CN215899546U - 表面清洁系统 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种表面清洁系统，其包括：基站，所述基站包括充电结构；以及表面清洁设备，所述表面清洁设备包括充电耦合结构，当所述表面清洁设备停靠于基站时，所述充电耦合结构和充电结构的连接，以使得基站向表面清洁设备提供电能；以及检测传感器，所述检测传感器设置在所述基站和所述表面清洁设备至少之一上，所述检测传感器用于检测所述表面清洁设备是否停靠于所述基站。

Description

表面清洁系统

技术领域

本公开涉及一种表面清洁系统。

背景技术

当今的表面清洁装置用于湿清洁硬地板或短毛地毯。该装置通常具有一个或多个由毛织材料制成的滚刷或清洁盘，它们可以通过添加水或水/清洁剂混合物来擦洗地板上的顽固污垢。

当机器在污垢上移动时，已经被滚刷擦掉并被水或水/洗涤剂混合物溶解的污垢用沿滚刷运动方向排列的清洁头吸起，在设置清洁盘的技术中，可以不设置清洁头，污垢直接被清洁盘上的清洁材料吸附。

但是，顽固的污渍通常难以清理，奶渍、果汁和酱汁等，散落在地板表面，水分蒸发后，则会在清洁表面形成难以祛除的顽固污渍。通常，在擦洗过程中，并非所有这些顽固的污垢都可以通过吸尘来清除，因此其中一些残留在地板上，从而降低了清洁质量。

热水的清洁效果是显著有效的。因此，可以考虑通过加热水的方式进行清洁。但考虑到续航以及续水的问题，为了减少表面清洁装置自身的能量损耗，可以将该能量损耗转移到基站。因此，设置补水基站(基站)，并且基站上设置蓄水箱，并且设置对该蓄水箱内的水进行加热，将水加热至适合清理顽固污渍的温度并保持。

当设置补水基站时，该补水基站还能够对表面清洁装置进行充电。而且，为了能在表面清洁装置停靠于补水基站时对表面清洁装置进行充电，所述补水基站的充电电极始终处于通电状态，考虑到该充电电极与补水基站的连接接口距离较近，容易导致充电电极被腐蚀，从而无法与表面清洁设备形成稳定地/可靠地电路和通讯连接。

实用新型内容

为了解决上述技术问题之一，本公开提供了一种表面清洁系统。

根据本公开的一个方面，提供了一种表面清洁系统，其包括：

基站，所述基站包括充电结构；

表面清洁设备，所述表面清洁设备包括充电耦合结构，当所述表面清洁设备停靠于基站时，所述充电耦合结构和充电结构的连接，以使得基站向表面清洁设备提供电能；以及

检测传感器，所述检测传感器设置在所述基站和所述表面清洁设备至少之一上，所述检测传感器用于检测所述表面清洁设备是否停靠于所述基站。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述检测传感器包括开关，当所述表面清洁设备停靠于基站时，所述开关被触发。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述表面清洁设备包括信号发生部，所述信号发生部用于向外发射信号；其中，所述检测传感器包括信号接收部，所述信号接收部用于接收所述信号发生部所发射的信号，并根据接收的信号判断表面清洁设备是否停靠于基站；

或者，所述基站包括信号发生部，所述信号发生部用于向外发射信号；其中，所述检测传感器包括信号接收部，所述信号接收部用于接收所述信号发生部所发射的信号，并根据接收的信号判断表面清洁设备是否停靠于所述基站。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述信号发生部包括磁性部，所述磁性部形成磁场；所述信号接收部根据接收到的所述磁性部发出的磁场信号，判断表面清洁设备是否停靠于基站。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述信号接收部包括干簧管和/或霍尔传感器。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述表面清洁设备的信号发生部邻近所述充电耦合结构设置；或者，所述基站的信号发生部设置于邻近所述基站的充电结构设置。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述表面清洁设备包括机身，所述充电耦合结构和磁性部均设置于所述机身，并且所述磁性部位于所述充电耦合结构的下方。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述表面清洁设备包括接头组件，以通过所述接头组件向所述表面清洁设备提供清洁液体，其中，所述磁性部位于所述接头组件的上方。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述基站包括：

外壳，所述检测传感器设置于所述外壳。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述基站包括：

盖板，所述检测传感器设置于所述盖板。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述检测传感器设置于所述盖板的内部。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述基站还包括连接接口，当所述表面清洁设备停靠于基站时，通过所述连接接口向所述表面清洁设备提供清洁液体；

其中，所述盖板能够在第一位置和第二位置之间运动，其中，当所述盖板位于所述第一位置时，所述盖板覆盖所述连接接口，当所述盖板位于第二位置时，使得所述连接接口露出。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述基站还包括：

