ist in 6 gezeigt. Dasselbe weist epitaktische Halbleiterschichten (1) auf, die eine aktive Region mit einem p-n-Übergang (2) auf einem Substrat (3) mit elektrischen Kontakten (4), die zur Strominjektion geschaffen sind, enthalten. Die elektrischen Kontakte sind, wie es in 6 gezeigt ist, sowohl an der oberen als auch an der unteren Oberfläche des Bauelements geschaffen, es ist jedoch möglich, beide Kontakte auf eine Seite des Bauelements zu setzen, um den Lichtextraktionswirkungsgrad aus der anderen Seite zu erhöhen. In diesem letzteren Fall muß das Substrat (3) weder leitfähig noch ein Halbleiter sein, vorausgesetzt, daß die epitaktischen Schichten (1) auf das Substrat aufge wachsen oder an demselben auf eine zufriedenstellende Art und Weise befestigt werden können.
  • Die 7ac stellen Prozeßablaufschritte zum Texturieren der oberen Oberfläche eines lichtemittierenden Bauelements dar. Ein elektro- oder photosensitiver Dünnfilm (5) wird an der Oberseite des Bauelements (7a) angebracht. Der Film wird unter Verwendung einer Elektronenstrahllithographie, einer Laserstrahlinterferenz oder von UV-Strahlung etc. belichtet, wonach die gewünschte Struktur (6) entwickelt wird (7b). Nach dem Entwickeln schützt die verbleibende maskierende Struktur Bereiche des Bauelementsmaterials vor einem folgenden Ätz- oder Fräsprozeß (z. B. einem Ionenfräsen, einem reaktiven Ionenätzen, einem naßchemischen Ätzen, einem elektrochemischen Ätzen, einem photochemischen Ätzen, einem chemisch unterstützten Ionenstrahlätzen oder einer Kombinationen davon, etc.), um eine gewünschte Struktur (7) in das Bauelementsmaterial zu übertragen, wonach die maskierende Schicht (6) entfernt wird (7c). Der Metallkontakt dient als eine Maske gegen den Ätz- oder Fräsprozeß und wird selber nicht texturiert. Der photosensitive maskierende Film (5) kann durch Verwenden einer selbststrukturierenden Ätztechnik (z. B. dem photoelektrochemischen Ätzen, einem lokalen Laserschmelzen und einem selektiven Ätzen von geschmolzenen Regionen, etc.) beseitigt werden, wobei der chemische, mechanische oder elektrische Zustand des Bauelementsmaterials gemäß der Struktur verändert wird und anschließend oder gleichzeitig Material selektiv entfernt wird, um eine geordnet texturierte Grenzfläche zu erzeugen.
  • Alternativ wird ein Dünnfilm (Metall, Polymer, etc.) vor dem photosensitiven Film aufgebracht. Der Typ und die Dicke dieser Maske wird derart gewählt, um das notwendige Ätzverhältnis zwischen dem maskierenden Material und dem Bauelementsmaterial zu erreichen, um eine tief geätzte Texturierung zu erreichen, die für eine optimale Lichtextraktion erwünscht sein kann. Zusätzlich kann dieser Film ein Teil des fertigen Bauelements sein, da derselbe eine geeignete transparente Fensterschicht ist, die texturiert werden kann, um die Lichtextraktion in den Raum zu verbessern. Dies kann nützlich sein, wenn der Index des Dielektrikums größer als derselbe des Raums ist, da die resultierende Struktur eine Vergrößerung des wirksamen Austrittskegels aus dem Bauelement schafft.
  • 8 stellt ein Beispiel dar, bei dem die obere und die rückseitige Oberfläche eines Bauelements mit transparentem Substrat texturiert sind. Da die aktive Region typischerweise bei der Emissionslänge stark dämpft, ist die rückseitige Oberfläche texturiert, um das Licht, das von der rückseitigen Oberfläche zu den Seiten des Bauelements hin reflektiert wird, umzulenken, um einen zweiten Durchlauf durch die aktive Region und den Oberseitenmetallkontakt zu vermeiden. Die Texturierung der oberen und unteren Oberfläche kann unterschiedlich sein, da das Licht an beiden Seiten unterschiedlich umgelenkt wird. Im Fall eines Bauelements mit einer dünnen aktiven Schicht oder eines Bauelements mit hohem internen Quantenwirkungsgrad (> 80%), bei dem eine kleine Dämpfung in dieser Schicht auftritt, kann die Textur der unteren Oberfläche stattdessen entworfen werden, um Licht in einen Austrittswinkel der oberen Oberfläche zu lenken.
  • 9 stellt ein Ausführungsbeispiel dar, bei dem die Rückseitenmetallkontakte auf die texturierte Oberfläche gesetzt sind. In dem Fall von 9 bietet die Wellung der Rückseitenmetallkontakte (9) einen vergrößerten Oberflächenbereich für eine gegebene Kontaktabmessung an, wodurch diese Kontakte einen verringerten elektrischen Widerstand im Vergleich zu ebenen Kontakten der gleichen Abmessung zeigen. Die gewellten Kontakte können relativ zu den ebenen Kontakten bei einem gleichen Kontaktwiderstand kleiner dimensioniert sein. Sie können weniger dämpfend als herkömmliche ebene Kontakte sein, da die Wellung als eine wirkungsvolle reflektierende oder beugende Barriere für das einfallende Licht dienen kann. Die Strukturierung in den Kontaktregionen kann unabhängig von der Strukturierung auf dem Rest der Bauelementsgrenzflächen für erhöhte TIR- oder Fresnel-Reflexion in den Kontaktregionen optimiert werden, um die Dämpfung an den Kontakten zu verringern. Die optimale Strukturierung in diesen Regionen kann ähnlich zu der optimalen Strukturierung anderer Regionen des Bauelements sein oder nicht.
  • 10 stellt ein Ausführungsbeispiel dar, das eine makroskopische Formung und eine Grenzflächentexturierung kombiniert. Die Grenzflächentexturierung ist an einer oder sowohl an der Oberseite als auch an der Unterseite eines kegelstumpfförmigen lichtemittierenden Bauelements geschaffen. Dieses Bauelement mit einem transparenten Substrat wird bezüglich zu dem Bauelement von 9 verkehrt herum angebracht, um die Extraktionsgewinne auszunützen, die mittels des dicken kegelförmigen Fensters geschaffen sind. Die Texturierung kann auf der Rückseite durchgeführt und entworfen werden, um Licht auf die Seiten des Bauelements umzulenken, um das Durchlaufen desselben durch die dämpfende aktive Region zu vermeiden. Das kegelförmige Fenster trägt dazu bei, um einen großen Teil des Lichts, das von der aktiven Region emittiert wird, auf die obere Oberfläche mit nahezu senkrechtem Einfall auf derselben umzulenken. Dies verringert die Winkelbandbreite des Lichts, das an der oberen Oberfläche einfällt, und ermöglicht einen wirkungsvolleren Texturierungsentwurf, da im allgemeinen ein Kompromiß zwischen dem Beugungswirkungsgrad und der Bandbreite in beugenden Strukturen besteht. Der umgekehrte Fall tritt ebenfalls auf, bei dem eine Vergrößerung des wirksamen Austrittskegels an der oberen Oberfläche (aufgrund der Texturierung) lockere Entwurfseinschränkungen beim Chip-Formen ermöglichen kann, was zu weniger aufwendigen Entwürfen führt. Die Texturierung der oberen Oberflächen schafft eine maximale Lichtextraktion bei der interessierenden Wellenlänge und den interessierenden Winkeln, während die Kontaktbereichstexturierung entworfen sein kann, um die Reflektivität zu maximieren, um die Dämpfung an den Metallkontakten zu verringern.
  • 11 stellt ein Ausführungsbeispiel dar, das die geordnete Grenzflächentexturierung mit dem Chipformen kombiniert. Es wird, wegen der Ähnlichkeit derselben zu einer Halbkugel, eine Pyramidenstumpfform ausgewählt. Es wird eine Texturierung auf mindestens einer der freiliegenden Oberflächen geschaffen. Vorzugsweise wird dies an abgeschrägten Seiten (10) des Bauelements sowie an der Oberseite und Unterseite durchgeführt, um den Fresnel-Verlust zu verringern und den Extraktionswirkungsgrad zu erhöhen. Das Strukturieren auf den abgeschrägten Oberflächen (10) wird am besten durch berührungsfreie Strukturierungstechniken bewirkt, wie z. B. dem photochemischen Ätzen unter Verwendung eines Lasers. Zusätzliche Variationen können ebenso bestimmte Typen von geordneten Texturierungen an den äußersten Kanten eines Bauelements umfassen, um die Emissionsstrukturen zu verändern, und/oder um den Extraktionswirkungsgrad weiter zu erhöhen.
  • 12 stellt ein nicht erfindungsgemäßes Bauelement mit einer geordneten texturierten Grenzfläche nahe der aktiven Schicht dar. Eine transparente Fensterschicht (12) ist an der texturierten Grenzfläche befestigt. Diese Fensterschicht kann geschaffen sein, um die Stromausbreitung von dem Oberseitenkontakt für eine gleichmäßige Injektion in die aktive Schicht zu erhöhen. Die geschichtete oder ”gesandwichte” Grenzfläche zwischen der Fensterschicht und der texturierten Grenzfläche würde normalerweise aus Leerräumen (13) bestehen, diese Leerräume können jedoch mit einem geeigneten Material (z. B. einem Dielektrikum, einem Halbleitermaterial, einem Eigenoxid) vor der Fensterschichtbefestigung gefüllt werden, um eine strukturelle Integrität zu schaffen, und um die gegenwärtige Strompumpgeometrie des Bauelements vorteilhaft zu modifizieren. Die Texturierung und die Wahl des mehrschichtigen oder ”gesandwichten” Materials sollten derart gewählt werden, um die elektrischen und optischen Charakteristika des Bauelements für die interessierende Anwendung zu optimieren. Die Nähe der geordneten Texturierung zu der aktiven Schicht kann verbesserte Lichtemissionscharakteristika zur Folge haben, wobei Licht gezwungen wird, nach oben aus der aktiven Schicht zu emittieren, und zwar mit einem nahezu senkrechten Einfall auf der oberen Oberfläche. Bei diesem letzteren Fall sollte das Gitter innerhalb von ≈ 5 λ und vorzugsweise innerhalb von weniger als ≈ 2 λ bezüglich der aktiven Region plaziert sein. Das Gitter kann ebenfalls unterhalb der aktiven Schicht plaziert sein, um Licht nach oben oder vorzugsweise zu den Kanten der LED hin umzulenken.
  • 13 zeigt eine LED mit einer Resonanzhohlraum-(RC-; RC = Resonant Cavity)Struktur (20), die aus einer aktiven Region (2), die zwischen zwei DBR-Spiegelstapeln (22A, 22B) geschichtet ist, besteht. Der Hohlraum wird verstimmt, um eine anisotrope Emission aus der aktiven Schicht (eine neben der Achse liegende Emission) zur Folge zu haben. Die geordnete texturierte obere Oberfläche ist entworfen, um dieses Licht effizient in den Raum hinaus zu koppeln. Wenn das Bauelement auf einem transparenten Substrat angebracht wird, kann die untere Oberfläche texturiert werden, um vorzugsweise das Licht in Austrittskegel an den Seiten des Bauelements zu lenken. Zusätzlich können die texturierten Grenzflächen stattdessen in dem Bauelement an Grenzflächen, die näher bei der aktiven Region liegen, eingebettet sein.
  • 14 zeigt eine nicht erfindungsgemäße RCLED, bei der eine Seite des Hohlraums (20) durch einen Hochreflexionsmetallspiegel (24) definiert ist und die andere Seite ein DBR-Stapel (22) ist. Das Bauelement ist mit dem (transparenten) Substrat nach oben angeordnet. Der Hohlraum wird für eine neben der Achse liegende Emission verstimmt und die obere Oberfläche wird texturiert, um ein wirkungsvolles Koppeln der Emission in den Raum zu schaffen. Zusätzlich können die RCLED-Bauelemente der 13 und 14 (zusätzlich zu der Texturierung) geformt werden, um das Licht aus der neben der Achse liegenden Emission optimal auszukoppeln.

