CN113243823B - 基站及表面清洁系统 - Google Patents

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Abstract

本公开提供一种基站，其包括：清洁液体供给部，所述清洁液体供给部用于存储清洁液体；充电结构，所述充电结构用于向停靠于所述基站的表面清洁设备提供电能，并实现所述表面清洁设备的充电；以及连接接口，所述连接接口连接至所述清洁液体供给部，当所述表面清洁设备停靠于所述基站时，所述表面清洁设备的清洁液体存储部连接于所述连接接口，以将所述清洁液体供给部的清洁液体通过所述连接接口输送至所述清洁液体存储部，或者将所述清洁液体存储部内的清洁液体通过所述连接接口输送至所述清洁液体供给部；其中，所述连接接口所处的位置低于充电结构所处的位置。本公开还提供一种表面清洁系统。

Description

基站及表面清洁系统
技术领域
本公开涉及一种基站及表面清洁系统。
背景技术
当今的表面清洁装置用于湿清洁硬地板或短毛地毯。该装置通常具有一个或多个由毛织材料制成的滚刷或清洁盘，它们可以通过添加水或水/清洁剂混合物来擦洗地板上的顽固污垢。
当机器在污垢上移动时，已经被滚刷擦掉并被水或水/洗涤剂混合物溶解的污垢用沿滚刷运动方向排列的清洁头吸起，在设置清洁盘的技术中，可以不设置清洁头，污垢直接被清洁盘上的清洁材料吸附。
但是，顽固的污渍通常难以清理，奶渍、果汁和酱汁等，散落在地板表面，水分蒸发后，则会在清洁表面形成难以祛除的顽固污渍。通常，在擦洗过程中，并非所有这些顽固的污垢都可以通过吸尘来清除，因此其中一些残留在地板上，从而降低了清洁质量。
为了提高清洁质量，通常使用清洁剂和水混合的方式来清理，按照一定比例将清洁剂和水在表面清洁装置的清水箱内混合，形成清洁流体，然后将该清洁流体施加到滚刷或清洁盘上，达到较为良好的顽固污渍的清洁效果。但这意味着清洁剂比例的控制，还必须专门地执行该清洁剂的清洁过程，并且并不是清洁表面的每一处都需要施加这种清洁剂，以实现最佳的清洁质量和卫生状况，这导致增加的时间花费和额外的成本。
另一种方式就是实施蒸汽处理，表面清洁装置中设置了热蒸汽发生装置，在清洁特定的顽固污渍表面的时候，通过控制信号的输入，表面清洁装置的雾化加热装置，将清水箱中的水进行蒸汽处理，喷洒到滚刷或清洁盘，特别是清洁表面，以软化该顽固的污渍，使其脱离表面，达到清洁目的，但是，表面清洁设备的蒸汽不容易控制，往往会极大消耗表面清洁装置的续航能力，并且蒸汽实施的过程中，往往会产生用户不希望的额外蒸汽外泄，这对于普通家庭的用户是体验并不友好。
现有的表面清洁装置，无论是自主移动式清洁装置还是手持式清洁装置，由于其结构和体积的天然限制，自身携带的清水箱体积有限，在清洁大面积的情况，特别是带有上述的污渍时候，需要频繁更换清水，续航较短，这带来了体验上的下降，因此，将储水箱设置在基站上逐渐成为一种趋势。
但是，当储水箱设置于基站时，由于基站同时设置接水口和充电结构，以给表面清洁设备充电和补水，因此表面清洁设备放置于基站或者从基站上取下时，充电结构可能会沾到来自于接水口的水渍，容易产生短路和着火隐患。因此需要一种能解决上述问题的技术。
发明内容
为了解决上述技术问题之一，本公开提供了一种基站及表面清洁系统。
根据本公开的一个方面，提供了一种基站，其包括：
清洁液体供给部，所述清洁液体供给部用于存储清洁液体；
充电结构，所述充电结构用于向停靠于所述基站的表面清洁设备提供电能，并实现所述表面清洁设备的充电；
连接接口，所述连接接口连接至所述清洁液体供给部，当所述表面清洁设备停靠于所述基站时，所述表面清洁设备的清洁液体存储部连接于所述连接接口，以将所述清洁液体供给部的清洁液体通过所述连接接口输送至所述清洁液体存储部，或者将所述清洁液体存储部内的清洁液体通过所述连接接口输送至所述清洁液体供给部；
支撑组件，所述支撑组件设置于所述基站的外壳，用于支撑所述连接接口；以及
盖板，所述盖板能够在第一位置和第二位置之间运动，其中，当所述盖板位于所述第一位置时，所述盖板覆盖所述连接接口，当所述盖板位于第二位置时，使得所述连接接口露出；
其中，所述连接接口所处的位置所在水平面低于充电结构所处的位置所在水平面。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述充电结构包括多个插针，所述表面清洁设备的充电接头为插孔，当将所述充电结构的插针插入所述充电接头的插孔内时，所述基站向所述表面清洁设备提供电能；或者，所述充电结构包括多个插孔，所述插孔的至少部分内表面形成为电极，所述表面清洁设备的充电接头为插针，当将所述表面清洁设备的插针插入于所述充电结构的插孔内时，所述基站向所述表面清洁设备提供电能。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述充电结构包括充电触点，所述表面清洁设备的充电接头包括充电触片，当将所述充电结构的充电触点接触所述充电接头的充电触片时，所述基站向所述表面清洁设备提供电能；或者，所述充电结构包括充电触片，所述表面清洁设备的充电接头包括充电触点，当将所述充电结构的充电触片接触所述充电接头的充电触点时，所述基站向所述表面清洁设备提供电能。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述充电结构设置于所述盖板上方的基站的外壳，或者设置于所述盖板。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述支撑组件包括：
支撑板，所述支撑板固定于所述基站的外壳，或者所述支撑板形成为所述基站的外壳的一部分；以及
支撑座，所述支撑座从所述支撑板向上延伸预设距离，并且所述支撑座的中部呈中空状，以使得所述连接接口的部分穿过所述支撑座，连接于第二管路。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述连接接口包括：
主体部，所述主体部呈中空状；
底座部，所述底座部设置于所述主体部的下端，用于封闭所述主体部的下端；
法兰部，所述法兰部设置于所述主体部的上端，并且所述法兰部的外边缘的至少一部分支撑在所述支撑座的上端；以及