充电结构，所述充电结构用于向停靠于所述基站的表面清洁设备提供电能，并实现所述表面清洁设备的充电；

其中，所述充电结构设置于所述盖板，所述检测传感器位于所述充电结构和连接接口之间的位置。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述基站还包括：

导向致动结构，所述导向致动结构设置于所述盖板，所述表面清洁设备能够通过所述导向致动结构致动所述盖板，且被所述导向致动结构导向。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述导向致动结构位于所述充电结构上方，并临近所述充电结构。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述导向致动结构为相对于所述盖板表面的凸起结构或凹陷结构。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述盖板包括连续的弧面，所述导向致动结构位于所述连续的弧面上。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述连续的弧面至少包括相互邻接设置的第一弧面和第二弧面，所述导向致动结构位于所述第一弧面或第二弧面上。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述导向致动结构包括至少一个导向片，所述导向片沿着所述盖板的长度方向设置；或者，所述导向致动结构包括至少一个圆柱形凸起或者半球形凸起。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁系统，所述盖板包括连续的弧面，所述充电结构位于所述连续的弧面上。

附图说明

附图示出了本公开的示例性实施方式，并与其说明一起用于解释本公开的原理，其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解，并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。

图1是根据本公开的一个实施方式的表面清洁系统的结构示意图。

图2是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图。

图3是图2的A部放大示意图。

图4是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图。

图5是根据本公开的一个实施方式的基站的另一角度结构示意图。

图6是图5的B部放大示意图。

图7是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图。

图8是图7的C部放大示意图。

图中附图标记具体为：

100基站

110检测传感器

140导向致动结构

141导向片

142固定部

151清洁液体供给部

160充电结构

165外壳

170连接接口

190盖板

191第一弧面

192第二弧面

200表面清洁设备

210清洁液体存储部

220充电耦合结构

230接头组件

240机身

250信号发生部。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于解释相关内容，而非对本公开的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本公开相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本公开中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本公开的技术方案。

除非另有说明，否则示出的示例性实施方式/实施例将被理解为提供可以在实践中实施本公开的技术构思的一些方式的各种细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离本公开的技术构思的情况下，各种实施方式/实施例的特征可以另外地组合、分离、互换和/或重新布置。

在附图中使用交叉影线和/或阴影通常用于使相邻部件之间的边界变得清晰。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在与否均不传达或表示对部件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、示出的部件之间的共性和/或部件的任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或者要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述性的目的，可以夸大部件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以以不同于所描述的顺序来执行具体的工艺顺序。例如，可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外，同样的附图标记表示同样的部件。

当一个部件被称作“在”另一部件“上”或“之上”、“连接到”或“结合到”另一部件时，该部件可以直接在所述另一部件上、直接连接到或直接结合到所述另一部件，或者可以存在中间部件。然而，当部件被称作“直接在”另一部件“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一部件时，不存在中间部件。为此，术语“连接”可以指物理连接、电气连接等，并且具有或不具有中间部件。

为了描述性目的，本公开可使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”和“侧 (例如，如在“侧壁”中)”等的空间相对术语，从而来描述如附图中示出的一个部件与另一(其它)部件的关系。除了附图中描绘的方位之外，空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果附图中的设备被翻转，则被描述为“在”其它部件或特征“下方”或“之下”的部件将随后被定位为“在”所述其它部件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包含“上方”和“下方”两种方位。此外，设备可被另外定位(例如，旋转90度或者在其它方位处)，如此，相应地解释这里使用的空间相对描述语。

这里使用的术语是为了描述具体实施例的目的，而不意图是限制性的。如这里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个(种、者)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。此外，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”以及它们的变型时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组。还要注意的是，如这里使用的，术语“基本上”、“大约”和其它类似的术语被用作近似术语而不用作程度术语，如此，它们被用来解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供的值的固有偏差。

图1是根据本公开的一个实施方式的表面清洁系统的结构示意图。图2是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图。图3是图2的A 部放大示意图。图4是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图。

图5是根据本公开的一个实施方式的基站的另一角度结构示意图。图6 是图5的B部放大示意图。

如图1至图6所示，本公开提供一种表面清洁系统，其包括：

基站100，所述基站100包括充电结构160；以及

表面清洁设备200，所述表面清洁设备200包括充电耦合结构220，当所述表面清洁设备200停靠于基站100时，所述充电耦合结构220和充电结构160的连接，以使得基站100向表面清洁设备200提供电能；以及