Claims (22)

  1. Lichtemittierendes Bauteil, mit folgenden Merkmalen: ein Substrat (3), eine p-n-Übergangsregion (2) mit mehreren p-Schichten und n-Schichten, um einen p-n-Übergang zu bilden, wobei sich eine der Schichten benachbart zu dem Substrat befindet, elektrische Kontakte, die mit der p-n-Übergangsregion verbunden und wirksam sind, um den p-n-Übergang in Flußrichtung vorzuspannen, wobei zumindest ein elektrischer Kontakt (9) oberhalb einer Kontaktregion einer Grenzfläche (7, 8) des lichtemittierenden Bauteils angeordnet ist, wobei Licht beim Austreten aus dem Bauteil einen Restbereich der Grenzfläche passiert, wobei die Grenzfläche an der Kontaktregion und dem Restbereich mit einer zweidimensionalen Anordnung mit sich wiederholenden Merkmalen in zumindest zwei ausgewählten Richtungen vollständig texturiert ist, eine zugeordnete Periodizität in jeder der ausgewählten Richtungen aufweist, um im Restbereich die Extraktion von Erst-Durchlauf-Licht zu erhöhen, und um in der Kontaktregion den elektrischen Widerstand im Vergleich zu ebenen Kontakten zu verringern, und innerhalb einer Periode ein Querschnittsprofil aufweist, das mindestens einen Berg und mindestens ein Tal aufweist.
  2. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 1, bei dem die Grenzfläche in den ausgewählten Richtungen identische Periodizitäten aufweist.
  3. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 1 oder 2, bei dem die sich wiederholenden Merkmale der Grenzfläche eine rechteckige regelmäßige Anordnung bilden.
  4. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 1 oder 2, bei dem die sich wiederholenden Merkmale der Grenzfläche eine hexagonale Struktur aufweisen.
  5. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die maximale Berg-zu-Tal-Tiefe zwischen 0,2 und 15 μm liegt.
  6. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die zugeordneten Periodizitäten zwischen 0,1 und 5,0 μm liegen.
  7. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem sich das Tal innerhalb von zwei Mikrometern bezüglich der p-n-Übergangsregion (2) befindet.
  8. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Berge und Täler der Grenzfläche eine Halbwertsbreite von 10–90% einer Periode der Grenzfläche aufweisen.
  9. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem ein Teil der Grenzfläche elektrisch leitend ist.
  10. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, das einen metallischen Film als den zumindest einen elektrischen Kontakt (4) an dem Kontaktbereich der Grenzfläche aufweist.
  11. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem mindestens ein gewisser Teil des Tals mit einem Material ausgefüllt ist, das einen Brechungsindex von weniger als 2,0 aufweist.
  12. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 11, bei dem: das Material, das einen Brechungsindex von weniger als 2,0 aufweist, ein dielektrisches Material ist; und das Bauelement ferner eine Schicht aus Metall aufweist, die über dem dielektrischen Material positioniert ist.
  13. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, das ferner folgende Merkmale aufweist: N sekundäre Grenzflächen (10) (wobei N ≥ 1 gilt), die in dem Bauelement positioniert sind, wobei jede der sekundären Grenzflächen mit sich wiederholenden Merkmalen in mindestens einer ausgewählten Richtung texturiert ist, eine Periodizität in jeder ausgewählten Richtung aufweist, um die Lichtextraktion zu erhöhen, und innerhalb jeder Periode ein Querschnittsprofil aufweist, das mindestens einen Berg und mindestens ein Tal aufweist.
  14. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 13, bei dem mindestens eine der N sekundären Grenzflächen und die Grenzfläche unterschiedliche Querschnittsprofile aufweisen.
  15. Lichtemittierendes Bauelement gemäß Anspruch 13 oder 14, bei der mindestens eine der N sekundären Grenzflächen und die Grenzfläche mit unterschiedlichen Periodiziäten texturiert sind.
  16. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, das ferner folgendes Merkmal auf weist: eine transparente Fensterschicht, die benachbart zu der p-n-Übergangsregion angeordnet ist.
  17. Lichtemittierendes Bauelement gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der zumindest eine Kontakt auf die Kontaktregion aufgesetzt ist.
  18. Verfahren zum Herstellen einer texturierten Grenzfläche für ein lichtemittierendes Bauteils, das eine Substrat (3) und eine p-n-Übergangsregion (2) mit mehreren p-Schichten und n-Schichten, um einen p-n-Übergang zu bilden, aufweist, wobei eine der Schichten der p-n-Übergangsregion (2) benachbart zu dem Substrat (3) angeordnet ist, mit folgenden Schritten: Übertragen mindestens einer zweidimensionalen Struktur auf eine Kontaktregion und einen Restbereich, den Licht bei Austreten aus dem Bauteil passiert, einer Grenzfläche des Bauteils, wobei die mindestens eine zweidimensionale Struktur über die Kontaktregion und den Restbereich hinweg sich wiederholende Merkmale in ausgewählten Richtungen aufweist, wobei die Struktur an der Kontaktregion und dem Restbereich eine zugeordnete Periodizität in jeder der ausgewählten Richtungen aufweist; und Entfernen eines bestimmten Teils des Bauelementmaterials an der Grenzfläche gemäß der zweidimensionalen Struktur, um die Grenzfläche mit sich wiederholenden Merkmalen in den ausgewählten Richtungen vollständig derart zu texturieren, daß sie die zugeordnete Periodizität in jeder der ausgewählten Richtungen aufweist, um die Extraktion von Erst-Durchlauf-Licht zu erhöhen, und daß sie innerhalb einer Periode ein Querschnittprofil aufweist, das mindestens einen Berg und mindestens ein Tal aufweist; und Verbinden von elektrischen Kontakten mit der p-n-Übergangsregion, um wirksam zu sein, um den p-n-Übergang in Flußrichtung vorzuspannen, wobei beim Verbinden zumindest ein elektrischer Kontakt (4) oberhalb der Kontaktregion der Grenzfläche angeordnet wird.
  19. Verfahren gemäß Anspruch 18, bei dem der Schritt des Übertragens der Struktur folgende Schritte aufweist: Aufbringen einer Schicht aus Photolack über die Grenzfläche des Bauelements; Belichten eines Teils der Schicht aus Photolack, um die Struktur zu erzeugen; und Entfernen der nicht strukturierten Regionen des Photolacks, um die Maskierungsschicht zu erzeugen.
  20. Verfahren gemäß Anspruch 18 oder 19, das ferner den Schritt des Ausfüllens zumindest des bestimmten Teils der Grenzfläche unter Verwendung eines Materials mit einem Brechungsindex von weniger als 2,0 aufweist.
  21. Verfahren gemäß Anspruch 20, bei dem der Schritt des Übertragens der Struktur den Schritt des Modifizierens des Zustands des Bauelementmaterials gemäß einer Modifikationsstruktur aufweist, wobei die Modifikationsstruktur sich wiederholende Merkmale aufweist, die Periodizitäten in ausgewählten Richtungen aufweisen.
  22. Verfahren gemäß Anspruch 21, bei dem der Schritt des Modifizierens und der Schritt des Entfernens gleichzeitig durchgeführt werden.
DE19709228A 1996-03-22 1997-03-06 Geordnete Grenzflächentexturierung für ein lichtemittierendes Bauelement Expired - Lifetime DE19709228B4 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/620,518 US5779924A (en) 1996-03-22 1996-03-22 Ordered interface texturing for a light emitting device
US620518 1996-03-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19709228A1 DE19709228A1 (de) 1997-09-25
DE19709228B4 true DE19709228B4 (de) 2010-11-04