连接接头，所述连接接头设置于底座部，并位于所述底座部的下方，以通过所述连接接头连接于第二管路，使得连接接口与所述清洁液体供给部连通。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述连接接口还包括：
抵触件，所述抵触件的一端设置于所述底座部，并且位于所述底座部的上方，所述抵触件的上端与所述底座部间隔预设距离。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述抵触件的横截面为十字形。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，沿远离所述基站的外壳的方向，所述法兰部的上端向上倾斜。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，当向所述盖板施加外力时，所述盖板从第一位置运动至第二位置，并且当外力消失时，所述盖板从第二位置运动至第一位置。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述盖板的一端可转动地连接于所述基站的外壳，并且所述盖板能够在所述第一位置和第二位置之间摆动。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述盖板连接于所述基站的外壳的一端位于所述基站的外壳的内部，所述基站的外壳开设有通孔，当所述盖板运动至第一位置时，所述盖板的下端穿过所述基站的外壳，位于所述基站的外壳的外部，并覆盖所述连接接口；当所述盖板运动至第二位置时，所述盖板的至少部分位于所述基站的外壳内。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述盖板可滑动地设置于所述基站的壳体，并且所述盖板能够在所述第一位置和第二位置之间移动。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述连接接口的法兰部上形成有限位部，当所述盖板位于所述第一位置时，所述限位部与所述盖板的表面的至少一部分接触，以通过所述限位部限制所述盖板的进一步移动。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述限位部形成于所述法兰远离所述基站的外壳的部分。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，当所述盖板位于所述第一位置时，所述盖板的上表面形成为第一倾斜面，其中所述第一倾斜面沿远离所述基站的外壳的方向向下倾斜。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，当所述盖板位于所述第一位置时，所述盖板远离所述基站的外壳的部分形成为第二倾斜面，其中所述第二倾斜面与水平面之间形成一夹角。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述连接接口远离所述基站的外壳的部分形成为第三倾斜面，其中所述第三倾斜面与水平面之间形成一夹角。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，当通过支撑组件支撑所述连接接口时，所述支撑组件远离所述基站的外壳的部分形成为第四倾斜面，其中所述第四倾斜面与水平面之间形成一夹角，以便清洁液体沿所述第一倾斜面、第二倾斜面、第三倾斜面和/或第四倾斜面向下流动。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述支撑板的上表面形成为倾斜表面，其中，所述支撑板的上表面沿远离所述基站的壳体的方向向下倾斜，以防止清洁液体在支撑板的上表面积聚。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述支撑板的上表面与水平面的夹角为10-20°。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述支撑板的前表面形成为倾斜表面，其中，所述支撑板的前表面沿接近所述基站的壳体的方向向下倾斜，以使得清洁液体从支撑板的上表面直接落入托盘部。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述支撑板的前表面与竖直面的夹角为10-20°。
根据本公开的至少一个实施方式的基站，，在所述支撑板的前表面的下沿临近位置设置有集水槽。
根据本公开的另一方面，提供一种表面清洁系统，其包括上述的基站。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，还包括：
表面清洁设备，所述表面清洁设备包括清洁液体存储部，以当所述清洁液体存储部与所述清洁液体供给部通过连接接口连通时，实现所述清洁液体存储部和清洁液体供给部之间的流体交互。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述表面清洁设备还包括：
充电接头，所述充电接头与所述充电结构配合，以便所述基站向所述表面清洁设备提供电能。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述表面清洁设备还包括：
接头组件，所述接头组件连接于所述清洁液体存储部，以当将所述接头组件插入所述连接接口时，所述清洁液体存储部与所述清洁液体供给部之间连通。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述接头组件包括：
下壳体，所述下壳体形成有用于清洁液体通过的管路；
上壳体，所述上壳体连接于所述下壳体，并且所述上壳体形成有用于清洁液体通过的管路；以及
阀组件，所述阀组件设置于所述下壳体内，并能够沿所述下壳体的管路的方向运动，以当所述阀组件处于第一位置时，所述阀组件封闭所述下壳体的用于清洁液体通过的管路，当所述阀组件处于第二位置时，所述阀组件打开所述下壳体的用于清洁液体通过的管路。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述下壳体包括：
插入部，当所述接头组件连接于所述连接接口时，至少部分插入部插入于所述连接接口。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述下壳体还包括：