检测传感器110，所述检测传感器110设置在所述基站100和所述表面清洁设备200至少之一上，所述检测传感器110用于检测所述表面清洁设备200是否停靠于所述基站100。

本公开中，图1仅仅示出了检测传感器110设置于所述基站100的情形，本领域技术人员根据其掌握的技术常识即可以将检测传感器110 设置于表面清洁设备。

更优选地，当所述表面清洁设备200停靠于基站100时，所述基站 100的充电电极处于带电状态；当所述表面清洁设备200从所述基站100 离开时，即所述表面清洁设备200并未停靠于基站100时，所述基站100 的充电电极处于不带电状态，以此有效地解决了充电电极的腐蚀问题。

在本公开的一个可选实施例中，所述检测传感器110包括开关，当所述表面清洁设备200停靠于基站100时，所述开关被触发；也就是说，可以通过开关(此处开关并不限于传统定义的机械开关，例如行程开关或者微动开关等，还可以包括光遮断开关等)来实现对表面清洁设备200 是否停靠于基站100的检测；其中，当表面清洁设备200停靠于基站100 时，触发所述开关，由此判断表面清洁设备200停靠于基站100；相应地，当表面清洁设备200未停靠于基站100时，所述开关复位，由此判断表面清洁设备200未停靠于基站100。

图7是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图。图8是图7的C部放大示意图。

作为另一种实现形式，如图7和图8所示，所述表面清洁设备200 包括信号发生部250，所述信号发生部250用于向外发射信号；

其中，所述检测传感器110包括信号接收部，所述信号接收部用于接收所述信号发生部250所发射的信号，并根据接收的信号判断表面清洁设备200是否停靠于基站100。

或者，所述基站100包括信号发生部，所述信号发生部用于向外发射信号；其中，所述检测传感器110包括信号接收部，所述信号接收部用于接收所述信号发生部所发射的信号，并根据接收的信号判断表面清洁设备200是否停靠于基站100。

例如，所述信号发生部250包括磁性部，所述磁性部形成磁场；所述信号接收部根据接收到的所述磁性部发出的磁场信号，判断表面清洁设备200是否停靠于基站100。

此时，所述信号接收部可以包括干簧管和/或霍尔传感器。

根据本公开至少一个实施方式，所述表面清洁设备200的信号发生部250邻近所述充电耦合结构220设置；或者，所述基站100的信号发生部临近所述充电结构160设置。

更具体地，所述表面清洁设备200包括机身240，所述充电耦合结构 220和磁性部均设置于所述机身240，并且所述磁性部位于所述充电耦合结构220的下方。

更优选地，所述表面清洁设备200包括接头组件230，以通过所述接头组件230向所述表面清洁设备200提供清洁液体，其中，所述磁性部位于所述接头组件230的上方。

也就是说，所述磁性部位于所述充电耦合结构220和接头组件230 之间的位置。

本公开中，如图4所示，所述基站100包括：

外壳165，所述检测传感器110设置于所述外壳165；例如，当所述检测传感器110为开关时，所述开关的至少部分位于所述外壳165的外部，以使得所述表面清洁设备200能够接触所述开关位于所述外壳165 外部的部分，以触发所述开关。

当所述检测传感器110为干簧管或者霍尔传感器时，所述检测传感器110可以设置于所述外壳165的外部，也可以设置在所述外壳165的内部；并且优选地，所述检测传感器110设置于所述外壳165的内部。

作为另一种实现形式，如图2和图3所示，所述基站100包括：

盖板190，所述检测传感器110设置于所述盖板190；相似地，当所述检测传感器110为开关时，所述开关的至少部分位于所述盖板190的外部；另一方面，当所述检测传感器110为干簧管或者霍尔传感器时，所述检测传感器110可以设置于所述盖板190的外部，也可以设置在所述盖板190的内部。

并且更优选地，所述检测传感器110设置于所述盖板190的内部。

在本公开的一个可选实施例中，如图2所示，所述基站100还包括连接接口170，当所述表面清洁设备200停靠于基站100时，通过所述连接接口170向所述表面清洁设备200提供清洁液体；

其中，所述盖板190能够在第一位置和第二位置之间运动，其中，当所述盖板190位于所述第一位置时，所述盖板190覆盖所述连接接口 170，当所述盖板190位于第二位置时，使得所述连接接口170露出。

也就是说，当所述表面清洁设备200与基站100建立流体连接时，所述连接接口170连接至所述清洁液体供给部151，当所述表面清洁设备 200停靠于所述基站100时，所述表面清洁设备200的清洁液体存储部 210连接于所述连接接口170，以将所述清洁液体供给部151的清洁液体通过所述连接接口170输送至所述清洁液体存储部210，或者将所述清洁液体存储部210内的清洁液体通过所述连接接口170输送至所述清洁液体供给部151。