Family

ID=24486294

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19709228A Expired - Lifetime DE19709228B4 (de) 1996-03-22 1997-03-06 Geordnete Grenzflächentexturierung für ein lichtemittierendes Bauelement

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5779924A (de)
JP (4) JPH104209A (de)
DE (1) DE19709228B4 (de)
GB (1) GB2311413B (de)
SG (1) SG54385A1 (de)

Families Citing this family (345)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6784463B2 (en) * 1997-06-03 2004-08-31 Lumileds Lighting U.S., Llc III-Phospide and III-Arsenide flip chip light-emitting devices
WO1999005728A1 (en) 1997-07-25 1999-02-04 Nichia Chemical Industries, Ltd. Nitride semiconductor device
US6633120B2 (en) 1998-11-19 2003-10-14 Unisplay S.A. LED lamps
US8587020B2 (en) 1997-11-19 2013-11-19 Epistar Corporation LED lamps
JPH11224960A (ja) 1997-11-19 1999-08-17 Unisplay Sa Ledランプ並びにledチップ
US6091085A (en) * 1998-02-19 2000-07-18 Agilent Technologies, Inc. GaN LEDs with improved output coupling efficiency
RU2134007C1 (ru) 1998-03-12 1999-07-27 Государственное предприятие Научно-исследовательский институт "Полюс" Полупроводниковый оптический усилитель
JP5019664B2 (ja) * 1998-07-28 2012-09-05 アイメック 高効率で光を発するデバイスおよびそのようなデバイスの製造方法
US6504180B1 (en) * 1998-07-28 2003-01-07 Imec Vzw And Vrije Universiteit Method of manufacturing surface textured high-efficiency radiating devices and devices obtained therefrom
RU2142665C1 (ru) 1998-08-10 1999-12-10 Швейкин Василий Иванович Инжекционный лазер
US6291839B1 (en) * 1998-09-11 2001-09-18 Lulileds Lighting, U.S. Llc Light emitting device having a finely-patterned reflective contact
DE19845423A1 (de) * 1998-10-02 2000-04-13 Fraunhofer Ges Forschung Heißer Strahler
RU2142661C1 (ru) * 1998-12-29 1999-12-10 Швейкин Василий Иванович Инжекционный некогерентный излучатель
JP3770014B2 (ja) 1999-02-09 2006-04-26 日亜化学工業株式会社 窒化物半導体素子
KR100683877B1 (ko) 1999-03-04 2007-02-15 니치아 카가쿠 고교 가부시키가이샤 질화물 반도체 레이저소자
TW437104B (en) 1999-05-25 2001-05-28 Wang Tien Yang Semiconductor light-emitting device and method for manufacturing the same
US6133589A (en) * 1999-06-08 2000-10-17 Lumileds Lighting, U.S., Llc AlGaInN-based LED having thick epitaxial layer for improved light extraction
JP3586594B2 (ja) * 1999-08-25 2004-11-10 シャープ株式会社 半導体発光素子およびその製造方法
DE19943406C2 (de) * 1999-09-10 2001-07-19 Osram Opto Semiconductors Gmbh Lichtemissionsdiode mit Oberflächenstrukturierung
DE19947030A1 (de) * 1999-09-30 2001-04-19 Osram Opto Semiconductors Gmbh Oberflächenstrukturierte Lichtemissionsdiode mit verbesserter Stromeinkopplung
WO2001041225A2 (en) 1999-12-03 2001-06-07 Cree Lighting Company Enhanced light extraction in leds through the use of internal and external optical elements
US6410942B1 (en) 1999-12-03 2002-06-25 Cree Lighting Company Enhanced light extraction through the use of micro-LED arrays
US6486499B1 (en) * 1999-12-22 2002-11-26 Lumileds Lighting U.S., Llc III-nitride light-emitting device with increased light generating capability
US6903376B2 (en) * 1999-12-22 2005-06-07 Lumileds Lighting U.S., Llc Selective placement of quantum wells in flipchip light emitting diodes for improved light extraction
US6277665B1 (en) * 2000-01-10 2001-08-21 United Epitaxy Company, Ltd. Fabrication process of semiconductor light-emitting device with enhanced external quantum efficiency
JP2001298212A (ja) * 2000-02-07 2001-10-26 Sharp Corp 半導体発光素子およびその製造方法
EP2276075A1 (de) * 2000-02-15 2011-01-19 OSRAM Opto Semiconductors GmbH Strahlung emittierendes Halbleiterbauelement und Verfahren zu dessen Herstellung
DE10006738C2 (de) * 2000-02-15 2002-01-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Lichtemittierendes Bauelement mit verbesserter Lichtauskopplung und Verfahren zu seiner Herstellung
JP5523277B2 (ja) * 2000-04-26 2014-06-18 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 発光半導体素子並びに発光性半導体素子の製造方法
DE10051465A1 (de) 2000-10-17 2002-05-02 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements auf GaN-Basis
DE20111659U1 (de) * 2000-05-23 2001-12-13 Osram Opto Semiconductors Gmbh Bauelement für die Optoelektronik
GB0017655D0 (en) * 2000-07-19 2000-09-06 Secr Defence Light emtting diode arrangements
TW445507B (en) * 2000-07-20 2001-07-11 United Epitaxy Co Ltd Roughened interface of light emitting device
US6661028B2 (en) * 2000-08-01 2003-12-09 United Epitaxy Company, Ltd. Interface texturing for light-emitting device
US6562644B2 (en) 2000-08-08 2003-05-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor substrate, method of manufacturing the semiconductor substrate, semiconductor device and pattern forming method
US7064355B2 (en) * 2000-09-12 2006-06-20 Lumileds Lighting U.S., Llc Light emitting diodes with improved light extraction efficiency
JP2002141556A (ja) 2000-09-12 2002-05-17 Lumileds Lighting Us Llc 改良された光抽出効果を有する発光ダイオード
US7053419B1 (en) 2000-09-12 2006-05-30 Lumileds Lighting U.S., Llc Light emitting diodes with improved light extraction efficiency
US6998281B2 (en) * 2000-10-12 2006-02-14 General Electric Company Solid state lighting device with reduced form factor including LED with directional emission and package with microoptics
DE10056292A1 (de) * 2000-11-14 2002-09-19 Osram Opto Semiconductors Gmbh Lumineszenzdiode
AU2002217845A1 (en) * 2000-11-16 2002-05-27 Emcore Corporation Microelectronic package having improved light extraction
AU2002235132A1 (en) * 2000-11-16 2002-05-27 Emcore Corporation Led packages having improved light extraction
US6791119B2 (en) * 2001-02-01 2004-09-14 Cree, Inc. Light emitting diodes including modifications for light extraction
US6794684B2 (en) 2001-02-01 2004-09-21 Cree, Inc. Reflective ohmic contacts for silicon carbide including a layer consisting essentially of nickel, methods of fabricating same, and light emitting devices including the same
US6576932B2 (en) 2001-03-01 2003-06-10 Lumileds Lighting, U.S., Llc Increasing the brightness of III-nitride light emitting devices
JP4599546B2 (ja) 2001-03-12 2010-12-15 独立行政法人科学技術振興機構 低次元プラズモン発光装置
JP3595277B2 (ja) * 2001-03-21 2004-12-02 三菱電線工業株式会社 GaN系半導体発光ダイオード
TW536841B (en) * 2001-03-21 2003-06-11 Mitsubishi Cable Ind Ltd Semiconductor light emitting element
US6987613B2 (en) * 2001-03-30 2006-01-17 Lumileds Lighting U.S., Llc Forming an optical element on the surface of a light emitting device for improved light extraction
DE10120703A1 (de) * 2001-04-27 2002-10-31 Osram Opto Semiconductors Gmbh Halbleiterchip für die Optoelektronik
US6946788B2 (en) * 2001-05-29 2005-09-20 Toyoda Gosei Co., Ltd. Light-emitting element
AUPR534201A0 (en) * 2001-05-30 2001-06-21 Unisearch Limited High efficiency silicon light emitting device
TW564584B (en) * 2001-06-25 2003-12-01 Toshiba Corp Semiconductor light emitting device
US6563142B2 (en) * 2001-07-11 2003-05-13 Lumileds Lighting, U.S., Llc Reducing the variation of far-field radiation patterns of flipchip light emitting diodes
DE10135190A1 (de) * 2001-07-19 2003-02-06 Osram Opto Semiconductors Gmbh Lumineszenzdiode und Verfahren zu deren Herstellung
US6740906B2 (en) * 2001-07-23 2004-05-25 Cree, Inc. Light emitting diodes including modifications for submount bonding
US7211833B2 (en) * 2001-07-23 2007-05-01 Cree, Inc. Light emitting diodes including barrier layers/sublayers
JP4055503B2 (ja) 2001-07-24 2008-03-05 日亜化学工業株式会社 半導体発光素子
US20030090103A1 (en) * 2001-11-09 2003-05-15 Thomas Becker Direct mailing device
US6903379B2 (en) * 2001-11-16 2005-06-07 Gelcore Llc GaN based LED lighting extraction efficiency using digital diffractive phase grating
KR20030052060A (ko) * 2001-12-20 2003-06-26 엘지전자 주식회사 발광 소자 및 그의 제조방법
TW520616B (en) * 2001-12-31 2003-02-11 Ritdisplay Corp Manufacturing method of organic surface light emitting device
JP3782357B2 (ja) * 2002-01-18 2006-06-07 株式会社東芝 半導体発光素子の製造方法
US7279718B2 (en) * 2002-01-28 2007-10-09 Philips Lumileds Lighting Company, Llc LED including photonic crystal structure
CA2754097C (en) * 2002-01-28 2013-12-10 Nichia Corporation Nitride semiconductor device having support substrate and its manufacturing method
US6635503B2 (en) 2002-01-28 2003-10-21 Cree, Inc. Cluster packaging of light emitting diodes
US20050040410A1 (en) * 2002-02-12 2005-02-24 Nl-Nanosemiconductor Gmbh Tilted cavity semiconductor optoelectronic device and method of making same
JP3705791B2 (ja) * 2002-03-14 2005-10-12 株式会社東芝 半導体発光素子および半導体発光装置
JP3776824B2 (ja) 2002-04-05 2006-05-17 株式会社東芝 半導体発光素子およびその製造方法
US6919585B2 (en) * 2002-05-17 2005-07-19 Lumei Optoelectronics, Inc. Light-emitting diode with silicon carbide substrate
CN100552987C (zh) * 2002-05-28 2009-10-21 松下电工株式会社 发光器件、使用该器件的照明装置及表面发光照明装置
JP2004056088A (ja) * 2002-05-31 2004-02-19 Toyoda Gosei Co Ltd Iii族窒化物系化合物半導体発光素子
US20030222263A1 (en) * 2002-06-04 2003-12-04 Kopin Corporation High-efficiency light-emitting diodes
DE10229231B9 (de) * 2002-06-28 2006-05-11 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zum Herstellen eines Strahlung emittierenden und/oder empfangenden Halbleiterchips mit einer Strahlungsein- und/oder -auskoppel-Mikrostruktur
US6878969B2 (en) * 2002-07-29 2005-04-12 Matsushita Electric Works, Ltd. Light emitting device
JP4329374B2 (ja) * 2002-07-29 2009-09-09 パナソニック電工株式会社 発光素子およびその製造方法
DE10234977A1 (de) * 2002-07-31 2004-02-12 Osram Opto Semiconductors Gmbh Strahlungsemittierendes Dünnschicht-Halbleiterbauelement auf GaN-Basis
US7071494B2 (en) * 2002-12-11 2006-07-04 Lumileds Lighting U.S. Llc Light emitting device with enhanced optical scattering
JP3910926B2 (ja) * 2003-02-26 2007-04-25 株式会社東芝 表示装置用透明基板の製造方法
US7262550B2 (en) * 2003-04-15 2007-08-28 Luminus Devices, Inc. Light emitting diode utilizing a physical pattern
JP2005005679A (ja) * 2003-04-15 2005-01-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体発光素子およびその製造方法
CN1833468A (zh) * 2003-04-15 2006-09-13 发光装置公司 发光装置
US7667238B2 (en) 2003-04-15 2010-02-23 Luminus Devices, Inc. Light emitting devices for liquid crystal displays
US7521854B2 (en) * 2003-04-15 2009-04-21 Luminus Devices, Inc. Patterned light emitting devices and extraction efficiencies related to the same
