CN113413102B - 基站及表面清洁系统 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种基站，其包括：收纳部，所述收纳部形成有容置空间；以及附件安置部，所述附件安置部设置于所述容置空间，并且所述附件安置部的底部封闭，所述附件安置部的第一开口，所述附件安置部的侧部形成有第二开口；其中，通过所述附件安置部的侧部的第二开口进入所述附件安置部的气体从所述附件安置部的第一开口排出。本公开还提供一种表面清洁系统。

Description

基站及表面清洁系统

技术领域

本公开涉及一种基站及表面清洁系统。

背景技术

现有技术中的表面清洁装置通常可以用于加湿擦洗清洁硬地板或短毛地毯。这种清洁装置通常具有一个或多个由毛织材料制成的滚刷或清洁盘。可以通过添加水或水/清洁剂混合物来擦洗地板上的顽固污垢。

当清洁设备在污垢上移动时，已经被滚刷擦掉并被水或水/洗涤剂混合物溶解的污垢通过沿滚刷运动方向排列的清洁头吸起，在设置清洁盘的技术中，可以不设置清洁头，污垢直接被清洁盘上的清洁材料吸附。

当表面清洁设备完成表面清洁后，滚刷或者清洁盘比较脏污，并且含有大量的清洁液体。如果不及时将滚刷或者清洁盘清洁和烘干，将会产生异味，严重影响使用体验。

基于此，设置单独的烘干设备是有效的，但是，现有技术的收纳部纵深较大，当掉入脏东西后无法清洁，容易在收纳部中产生异味。

发明内容

为了解决上述技术问题之一，本公开提供了一种基站及表面清洁系统。

根据本公开的一个方面，提供了一种基站，其包括：

收纳部，所述收纳部形成有容置空间；以及

附件安置部，所述附件安置部设置于所述容置空间，所述附件安置部形成有至少一个附件容纳部；所述附件安置部形成有第一开口和第二开口，所述附件安置部的第一开口和第二开口之间形成有流体通路；

其中，所述流体通路至少通过所述附件容纳部中的至少一个。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述收纳部包括可开启的上端开口，所述附件安置部从所述收纳部的上端开口进入所述收纳部或者从所述收纳部取出。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，还包括：

上盖，所述上盖可枢转地设置于所述收纳部，并通过所述上盖盖合或者打开所述收纳部的上端开口。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述收纳部形成有间隙，所述间隙能够连通所述收纳部的内部和外部，以形成当所述附件安置部安装于所述收纳部内时，形成从所述附件安置部的所述第二开口至所述收纳部外部的流体通路。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述间隙形成于所述上盖与所述收纳部的上端之间。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述附件安置部的上端形成有取放部，以通过操作所述取放部将所述附件安置部放入收纳部的容置空间，或者从所述收纳部的容置空间内取出。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述附件容纳部用于容纳含有水分的部件，以使得含有水分的部件在所述附件容纳部内被去除水分。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述含有水分的部件包括：滚刷、清洁刷和过滤部件。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述附件安置部的下端形成有排水孔，以使得所述含有水分的部件所排出的水通过所述排水孔排出至所述附件安置部的外部。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述上盖的枢转轴线垂直于所述收纳部的轴线，并且所述间隙形成于所述上盖的远离枢转轴线的位置。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述上盖的下表面形成有环形的下延伸部，所述下延伸部远离所述上盖的枢转轴线的位置处向内凹陷；所述收纳部的上端相对于所述下延伸部的凹陷处形成凹陷部；并且所述下延伸部的凹陷处与所述收纳部的凹陷部之间间隔预设距离。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述上盖的下表面形成有翻边部，所述翻边部形成于所述下延伸部的外部，并且所述翻边部与所述下延伸部之间形成有环形凹槽；所述收纳部的凹陷部位于所述环形凹槽的正下方。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述收纳部的上端的至少部分与所述上盖的翻边部接触，并且所述收纳部的凹陷部的上端与所述环形凹槽的顶壁之间间隔预设距离。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，还包括：