下连接部，所述下连接部连接于所述插入部，并且所述下连接部上形成有用于固定所述下连接部的安装部。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，在所述下壳体内壁形成有向所述下壳体内部延伸的凸出部，其中，所述凸出部形成有通孔；所述阀组件沿所述通孔的内壁面滑动。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述阀组件包括：
导杆，所述导杆可滑动地设置于所述凸出部，并且所述导杆的两端位于所述凸出部的两侧；以及
堵头，所述堵头设置于导杆接近所述上壳体的一端，并且当所述阀组件位于第一位置时，所述堵头与所述下壳体的内壁面密封接触，以封闭所述下壳体的用于清洁液体通过的管路；当所述阀组件位于第二位置时，所述堵头与所述下壳体的内壁面间隔一定距离，以打开所述下壳体的用于清洁液体通过的管路。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述下连接部的内径大于所述插入部的内径，至少部分堵头的直径大于所述插入部的内径，以当所述堵头的外壁面与所述插入部的内壁面接触时，封闭所述下壳体的用于清洁液体通过的管路；当所述堵头的外壁面与所述插入部的内壁面分离时，打开所述下壳体的用于清洁液体通过的管路。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述导杆远离上壳体的一端形成有轴肩，弹簧的一端设置于所述轴肩，另一端设置于所述凸出部，并且所述弹簧处于预压缩状态，以通过所述弹簧的弹力使得所述接头组件为常闭状态。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述堵头形成为倒锥形。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述上壳体包括：
上连接部，所述上连接部连接于所述下连接部；以及
上连接管，所述上连接管的一端设置于所述上连接部，以通过将所述上连接管连接于清洁液体存储部，使得清洁液体存储部连接于所述清洁液体供给部。
附图说明
附图示出了本公开的示例性实施方式，并与其说明一起用于解释本公开的原理，其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解，并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。
图1是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之一。
图2是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之二。
图3是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之三。
图4是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之四。
图5是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之五。
图6是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之六。
图7是根据本公开的一个实施方式的支撑组件的结构示意图。
图8是根据本公开的一个实施方式的连接接口的结构示意图。
图9是根据本公开的一个实施方式的连接接口的另一角度结构示意图。
图10是根据本公开的一个实施方式的盖板的结构示意图。
图11是根据本公开的一个实施方式的下端盖和阀组件结构示意图。
图12是根据本公开的一个实施方式的表面清洁系统的结构示意图。
图13是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图。
图14和图15是根据本公开的一个实施方式的接头组件的结构示意图。
图16是根据本公开的另一个实施方式的基站的结构示意图。
图中附图标记具体为：
100基站
101基座
102托盘部
103收纳箱
106加热装置
151清洁液体供给部
1511加液部
1512提手部
152下端盖
153阀组件
160充电结构
165外壳
170连接接口
171主体部
172底座部
173法兰部
1731限位部
174连接接头
175抵触件
176第三倾斜面
180支撑组件
181支撑板
182支撑座
183第四倾斜面
190盖板
1901第一倾斜面
1902第二倾斜面
1011基座出风口
1012基座进气部
1021主滚动轮定位座
1022辅助滚动轮定位座
1023清洁槽
1024托盘出风口
1071第一管路
1072第二管路
200表面清洁设备
210接头组件
2101下壳体
21011插入部
21012下连接部
21013凸出部
2102上壳体
21021上连接部
21022上连接管
2103阀组件
21031导杆
21032堵头
2104弹簧
2015密封件。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于解释相关内容，而非对本公开的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本公开相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本公开中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本公开的技术方案。
除非另有说明，否则示出的示例性实施方式/实施例将被理解为提供可以在实践中实施本公开的技术构思的一些方式的各种细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离本公开的技术构思的情况下，各种实施方式/实施例的特征可以另外地组合、分离、互换和/或重新布置。