US7211831B2 (en) 2003-04-15 2007-05-01 Luminus Devices, Inc. Light emitting device with patterned surfaces
US6831302B2 (en) * 2003-04-15 2004-12-14 Luminus Devices, Inc. Light emitting devices with improved extraction efficiency
US7098589B2 (en) * 2003-04-15 2006-08-29 Luminus Devices, Inc. Light emitting devices with high light collimation
US20040259279A1 (en) * 2003-04-15 2004-12-23 Erchak Alexei A. Light emitting device methods
US7105861B2 (en) * 2003-04-15 2006-09-12 Luminus Devices, Inc. Electronic device contact structures
US7084434B2 (en) 2003-04-15 2006-08-01 Luminus Devices, Inc. Uniform color phosphor-coated light-emitting diode
US7274043B2 (en) 2003-04-15 2007-09-25 Luminus Devices, Inc. Light emitting diode systems
US7166871B2 (en) 2003-04-15 2007-01-23 Luminus Devices, Inc. Light emitting systems
US7083993B2 (en) 2003-04-15 2006-08-01 Luminus Devices, Inc. Methods of making multi-layer light emitting devices
CN101908589A (zh) * 2003-04-15 2010-12-08 发光装置公司 发光系统
US6885034B1 (en) 2003-05-09 2005-04-26 Winston Vaughan Schoenfeld Light emitting diode having multiple pits
US7360936B2 (en) * 2003-06-10 2008-04-22 Abu-Ageel Nayef M Method and system of LED light extraction using optical elements
JP3737494B2 (ja) * 2003-06-10 2006-01-18 株式会社東芝 半導体発光素子及びその製造方法並びに半導体発光装置
US7400805B2 (en) * 2003-06-10 2008-07-15 Abu-Ageel Nayef M Compact light collection system and method
KR101034055B1 (ko) 2003-07-18 2011-05-12 엘지이노텍 주식회사 발광 다이오드 및 그 제조방법
US7009213B2 (en) 2003-07-31 2006-03-07 Lumileds Lighting U.S., Llc Light emitting devices with improved light extraction efficiency
AU2003257713A1 (en) * 2003-08-08 2005-02-25 Vichel Inc. Nitride micro light emitting diode with high brightness and method of manufacturing the same
WO2005018008A1 (ja) * 2003-08-19 2005-02-24 Nichia Corporation 半導体素子
DE10340271B4 (de) * 2003-08-29 2019-01-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Dünnschicht-Leuchtdiodenchip und Verfahren zu seiner Herstellung
CN100383639C (zh) * 2003-09-06 2008-04-23 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 背光模组
US7344903B2 (en) * 2003-09-17 2008-03-18 Luminus Devices, Inc. Light emitting device processes
US7341880B2 (en) 2003-09-17 2008-03-11 Luminus Devices, Inc. Light emitting device processes
EP1665398B1 (de) * 2003-09-26 2014-07-02 OSRAM Opto Semiconductors GmbH Strahlungsemittierender dünnschicht-halbleiterchip
CN100383637C (zh) * 2003-09-26 2008-04-23 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 Led光源及背光模块
JP2005116615A (ja) * 2003-10-03 2005-04-28 Dowa Mining Co Ltd 半導体発光素子及びその製造方法
US7012279B2 (en) * 2003-10-21 2006-03-14 Lumileds Lighting U.S., Llc Photonic crystal light emitting device
JP4124102B2 (ja) * 2003-11-12 2008-07-23 松下電工株式会社 多重反射防止構造を備えた発光素子とその製造方法
FR2862424B1 (fr) * 2003-11-18 2006-10-20 Valeo Electronique Sys Liaison Dispositif de refroidissement d'un composant electrique et procede de fabrication de ce dispositif
TW200524236A (en) * 2003-12-01 2005-07-16 Nl Nanosemiconductor Gmbh Optoelectronic device incorporating an interference filter
KR101156146B1 (ko) 2003-12-09 2012-06-18 재팬 사이언스 앤드 테크놀로지 에이젼시 질소면의 표면상의 구조물 제조를 통한 고효율 3족 질화물계 발광다이오드
US7450311B2 (en) * 2003-12-12 2008-11-11 Luminus Devices, Inc. Optical display systems and methods
KR100581831B1 (ko) * 2004-02-05 2006-05-23 엘지전자 주식회사 발광 다이오드
US7250635B2 (en) * 2004-02-06 2007-07-31 Dicon Fiberoptics, Inc. Light emitting system with high extraction efficency
TW200531310A (en) * 2004-03-12 2005-09-16 Opto Tech Corp Light emitting diode with micro-lens layer
WO2005088743A1 (en) * 2004-03-15 2005-09-22 Tinggi Technologies Private Limited Fabrication of semiconductor devices
US20050205883A1 (en) * 2004-03-19 2005-09-22 Wierer Jonathan J Jr Photonic crystal light emitting device
TWI227063B (en) * 2004-03-19 2005-01-21 Ind Tech Res Inst Light emitting diode and fabrication method thereof
TWI237402B (en) * 2004-03-24 2005-08-01 Epistar Corp High luminant device
US7385226B2 (en) * 2004-03-24 2008-06-10 Epistar Corporation Light-emitting device
KR100568297B1 (ko) * 2004-03-30 2006-04-05 삼성전기주식회사 질화물 반도체 발광 소자 및 그 제조 방법
US7419912B2 (en) * 2004-04-01 2008-09-02 Cree, Inc. Laser patterning of light emitting devices
TW200603401A (en) * 2004-04-07 2006-01-16 Nl Nanosemiconductor Gmbh Optoelectronic device based on an antiwaveguiding cavity
US8035113B2 (en) * 2004-04-15 2011-10-11 The Trustees Of Boston University Optical devices featuring textured semiconductor layers
ATE527571T1 (de) * 2004-04-15 2011-10-15 Univ Boston Optische bauelemente mit texturierten halbleiterschichten
US7064356B2 (en) * 2004-04-16 2006-06-20 Gelcore, Llc Flip chip light emitting diode with micromesas and a conductive mesh
US7977694B2 (en) * 2006-11-15 2011-07-12 The Regents Of The University Of California High light extraction efficiency light emitting diode (LED) with emitters within structured materials
US7582910B2 (en) * 2005-02-28 2009-09-01 The Regents Of The University Of California High efficiency light emitting diode (LED) with optimized photonic crystal extractor
US8227820B2 (en) * 2005-02-09 2012-07-24 The Regents Of The University Of California Semiconductor light-emitting device
US7768023B2 (en) 2005-10-14 2010-08-03 The Regents Of The University Of California Photonic structures for efficient light extraction and conversion in multi-color light emitting devices
US7345298B2 (en) * 2005-02-28 2008-03-18 The Regents Of The University Of California Horizontal emitting, vertical emitting, beam shaped, distributed feedback (DFB) lasers by growth over a patterned substrate
WO2005122349A1 (en) * 2004-06-07 2005-12-22 Nl Nanosemiconductor Gmbh Electrooptically wavelength-tunable resonant cavity optoelectronic device for high-speed data transfer
US7161188B2 (en) * 2004-06-28 2007-01-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor light emitting element, semiconductor light emitting device, and method for fabricating semiconductor light emitting element
DE102005013894B4 (de) * 2004-06-30 2010-06-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Elektromagnetische Strahlung erzeugender Halbleiterchip und Verfahren zu dessen Herstellung
US7795623B2 (en) 2004-06-30 2010-09-14 Cree, Inc. Light emitting devices having current reducing structures and methods of forming light emitting devices having current reducing structures
US7534633B2 (en) * 2004-07-02 2009-05-19 Cree, Inc. LED with substrate modifications for enhanced light extraction and method of making same
US20090023239A1 (en) * 2004-07-22 2009-01-22 Luminus Devices, Inc. Light emitting device processes
US7557380B2 (en) 2004-07-27 2009-07-07 Cree, Inc. Light emitting devices having a reflective bond pad and methods of fabricating light emitting devices having reflective bond pads
US7442964B2 (en) * 2004-08-04 2008-10-28 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Photonic crystal light emitting device with multiple lattices
KR100649494B1 (ko) * 2004-08-17 2006-11-24 삼성전기주식회사 레이저를 이용하여 발광 다이오드 기판을 표면 처리하는발광 다이오드 제조 방법 및 이 방법에 의해 제조된 발광다이오드
US20060038188A1 (en) * 2004-08-20 2006-02-23 Erchak Alexei A Light emitting diode systems
US20060043400A1 (en) * 2004-08-31 2006-03-02 Erchak Alexei A Polarized light emitting device
JP2006100787A (ja) * 2004-08-31 2006-04-13 Toyoda Gosei Co Ltd 発光装置および発光素子
US7223998B2 (en) * 2004-09-10 2007-05-29 The Regents Of The University Of California White, single or multi-color light emitting diodes by recycling guided modes
US20080128728A1 (en) * 2004-09-10 2008-06-05 Luminus Devices, Inc. Polarized light-emitting devices and methods
US7476910B2 (en) * 2004-09-10 2009-01-13 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor light emitting device and method for manufacturing the same
US20070285000A1 (en) * 2004-09-10 2007-12-13 Luminus Devices, Inc. Polarization recycling illumination assembly and methods
TWI241038B (en) * 2004-09-14 2005-10-01 Ind Tech Res Inst Light emitting diode structure and fabrication method thereof
US8174037B2 (en) 2004-09-22 2012-05-08 Cree, Inc. High efficiency group III nitride LED with lenticular surface
US7737459B2 (en) * 2004-09-22 2010-06-15 Cree, Inc. High output group III nitride light emitting diodes
US7256483B2 (en) * 2004-10-28 2007-08-14 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Package-integrated thin film LED
US20060091414A1 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 Ouderkirk Andrew J LED package with front surface heat extractor
US7329982B2 (en) * 2004-10-29 2008-02-12 3M Innovative Properties Company LED package with non-bonded optical element
US7462502B2 (en) * 2004-11-12 2008-12-09 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Color control by alteration of wavelength converting element
US7419839B2 (en) * 2004-11-12 2008-09-02 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Bonding an optical element to a light emitting device
KR20060077801A (ko) 2004-12-31 2006-07-05 엘지전자 주식회사 고출력 발광 다이오드 및 그의 제조 방법
FI118196B (fi) * 2005-07-01 2007-08-15 Optogan Oy Puolijohderakenne ja puolijohderakenteen valmistusmenetelmä
US9130114B2 (en) * 2005-01-11 2015-09-08 SemiLEDs Optoelectronics Co., Ltd. Vertical light emitting diode (VLED) dice having confinement layers with roughened surfaces and methods of fabrication
US7563625B2 (en) * 2005-01-11 2009-07-21 SemiLEDs Optoelectronics Co., Ltd. Method of making light-emitting diodes (LEDs) with improved light extraction by roughening
US7473936B2 (en) * 2005-01-11 2009-01-06 Semileds Corporation Light emitting diodes (LEDs) with improved light extraction by roughening
US7186580B2 (en) * 2005-01-11 2007-03-06 Semileds Corporation Light emitting diodes (LEDs) with improved light extraction by roughening
US7897420B2 (en) * 2005-01-11 2011-03-01 SemiLEDs Optoelectronics Co., Ltd. Light emitting diodes (LEDs) with improved light extraction by roughening
US7413918B2 (en) 2005-01-11 2008-08-19 Semileds Corporation Method of making a light emitting diode
US7524686B2 (en) * 2005-01-11 2009-04-28 Semileds Corporation Method of making light emitting diodes (LEDs) with improved light extraction by roughening
