WO2005079130A1

WO2005079130A1 - 黒化処理面又は層を有する銅箔

Info

Publication number: WO2005079130A1
Application number: PCT/JP2005/000884
Authority: WO
Inventors: Mikio Hanafusa
Original assignee: Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
Priority date: 2004-02-17
Filing date: 2005-01-25
Publication date: 2005-08-25
Also published as: US7341796B2; TW200529738A; KR20070003880A; JP4354955B2; JPWO2005079130A1; TWI246398B; CN1922947A; US20070141377A1; KR100852863B1; CN100515167C

Abstract

　銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものであり、黒；ΔＬ＊＝−１００、白；ΔＬ＊＝０、で表される色差計で測定された黒色に処理された面の色差ΔＬ＊≦−７０であり、彩度Ｃ＊≦１５であることを特徴とする黒化処理面又は層を有する銅箔。電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れ、かつコントラストが十分であり、かつ濃黒化色を備え、また外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネルからの出射光の反射光を抑制でき、さらにエッチング性に優れている等の特徴を持つ、特にプラズマディスプレーパネル（ＰＤＰ）に有用な黒化処理面又は層を有する銅箔を提供することにある。

Description

明細書

黒化処理面又は層を有する銅箔

技術分野

[0001] 本発明は、黒化処理面又は層を有する銅箔、特に電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れ、プラズマディスプレーパネル (PDP)に有用な黒化処理面又は層を有する銅箔に関する。

背景技術

[0002] 最近、大画面化が容易であり、駆動スピードが速いという大きな特徴を持つプラズマディスプレーパネル (PDP)が各種のディスプレー機器に急速に使用されるようになってきた。

このプラズマディスプレーパネルは、気体放電によってプラズマを発生させ、これによって生ずる紫外線領域の線スペクトルにより、セル内に設置した蛍光体を励起させ、可視領域の光を発生させるとレ、う構造と機能を持つものである。

前記のように、気体の放電によってプラズマを発生させた場合、蛍光体に利用される紫外線領域の線スペクトルだけでなぐ近赤外線領域に至るまでの広い領域の波長の線スペクトルを発生する。

[0003] プラズマディスプレーパネル力発生する上記の近赤外線領域の波長は、光通信に用いられる波長に近いので、互いに近くに位置すると誤作動を起す問題があり、またマイクロ波や超低周波などの電磁波の発生も問題となる。

このような電磁波や近赤外線領域の線スペクトルの漏洩を遮断する目的のために、一般に銅箔からなるシールド層をパネルの前面に設けることが行なわれている。通常、この銅箔はエッチングにより細かい線状の網状体に形成され、シールド層を構成している。なお、この銅のシールド層のさらに上面には、接着剤を介して PET等の樹脂が被覆されている。

しかし、上記のシールド層の基本となる銅箔は金属光沢を有するため、パネル外部力の光を反射し、画面のコントラストが悪くなり、また画面内から発生する光を反射し、光の透過率が低下して、表示パネルの視認性が悪くなるという問題がある。 [0004] 上記のような問題をから、電磁波及び近赤外線領域の線スペクトルの漏洩遮断に有効である銅箔シールド層を黒化処理することがおこなわれている。

従来の銅箔には、黒色の表面被膜を形成した銅箔が知られており、通常黒処理銅箔と云われている。しかし、これらの銅箔は電子機器内の回路形成に使用されているもので、主として樹脂との接着性やレーザー光による孔開け性などの特性を持たせることが要求されるだけで、黒化処理被膜の平滑性や均一性等の厳密な表面状態を要求されることはなかった。

しかし、プラズマディスプレーパネルの前面に現れる銅箔の特性は、表示パネルの視認性に直接影響を与えるものであり、このような要求に満足できる銅箔の開発が望まれている。

[0005] 特に、プラズマディスプレーパネル用銅箔の黒化処理被膜としては、レ、くつかの特性が要求されるが、その中で特に、 1)コントラストが十分であり、かつ黒色であること、 2)外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネルからの出射光の反射光を抑制できること、 3)銅箔にパターンを形成する際に、幅 5— 30 μ ΐη、最適値として 10 μ m、ピッチ力 00— 500 μ mで直線状にエッチングできることが要求されている。

