JPWO2005079130A1 - 黒化処理面又は層を有する銅箔 - Google Patents

Abstract

銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものであり、黒；ΔＬ＊＝−１００、白；ΔＬ＊＝０、で表される色差計で測定された黒色に処理された面の色差ΔＬ＊≦−７０であり、彩度Ｃ＊≦１５であることを特徴とする黒化処理面又は層を有する銅箔。電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れ、かつコントラストが十分であり、かつ濃黒化色を備え、また外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネルからの出射光の反射光を抑制でき、さらにエッチング性に優れている等の特徴を持つ、特にプラズマディスプレーパネル（ＰＤＰ）に有用な黒化処理面又は層を有する銅箔を提供することにある。

Description

本発明は、黒化処理面又は層を有する銅箔、特に電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れ、プラズマディスプレーパネル（ＰＤＰ）に有用な黒化処理面又は層を有する銅箔に関する。

最近、大画面化が容易であり、駆動スピードが速いという大きな特徴を持つプラズマディスプレーパネル（ＰＤＰ）が各種のディスプレー機器に急速に使用されるようになってきた。
このプラズマディスプレーパネルは、気体放電によってプラズマを発生させ、これによって生ずる紫外線領域の線スペクトルにより、セル内に設置した蛍光体を励起させ、可視領域の光を発生させるという構造と機能を持つものである。
前記のように、気体の放電によってプラズマを発生させた場合、蛍光体に利用される紫外線領域の線スペクトルだけでなく、近赤外線領域に至るまでの広い領域の波長の線スペクトルを発生する。

プラズマディスプレーパネルから発生する上記の近赤外線領域の波長は、光通信に用いられる波長に近いので、互いに近くに位置すると誤作動を起す問題があり、またマイクロ波や超低周波などの電磁波の発生も問題となる。
このような電磁波や近赤外線領域の線スペクトルの漏洩を遮断する目的のために、一般に銅箔からなるシールド層をパネルの前面に設けることが行なわれている。通常、この銅箔はエッチングにより細かい線状の網状体に形成され、シールド層を構成している。なお、この銅のシールド層のさらに上面には、接着剤を介してＰＥＴ等の樹脂が被覆されている。
しかし、上記のシールド層の基本となる銅箔は金属光沢を有するため、パネル外部からの光を反射し、画面のコントラストが悪くなり、また画面内から発生する光を反射し、光の透過率が低下して、表示パネルの視認性が悪くなるという問題がある。

上記のような問題をから、電磁波及び近赤外線領域の線スペクトルの漏洩遮断に有効である銅箔シールド層を黒化処理することがおこなわれている。
従来の銅箔には、黒色の表面被膜を形成した銅箔が知られており、通常黒処理銅箔と云われている。しかし、これらの銅箔は電子機器内の回路形成に使用されているもので、主として樹脂との接着性やレーザー光による孔開け性などの特性を持たせることが要求されるだけで、黒化処理被膜の平滑性や均一性等の厳密な表面状態を要求されることはなかった。
しかし、プラズマディスプレーパネルの前面に現れる銅箔の特性は、表示パネルの視認性に直接影響を与えるものであり、このような要求に満足できる銅箔の開発が望まれている。

特に、プラズマディスプレーパネル用銅箔の黒化処理被膜としては、いくつかの特性が要求されるが、その中で特に、１）コントラストが十分であり、かつ黒色であること、２）外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネルからの出射光の反射光を抑制できること、３）銅箔にパターンを形成する際に、幅５〜３０μｍ、最適値として１０μｍ、ピッチが１００〜５００μｍで直線状にエッチングできることが要求されている。
以上から、銅箔から形成されるシールド層は、プラズマディスプレーパネルの保護膜としての機能、電磁波防止機能、近赤外線防止機能、色調補正機能、迷光防止機能、外光遮断機能を持つと同時に、黒化処理被膜の上記の性状・特性が特に要求されている。従来は、これらの機能を十分に満足させるプラズマディスプレーパネル用銅箔はなかったと言える。

従来の技術として、透明基材であるガラス基板の、一方の面上の周辺部には黒枠層が形成され、これらの面上には、透明フィルムであるＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムが第１の粘着剤層を介して形成され、ＰＥＴフィルム上に接着剤層を介して金属層のパターンである銅層パターンが形成されており、この銅層パターンはＰＴＥフィルムの周辺部を含んで形成され、かつ両面及び側面すべて黒化処理されている技術が（例えば、特許文献１参照）、共通電極及び走査電極が同一面上に形成され双方の電極間で面放電を発生させる面放電型プラズマディスプレーパネル、プラズマディスプレーモジュールが（例えば、特許文献２参照）ある。

また、ＰＤＰの前面に設ける光学フィルタの漏洩電磁波遮断のための銅箔メッシュフィルタの透明度を上げたフィルタ装置が（例えば、特許文献３参照）、透明高分子フィルム上に、多孔性の銅箔をラミネートし、その銅箔をウエット法でエッチングして、例えば格子状のパターンを形成して、光透過部分を形成した積層体を作製し、その積層体と透明支持体、反射防止膜フィルムを組合せて電磁波シールドを作製する技術（例えば、特許文献４参照）がある。
特開２００２−９４８４号公報 特開２０００−８９６９２号公報 特開２００１−１４７３１２号公報 特開２００１−２１７５８９号公報