US7170100B2 (en) 2005-01-21 2007-01-30 Luminus Devices, Inc. Packaging designs for LEDs
US7692207B2 (en) * 2005-01-21 2010-04-06 Luminus Devices, Inc. Packaging designs for LEDs
US7335920B2 (en) * 2005-01-24 2008-02-26 Cree, Inc. LED with current confinement structure and surface roughening
US9508902B2 (en) 2005-02-21 2016-11-29 Epistar Corporation Optoelectronic semiconductor device
US8097897B2 (en) 2005-06-21 2012-01-17 Epistar Corporation High-efficiency light-emitting device and manufacturing method thereof
US7291864B2 (en) * 2005-02-28 2007-11-06 The Regents Of The University Of California Single or multi-color high efficiency light emitting diode (LED) by growth over a patterned substrate
JP2006253172A (ja) * 2005-03-08 2006-09-21 Toshiba Corp 半導体発光素子、半導体発光装置及び半導体発光素子の製造方法
US20070045640A1 (en) 2005-08-23 2007-03-01 Erchak Alexei A Light emitting devices for liquid crystal displays
US7341878B2 (en) * 2005-03-14 2008-03-11 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Wavelength-converted semiconductor light emitting device
US8748923B2 (en) * 2005-03-14 2014-06-10 Philips Lumileds Lighting Company Llc Wavelength-converted semiconductor light emitting device
US7804100B2 (en) * 2005-03-14 2010-09-28 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Polarization-reversed III-nitride light emitting device
JP2006310721A (ja) * 2005-03-28 2006-11-09 Yokohama National Univ 自発光デバイス
US20060237735A1 (en) * 2005-04-22 2006-10-26 Jean-Yves Naulin High-efficiency light extraction structures and methods for solid-state lighting
TW200638559A (en) * 2005-04-29 2006-11-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Light emitting chip and light emitting diode
KR100588377B1 (ko) * 2005-05-10 2006-06-09 삼성전기주식회사 수직구조 질화갈륨계 발광다이오드 소자 및 그 제조방법
US8901699B2 (en) 2005-05-11 2014-12-02 Cree, Inc. Silicon carbide junction barrier Schottky diodes with suppressed minority carrier injection
WO2006120610A1 (en) * 2005-05-12 2006-11-16 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Electroluminescence light source
US7736945B2 (en) * 2005-06-09 2010-06-15 Philips Lumileds Lighting Company, Llc LED assembly having maximum metal support for laser lift-off of growth substrate
US7754507B2 (en) * 2005-06-09 2010-07-13 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Method of removing the growth substrate of a semiconductor light emitting device
CN100423303C (zh) * 2005-06-09 2008-10-01 璨圆光电股份有限公司 发光二极管及其制造方法
US8163575B2 (en) 2005-06-17 2012-04-24 Philips Lumileds Lighting Company Llc Grown photonic crystals in semiconductor light emitting devices
KR100599012B1 (ko) 2005-06-29 2006-07-12 서울옵토디바이스주식회사 열전도성 기판을 갖는 발광 다이오드 및 그것을 제조하는방법
KR100610639B1 (ko) * 2005-07-22 2006-08-09 삼성전기주식회사 수직 구조 질화갈륨계 발광다이오드 소자 및 그 제조방법
KR101154744B1 (ko) * 2005-08-01 2012-06-08 엘지이노텍 주식회사 질화물 발광 소자 및 그 제조 방법
RU2300826C2 (ru) * 2005-08-05 2007-06-10 Василий Иванович Швейкин Инжекционный излучатель
DE102005055293A1 (de) * 2005-08-05 2007-02-15 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zur Herstellung von Halbleiterchips und Dünnfilm-Halbleiterchip
JP4843284B2 (ja) * 2005-09-22 2011-12-21 パナソニック電工株式会社 半導体発光素子およびその製造方法
US20070085098A1 (en) * 2005-10-17 2007-04-19 Luminus Devices, Inc. Patterned devices and related methods
US7348603B2 (en) * 2005-10-17 2008-03-25 Luminus Devices, Inc. Anisotropic collimation devices and related methods
US7391059B2 (en) 2005-10-17 2008-06-24 Luminus Devices, Inc. Isotropic collimation devices and related methods
US7388233B2 (en) * 2005-10-17 2008-06-17 Luminus Devices, Inc. Patchwork patterned devices and related methods
TW200717843A (en) * 2005-10-19 2007-05-01 Epistar Corp Light-emitting element with high-light-extracting-efficiency
US9530940B2 (en) 2005-10-19 2016-12-27 Epistar Corporation Light-emitting device with high light extraction
US20080099777A1 (en) * 2005-10-19 2008-05-01 Luminus Devices, Inc. Light-emitting devices and related systems
US8405106B2 (en) 2006-10-17 2013-03-26 Epistar Corporation Light-emitting device
US8928022B2 (en) 2006-10-17 2015-01-06 Epistar Corporation Light-emitting device
US20070153864A1 (en) * 2005-11-02 2007-07-05 Luminus Devices, Inc. Lasers and methods associated with the same
KR100640497B1 (ko) * 2005-11-24 2006-11-01 삼성전기주식회사 수직 구조 질화갈륨계 발광다이오드 소자
KR100721150B1 (ko) * 2005-11-24 2007-05-22 삼성전기주식회사 수직 구조 질화갈륨계 발광다이오드 소자
JP2007165409A (ja) * 2005-12-09 2007-06-28 Rohm Co Ltd 半導体発光素子及び半導体発光素子の製造方法
TWI491062B (zh) * 2006-01-20 2015-07-01 Cree Inc 空間分離發光膜以偏移固態發光器的光譜內容
US8441179B2 (en) 2006-01-20 2013-05-14 Cree, Inc. Lighting devices having remote lumiphors that are excited by lumiphor-converted semiconductor excitation sources
KR20070081184A (ko) * 2006-02-10 2007-08-16 삼성전기주식회사 질화물계 반도체 발광소자 및 그 제조방법
JP2007220865A (ja) * 2006-02-16 2007-08-30 Sumitomo Chemical Co Ltd 3族窒化物半導体発光素子およびその製造方法
KR20080087175A (ko) * 2006-02-28 2008-09-30 로무 가부시키가이샤 반도체 발광 소자
KR100931509B1 (ko) * 2006-03-06 2009-12-11 엘지이노텍 주식회사 질화물 반도체 발광소자 및 그 제조방법
US8049233B2 (en) * 2006-03-10 2011-11-01 Panasonic Electric Works Co., Ltd. Light-emitting device
TWI303115B (en) * 2006-04-13 2008-11-11 Epistar Corp Semiconductor light emitting device
US7525126B2 (en) 2006-05-02 2009-04-28 3M Innovative Properties Company LED package with converging optical element
US20070257270A1 (en) * 2006-05-02 2007-11-08 3M Innovative Properties Company Led package with wedge-shaped optical element
US7390117B2 (en) * 2006-05-02 2008-06-24 3M Innovative Properties Company LED package with compound converging optical element
US20070258241A1 (en) * 2006-05-02 2007-11-08 3M Innovative Properties Company Led package with non-bonded converging optical element
US20070257271A1 (en) * 2006-05-02 2007-11-08 3M Innovative Properties Company Led package with encapsulated converging optical element
US7953293B2 (en) * 2006-05-02 2011-05-31 Ati Technologies Ulc Field sequence detector, method and video device
KR100755591B1 (ko) * 2006-06-22 2007-09-06 고려대학교 산학협력단 질화물계 발광소자의 제조방법
CN102361052B (zh) 2006-06-23 2015-09-30 Lg电子株式会社 具有垂直拓扑的发光二极管及其制造方法
KR100818451B1 (ko) * 2006-07-03 2008-04-01 삼성전기주식회사 편광성을 갖는 반도체 발광 소자
WO2008011377A2 (en) * 2006-07-17 2008-01-24 3M Innovative Properties Company Led package with converging extractor
US20080030974A1 (en) * 2006-08-02 2008-02-07 Abu-Ageel Nayef M LED-Based Illumination System
DE102007004303A1 (de) * 2006-08-04 2008-02-07 Osram Opto Semiconductors Gmbh Dünnfilm-Halbleiterbauelement und Bauelement-Verbund
US7674639B2 (en) * 2006-08-14 2010-03-09 Bridgelux, Inc GaN based LED with etched exposed surface for improved light extraction efficiency and method for making the same
EP2060155A2 (de) 2006-08-23 2009-05-20 Cree Led Lighting Solutions, Inc. Beleuchtungsvorrichtung und beleuchtungsverfahren
US20100224890A1 (en) * 2006-09-18 2010-09-09 Cree, Inc. Light emitting diode chip with electrical insulation element
US7745843B2 (en) * 2006-09-26 2010-06-29 Stanley Electric Co., Ltd. Semiconductor light emitting device
JP5186093B2 (ja) * 2006-09-26 2013-04-17 スタンレー電気株式会社 半導体発光デバイス
JP2008084973A (ja) * 2006-09-26 2008-04-10 Stanley Electric Co Ltd 半導体発光デバイス
JP2008091664A (ja) * 2006-10-03 2008-04-17 Kyocera Corp 発光素子及び照明装置並びに光ピックアップ
KR100809227B1 (ko) * 2006-10-27 2008-03-05 삼성전기주식회사 질화물 반도체 발광소자 및 제조 방법
KR101282775B1 (ko) * 2006-11-03 2013-07-05 엘지이노텍 주식회사 수직형 발광 소자 및 그 제조방법
WO2008060601A2 (en) * 2006-11-15 2008-05-22 The Regents Of The University Of California High efficiency, white, single or multi-color light emitting diodes (leds) by index matching structures
WO2008060594A2 (en) * 2006-11-15 2008-05-22 The Regents Of The University Of California High light extraction efficiency light emitting diode (led) through multiple extractors
US9318327B2 (en) 2006-11-28 2016-04-19 Cree, Inc. Semiconductor devices having low threading dislocations and improved light extraction and methods of making the same
KR20080048318A (ko) * 2006-11-28 2008-06-02 삼성전자주식회사 산란부를 구비하는 반도체 레이저 소자 및 그 제조방법
US8110838B2 (en) 2006-12-08 2012-02-07 Luminus Devices, Inc. Spatial localization of light-generating portions in LEDs
WO2008073400A1 (en) 2006-12-11 2008-06-19 The Regents Of The University Of California Transparent light emitting diodes
US7663148B2 (en) * 2006-12-22 2010-02-16 Philips Lumileds Lighting Company, Llc III-nitride light emitting device with reduced strain light emitting layer
TWI440210B (zh) 2007-01-22 2014-06-01 Cree Inc 使用發光裝置外部互連陣列之照明裝置及其製造方法
TW200837943A (en) * 2007-01-22 2008-09-16 Led Lighting Fixtures Inc Fault tolerant light emitters, systems incorporating fault tolerant light emitters and methods of fabricating fault tolerant light emitters
DE102007004304A1 (de) * 2007-01-29 2008-07-31 Osram Opto Semiconductors Gmbh Dünnfilm-Leuchtdioden-Chip und Verfahren zur Herstellung eines Dünnfilm-Leuchtdioden-Chips
TWI321366B (en) 2007-02-09 2010-03-01 Huga Optotech Inc Epi-structure with uneven multi-quantum well and the method thereof
US7868542B2 (en) * 2007-02-09 2011-01-11 Canon Kabushiki Kaisha Light-emitting apparatus having periodic structure and sandwiched optical waveguide
GB2447091B8 (en) * 2007-03-02 2010-01-13 Photonstar Led Ltd Vertical light emitting diodes
US8110425B2 (en) 2007-03-20 2012-02-07 Luminus Devices, Inc. Laser liftoff structure and related methods
TWI334660B (en) * 2007-03-21 2010-12-11 Lextar Electronics Corp Surface mount type light emitting diode package device and light emitting element package device
KR101382677B1 (ko) * 2007-04-16 2014-04-07 엘지이노텍 주식회사 웨이퍼 기판, 반도체 발광소자 및 웨이퍼 기판을 이용한 반도체 발광소자 제조방법
DE102007022947B4 (de) 2007-04-26 2022-05-05 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelektronischer Halbleiterkörper und Verfahren zur Herstellung eines solchen
DE102007019776A1 (de) * 2007-04-26 2008-10-30 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung einer Mehrzahl optoelektronischer Bauelemente
JP2008282979A (ja) * 2007-05-10 2008-11-20 Sharp Corp 半導体発光素子とその製造方法