在本公开的一个可选实施例中，如图2和图3所示，所述基站100 还包括：

充电结构160，所述充电结构160用于向停靠于所述基站100的表面清洁设备200提供电能，并实现所述表面清洁设备200的充电；

其中，所述充电结构160设置于所述盖板190，所述检测传感器110 位于所述充电结构160和连接接口170之间的位置。

优选地，所述充电结构160所处于的水平面位置高于所述连接接口 170所处于的水平面的位置。

根据本公开至少一个实施方式，所述基站100还包括：

导向致动结构140，所述导向致动结构140设置于所述盖板190，所述表面清洁设备200能够通过所述导向致动结构140致动所述盖板190，且被所述导向致动结构140导向。

作为一种实现形式，所述导向致动结构140位于所述充电结构160 上方，并临近所述充电结构160。

更优选地，所述导向致动结构140为相对于所述盖板190表面的凸起结构或凹陷结构。

本公开中，所述盖板190包括连续的弧面，所述充电结构160位于所述连续的弧面上。

更优选地，如图3所示，所述连续的弧面至少包括相互邻接设置的第一弧面191和第二弧面192，所述充电结构160位于所述第一弧面191 或第二弧面192上。

本公开中，所述盖板190包括连续的弧面，所述导向致动结构140 位于所述连续的弧面上。

所述连续的弧面至少包括相互邻接设置的第一弧面191和第二弧面 192，所述导向致动结构140位于所述第一弧面191或第二弧面192上。

在本公开的一个可选实施例中，所述导向致动结构140包括至少一个导向片141，所述导向片141沿着所述盖板190的长度方向设置；或者，所述导向致动结构140包括至少一个圆柱形凸起或者半球形凸起。

也就是说，一方面，所述导向致动结构140可以形成于所述盖板190 上，或者说所述导向致动结构140与所述盖板190一体成型；另一方面，所述导向致动结构140与所述盖板190分离设置，此时所述导向致动结构140与所述盖板190的位置相对固定，并且可以位于所述盖板190的外侧，例如直接固定于所述盖板190；或者，所述导向致动结构140还包括固定部142，所述固定部142固定于所述盖板190，并位于所述盖板190 的内侧；此时，所述盖板190上形成有开口，并使得固定于所述固定部 142上的导向片141穿过所述盖板190的开口位于所述盖板190的外部。

而且，所述导向致动结构140也可以为形成于所述盖板190的槽；或者，所述导向致动结构140包括固定部142，所述固定部142固定于所述盖板190，并且位于所述盖板190的内侧；所述固定部142上开设有槽，并且通过所述固定部142上开设的槽实现对所述盖板190的致动，并且也能够实现对所述表面清洁设备200的导向。

相似地，一方面，所述充电结构160可以设置于所述盖板190上，或者，所述充电结构160设置于所述导向致动结构140的固定部142上，此时，所述导向致动结构140的固定部142位于所述盖板190的内侧，所述盖板190上形成有开口，并使得固定于所述固定部142上的充电结构160穿过所述盖板190的开口位于所述盖板190的外部。

作为一种实现形式，所述充电结构160包括充电触点，所述表面清洁设备200的充电耦合结构220包括充电触片，当将所述充电结构160 的充电触点接触所述充电结构160的充电触片时，所述基站100向所述表面清洁设备200提供电能；或者，所述充电结构160包括充电触片，所述表面清洁设备200的充电耦合结构220包括充电触点，当将所述充电结构160的充电触片接触所述充电结构160的充电触点时，所述基站 100向所述表面清洁设备200提供电能。

本公开中，当所述充电结构160为充电触片时，所述充电结构160 的充电触片位于所述盖板190的内侧。或者，所述充电结构160的充电触片固定于所述导向致动结构140的固定部，并且位于所述导向致动结构140的内侧，此时，所述盖板190相对于所述充电结构160的充电触片的位置形成有开口，以使得所述表面清洁设备200的充电耦合结构220 的充电触点穿过所述盖板190的开口，与所述充电结构160的充电触片接触。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例/方式”、“一些实施例/ 方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例/ 方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例/方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例/方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例/方式或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例/方式或示例以及不同实施例/方式或示例的特征进行结合和组合。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

本领域的技术人员应当理解，上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本公开，而并非是对本公开的范围进行限定。对于所属领域的技术人员而言，在上述公开的基础上还可以做出其它变化或变型，并且这些变化或变型仍处于本公开的范围内。

Claims (20)