送风装置，所述送风装置设置于所述收纳部或者附件安置部，以通过所述送风装置将预定温度的气体送入所述附件安置部的内部。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，当所述送风装置设置于所述收纳部时，所述收纳部的部分内壁形成为气流通道，所述气流通道与所述附件安置部的第二开口连通。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，还包括：

支撑装置，所述支撑装置用于支撑所述收纳部。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，所述收纳部包括：

箱体，所述箱体设置于所述支撑装置；以及

底座部，所述底座部的外边缘设置于所述箱体和底座部之间；

其中，所述附件安置部的底部设置于所述底座部上。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，还包括：

清洁液体供给部，所述清洁液体供给部设置于所述支撑装置，用于存储清洁液体。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，还包括：

连接接口，所述连接接口设置于所述收纳部和清洁液体供给部之间，并且与所述清洁液体供给部连接。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，还包括：

基座，所述支撑装置设置于所述基座，当表面清洁设备停靠于所述基站时，所述表面清洁设备设置于所述基座上。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，还包括：

盖板，所述盖板能够在第一位置和第二位置之间运动，其中，当所述盖板位于所述第一位置时，所述盖板覆盖所述连接接口，当所述盖板位于第二位置时，使得所述连接接口露出。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，当所述表面清洁设备停靠于基站时，通过所述连接接口向所述表面清洁设备提供清洁液体。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，还包括：

充电结构，所述充电结构用于向停靠于所述基站的表面清洁设备提供电能，并实现所述表面清洁设备的充电；

其中，所述充电结构设置于所述盖板。

根据本公开的至少一个实施方式的基站，还包括：

导向致动结构，所述导向致动结构设置于所述盖板，所述表面清洁设备能够通过所述导向致动结构致动所述盖板，且被所述导向致动结构导向。

根据本公开的另一方面，提供一种表面清洁系统，其包括上述的基站。

附图说明

附图示出了本公开的示例性实施方式，并与其说明一起用于解释本公开的原理，其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解，并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。

图1是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图。

图2是根据本公开的一个实施方式的上盖的结构示意图。

图3是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图(去除上盖)。

图4是根据本公开的一个实施方式的送风装置的结构示意图。

图5是根据本公开的一个实施方式的基站的姐欧股示意图。

图6是图5的A部放大示意图。

图7是根据本公开的一个实施方式的基站的分解结构示意图。

图8是根据本公开的一个实施方式的附件安置部容纳部件的状态图。

图9是根据本公开的一个实施方式的附件安置部的结构示意图。

图中附图标记具体为：

100基站

110收纳部

111凹陷部

112箱体

113底座部

120附件安置部

121第二开口

122取放部

123第一开口

124排水孔

130上盖

131下延伸部

132翻边部

140送风装置

150支撑装置

160连接接口

170基座

180盖板

181第一弧面

182第二弧面

190充电结构

210导向致动结构

220清洁液体供给部

230过滤部件

240滚刷

250清洁刷。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于解释相关内容，而非对本公开的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本公开相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本公开中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本公开的技术方案。

除非另有说明，否则示出的示例性实施方式/实施例将被理解为提供可以在实践中实施本公开的技术构思的一些方式的各种细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离本公开的技术构思的情况下，各种实施方式/实施例的特征可以另外地组合、分离、互换和/或重新布置。

在附图中使用交叉影线和/或阴影通常用于使相邻部件之间的边界变得清晰。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在与否均不传达或表示对部件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、示出的部件之间的共性和/或部件的任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或者要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述性的目的，可以夸大部件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以以不同于所描述的顺序来执行具体的工艺顺序。例如，可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外，同样的附图标记表示同样的部件。

当一个部件被称作“在”另一部件“上”或“之上”、“连接到”或“结合到”另一部件时，该部件可以直接在所述另一部件上、直接连接到或直接结合到所述另一部件，或者可以存在中间部件。然而，当部件被称作“直接在”另一部件“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一部件时，不存在中间部件。为此，术语“连接”可以指物理连接、电气连接等，并且具有或不具有中间部件。