US20090026471A1 (en) * 2007-07-27 2009-01-29 Noeton Optoelectronics Corp. Light-scattering structure, light emitting device comprising the same and method of forming the same
US8044381B2 (en) * 2007-07-30 2011-10-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Light emitting diode (LED)
US20090034977A1 (en) * 2007-07-30 2009-02-05 Michael Renne Ty Tan MULTIPLEXING HIGH SPEED LIGHT EMITTING DIODES (LEDs)
CN101110461A (zh) * 2007-07-31 2008-01-23 欧阳征标 利用衍射效应的表面微柱阵列结构高效率发光二极管
US7863635B2 (en) 2007-08-07 2011-01-04 Cree, Inc. Semiconductor light emitting devices with applied wavelength conversion materials
US20090039375A1 (en) * 2007-08-07 2009-02-12 Cree, Inc. Semiconductor light emitting devices with separated wavelength conversion materials and methods of forming the same
US20090050905A1 (en) * 2007-08-20 2009-02-26 Abu-Ageel Nayef M Highly Efficient Light-Emitting Diode
KR100921466B1 (ko) 2007-08-30 2009-10-13 엘지전자 주식회사 질화물계 발광 소자 및 그 제조방법
US8080480B2 (en) * 2007-09-28 2011-12-20 Samsung Led Co., Ltd. Method of forming fine patterns and manufacturing semiconductor light emitting device using the same
US20090108269A1 (en) * 2007-10-26 2009-04-30 Led Lighting Fixtures, Inc. Illumination device having one or more lumiphors, and methods of fabricating same
KR100900288B1 (ko) 2007-10-29 2009-05-29 엘지전자 주식회사 발광 소자
US20090108277A1 (en) * 2007-10-29 2009-04-30 Genesis Photonics Inc. Periodically structured substrate and light emitting device including the same
GB0722054D0 (en) * 2007-11-09 2007-12-19 Photonstar Led Ltd LED with enhanced light extraction
JP5219745B2 (ja) * 2007-11-14 2013-06-26 キヤノン株式会社 発光装置
US8872204B2 (en) * 2007-11-23 2014-10-28 Epistar Corporation Light-emitting device having a trench in a semiconductor layer
US7985979B2 (en) * 2007-12-19 2011-07-26 Koninklijke Philips Electronics, N.V. Semiconductor light emitting device with light extraction structures
KR101426288B1 (ko) 2007-12-27 2014-08-06 엘지디스플레이 주식회사 발광 다이오드 및 그 제조방법
CN101911317B (zh) * 2007-12-28 2012-06-06 日亚化学工业株式会社 半导体发光元件及其制造方法
KR20090077425A (ko) * 2008-01-11 2009-07-15 엘지이노텍 주식회사 질화물계 발광 소자 및 그 제조방법
US8592800B2 (en) * 2008-03-07 2013-11-26 Trustees Of Boston University Optical devices featuring nonpolar textured semiconductor layers
DE102008020882A1 (de) * 2008-04-25 2009-10-29 Ledon Lighting Jennersdorf Gmbh Lichtemittierende Vorrichtung und Verfahren zur Bereitstellung einer lichtemittierenden Vorrichtung mit vordefinierten optischen Eigenschaften des emittierten Lichts
TWI362769B (en) 2008-05-09 2012-04-21 Univ Nat Chiao Tung Light emitting device and fabrication method therefor
JP2009272194A (ja) * 2008-05-09 2009-11-19 Canon Inc 発光装置
US8003425B2 (en) 2008-05-14 2011-08-23 International Business Machines Corporation Methods for forming anti-reflection structures for CMOS image sensors
US7759755B2 (en) 2008-05-14 2010-07-20 International Business Machines Corporation Anti-reflection structures for CMOS image sensors
KR101478339B1 (ko) * 2008-06-19 2015-01-08 서울바이오시스 주식회사 발광 소자 및 그 제조 방법
TW201005997A (en) * 2008-07-24 2010-02-01 Advanced Optoelectronic Tech Rough structure of optoeletronics device and fabrication thereof
DE102008045028B4 (de) * 2008-08-29 2023-03-16 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelektronischer Halbleiterchip
US7741134B2 (en) * 2008-09-15 2010-06-22 Bridgelux, Inc. Inverted LED structure with improved light extraction
KR100992743B1 (ko) * 2008-12-26 2010-11-05 엘지이노텍 주식회사 발광소자 및 그 제조방법
JP5032511B2 (ja) 2009-01-06 2012-09-26 株式会社東芝 半導体発光装置の製造方法と、それを用いて製造した半導体発光装置
TWI470823B (zh) 2009-02-11 2015-01-21 Epistar Corp 發光元件及其製造方法
TW201032350A (en) * 2009-02-20 2010-09-01 Univ Nat Central A manufacturing method of LED
KR100969160B1 (ko) * 2009-03-10 2010-07-21 엘지이노텍 주식회사 발광소자 및 그 제조방법
US8921876B2 (en) 2009-06-02 2014-12-30 Cree, Inc. Lighting devices with discrete lumiphor-bearing regions within or on a surface of remote elements
KR101114047B1 (ko) * 2009-10-22 2012-03-09 엘지이노텍 주식회사 발광소자 및 그 제조방법
TWI531088B (zh) * 2009-11-13 2016-04-21 首爾偉傲世有限公司 具有分散式布拉格反射器的發光二極體晶片
US8963178B2 (en) 2009-11-13 2015-02-24 Seoul Viosys Co., Ltd. Light emitting diode chip having distributed bragg reflector and method of fabricating the same
JP2011138631A (ja) * 2009-12-25 2011-07-14 Canon Inc 画像表示装置
US9275979B2 (en) 2010-03-03 2016-03-01 Cree, Inc. Enhanced color rendering index emitter through phosphor separation
US8421104B2 (en) * 2010-05-24 2013-04-16 Walsin Lihwa Corporation Light emitting diode apparatus and method for enhancing luminous efficiency thereof
CN102263173A (zh) * 2010-05-28 2011-11-30 展晶科技(深圳)有限公司 发光二极管及其制造方法
DE102010023343A1 (de) * 2010-06-10 2011-12-15 Osram Opto Semiconductors Gmbh Strahlungsemittierender Halbleiterkörper, Verfahren zur Herstellung eines strahlungsemittierenden Halbleiterkörpers und strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement
JP5706962B2 (ja) * 2010-06-24 2015-04-22 ソウル バイオシス カンパニー リミテッドSeoul Viosys Co.,Ltd. 発光ダイオード
CN103053036B (zh) 2010-07-28 2015-11-25 首尔伟傲世有限公司 具有分布式布拉格反射器的发光二极管
JP2012059790A (ja) * 2010-09-06 2012-03-22 Toshiba Corp 半導体発光素子及びその製造方法
US9070851B2 (en) 2010-09-24 2015-06-30 Seoul Semiconductor Co., Ltd. Wafer-level light emitting diode package and method of fabricating the same
US20120241788A1 (en) * 2010-10-29 2012-09-27 Sionyx, Inc. Textured Light Emitting Devices and Methods of Making the Same
US11251164B2 (en) 2011-02-16 2022-02-15 Creeled, Inc. Multi-layer conversion material for down conversion in solid state lighting
DE102011012608A1 (de) * 2011-02-28 2012-08-30 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zur Herstellung von Lichtauskoppelstrukturen in einem Halbleiterkörper und Licht emittierender Halbleiterkörper
KR20120100193A (ko) * 2011-03-03 2012-09-12 서울옵토디바이스주식회사 발광 다이오드 칩
US9142741B2 (en) * 2011-06-15 2015-09-22 Sensor Electronic Technology, Inc. Emitting device with improved extraction
US9337387B2 (en) 2011-06-15 2016-05-10 Sensor Electronic Technology, Inc. Emitting device with improved extraction
US10319881B2 (en) 2011-06-15 2019-06-11 Sensor Electronic Technology, Inc. Device including transparent layer with profiled surface for improved extraction
US10522714B2 (en) 2011-06-15 2019-12-31 Sensor Electronic Technology, Inc. Device with inverted large scale light extraction structures
US9741899B2 (en) 2011-06-15 2017-08-22 Sensor Electronic Technology, Inc. Device with inverted large scale light extraction structures
CN102287714A (zh) * 2011-08-19 2011-12-21 上海交通大学 具有光栅的背光系统
JP6104915B2 (ja) 2011-10-06 2017-03-29 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 半導体発光デバイスの表面処理
CN103137812B (zh) * 2011-12-03 2015-11-25 清华大学 发光二极管
CN103137816B (zh) * 2011-12-03 2015-09-30 清华大学 发光二极管
KR101894025B1 (ko) * 2011-12-16 2018-09-03 엘지이노텍 주식회사 발광소자
KR102264072B1 (ko) 2012-06-01 2021-06-14 루미리즈 홀딩 비.브이. Led 표면 조면화에서의 피처 크기 및 형상 제어를 이용한 광 추출 개선
KR102059030B1 (ko) * 2012-09-24 2019-12-24 엘지이노텍 주식회사 자외선 발광 소자
WO2014051620A1 (en) 2012-09-28 2014-04-03 Empire Technology Development Llc Lighting device and methods of making the same
TWI540768B (zh) * 2012-12-21 2016-07-01 鴻海精密工業股份有限公司 發光晶片組合及其製造方法
US8896008B2 (en) 2013-04-23 2014-11-25 Cree, Inc. Light emitting diodes having group III nitride surface features defined by a mask and crystal planes
SG11201508811YA (en) * 2013-04-26 2015-11-27 Agency Science Tech & Res High speed surface plasmon coupled light emitting diodes
EP3011604B1 (de) * 2013-06-19 2020-04-22 Lumileds Holding B.V. Led mit strukturierten oberflächenmerkmalen
US9196763B2 (en) 2013-10-30 2015-11-24 Terahertz Device Corporation Efficient light extraction from weakly-coupled dielectric buttes
WO2015114711A1 (ja) * 2014-01-29 2015-08-06 パナソニックIpマネジメント株式会社 半導体発光素子およびその駆動回路
TWI613838B (zh) * 2014-03-06 2018-02-01 晶元光電股份有限公司 發光元件
US9711679B2 (en) * 2014-03-11 2017-07-18 Terahertz Device Corporation Front-side emitting mid-infrared light emitting diode fabrication methods
CN103887157B (zh) * 2014-03-12 2021-08-27 京东方科技集团股份有限公司 光学掩膜板和激光剥离装置
FR3026571B1 (fr) * 2014-09-26 2016-12-02 Thales Sa Procede d'elaboration d'une structure resonante d'un laser a semi-conducteur a contre-reaction repartie
WO2017127461A1 (en) 2016-01-18 2017-07-27 Sensor Electronic Technology, Inc. Semiconductor device with improved light propagation
CN205944139U (zh) 2016-03-30 2017-02-08 首尔伟傲世有限公司 紫外线发光二极管封装件以及包含此的发光二极管模块
WO2017175148A1 (en) * 2016-04-08 2017-10-12 Novagan Highly directional light source with high extraction efficiency and method to manufacturing the same
FR3059788B1 (fr) * 2016-12-02 2019-01-25 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Dispositif optoelectronique a diode electroluminescente a extraction augmentee
DE102017002333A1 (de) 2017-03-13 2018-09-13 Azur Space Solar Power Gmbh Leuchtdiode
DE102017219638A1 (de) * 2017-11-06 2019-05-09 Siemens Aktiengesellschaft Schicht mit Oberflächeneffekt, Schichtsystem, Schaufel und Verfahren zur Herstellung
CN110120443B (zh) * 2018-02-07 2020-04-21 山东浪潮华光光电子股份有限公司 一种反极性AlGaInP四元LED芯片的制备方法
WO2020038744A1 (en) * 2018-08-24 2020-02-27 Osram Oled Gmbh Optoelectronic semiconductor device comprising a transparent substrate and a carrier
DE102019100548A1 (de) * 2019-01-10 2020-07-16 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches halbleiterbauelement mit reflektierender gitterstruktur
DE102019212944A1 (de) * 2019-08-28 2021-03-04 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Halbleiterbauelement, vorrichtung mit einem halbleiterbauelement und verfahren zur herstellung von halbleiterbauelementen
GB2593181B (en) 2020-03-17 2023-11-15 Plessey Semiconductors Ltd Micro-LED device
US11592166B2 (en) 2020-05-12 2023-02-28 Feit Electric Company, Inc. Light emitting device having improved illumination and manufacturing flexibility
GB2595715B (en) 2020-06-04 2022-08-17 Plessey Semiconductors Ltd Enhanced colour conversion and collimation of micro-LED devices
TWI736334B (zh) 2020-06-23 2021-08-11 隆達電子股份有限公司 發光二極體
US11876042B2 (en) 2020-08-03 2024-01-16 Feit Electric Company, Inc. Omnidirectional flexible light emitting device
CN112968092A (zh) * 2020-11-19 2021-06-15 重庆康佳光电技术研究院有限公司 发光器件、其制作方法及具有其的显示面板