以上から、銅箔から形成されるシールド層は、プラズマディスプレーパネルの保護膜としての機能、電磁波防止機能、近赤外線防止機能、色調補正機能、迷光防止機能、外光遮断機能を持つと同時に、黒化処理被膜の上記の性状 ·特性が特に要求されている。従来は、これらの機能を十分に満足させるプラズマディスプレーパネル用銅箔はなかったと言える。

[0006] 従来の技術として、透明基材であるガラス基板の、一方の面上の周辺部には黒枠層が形成され、これらの面上には、透明フィルムである PET (ポリエチレンテレフタレート）フィルムが第 1の粘着剤層を介して形成され、 PETフィルム上に接着剤層を介して金属層のパターンである銅層パターンが形成されており、この銅層パターンは PT Eフィルムの周辺部を含んで形成され、かつ両面及び側面すベて黒化処理されている技術が（例えば、特許文献 1参照）、共通電極及び走查電極が同一面上に形成され双方の電極間で面放電を発生させる面放電型プラズマディスプレーパネル、ブラズマディスプレーモジュールが（例えば、特許文献 2参照）ある。

[0007] また、 PDPの前面に設ける光学フィルタの漏洩電磁波遮断のための銅箔メッシュフィルタの透明度を上げたフィルタ装置が (例えば、特許文献 3参照）、透明高分子フィルム上に、多孔性の銅箔をラミネートし、その銅箔をウエット法でエッチングして、例えば格子状のパターンを形成して、光透過部分を形成した積層体を作製し、その積層体と透明支持体、反射防止膜フィルムを組合せて電磁波シールドを作製する技術（例えば、特許文献 4参照）がある。

特許文献 1：特開 2002 - 9484号公報

特許文献 2：特開 2000 - 89692号公報

特許文献 3 :特開 2001 - 147312号公報

特許文献 4 :特開 2001— 217589号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0008] 本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れ、かつコントラストが十分であり、かつ濃黒化色を備え、また外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネルからの出射光の反射光を抑制でき、さらにエッチング性に優れている等の特徴を持つ、特にプラズマディスプレーパネル（PDP)に有用な黒化処理面又は層を有する銅箔を提供することにある。

課題を解決するための手段

[0009] 以上から、本発明は、 1 )銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものであり、黒； A L * =_100、白； A L * = 0、で表される色差計で測定された黒色に処理された面の色差 A L *≤_70であり、彩度 C *≤ 15であることを特徴とする黒化処理面又は層を有する銅箔、 2)銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものであり、黒色に処理された面の光沢度≤ 15であることを特徴とする 1記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、 3)銅箔の片面あるいは両面に黒色になる処理面の粗ィ匕粒子が 1 μ m以下で、該面の表面粗度 Raが 0. 5 μ m以下、 Rtが 4. 0 μ m以下、 Rz 3. 5 μ m以下であることを特徴とする 1又は 2記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、 4)電気めつきにより Co, Ni-Cu, Co-Cu, Ni— Co_Cuの少なくとも 1種以上を被覆した黒色処理面であることを特徴とする 1一 3のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、 5) Ni— Cuめっき処理の Niの付着量が 200— 1000mg/m² であるか、又はこの Ni— Cuめっき処理後に、 Ni又は Ni— Coめっき処理しためっき面の Ni+ Co付着量力 250— 1500mg/m²であることを特徴とする 4記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、 6) Ni— Co— Cuめっき処理の Ni + Coの付着量が 130— lOOOmgZm²である力 \又はこの Ni_Co_Cu処理後に Ni又は Ni_Coめっき処理しためつき面の Ni + Co付着量力 250 1500mg/m²であることを特徴とする 4記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、 7) Co-Cuめっき処理の Co付着量が 300から 1 OOOmgZm²である力 \又は Co_Cuめっき処理後に Ni又は Ni— Coめっき処理しためっき面の Ni+ Co付着量が 350— 1500mg/m²であることを特徴とする 4記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、 8) Coめっき処理の Co付着量が 1000 5000m g/m²であるか、又は Coめっき処理後に Ni又は Ni— Coめっき処理しためっき面の N i+ Co付着量が 1050— 2000mg/m²であることを特徴とする 4記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、 9)銅箔が 8— 18 μ ΐηの電解銅箔又は圧延銅箔であることを特徴とする 1一 8のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、 10)黒色になる処理した層の上に防鲭処理層を備えていることを特徴とした 1一 9のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、 11)防鲭処理層が Cr、 Zn、 Zn— Ni、 Zn-Ni - Pから選択した 1種以上であることを特徴とする 10記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、 12)プラズマディスプレー用銅箔であることを特徴とする 1一 11のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、を提供する。