为了描述性目的，本公开可使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”和“侧(例如，如在“侧壁”中)”等的空间相对术语，从而来描述如附图中示出的一个部件与另一(其它)部件的关系。除了附图中描绘的方位之外，空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果附图中的设备被翻转，则被描述为“在”其它部件或特征“下方”或“之下”的部件将随后被定位为“在”所述其它部件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包含“上方”和“下方”两种方位。此外，设备可被另外定位(例如，旋转90度或者在其它方位处)，如此，相应地解释这里使用的空间相对描述语。

这里使用的术语是为了描述具体实施例的目的，而不意图是限制性的。如这里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个(种、者)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。此外，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”以及它们的变型时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组。还要注意的是，如这里使用的，术语“基本上”、“大约”和其它类似的术语被用作近似术语而不用作程度术语，如此，它们被用来解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供的值的固有偏差。

图1是根据本公开的一个实施方式的基站100的结构示意图。图2是根据本公开的一个实施方式的上盖的结构示意图。图3是根据本公开的一个实施方式的基站的结构示意图(去除上盖)。图7是根据本公开的一个实施方式的基站的分解结构示意图。

如图1至图3，以及图7所示，本公开提供一种基站100，其包括：

收纳部110，所述收纳部110形成有容置空间；以及

附件安置部120，所述附件安置部120设置于所述容置空间，所述附件安置部形成有至少一个附件容纳部；所述附件安置部120形成有第一开口123和第二开口121，所述附件安置部的第一开口123和第二开口121之间形成有流体通路；

其中，所述流体通路至少通过所述附件容纳部中的至少一个。

当本公开的基站100在使用时，所述表面清洁设备的部件，例如清洁刷、滚刷和HEPA组件等均可以放置于所述附件安置部120的内部，并且通过附件安置部120的内部流动的气体，对这些部件进行干燥，防止这些部件产生异味；并且，当所述附件安置部120的底部掉入脏东西后，可以将附件安置部120从收纳部110取出并清洁，有效地防止了掉入的脏东西因无法清洁而产生的异味。

优选地，本公开中，所述第一开口123可以形成于所述附件安置部120的上端或者侧部，所述第二开口121可以形成于所述附件安置部120的侧部或者底部。

在本公开的一个可选实施例中，如图3所示，所述收纳部110包括可开启的上端开口，所述附件安置部120从所述收纳部110的上端开口进入所述收纳部110或者从所述收纳部110取出。

本公开中，优选地，如图1和图2所示，所述的基站100还包括：

上盖130，所述上盖130可枢转地设置于所述收纳部110，并通过所述上盖130盖合或者打开所述收纳部110的上端开口。

本公开中，所述收纳部110形成有间隙，所述间隙能够连通所述收纳部110的内部和外部，以形成当所述附件安置部120安装于所述收纳部110内时，形成从所述附件安置部120的所述第二开口121至所述收纳部110外部的流体通路。

优选地，所述间隙形成于所述上盖130与所述收纳部110的上端之间，以使得从所述附件安置部120的第二开口121进入流体通路的气体，从第一开口123排出后，再从所述上盖130与所述收纳部110的上端之间的间隙排出至收纳部110的外部。

也就是说，所述上盖130并非密封所述收纳部110的上端，而是在收纳部110和上盖130之间具有能够排气的结构，以使得附件安置部120的内部能够产生气体流动。

在本公开的一个可选实施例中，所述附件安置部120的上端形成有取放部122，以通过操作所述取放部122将所述附件安置部120放入收纳部110的容置空间，或者从所述收纳部110的容置空间内取出。