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2030974A1 (de) * 1969-06-23 1971-01-07 Western Electric Co. Inc., New York, N Y. (V StA.) Elektrolumineszenter Korper
GB2221791A (en) * 1988-08-09 1990-02-14 Gen Electric Surface emitting laser
EP0442002A1 (de) * 1990-02-13 1991-08-21 Siemens Aktiengesellschaft Strahlungserzeugendes Halbleiterbauelement
US5132751A (en) * 1990-06-08 1992-07-21 Eastman Kodak Company Light-emitting diode array with projections
DE4218806A1 (de) * 1992-06-06 1993-12-09 Telefunken Microelectron Mesa-Lumineszenz-Halbleiterelement

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4225380A (en) * 1978-09-05 1980-09-30 Wickens Justin H Method of producing light emitting semiconductor display
JPS5948975A (ja) * 1982-09-14 1984-03-21 Nec Corp 半導体発光素子
JPS59229891A (ja) * 1983-06-13 1984-12-24 Fujitsu Ltd 半導体レ−ザの製造方法
JPS6312182A (ja) * 1986-07-02 1988-01-19 Mitsubishi Electric Corp 半導体発光装置
JPS6430277A (en) * 1987-07-27 1989-02-01 Hitachi Ltd Light convergent type light-emitting device
GB2223352A (en) * 1988-09-28 1990-04-04 Philips Electronic Associated Frequency-doubled light emitting device
JP2953468B2 (ja) * 1989-06-21 1999-09-27 三菱化学株式会社 化合物半導体装置及びその表面処理加工方法
JP3260358B2 (ja) * 1990-08-20 2002-02-25 株式会社東芝 半導体発光装置
JP2836687B2 (ja) * 1993-04-03 1998-12-14 日亜化学工業株式会社 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
JPH06338630A (ja) * 1993-05-28 1994-12-06 Omron Corp 半導体発光素子、並びに当該発光素子を用いた光学検知装置、光学的情報処理装置、光結合装置及び発光装置
JPH0715038A (ja) * 1993-06-21 1995-01-17 Toshiba Corp 半導体発光素子
JPH0715033A (ja) * 1993-06-28 1995-01-17 Japan Energy Corp 半導体発光装置
JPH07153991A (ja) * 1993-11-26 1995-06-16 Nec Corp 発光ダイオード及びその製造方法
JP3316062B2 (ja) * 1993-12-09 2002-08-19 株式会社東芝 半導体発光素子
JPH07202257A (ja) * 1993-12-28 1995-08-04 Daido Steel Co Ltd 発光ダイオード
DE4407832A1 (de) * 1994-03-09 1995-09-14 Ant Nachrichtentech Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements mit einer definierten axialen Variation des Kopplungskoeffizienten und definierter axialer Verteilung der Phasenverschiebung
JPH07263802A (ja) * 1994-03-17 1995-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd 半導体発光素子の製造方法
GB2296378B (en) * 1994-12-20 1997-11-19 Ultra Silicon Techn Uk Ltd Improvements in efficiency of electroluminescent devices