発明の効果

本発明の黒化処理面又は層を有する銅箔は、電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れていると共に、コントラストが十分であり、かつ濃黒化色を備え、また外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネル力の出射光の反射光を抑制でき、さらにエッチング性に優れている等の著しい効果を有する。

図面の簡単な説明 [0011] [図 1]粗ィ匕粒子の大きさが 2 _β mである電解銅箔のエッチング面の電子顕微鏡写真である。

[図 2]黒色の処理面の粗ィ匕粒子が 1 μ m以下である電解銅箔のエッチング面の電子顕微鏡写真である。

発明を実施するための最良の形態

[0012] 本発明の黒化処理面又は層を有する銅箔は、銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものである。その黒化処理面又は層は、黒； A L * =-100、白； A L * =0、で表される色差計で測定された黒色に処理された面の色差 A L *≤_70であり、彩度 C *≤ 15である。

これによつて、電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性が得られると共に、コントラストが十分であり、かつ濃黒化色を備え、また外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネルからの出射光の反射光を効果的に抑制できる。

[0013] さらに、黒色に処理された面の光沢度≤ 15であることが望ましい。

なお、上記の明度及び彩度については、次の基準による。

すなわち、 L * a * b *表色系は、 JISZ8729で規格化されているのもので、明度を L *、色相と彩度を a *、 b *で表す。 a *、 b *は色の方向を示し、 a *は赤方向、—a *は緑方向、 b *は黄色方向、一 b *は青方向を示す。色彩（c * )は c * = [(a * )²+(b * )²]^1/2で表し、 c *が小さくなるに従レ、、くすんだ色になる。

色差計で測定する場合、明度し *は基準色 (白または黒)からの差異 ( Δ )で測定される。本明細書では、白を基準色とし A L = 0は白、 A L=_100は黒を示す。

光沢度については、 JIS規格では屈折率 1. 567のガラス表面において 60度の入射角の場合、反射率 10%を光沢度 100%としている。つまり、光沢度とは物の表面にあたった光が正反射したした程度を表すものである。本明細書では、光沢度は市販の光沢度計を用い、測定角 60度で測定した。

[0014] 本発明の黒化処理面又は層を有する銅箔は、さらに銅箔の片面あるいは両面に黒色になる処理面の粗化粒子を 1 μ m以下、該面の表面粗度 Raを 0. 5 μ m以下、 Rt が 3· Ο μ ΐη以下、 Rz3. 0 /i m以下とする。このように、表面粗度を小さくすることにより、エッチング精度を向上させることができる。

例えば、一般的な電解銅箔である JTC箔（(株）日鉱マテリアルズ製）の 12 μ mの表面粗度は、 Raが 0. 7 /i m、 1¾が5.5 β m、 Rz5.1 μ mで粗化粒子の大きさが 2 μ mである。この銅箔をエッチングすると、図 1の様に粗化粒子部が残り、直線的にエツチングされない。

本発明では、黒色になる処理面の粗ィ匕粒子が 1 z m以下で、該面の表面粗度 Raが 0. 5〃111以下、1¾が4. 以下、 Rz3. 5 μ m以下である場合には図 2に示すように幅 5 30 μ m、ピッチ力 S100— 500 μ mで直線状に容易にエッチングすることが可能となる。