在附图中使用交叉影线和/或阴影通常用于使相邻部件之间的边界变得清晰。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在与否均不传达或表示对部件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、示出的部件之间的共性和/或部件的任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或者要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述性的目的，可以夸大部件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以以不同于所描述的顺序来执行具体的工艺顺序。例如，可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外，同样的附图标记表示同样的部件。
当一个部件被称作“在”另一部件“上”或“之上”、“连接到”或“结合到”另一部件时，该部件可以直接在所述另一部件上、直接连接到或直接结合到所述另一部件，或者可以存在中间部件。然而，当部件被称作“直接在”另一部件“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一部件时，不存在中间部件。为此，术语“连接”可以指物理连接、电气连接等，并且具有或不具有中间部件。
为了描述性目的，本公开可使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”和“侧(例如，如在“侧壁”中)”等的空间相对术语，从而来描述如附图中示出的一个部件与另一(其它)部件的关系。除了附图中描绘的方位之外，空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果附图中的设备被翻转，则被描述为“在”其它部件或特征“下方”或“之下”的部件将随后被定位为“在”所述其它部件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包含“上方”和“下方”两种方位。此外，设备可被另外定位(例如，旋转90度或者在其它方位处)，如此，相应地解释这里使用的空间相对描述语。
这里使用的术语是为了描述具体实施例的目的，而不意图是限制性的。如这里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个(种、者)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。此外，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”以及它们的变型时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组。还要注意的是，如这里使用的，术语“基本上”、“大约”和其它类似的术语被用作近似术语而不用作程度术语，如此，它们被用来解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供的值的固有偏差。
图1是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之一。图2是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之二。图3是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之三。图4是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之四。图5是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之五。图6是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图之六。
如图1至图6所示，本公开提供一种基站100，其包括：
清洁液体供给部151，所述清洁液体供给部151用于存储清洁液体；
充电结构160，所述充电结构160用于向停靠于所述基站100的表面清洁设备200提供电能，并实现所述表面清洁设备200的充电；以及
连接接口170，所述连接接口170连接至所述清洁液体供给部151，当所述表面清洁设备200停靠于所述基站100时，所述表面清洁设备200的清洁液体存储部连接于所述连接接口170，以将所述清洁液体供给部151的清洁液体通过所述连接接口170输送至所述清洁液体存储部，或者将所述清洁液体存储部内的清洁液体通过所述连接接口170输送至所述清洁液体供给部151；
其中，所述连接接口170所处的位置所在水平面低于充电结构160所处的位置所在水平面。
本公开的基站100将充电结构160和连接接口170在高度上分离，有效地避免表面清洁设备200放置于基站100补充清洁液体和/或充电时，或者表面清洁设备200从基站取下时，充电结构可能会沾到来自于连接接口170的清洁液体，或者清洁液体溅到充电结构，产生短路和着火隐患的问题。
作为一种实现形式，所述充电结构160包括多个插针，所述表面清洁设备200的充电接头为插孔，当将所述充电结构160的插针插入所述充电接头的插孔内时，所述基站100向所述表面清洁设备200提供电能，此时，所述插孔的至少部分内表面形成为电极。
作为第二种实现形式，所述充电结构160包括多个插孔，所述插孔的至少部分内表面形成为电极，所述表面清洁设备200的充电接头为插针，当将所述表面清洁设备200的插针插入于所述充电结构160的插孔内时，所述基站100向所述表面清洁设备200提供电能。
作为第三种实现形式，所述充电结构160包括充电触点，所述表面清洁设备200的充电接头包括充电触片，当将所述充电结构160的充电触点接触所述充电接头的充电触片时，所述基站100向所述表面清洁设备200提供电能。
作为第四种实现形式，所述充电结构160包括充电触片，所述表面清洁设备200的充电接头包括充电触点，当将所述充电结构160的充电触片接触所述充电接头的充电触点时，所述基站100向所述表面清洁设备200提供电能。
优选地，所述充电结构160设置于所述基站100的外壳165，并且更优选地，所述充电结构160设置于所述基站100的外壳165的竖直部分。