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2030974A1 (de) * 1969-06-23 1971-01-07 Western Electric Co. Inc., New York, N Y. (V StA.) Elektrolumineszenter Korper
GB2221791A (en) * 1988-08-09 1990-02-14 Gen Electric Surface emitting laser
EP0442002A1 (de) * 1990-02-13 1991-08-21 Siemens Aktiengesellschaft Strahlungserzeugendes Halbleiterbauelement
US5132751A (en) * 1990-06-08 1992-07-21 Eastman Kodak Company Light-emitting diode array with projections
DE4218806A1 (de) * 1992-06-06 1993-12-09 Telefunken Microelectron Mesa-Lumineszenz-Halbleiterelement

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
A. Köck, [u.a.]: Strongly directional emission from AlGaAs / GaAs light-emitting diodes. Appl. Phys. Lett. 57 (22), 1990, S. 2327- 2329 *
Dierschke, u.a.: Efficient Electroluminescence from Zinc-Diffused Ga1-xAlxAs Diodes at 25° C. Appl. Phys. Lett. 19, 1971, S. 98-100 *
Dierschke, u.a.: Efficient Electroluminescence from Zinc-Diffused Ga1-xAlxAs Diodes at 25° C. Appl. Phys. Lett. 19, 1971, S. 98-100 Schnitzer, u.a.: 30% external quantum efficiency from surface textured, thin-film light-emitting diodes. Appl. Phys. Lett 63, 1993, S. 2174-2176 I. Schnitzer, u.a.: Ultrahigh spontaneous emission quantum efficiency, 99.7% internally and 72% externally, from AlGaAs/GaAs /AlGaAs double heterostructures. Appl. Phys. Lett. 62, 1993, S. 131-133 A. Köck, [u.a.]: Strongly directional emission from AlGaAs / GaAs light-emitting diodes. Appl. Phys. Lett. 57 (22), 1990, S. 2327- 2329
I. Schnitzer, u.a.: Ultrahigh spontaneous emission quantum efficiency, 99.7% internally and 72% externally, from AlGaAs/GaAs /AlGaAs double heterostructures. Appl. Phys. Lett. 62, 1993, S. 131-133 *
Schnitzer, u.a.: 30% external quantum efficiency from surface textured, thin-film light-emitting diodes. Appl. Phys. Lett 63, 1993, S. 2174-2176 *

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011029667A (ja) 2011-02-10
JP5741996B2 (ja) 2015-07-01
GB2311413B (en) 2001-04-11
JP2007142483A (ja) 2007-06-07
JPH104209A (ja) 1998-01-06
DE19709228A1 (de) 1997-09-25
SG54385A1 (en) 1998-11-16
GB9705173D0 (en) 1997-04-30
GB2311413A (en) 1997-09-24
JP2014131078A (ja) 2014-07-10
US5779924A (en) 1998-07-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19709228B4 (de) Geordnete Grenzflächentexturierung für ein lichtemittierendes Bauelement
DE19807758B4 (de) Lichtemittierende Diodenstruktur und Verfahren zu deren Herstellung
EP0905797B1 (de) Halbleiterlichtquelle und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP2290714B1 (de) Lichtemissionsdiode mit Oberflächenstrukturierung
DE19629920B4 (de) Licht-emittierende Diode mit einem nicht-absorbierenden verteilten Braggreflektor
DE102005048408B4 (de) Dünnfilm-Halbleiterkörper
DE102008058436B4 (de) Kantenemittierender Halbleiterlaserchip
DE102010051286A1 (de) Optoelektronischer Halbleiterchip und Verfahren zu dessen Herstellung
DE2460831A1 (de) Lichtemittierende vorrichtung
DE19648309A1 (de) Stark reflektierende Kontakte für Licht-emittierende Halbleiterbauelemente
DE102009057780A1 (de) Optoelektronisches Halbleiterbauteil und photonischer Kristall
DE10229231B4 (de) Verfahren zum Herstellen eines Strahlung emittierenden und/oder empfangenden Halbleiterchips mit einer Strahlungsein- und/oder -auskoppel-Mikrostruktur
DE2421590A1 (de) Optische halbleiterstrahlungsquelle, bei welcher mindestens einer der beiden halbleiterbereiche eine huegelige aeussere oberflaeche aufweist
EP3240048B1 (de) Halbleiterchip für die optoelektronik und verfahren zu dessen herstellung
EP2160773B1 (de) Optoelektronischer halbleiterchip
WO2012107261A1 (de) Optoelektronischer halbleiterchip und verfahren zur herstellung eines optoelektronischen halbleiterchip
WO2016078986A1 (de) Verfahren zur herstellung eines optoelektronischen halbleiterchips und optoelektronischer halbleiterchip
DE102021100391A1 (de) Kantenemittierende halbleiterlaserdiode und verfahren zur herstellung einer kantenemittierenden halbleiterlaserdiode
WO2020200881A1 (de) Optoelektronisches halbleiterbauelement mit dielektrischer schicht und transparenter leitfähiger schicht und verfahren zur herstellung des optoelektronischen halbleiterbauelements
DE102022101575A1 (de) Verfahren zur herstellung einer vielzahl optoelektronischer halbleiterchips und optoelektronischer halbleiterchip
DE102022107530A1 (de) Oberflächenemittierende halbleiterlaserdiode und verfahren zur herstellung einer oberflächenemittierenden halbleiterlaserdiode
WO2023083799A1 (de) Optoelektronischer halbleiterchip und desinfektionsvorrichtung
DE102019107920A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements und optoelektronisches Bauelement
DE10220333A1 (de) Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement
EP1086498A1 (de) Optische halbleiterdiode

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: AGILENT TECHNOLOGIES, INC. (N.D.GES.D.STAATES DELA

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: LUMILEDS LIGHTING, U.S., LLC, SAN JOSE, CALIF., US

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: PHILIPS LUMILEDS LIGHTING COMPANY,LLC, SAN JOS, US

8364 No opposition during term of opposition
R020 Patent grant now final

Effective date: 20110204

R071 Expiry of right