图8是根据本公开的一个实施方式的附件安置部容纳部件的状态图。

本公开中，如图8所示，所述附件容纳部用于容纳含有水分的部件，以使得含有水分的部件在所述附件容纳部内被去除水分。

例如，所述含有水分的部件包括：滚刷240、清洁刷250和过滤部件230。

也就是说，本公开中，所述附件容纳部的数量可以设置为三个，分别用于容纳所述滚刷、清洁刷和过滤部件，其中，所述过滤部件为HEPA过滤部件。

例如，容纳所述清洁刷的附件容纳部形成于所述附件安置部120的最下端；容纳所述滚刷的附件容纳部形成于所述附件安置部120的中部，并且容纳所述过滤部件的附件容纳部形成于所述附件安置部120的侧上部。

图9是根据本公开的一个实施方式的附件安置部的结构示意图。

根据本公开至少一个实施方式，如图9所示，所述附件安置部120的下端形成有排水孔124，以使得所述含有水分的部件所排出的水通过所述排水孔124排出至所述附件安置部120的外部。

在本公开的一个可选实施例中，所述上盖130的枢转轴线垂直于所述收纳部110的轴线，并且所述间隙形成于所述上盖130的远离枢转轴线的位置。

本公开中，所述上盖130的枢转轴线即所述上盖130绕所述收纳部110的转动轴线。

更优选地，如图2所示，所述上盖130的下表面形成有环形的下延伸部131，所述下延伸部131远离所述上盖130的枢转轴线的位置处向内凹陷；所述收纳部110的上端相对于所述下延伸部131的凹陷处形成凹陷部111；并且所述下延伸部131的凹陷处与所述收纳部110的凹陷部111之间间隔预设距离。

更优选地，如图2所示，所述上盖130的下表面形成有翻边部132，所述翻边部132形成于所述下延伸部131的外部，并且所述翻边部132与所述下延伸部131之间形成有环形凹槽；所述收纳部110的凹陷部111位于所述环形凹槽的正下方。

本公开中，所述收纳部110的上端的至少部分与所述上盖130的翻边部132接触，并且所述收纳部110的凹陷部111的上端与所述环形凹槽的顶壁之间间隔预设距离。

也就是说，除了所述收纳部110的凹陷部111之外，所述收纳部110的上端的其他部分均可以与所述上盖130的翻边部132接触，以此使得气体仅通过所述凹陷部111附近的部位排出至所述收纳部110的外部。

本公开中，所述收纳部110的凹陷部111形成为打开/盖合所述上盖130操作部，即用户操作所述上盖130相对于所述凹陷部111的部分，即可以打开所述上盖130；即该出风口位置位于扣手位置，隐藏式设计在不影响外观的同时实现出风功能。

图4是根据本公开的一个实施方式的送风装置的结构示意图。

根据本公开至少一个实施方式，如图4所示，所述的基站100还包括：

送风装置140，所述送风装置140设置于所述收纳部110或者附件安置部120，以通过所述送风装置140将预定温度的气体送入所述附件安置部120的内部；例如可以通过所述送风装置140箱所述附件安置部120的内部提供热气体。

在本公开的一个可选实施例中，当所述送风装置140设置于所述收纳部110时，所述收纳部110的部分内壁形成为气流通道，所述气流通道与所述附件安置部120的第二开口121连通。

作为一种实现形式，所述送风装置140为风扇。

本公开中，如图1所示，所述的基站100还包括：

支撑装置150，所述支撑装置150用于支撑所述收纳部110。

根据本公开至少一个实施方式，如图3和图4所示，所述收纳部110包括：

箱体112，所述箱体112设置于所述支撑装置150；以及

底座部113，所述底座部113的外边缘设置于所述箱体112和底座部113之间；

其中，所述附件安置部120的底部设置于所述底座部113上。

而且，所述凹陷部111形成于所述附件安置部120的上端。

根据本公开至少一个实施方式，所述的基站100还包括：

清洁液体供给部220，所述清洁液体供给部220设置于所述支撑装置150，用于存储清洁液体。

在本公开的一个可选实施例中，所述的基站100还包括：

连接接口160，所述连接接口160设置于所述收纳部110和清洁液体供给部220之间，并且与所述清洁液体供给部220连接。

图5是根据本公开的一个实施方式的基站的姐欧股示意图。图6是图5的A部放大示意图。

更优选地，如图1、图5和图6所示，所述的基站100还包括：

基座170，所述支撑装置150设置于所述基座170，当表面清洁设备停靠于所述基站100时，所述表面清洁设备设置于所述基座170上。

本公开中，优选地，所述基站100包括：

盖板180，所述盖板180能够在第一位置和第二位置之间运动，其中，当所述盖板180位于所述第一位置时，所述盖板180覆盖所述连接接口160，当所述盖板180位于第二位置时，使得所述连接接口160露出。