[0015] 黒化処理面又は層を有する銅箔は、例えば電気めつきにより Co， Ni, Ni-Co, Ni -Cu, Co-Cu, Ni— Co_Cuの少なくとも 1種以上を被覆することにより、黒化面又は層を形成できる。

その好適な例としては、次の 1)一 4)を挙げることができる。しかし、必ずしもこの例に制限されることはなぐ必要に応じて、他の処理を行っても良い。

1) Niの付着量が 200— 1000mg/m²である Ni— Cuめっき処理した黒化処理面又は層、又は前記 Ni— Cuめっき処理後に、めっき面の Ni+ Co付着量力 250— 1500 mg/m²である Ni又は Ni— Coめっき処理した黒化処理面又は層

2) Ni+ Coの付着量が 130— 1000mg/m²である Ni— Co_Cuめっき処理した黒化処理面又は層、又は前記 Ni— Co_Cu処理後に、めっき面の Ni + Co付着量力 2 50— 1500mg/m²である Ni又は Ni— Coめっき処理した黒化処理面又は層

[0016] 3) Co付着量が 300から 1000mg/m²である Co— Cuめっき処理した黒化処理面又は層、又は前記 Co— Cuめっき処理後に、めっき面の Ni + Co付着量が 350 150 OmgZm²である Ni又は Ni— Coめっき処理した黒化処理面又は層

4) Co付着量が 1000 5000mgZm²である Coめっき処理した黒化処理面又は層、又は前記 Coめっき処理後に、めっき面の Ni+ Co付着量が 1050— 2000mg/m² である Ni又は Ni— Coめっき処理した黒化処理面又は層

[0017] 黒化面又は層を形成するための、めっき液及びめつき条件並びにかぶせめつき液及びめつき条件を示すと、次の通りである。 [黒化面又は層を形成するための、めっき液及びめつき条件]

(Coめっき液）

pH:2— 4

液温： 20— 60

電流密度： 10-50A/dm²

(Cu— Coめっき液）

Cu:5— 30g/L

Co:10— 30g/L

pH:2— 4

液温： 20— 60

電流密度： 30-50A/dm²

(Cu— Niめっき液）

pH:2— 4

液温： 20— 55

電流密度： 30— 55A/dm²

(Cu_Ni_Coめっき液）

し o： 5— 30g L

pH:2— 4

液温： 20— 60

電流密度： 30-60A/dm²

[かぶせめつき液及びめつき条件]

(Niめっき液） pH : 2— 3

液温： 20— 60

電流密度： 0. 1— 5A/dm²

(Ni_Coめっき液）

Ni: 5 30g/L

Co： 5— 30g/

pH : 2— 4

液温： 20— 60

電流密度： 0. l-5A/dm²

[0019] 本発明の黒化処理面又は層を有する銅箔としては、 8— 18 μ mの電解銅箔又は圧延銅箔を使用することができる。

本発明の黒色めつき層を形成した後、その上にさらに、かぶせめつきを形成することができる。このかぶせめつきはニッケル又はニッケル一コバルトを含有するものを使用する。かぶせめつきの手法または処理液は特に制限されるものではない。黒色めつき層を形成した後又は黒色めつき層にかぶせめつき層を形成した後、さらに防鲭処理層を形成することができる。この防鲭処理層としては、 Cr、 Zn、 Zn— Ni、 Zn— Ni— Pから選択した 1種以上を選択することができる。

黒化処理面又は層を形成するめつき処理としては、電気めつきを使用することができる。また、各種黒化処理面又は層の量は少ないと十分な黒色が得られず、多いと平滑性が悪くなりエッチング特性が悪くなる。

この防鲭処理は、前記めつき処理の面上に、プラズマディスプレーパネル用銅箔に適用される銅箔としての特性を損なわないことが要求されるのは当然であり、本発明の防鲭処理はこれらの条件を十分に満たしている。なお、この防鲭処理は、本発明の黒化処理被膜の電磁波、近赤外線、迷光、外光等を遮断するシールド特性、耐スジむらの発生、エッチング性、耐粉落ちによる剥離性には殆ど影響がなぐ防鲭効果を上げることができる。