优选地，所述充电结构160设置于所述盖板190上方的基站的外壳，或者设置于所述盖板190。
在本公开的一个可选实施例中，所述的基站100还包括：
支撑组件180，所述支撑组件180设置于所述基站100的外壳165，用于支撑所述连接接口170。
优选地，所述支撑组件180包括：
支撑板181，所述支撑板181固定于所述基站100的外壳165，或者所述支撑板181形成为所述基站100的外壳165的一部分；以及
支撑座182，所述支撑座182从所述支撑板181向上延伸预设距离，并且所述支撑座182的中部呈中空状，以使得所述连接接口170的部分穿过所述支撑座182，连接于第二管路1072。
优选地，如图6和图16所示，为防止支撑组件180积水，所述支撑组件180的上表面180a形成有向所述托盘部102的倾斜度，以向所述托盘部102上进行残留液体导流。
在一个可选的实施例中，所述支撑组件180的与上表面180a连接的前表面180b上形成有倾斜度，所述倾斜度由自前表面180b的下沿至前表面180b的上沿形成，以在所述前表面180b形成向所述托盘部102倾斜的趋势。
即所述支撑板181的前表面形成为倾斜表面，其中，所述支撑板181的前表面沿接近所述基站的壳体的方向向下倾斜，以使得清洁液体从支撑板的上表面直接落入托盘部。
优选地，所述支撑板的前表面与竖直面的夹角为10-20°。
在一个可选的实施例中，为了进一步防止积水从前表面180b向下流入可拆托盘部与底座的间隙，在前表面180b的下沿临近位置设置集水槽180c，以接收沿着前表面180b流下来的部分残余水。
在本公开的一个可选实施例中，所述连接接口170包括：
主体部171，所述主体部171呈中空状；
底座部172，所述底座部172设置于所述主体部171的下端，用于封闭所述主体部171的下端；
法兰部173，所述法兰部173设置于所述主体部171的上端，并且所述法兰部173的外边缘的至少一部分支撑在所述支撑座182的上端；以及
连接接头174，所述连接接头174设置于底座部172，并位于所述底座部172的下方，以通过所述连接接头174连接于第二管路1072，使得连接接口170与所述清洁液体供给部151连通。
优选地，所述连接接口170还包括：
抵触件175，所述抵触件175的一端设置于所述底座部172，并且位于所述底座部172的上方，所述抵触件175的上端与所述底座部172间隔预设距离；更优选地，所述抵触件175的横截面为十字形。
根据本公开至少一个实施方式，沿远离所述基站100的外壳165的方向，所述法兰部173的上端向上倾斜；所述远离所述基站100的外壳165的方向可以为图8中的大致左右方向。
在本公开的一个可选实施例中，所述的基站100还包括：
盖板190，所述盖板190能够在第一位置和第二位置之间运动，其中，当所述盖板190位于所述第一位置时，所述盖板190覆盖所述连接接口170，当所述盖板190位于第二位置时，使得所述连接接口170露出。
优选地，当向所述盖板190施加外力时，所述盖板190从第一位置运动至第二位置，并且当外力消失时，所述盖板190从第二位置运动至第一位置，其中，当所述盖板190从第二位置运动至第一位置时，可以利用所述盖板190的重力实现，也可以利用弹簧提供的恢复力实现。
优选地，所述盖板190的一端可转动地连接于所述基站100的外壳165，并且所述盖板190能够在所述第一位置和第二位置之间摆动。
所述盖板190连接于所述基站100的外壳165的一端位于所述基站100的外壳165的内部，所述基站100的外壳165开设有通孔，当所述盖板190运动至第一位置时，所述盖板190的下端穿过所述基站100的外壳165，位于所述基站100的外壳165的外部，并覆盖所述连接接口170；当所述盖板190运动至第二位置时，所述盖板190的至少部分位于所述基站100的外壳165内。
作为另一种实现形式，所述盖板190可滑动地设置于所述基站100的壳体，并且所述盖板190能够在所述第一位置和第二位置之间移动。
图8是根据本公开的一个实施方式的连接接口的结构示意图。图9是根据本公开的一个实施方式的连接接口的另一角度结构示意图。
如图8和图9所示，所述连接接口170的法兰部173上形成有限位部1731，当所述盖板190位于所述第一位置时，所述限位部1731与所述盖板190的表面的至少一部分接触，以通过所述限位部1731限制所述盖板190的进一步移动。
本公开中，所述限位部1731形成于所述法兰远离所述基站100的外壳165的部分。
图10是根据本公开的一个实施方式的盖板的结构示意图。
在本公开的一个可选实施例中，如图10所示，当所述盖板190位于所述第一位置时，所述盖板190的上表面形成为第一倾斜面1901，其中所述第一倾斜面1901沿远离所述基站100的外壳165的方向向下倾斜。
当所述盖板190位于所述第一位置时，所述盖板190远离所述基站100的外壳165的部分形成为第二倾斜面1902，其中所述第二倾斜面1902与水平面之间形成一夹角。
本公开中，所述第二倾斜面1902与所述水平面之间的夹角可以为90°，即所述第二倾斜面1902可以竖直设置。
更优选地，所述连接接口170远离所述基站100的外壳165的部分形成为第三倾斜面176，其中所述第三倾斜面176与水平面之间形成一夹角。
相似地，所述第三倾斜面176与所述水平面之间形成的夹角也可以为90°，即所述第三倾斜面176可以竖直设置。
更优选地，当通过支撑组件180支撑所述连接接口170时，所述支撑组件180远离所述基站100的外壳165的部分形成为第四倾斜面183，其中所述第四倾斜面183与水平面之间形成一夹角，以便清洁液体沿所述第一倾斜面、第二倾斜面、第三倾斜面和/或第四倾斜面向下流动。
由此，所述第一倾斜面形成有第一导水面，所述第二倾斜面、第三倾斜面和/或第四倾斜面共同形成第二导水面，以通过第一导水面和第二导水面将水滴快速导离充电结构位置。
图7是根据本公开的一个实施方式的支撑组件的结构示意图。
本公开中，优选地，如图7所示，所述支撑板181的上表面形成为倾斜表面，其中，所述支撑板181的上表面沿远离所述基站100的壳体的方向向下倾斜，以防止清洁液体在支撑板181的上表面积聚，尤其是积水会在一些特殊情况下导致水蒸气蒸发，因此也有短路风险。更优选地，所述支撑板181的上表面与水平面的夹角为10-20°。