其中，当所述表面清洁设备停靠于基站100时，通过所述连接接口160向所述表面清洁设备提供清洁液体。

在本公开的一个可选实施例中，所述的基站100还包括：

充电结构190，所述充电结构190用于向停靠于所述基站100的表面清洁设备提供电能，并实现所述表面清洁设备的充电；

其中，所述充电结构190设置于所述盖板180。

本公开中，所述的基站100还包括：

导向致动结构210，所述导向致动结构210设置于所述盖板180，所述表面清洁设备能够通过所述导向致动结构210致动所述盖板180，且被所述导向致动结构210导向。

优选地，所述导向致动结构210位于所述充电结构190上方，并临近所述充电结构190。

例如，所述导向致动结构210为相对于所述盖板180表面的凸起结构或凹陷结构。

其中，所述盖板180包括连续的弧面，所述导向致动结构210位于所述连续的弧面上。

在本公开的一个可选实施例中，如图6所示，所述连续的弧面至少包括相互邻接设置的第一弧面181和第二弧面182，所述导向致动结构210位于所述第一弧面181或第二弧面182上。

所述导向致动结构210包括至少一个导向片，所述导向片沿着所述盖板180的长度方向设置；或者，所述导向致动结构210包括至少一个圆柱形凸起或者半球形凸起。

本公开中，所述盖板180包括连续的弧面，所述充电结构190位于所述连续的弧面上。

根据本公开的另一方面，本公开还提供一种表面清洁系统，其包括上述的基站100。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例/方式”、“一些实施例/方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例/方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例/方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例/方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例/方式或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例/方式或示例以及不同实施例/方式或示例的特征进行结合和组合。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

本领域的技术人员应当理解，上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本公开，而并非是对本公开的范围进行限定。对于所属领域的技术人员而言，在上述公开的基础上还可以做出其它变化或变型，并且这些变化或变型仍处于本公开的范围内。

Claims (24)

1.一种基站，其特征在于，包括：

收纳部，所述收纳部形成有容置空间；以及

附件安置部，所述附件安置部设置于所述容置空间，所述附件安置部形成有至少一个附件容纳部；所述附件安置部形成有第一开口和第二开口，所述附件安置部的第一开口和第二开口之间形成有流体通路；所述附件安置部能够从收纳部取出并清洁；所述收纳部包括可开启的上端开口，所述附件安置部从所述收纳部的上端开口进入所述收纳部或者从所述收纳部取出；

其中，所述流体通路至少通过所述附件容纳部中的至少一个，表面清洁设备的部件可放置于所述附件安置部的内部，通过附件安置部的内部流动的气体，对表面清洁设备的部件进行干燥。

2.如权利要求1所述的基站，其特征在于，还包括：

上盖，所述上盖可枢转地设置于所述收纳部，并通过所述上盖盖合或者打开所述收纳部的上端开口。

3.如权利要求2所述的基站，其特征在于，所述收纳部形成有间隙，所述间隙能够连通所述收纳部的内部和外部，以形成当所述附件安置部安装于所述收纳部内时，形成从所述附件安置部的所述第二开口至所述收纳部外部的流体通路。

4.如权利要求3所述的基站，其特征在于，所述间隙形成于所述上盖与所述收纳部的上端之间。

5.如权利要求3所述的基站，其特征在于，所述附件安置部的上端形成有取放部，以通过操作所述取放部将所述附件安置部放入收纳部的容置空间，或者从所述收纳部的容置空间内取出。