[0020] 本発明の防鲭処理は、次のようなめっき処理が適用できる。以下はその代表例である。なお、この防鲭処理は好適な一例を示すのみであり、本発明はこれらの例に制限されない。

(Cr防鲭）

Cr (Cr〇）：2— lOg/L

3

pH : 3— 4. 5

液温： 40— 60° C

電流密度： 0. 5-5A/dm²

めっき時間： 0. 5 10秒

(Zn - Ni防鲭）

Zn: 15 30g/L

Ni: 5— 10g/L

pH : 3— 4. 5

液温： 30— 45° C

電流密度： 0. 1— 5A/dm²

めっき時間： 0. 5— 10秒

実施例

[0021] 次に、実施例に基づいて説明する。なお、本実施例は好適な一例を示すもので、本発明はこれらの実施例に限定されるものではなレ、。したがって、本発明の技術思想に含まれる変形、他の実施例又は態様は、全て本発明に含まれる。

なお、本発明との対比のために、後段に比較例を掲載した。

[0022] (実施例 1一 28)

厚さ 9、 12及び 18 z mの電解銅箔または圧延銅箔を、脱脂 '水洗'酸洗'水洗を行なった後、上記各種のめっき浴を用いて黒色めつき層を形成した。表 1に、めっき条件を示す。

脱脂には、一般的なアルカリ脱脂液である GNクリーナー 87 : 30g/Lを使用し、 15 A/dm², 5秒、 40° C、ステンレスアノードを用いて電解脱脂を行なった。また、酸洗は、 H SO : 100g/Lを使用し、 10秒、室温で実施した。

2 4

[0023] [表 1] めっき液力ぶせ銅箔箔厚電流密度時間被温 P H めっき液 μ m) (A/ d m²) sec (°C) 実施例 1 Cu-Ni ― ①細 18 40 1.5 40 2.5 実施例 2 Cu-Ni ― ① M面 12 40 1.5 40 2.5 実施例 3 Cu-Ni ― ①麵 9 35 2.2 40 2.5 実施例 4 Cu-Ni Ni- Co ② M面 18 40 1.5 40 2.5 実施例 5 Cu-Ni Ni-Co ② M面 12 40 1.5 40 2.5 実施例 6 Cu-Ni Ni-Co ② M面 9 35 2.2 40 . 2.5 実施例 7 Cu-Ni ― ② S面 12 45 1.5 40 2.5 実施例 8 Cu-Ni ― ② S面 9 45 1.5 40 2.5 実施例 9 Cu-Ni ― 圧延 18 45 1.5 40 2. 5 実施例 10 Cu-Ni 一圧延 12 45 1.5 40 2. 5 実施例 11 Cu-Ni-Co ― ①麵 12 40 1.8 40 2. 5 実施例 12 Cu-Ni-Co' ― ①麵 12 40 4.5 40 2. 5 実施例 13 Cu-Ni-Co ― ① M面 12 60 1 40 2. 5 実施例 14 Cu-Ni-Co Ni ② M面 18 45 1.8 40 2. 5 実施例 15 Cu-Ni-Co Ni ② M面 12 45 1.8 40 2. 5 実施例 16 Cu-Ni-Co Ni ②麵 9 45 1.8 40 2. 5 実施例 17 Cu-Ni-Co ― ② S面 12 50 1.8 40 2. 5 実施例 18 Cu-Ni -Cn ― ② S面 9 50 1.8 40 2. 5 実施例 19 Cu-Ni-Co ― 圧延 18 50 1.8 40 2.5 実施例 20 Cu-Ni-Co ― 圧延 12 50 1.8 40 2. 5 実施例 21 Cu-Co Ni-Co ①麵 18 50 1.5 37 2. 5 実施例 22 Cu-Co Ni-Co ①麻 12 50 1.5 37 2. 5 実施例 23 Cu-Co Ni-Co ①麵 9 50 1.5 37 2. 5 実施例 24 Cu-Co Ni-Co ② M面 18 50 1.5 37 2. 5 実施例 25 Cu-Co Ni-Co ②麵 12 50 1.5 37 2. 5 実施例 26 Co Ni Co ② M面 12 20 2 37 2. 5 実施例 27 Co Ni-Co ②麵 12 20 6 37 2. 5 実施例 28 Co Ni-Co ②麵 12 30 4 37 2. 5 比較例 29 Cu-Ni ― ①麻 18 20 1.5 40 2. 5 比較例 30 Cu-Ni ― ① M面 12 40 0.8 40 2. 5 比較例 31 Cu-Ni Ni-Co ② M面 18 30 1 40 2. 5 比較例 32 Cu-Ni Ni-Co ② M面 12 20 1.5 40 2. 5 比較例 33 Cu-Ni Ni-Co ② M面 9 20 1 40 2. 5 比較例 34 Cu-Ni ― ② S面 12 20 1.5 40 2.5 比較例 35 Cu-Ni ― ② S面 9 30 1.5 40 2.5 比較例 36 Cu-Ni-Co ― ① M面 12 40 1 40 2.5 比較例 37 Cu-Ni-Co ― ① M面 12 40 0.8 40 2. 5 比較例 38 Cu-Ni-Co ①麵 12 20 1.5 40 2. 5 この結果を表 2に示す。表 2には、めっき層の種類、かぶせめつきの存非（種類）、色差 AL、彩度、光沢度、反射特性、粗さ（Ra、 Rt、 Rz)、エッチング性、 Ni量、 Co量を示す。