优选地，本公开的基站还可以包括：基座101，基座101可以为腔体结构，基座101上可以设置有托盘部102，托盘部102上可以设置有两个主滚动轮定位座1021，以及两个辅助滚动轮定位座1022，本领域技术人员可以基于表面清洁设备的具体地滚动轮形式对主滚动轮定位座1021的数量和结构进行调整、对辅助滚动轮定位座1022的数量和结构进行调整，对于不具有辅助滚动轮的表面清洁设备，基站100可以适应性地仅具有主滚动轮定位座1021。
基站100的托盘部102上还优选地形成有清洁槽1023，清洁槽1023的形状可以与表面清洁设备的滚刷等部件的形状适配，表面清洁设备停靠至基站100时，表面清洁设备的滚刷可以被置于清洁槽1023之中。
优选地，托盘部102与基座101可拆卸地连接。
根据本公开的优选实施方式，基站100的基座101为腔体结构，基座101的腔体结构内设置送风装置(送风装置可以具有加热组件以提供热风)，基座101上形成有基座出风口1011以及基座进气部1012，相应地，托盘部102上与基座出风口1011的对应位置设置有托盘出风口1024，使得送风装置输出的气流能够经由基座出风口1011及托盘出风口1024施加到被置于清洁槽1023中的表面清洁设备的滚刷等部件上，以对滚刷等部件进行干燥。
基座进气部1012可以设置在基座101的合适部位，其数量可以是一个或者两个以上。基座进气部1012可以是多孔形式。
基座101可以为大致方形形状，也可以为其他合适的形状。
本公开中，基站100具有外壳165，外壳165与基座101的一端固定连接，外壳165沿着竖直方向具有延伸尺寸。
基站100还可以设置有收纳箱103，收纳箱103与清洁液体供给部151均被外壳165支撑以及保持，收纳箱103可以具有可被打开的箱门。
优选地，收纳箱103以及清洁液体供给部151均为圆柱形结构，本领域技术人员也可以对收纳箱103及清洁液体供给部151的形状进行调整。
清洁液体供给部151的顶部可以设置加液部1511，加液部1511可以是加液盖配合加液口的形式。
清洁液体供给部151上还可以设置有提手部1512，清洁液体供给部151与外壳165为可拆卸连接。
图11是根据本公开的一个实施方式的下端盖和阀组件结构示意图。
优选地，如图1至图6，以及图11所示，所述基站100还具有双向泵装置、第一管路1071、第二管路1072及加热装置106，双向泵装置连接在阀组件153与第一管路1071的第一端之间，第一管路1071的第二端与加热装置106连接，加热装置106连接在第一管路1071的第二端与第二管路1072的第一端之间，第二管路1072的第二端与上述连接接口连接，使得清洁液体供给部151中的液体依次经由阀组件153、双向泵装置、第一管路1071、加热装置106、第二管路1072、连接接口被供应给表面清洁设备。
优选地，清洁液体供给部151通过下端盖152设置在外壳165上，阀组件153设置在下端盖152中。清洁液体供给部151能够从下端盖152上取下。
图12是根据本公开的一个实施方式的表面清洁系统的结构示意图。
根据本公开的另一方面，如图12所示，提供一种表面清洁系统，其包括上述的基站100。
本公开中，所述的表面清洁系统还包括：
表面清洁设备200，所述表面清洁设备200包括清洁液体存储部，以当所述清洁液体存储部与所述清洁液体供给部151通过连接接口170连通时，实现所述清洁液体存储部和清洁液体供给部151之间的流体交互。
优选地，所述表面清洁设备200还包括：
充电接头(图中未示出)，所述充电接头与所述充电结构160配合，以便所述基站100向所述表面清洁设备200提供电能。
图13是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图。图14和图15是根据本公开的一个实施方式的接头组件的结构示意图。
在本公开的一个可选实施例中，如图13至图15所示，所述表面清洁设备200还包括：
接头组件210，所述接头组件210连接于所述清洁液体存储部，以当将所述接头组件210插入所述连接接口170时，所述清洁液体存储部与所述清洁液体供给部151之间连通。
优选地，所述接头组件210包括：
下壳体2101，所述下壳体2101形成有用于清洁液体通过的管路；
上壳体2102，所述上壳体2102连接于所述下壳体2101，并且所述上壳体2102形成有用于清洁液体通过的管路；以及
阀组件2103，所述阀组件2103设置于所述下壳体2101内，并能够沿所述下壳体2101的管路的方向运动，以当所述阀组件2103处于第一位置时，所述阀组件2103封闭所述下壳体2101的用于清洁液体通过的管路，当所述阀组件2103处于第二位置时，所述阀组件2103打开所述下壳体2101的用于清洁液体通过的管路。
本公开中，所述下壳体2101包括：
插入部21011，当所述接头组件210连接于所述连接接口170时，至少部分插入部21011插入于所述连接接口170。
而且，所述下壳体2101还包括：
下连接部21012，所述下连接部21012连接于所述插入部21011，并且所述下连接部21012上形成有用于固定所述下连接部21012的安装部。
本公开中，在所述下壳体2101内壁形成有向所述下壳体2101内部延伸的凸出部21013，其中，所述凸出部21013形成有通孔；所述阀组件2103沿所述通孔的内壁面滑动。
本公开中，所述阀组件2103包括：
导杆21031，所述导杆21031可滑动地设置于所述凸出部21013，并且所述导杆21031的两端位于所述凸出部21013的两侧；以及
堵头21032，所述堵头21032设置于导杆21031接近所述上壳体2102的一端，并且当所述阀组件2103位于第一位置时，所述堵头21032与所述下壳体2101的内壁面密封接触，以封闭所述下壳体2101的用于清洁液体通过的管路；当所述阀组件2103位于第二位置时，所述堵头21032与所述下壳体2101的内壁面间隔一定距离，以打开所述下壳体2101的用于清洁液体通过的管路。
本公开中，所述下连接部21012的内径大于所述插入部21011的内径，至少部分堵头21032的直径大于所述插入部21011的内径，以当所述堵头21032的外壁面与所述插入部21011的内壁面接触时，封闭所述下壳体2101的用于清洁液体通过的管路；当所述堵头21032的外壁面与所述插入部21011的内壁面分离时，打开所述下壳体2101的用于清洁液体通过的管路。