6.如权利要求3所述的基站，其特征在于，所述附件容纳部用于容纳含有水分的部件，以使得含有水分的部件在所述附件容纳部内被去除水分。

7.如权利要求6所述的基站，其特征在于，所述含有水分的部件包括：滚刷、清洁刷和过滤部件。

8.如权利要求6所述的基站，其特征在于，所述附件安置部的下端形成有排水孔，以使得所述含有水分的部件所排出的水通过所述排水孔排出至所述附件安置部的外部。

9.如权利要求4所述的基站，其特征在于，所述上盖的枢转轴线垂直于所述收纳部的轴线，并且所述间隙形成于所述上盖的远离枢转轴线的位置。

10.如权利要求4所述的基站，其特征在于，所述上盖的下表面形成有环形的下延伸部，所述下延伸部远离所述上盖的枢转轴线的位置处向内凹陷；所述收纳部的上端相对于所述下延伸部的凹陷处形成凹陷部；并且所述下延伸部的凹陷处与所述收纳部的凹陷部之间间隔预设距离。

11.如权利要求10所述的基站，其特征在于，所述上盖的下表面形成有翻边部，所述翻边部形成于所述下延伸部的外部，并且所述翻边部与所述下延伸部之间形成有环形凹槽；所述收纳部的凹陷部位于所述环形凹槽的正下方。

12.如权利要求11所述的基站，其特征在于，所述收纳部的上端的至少部分与所述上盖的翻边部接触，并且所述收纳部的凹陷部的上端与所述环形凹槽的顶壁之间间隔预设距离。

13.如权利要求1所述的基站，其特征在于，还包括：

送风装置，所述送风装置设置于所述收纳部或者附件安置部，以通过所述送风装置将预定温度的气体送入所述附件安置部的内部。

14.如权利要求13所述的基站，其特征在于，当所述送风装置设置于所述收纳部时，所述收纳部的部分内壁形成为气流通道，所述气流通道与所述附件安置部的第二开口连通。

15.如权利要求1所述的基站，其特征在于，还包括：

支撑装置，所述支撑装置用于支撑所述收纳部。

16.如权利要求15所述的基站，其特征在于，所述收纳部包括：

箱体，所述箱体设置于所述支撑装置；以及

底座部，所述底座部的外边缘设置于所述箱体和底座部之间；

其中，所述附件安置部的底部设置于所述底座部上。

17.如权利要求15所述的基站，其特征在于，还包括：

清洁液体供给部，所述清洁液体供给部设置于所述支撑装置，用于存储清洁液体。

18.如权利要求17所述的基站，其特征在于，还包括：

连接接口，所述连接接口设置于所述收纳部和清洁液体供给部之间，并且与所述清洁液体供给部连接。

19.如权利要求18所述的基站，其特征在于，还包括：

基座，所述支撑装置设置于所述基座，当表面清洁设备停靠于所述基站时，所述表面清洁设备设置于所述基座上。

20.如权利要求19所述的基站，其特征在于，还包括：

盖板，所述盖板能够在第一位置和第二位置之间运动，其中，当所述盖板位于所述第一位置时，所述盖板覆盖所述连接接口，当所述盖板位于第二位置时，使得所述连接接口露出。

21.如权利要求20所述的基站，其特征在于，当所述表面清洁设备停靠于基站时，通过所述连接接口向所述表面清洁设备提供清洁液体。

22.如权利要求21所述的基站，其特征在于，还包括：

充电结构，所述充电结构用于向停靠于所述基站的表面清洁设备提供电能，并实现所述表面清洁设备的充电；

其中，所述充电结构设置于所述盖板。

23.如权利要求20所述的基站，其特征在于，还包括：

导向致动结构，所述导向致动结构设置于所述盖板，所述表面清洁设备能够通过所述导向致动结构致动所述盖板，且被所述导向致动结构导向。

24.一种表面清洁系统，其特征在于，包括权利要求1-23中任一项所述的基站。

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