表 2に示すように、本発明の実施例 1一 28では、いずれも色差 ALが基準値よりも良好 (一 70以下）であり、また彩度、光沢度、反射特性、粗さ（Ra Rt Rz)、エッチング性はいずれも良好な値を示しており、好適な黒色めつき面又は層めつき層を備えている。これらはプラズマディスプレーパネル用銅箔の条件を満たしている。

[表 2]

[0026] (比較例 29— 38)

厚さ 9、 12及び 18 / mの電解銅箔を、脱脂 '水洗'酸洗'水洗を行なった後、上記各種のめっき浴を用いて、黒色めつき層を形成した。めっきの条件を、同様に表 1に示す。

脱脂には、実施例と同様に、一般的なアルカリ脱脂液である GNクリーナー 87 : 30g /Lを使用し、 15A/dm2, 5秒、 40° C ステンレスアノードを用いて電解脱脂を行なった。また、酸洗は、 H SO : 100gZLを使用し、 10秒、室温で実施した。

2 4

[0027] この結果を表 3に示す。表 3には、めっき層の種類、かぶせめつきの存非（種類）、色差 A L、彩度、光沢度、反射特性、粗さ（Ra、 Rt、 Rz)、エッチング性、 Ni量、 Co量を示す。

表 3に示すように、比較例 37を除き、いずれも色差 A Lが基準値 (一 70)よりも悪化した。比較例 37は彩度が基準値よりも大きく悪い結果となった。

色差 A L及び彩度が、色差基準値 (- 70)、彩度基準値 c (15)よりも悪化しているものは、シールド性が劣り、プラズマディスプレーパネル用銅箔としては不適合である。特に、比較例 29、 30は彩度が悪ぐ反射特性が悪化している。

[0028] [表 3]