优选地，所述导杆21031远离上壳体2102的一端形成有轴肩，弹簧2104的一端设置于所述轴肩，另一端设置于所述凸出部21013，并且所述弹簧2104处于预压缩状态，以通过所述弹簧2104的弹力使得所述接头组件210为常闭状态。
本公开中，所述堵头21032形成为倒锥形。
本公开中，所述接头组件210还包括密封件2105，所述密封件设置于所述下壳体的插入部21011的外部，以使得所述接头组件210与连接接口之间形成密封。
在本公开的一个可选实施例中，所述上壳体2102包括：
上连接部21021，所述上连接部21021连接于所述下连接部21012；以及
上连接管21022，所述上连接管21022的一端设置于所述上连接部21021，以通过将所述上连接管21022连接于清洁液体存储部，使得清洁液体存储部连接于所述清洁液体供给部151。
图16是根据本公开的另一个实施方式的基站的结构示意图。
如图16所示，该基站与上述实施例的不同之处在于，所述充电结构160设置于所述盖板190上，以通过所述充电结构160向表面清洁设备提供电能。
优选地，所述盖板190的第一倾斜面1901和第二倾斜面1902形成为连续的弧面，所述充电结构160从所述连续的弧面伸出。
当然，所述充电结构160可以从所述第一倾斜面1901伸出或者从所述第二倾斜面1902伸出。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例/方式”、“一些实施例/方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例/方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例/方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例/方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例/方式或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例/方式或示例以及不同实施例/方式或示例的特征进行结合和组合。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
本领域的技术人员应当理解，上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本公开，而并非是对本公开的范围进行限定。对于所属领域的技术人员而言，在上述公开的基础上还可以做出其它变化或变型，并且这些变化或变型仍处于本公开的范围内。

Claims (37)

1.一种基站，其特征在于，包括：
清洁液体供给部，所述清洁液体供给部用于存储清洁液体；
充电结构，所述充电结构用于向停靠于所述基站的表面清洁设备提供电能，并实现所述表面清洁设备的充电；
连接接口，所述连接接口连接至所述清洁液体供给部，当所述表面清洁设备停靠于所述基站时，所述表面清洁设备的清洁液体存储部连接于所述连接接口，以将所述清洁液体供给部的清洁液体通过所述连接接口输送至所述清洁液体存储部，或者将所述清洁液体存储部内的清洁液体通过所述连接接口输送至所述清洁液体供给部；
支撑组件，所述支撑组件设置于所述基站的外壳，用于支撑所述连接接口；以及
盖板，所述盖板能够在第一位置和第二位置之间运动，其中，当所述盖板位于所述第一位置时，所述盖板覆盖所述连接接口，当所述盖板位于第二位置时，使得所述连接接口露出；
其中，所述连接接口所处的位置所在水平面低于充电结构所处的位置所在水平面，以使得充电结构和连接接口在高度上分离。
2.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述充电结构包括多个插针，所述表面清洁设备的充电接头为插孔，当将所述充电结构的插针插入所述充电接头的插孔内时，所述基站向所述表面清洁设备提供电能；或者，所述充电结构包括多个插孔，所述插孔的至少部分内表面形成为电极，所述表面清洁设备的充电接头为插针，当将所述表面清洁设备的插针插入于所述充电结构的插孔内时，所述基站向所述表面清洁设备提供电能。
3.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述充电结构包括充电触点，所述表面清洁设备的充电接头包括充电触片，当将所述充电结构的充电触点接触所述充电接头的充电触片时，所述基站向所述表面清洁设备提供电能；或者，所述充电结构包括充电触片，所述表面清洁设备的充电接头包括充电触点，当将所述充电结构的充电触片接触所述充电接头的充电触点时，所述基站向所述表面清洁设备提供电能。
4.如权利要求2或3所述的基站，其特征在于，所述充电结构设置于所述盖板上方的基站的外壳，或者设置于所述盖板。
5.如权利要求4所述的基站，其特征在于，所述支撑组件包括：
支撑板，所述支撑板固定于所述基站的外壳，或者所述支撑板形成为所述基站的外壳的一部分；以及
支撑座，所述支撑座从所述支撑板向上延伸预设距离，并且所述支撑座的中部呈中空状，以使得所述连接接口的部分穿过所述支撑座，连接于第二管路。
6.如权利要求5所述的基站，其特征在于，所述连接接口包括：
主体部，所述主体部呈中空状；
底座部，所述底座部设置于所述主体部的下端，用于封闭所述主体部的下端；
法兰部，所述法兰部设置于所述主体部的上端，并且所述法兰部的外边缘的至少一部分支撑在所述支撑座的上端；以及
连接接头，所述连接接头设置于底座部，并位于所述底座部的下方，以通过所述连接接头连接于第二管路，使得连接接口与所述清洁液体供给部连通。
7.如权利要求6所述的基站，其特征在于，所述连接接口还包括：
抵触件，所述抵触件的一端设置于所述底座部，并且位于所述底座部的上方，所述抵触件的上端与所述底座部间隔预设距离。
8.如权利要求7所述的基站，其特征在于，所述抵触件的横截面为十字形。
9.如权利要求6所述的基站，其特征在于，沿远离所述基站的外壳的方向，所述法兰部的上端向上倾斜。
10.如权利要求1所述的基站，其特征在于，当向所述盖板施加外力时，所述盖板从第一位置运动至第二位置，并且当外力消失时，所述盖板从第二位置运动至第一位置。