1.一种表面清洁系统，其特征在于，包括：

基站，所述基站包括充电结构；以及

表面清洁设备，所述表面清洁设备包括充电耦合结构，当所述表面清洁设备停靠于基站时，所述充电耦合结构和充电结构的连接，以使得基站向表面清洁设备提供电能；以及

检测传感器，所述检测传感器设置在所述基站和所述表面清洁设备至少之一上，所述检测传感器用于检测所述表面清洁设备是否停靠于所述基站。

2.如权利要求1所述的表面清洁系统，其特征在于，所述检测传感器包括开关，当所述表面清洁设备停靠于基站时，所述开关被触发。

3.如权利要求1所述的表面清洁系统，其特征在于，所述表面清洁设备包括信号发生部，所述信号发生部用于向外发射信号；其中，所述检测传感器包括信号接收部，所述信号接收部用于接收所述信号发生部所发射的信号，并根据接收的信号判断表面清洁设备是否停靠于基站；

或者，所述基站包括信号发生部，所述信号发生部用于向外发射信号；其中，所述检测传感器包括信号接收部，所述信号接收部用于接收所述信号发生部所发射的信号，并根据接收的信号判断表面清洁设备是否停靠于所述基站。

4.如权利要求3所述的表面清洁系统，其特征在于，所述信号发生部包括磁性部，所述磁性部形成磁场；所述信号接收部根据接收到的所述磁性部发出的磁场信号，判断表面清洁设备是否停靠于基站。

5.如权利要求4所述的表面清洁系统，其特征在于，所述信号接收部包括干簧管和/或霍尔传感器。

6.如权利要求3所述的表面清洁系统，其特征在于，所述表面清洁设备的信号发生部邻近所述充电耦合结构设置；或者，所述基站的信号发生部设置于邻近所述基站的充电结构设置。

7.如权利要求6所述的表面清洁系统，其特征在于，所述表面清洁设备包括机身，所述充电耦合结构和磁性部均设置于所述机身，并且所述磁性部位于所述充电耦合结构的下方。

8.如权利要求7所述的表面清洁系统，其特征在于，所述表面清洁设备包括接头组件，以通过所述接头组件向所述表面清洁设备提供清洁液体，其中，所述磁性部位于所述接头组件的上方。

9.如权利要求1所述的表面清洁系统，其特征在于，所述基站包括：

外壳，所述检测传感器设置于所述外壳。

10.如权利要求1所述的表面清洁系统，其特征在于，所述基站包括：

盖板，所述检测传感器设置于所述盖板。

11.如权利要求10所述的表面清洁系统，其特征在于，所述检测传感器设置于所述盖板的内部。

12.如权利要求11所述的表面清洁系统，其特征在于，所述基站还包括连接接口，当所述表面清洁设备停靠于基站时，通过所述连接接口向所述表面清洁设备提供清洁液体；

其中，所述盖板能够在第一位置和第二位置之间运动，其中，当所述盖板位于所述第一位置时，所述盖板覆盖所述连接接口，当所述盖板位于第二位置时，使得所述连接接口露出。

13.如权利要求12所述的表面清洁系统，其特征在于，所述基站还包括：

充电结构，所述充电结构用于向停靠于所述基站的表面清洁设备提供电能，并实现所述表面清洁设备的充电；

其中，所述充电结构设置于所述盖板，所述检测传感器位于所述充电结构和连接接口之间的位置。

14.如权利要求13所述的表面清洁系统，其特征在于，所述基站还包括：

导向致动结构，所述导向致动结构设置于所述盖板，所述表面清洁设备能够通过所述导向致动结构致动所述盖板，且被所述导向致动结构导向。

15.如权利要求14所述的表面清洁系统，其特征在于，所述导向致动结构位于所述充电结构上方，并临近所述充电结构。

16.如权利要求15所述的表面清洁系统，其特征在于，所述导向致动结构为相对于所述盖板表面的凸起结构或凹陷结构。

17.如权利要求14所述的表面清洁系统，其特征在于，所述盖板包括连续的弧面，所述导向致动结构位于所述连续的弧面上。

18.如权利要求17所述的表面清洁系统，其特征在于，所述连续的弧面至少包括相互邻接设置的第一弧面和第二弧面，所述导向致动结构位于所述第一弧面或第二弧面上。

19.如权利要求18所述的表面清洁系统，其特征在于，所述导向致动结构包括至少一个导向片，所述导向片沿着所述盖板的长度方向设置；或者，所述导向致动结构包括至少一个圆柱形凸起或者半球形凸起。

20.如权利要求14所述的表面清洁系统，其特征在于，所述盖板包括连续的弧面，所述充电结构位于所述连续的弧面上。

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