めっき液かぶせ Δし [ (a*) ² + (b*) ² ] ^1/2 光沢度反射特性粗さエッチング性 Ni Co めっき液彩度 R a R t R z mg/ mg/ητ 比較例 29 Cu-Ni ― -66. 3 6. 8 25. 9 X 0. 17 0. 89 0. 71 〇 131 0 比較例 30 Cu-Ni ― - 64. 3 7. 2 23. 8 X 0. 19 1. 11 0. 85 〇 128 0 比較例 31 Cu-Ni Ni-Co -61 8. 4 0. 7 〇 0. 33 2. 71 1. 98 〇 148 105 比較例 32 Cu-Ni Ni-Co -65. 4 8. 1 0. 5 〇 0. 38 2. 67 1. 88 〇 . 148 103 比較例 33 Cu-Ni Ni-Co -64. 2 8. 3 0. 7 〇 0. 38 2. 72 2. 20 〇 147 103 比較例 34 Cu-Ni ― -60. 1 8. 9 0. 8 〇 0. 22 1. 73 I. 62 〇 129 0 比較例 35 Cu-Ni 一 -62. 2 8. 3 0. 9 〇 0. 23 し 74 I. 66 〇 129 0 比較例 36 Cu-Ni-Co ― -70. 5 16. 7 0. 7 〇 0. 24 し 68 1. 59 〇 15 89 比較例 37 Cu-Ni-Co ― -54. 9 14. 9 0. 5 〇 0. 17 0. 97 0. 63 〇 10 59 比較例 38 Cu-Ni-Co ― 58. 2 11. 5 0. 7 〇 0. 19 1. 09 0. 88 〇 11 55

産業上の利用可能性

本発明のプラズマディスプレーパネル (PDP)用銅箔は、電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れ、かつ

コントラストが十分であり、かつ濃黒化色を備え、また外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネルからの出射光の反射光を抑制でき、さらにエッチング性に優れてレ、るので、特にプラズマディスプレーパネル（PDP)用銅箔として有用である。

Claims

請求の範囲

[1] 銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものであり、黒； A L * =_100 、白； A L * =0、で表される色差計で測定された黒色に処理された面の色差 A L * ≤_70であり、彩度 C *≤ 15であることを特徴とする黒化処理面又は層を有する銅箔。

[2] 銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものであり、黒色に処理された面の光沢度≤ 15であることを特徴とする請求項 1記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。

[3] 銅箔の片面あるいは両面に黒色になる処理面の粗ィヒ粒子が 1 μ m以下で、該面の表面粗度 Raが 0. 5 μ ΐη以下、 Rtが 4· Ο μ ΐη以下、 Rz3. 5 /i m以下であることを特徴とする請求項 1又は 2記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。

[4] 電気めつきにより Co, Ni-Cu, Co-Cu, Ni— Co_Cuの少なくとも 1種以上を被覆した黒色処理面であることを特徴とする請求項 1一 3のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。

[5] Ni— Cuめっき処理の Niの付着量が 200— 1000mg/m²である力、、又はこの Ni— C uめっき処理後に、 Ni又は Ni— Coめっき処理しためっき面の Ni + Co付着量力 250 一 1500mgZm²であることを特徴とする請求項 4記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。

[6] Ni_Co_Cuめっき処理の Ni+ Coの付着量が 130— 1000mg/m²であるカ又はこの Ni_Co_Cu処理後に Ni又は Ni_Coめっき処理しためっき面の Ni + Co付着量が、 250 1500mgZm²であることを特徴とする請求項 4記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。

[7] Co— Cuめっき処理の Co付着量が 300から 1000mg/m²であるカ又は Co— Cu めっき処理後に Ni又は Ni— Coめっき処理しためっき面の Ni + Co付着量が 350 1 500mg/m²であることを特徴とする請求項 4記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。

[8] Coめっき処理の Co付着量が 1000— 5000mg/m²である力、又は Coめっき処理後に Ni又は Ni— Coめっき処理しためっき面の Ni+ Co付着量が 1050— 2000mg/ m²であることを特徴とする請求項 4記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。

[9] 銅箔が 8— 18 μ ΐηの電解銅箔又は圧延銅箔であることを特徴とする請求項 1一 8のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。

[10] 黒色になる処理した層の上に防鲭処理層を備えていることを特徴とした請求項 1一

9のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。

[11] 防鲭処理層が Cr、 Zn、 Zn— Ni、 Zn— Ni— Pから選択した 1種以上であることを特徴とする請求項 10記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。

[12] プラズマディスプレー用銅箔であることを特徴とする請求項 1一 11のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。