11.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述盖板的一端可转动地连接于所述基站的外壳，并且所述盖板能够在所述第一位置和第二位置之间摆动。
12.如权利要求11所述的基站，其特征在于，所述盖板连接于所述基站的外壳的一端位于所述基站的外壳的内部，所述基站的外壳开设有通孔，当所述盖板运动至第一位置时，所述盖板的下端穿过所述基站的外壳，位于所述基站的外壳的外部，并覆盖所述连接接口；当所述盖板运动至第二位置时，所述盖板的至少部分位于所述基站的外壳内。
13.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述盖板可滑动地设置于所述基站的壳体，并且所述盖板能够在所述第一位置和第二位置之间移动。
14.如权利要求11或13所述的基站，其特征在于，所述连接接口的法兰部上形成有限位部，当所述盖板位于所述第一位置时，所述限位部与所述盖板的表面的至少一部分接触，以通过所述限位部限制所述盖板的进一步移动。
15.如权利要求14所述的基站，其特征在于，所述限位部形成于所述法兰远离所述基站的外壳的部分。
16.如权利要求1所述的基站，其特征在于，当所述盖板位于所述第一位置时，所述盖板的上表面形成为第一倾斜面，其中所述第一倾斜面沿远离所述基站的外壳的方向向下倾斜。
17.如权利要求16所述的基站，其特征在于，当所述盖板位于所述第一位置时，所述盖板远离所述基站的外壳的部分形成为第二倾斜面，其中所述第二倾斜面与水平面之间形成一夹角。
18.如权利要求17所述的基站，其特征在于，所述连接接口远离所述基站的外壳的部分形成为第三倾斜面，其中所述第三倾斜面与水平面之间形成一夹角。
19.如权利要求18所述的基站，其特征在于，当通过支撑组件支撑所述连接接口时，所述支撑组件远离所述基站的外壳的部分形成为第四倾斜面，其中所述第四倾斜面与水平面之间形成一夹角，以便清洁液体沿所述第一倾斜面、第二倾斜面、第三倾斜面和/或第四倾斜面向下流动。
20.如权利要求5所述的基站，其特征在于，所述支撑板的上表面形成为倾斜表面，其中，所述支撑板的上表面沿远离所述基站的壳体的方向向下倾斜，以防止清洁液体在支撑板的上表面积聚。
21.如权利要求20所述的基站，其特征在于，所述支撑板的上表面与水平面的夹角为10-20°。
22.如权利要求5所述的基站，其特征在于，所述支撑板的前表面形成为倾斜表面，其中，所述支撑板的前表面沿接近所述基站的壳体的方向向下倾斜，以使得清洁液体从支撑板的上表面直接落入托盘部。
23.如权利要求22所述的基站，其特征在于，所述支撑板的前表面与竖直面的夹角为10-20°。
24.如权利要求22所述的基站，其特征在于，在所述支撑板的前表面的下沿临近位置设置有集水槽。
25.一种表面清洁系统，其特征在于，包括权利要求1至24中任一项所述的基站。
26.如权利要求25所述的表面清洁系统，其特征在于，还包括：
表面清洁设备，所述表面清洁设备包括清洁液体存储部，以当所述清洁液体存储部与所述清洁液体供给部通过连接接口连通时，实现所述清洁液体存储部和清洁液体供给部之间的流体交互。
27.如权利要求26所述的表面清洁系统，其特征在于，所述表面清洁设备还包括：
充电接头，所述充电接头与所述充电结构配合，以便所述基站向所述表面清洁设备提供电能。
28.如权利要求26所述的表面清洁系统，其特征在于，所述表面清洁设备还包括：
接头组件，所述接头组件连接于所述清洁液体存储部，以当将所述接头组件插入所述连接接口时，所述清洁液体存储部与所述清洁液体供给部之间连通。
29.如权利要求28所述的表面清洁系统，其特征在于，所述接头组件包括：
下壳体，所述下壳体形成有用于清洁液体通过的管路；
上壳体，所述上壳体连接于所述下壳体，并且所述上壳体形成有用于清洁液体通过的管路；以及
阀组件，所述阀组件设置于所述下壳体内，并能够沿所述下壳体的管路的方向运动，以当所述阀组件处于第一位置时，所述阀组件封闭所述下壳体的用于清洁液体通过的管路，当所述阀组件处于第二位置时，所述阀组件打开所述下壳体的用于清洁液体通过的管路。
30.如权利要求29所述的表面清洁系统，其特征在于，所述下壳体包括：
插入部，当所述接头组件连接于所述连接接口时，至少部分插入部插入于所述连接接口。
31.如权利要求30所述的表面清洁系统，其特征在于，所述下壳体还包括：
下连接部，所述下连接部连接于所述插入部，并且所述下连接部上形成有用于固定所述下连接部的安装部。
32.如权利要求31所述的表面清洁系统，其特征在于，在所述下壳体内壁形成有向所述下壳体内部延伸的凸出部，其中，所述凸出部形成有通孔；所述阀组件沿所述通孔的内壁面滑动。
33.如权利要求32所述的表面清洁系统，其特征在于，所述阀组件包括：
导杆，所述导杆可滑动地设置于所述凸出部，并且所述导杆的两端位于所述凸出部的两侧；以及
堵头，所述堵头设置于导杆接近所述上壳体的一端，并且当所述阀组件位于第一位置时，所述堵头与所述下壳体的内壁面密封接触，以封闭所述下壳体的用于清洁液体通过的管路；当所述阀组件位于第二位置时，所述堵头与所述下壳体的内壁面间隔一定距离，以打开所述下壳体的用于清洁液体通过的管路。
34.如权利要求33所述的表面清洁系统，其特征在于，所述下连接部的内径大于所述插入部的内径，至少部分堵头的直径大于所述插入部的内径，以当所述堵头的外壁面与所述插入部的内壁面接触时，封闭所述下壳体的用于清洁液体通过的管路；当所述堵头的外壁面与所述插入部的内壁面分离时，打开所述下壳体的用于清洁液体通过的管路。
35.如权利要求34所述的表面清洁系统，其特征在于，所述导杆远离上壳体的一端形成有轴肩，弹簧的一端设置于所述轴肩，另一端设置于所述凸出部，并且所述弹簧处于预压缩状态，以通过所述弹簧的弹力使得所述接头组件为常闭状态。
36.如权利要求35所述的表面清洁系统，其特征在于，所述堵头形成为倒锥形。
37.如权利要求35所述的表面清洁系统，其特征在于，所述上壳体包括：
上连接部，所述上连接部连接于所述下连接部；以及
上连接管，所述上连接管的一端设置于所述上连接部，以通过将所述上连接管连接于清洁液体存储部，使得清洁液体存储部连接于所述清洁液体供给部。
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