本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れ、かつコントラストが十分であり、かつ濃黒化色を備え、また外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネルからの出射光の反射光を抑制でき、さらにエッチング性に優れている等の特徴を持つ、特にプラズマディスプレーパネル（ＰＤＰ）に有用な黒化処理面又は層を有する銅箔を提供することにある。

以上から、本発明は、１）銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものであり、黒；ΔＬ＊＝−１００、白；ΔＬ＊＝０、で表される色差計で測定された黒色に処理された面の色差ΔＬ＊≦−７０であり、彩度Ｃ＊≦１５であることを特徴とする黒化処理面又は層を有する銅箔、２）銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものであり、黒色に処理された面の光沢度≦１５であることを特徴とする１記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、３）銅箔の片面あるいは両面に黒色になる処理面の粗化粒子が１μｍ以下で、該面の表面粗度Ｒａが０．５μｍ以下、Ｒｔが４．０μｍ以下、Ｒｚ３．５μｍ以下であることを特徴とする１又は２記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、４）電気めっきによりＣｏ，Ｎｉ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ｃｕ，Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｕの少なくとも１種以上を被覆した黒色処理面であることを特徴とする１〜３のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、５）Ｎｉ−Ｃｕめっき処理のＮｉの付着量が２００〜１０００ｍｇ／ｍ^２であるか、又はこのＮｉ−Ｃｕめっき処理後に、Ｎｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理しためっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が、２５０〜１５００ｍｇ／ｍ^２であることを特徴とする４記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、６）Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｕめっき処理のＮｉ＋Ｃｏの付着量が１３０〜１０００ｍｇ／ｍ^２であるか、又はこのＮｉ−Ｃｏ−Ｃｕ処理後にＮｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理しためっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が、２５０〜１５００ｍｇ／ｍ^２であることを特徴とする４記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、７）Ｃｏ−Ｃｕめっき処理のＣｏ付着量が３００から１０００ｍｇ／ｍ^２であるか、又はＣｏ−Ｃｕめっき処理後にＮｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理しためっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が３５０〜１５００ｍｇ／ｍ^２であることを特徴とする４記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、８）Ｃｏめっき処理のＣｏ付着量が１０００〜５０００ｍｇ／ｍ^２であるか、又はＣｏめっき処理後にＮｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理しためっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が１０５０〜２０００ｍｇ／ｍ^２であることを特徴とする４記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、９）銅箔が８〜１８μｍの電解銅箔又は圧延銅箔であることを特徴とする1〜８のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、１０）黒色になる処理した層の上に防錆処理層を備えていることを特徴とした１〜９のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、１１）防錆処理層がＣｒ、Ｚｎ、Ｚｎ−Ｎｉ、Ｚｎ−Ｎｉ−Ｐから選択した１種以上であることを特徴とする１０記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、１２）プラズマディスプレー用銅箔であることを特徴とする１〜１１のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔、を提供する。

本発明の黒化処理面又は層を有する銅箔は、電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れていると共に、コントラストが十分であり、かつ濃黒化色を備え、また外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネルからの出射光の反射光を抑制でき、さらにエッチング性に優れている等の著しい効果を有する。

粗化粒子の大きさが２μｍである電解銅箔のエッチング面の電子顕微鏡写真である。 黒色の処理面の粗化粒子が１μｍ以下である電解銅箔のエッチング面の電子顕微鏡写真である。

本発明の黒化処理面又は層を有する銅箔は、銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものである。その黒化処理面又は層は、黒；ΔＬ＊＝−１００、白；ΔＬ＊＝０、で表される色差計で測定された黒色に処理された面の色差ΔＬ＊≦−７０であり、彩度Ｃ＊≦１５である。
これによって、電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性が得られると共に、コントラストが十分であり、かつ濃黒化色を備え、また外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネルからの出射光の反射光を効果的に抑制できる。

さらに、黒色に処理された面の光沢度≦１５であることが望ましい。
なお、上記の明度及び彩度については、次の基準による。
すなわち、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系は、ＪＩＳＺ８７２９で規格化されているのもので、明度をＬ＊、色相と彩度をａ＊、ｂ＊で表す。ａ＊、ｂ＊は色の方向を示し、ａ＊は赤方向、−ａ＊は緑方向、ｂ＊は黄色方向、−ｂ＊は青方向を示す。色彩（ｃ＊）はｃ＊＝[(ａ＊)^２+(ｂ＊)^２]^1/2で表し、ｃ＊が小さくなるに従い、くすんだ色になる。
色差計で測定する場合、明度Ｌ＊は基準色（白または黒）からの差異（Δ）で測定される。本明細書では、白を基準色としΔL＝０は白、ΔL＝−１００は黒を示す。
光沢度については、ＪＩＳ規格では屈折率１．５６７のガラス表面において６０度の入射角の場合、反射率１０％を光沢度１００％としている。つまり、光沢度とは物の表面にあたった光が正反射したした程度を表すものである。本明細書では、光沢度は市販の光沢度計を用い、測定角６０度で測定した。

本発明の黒化処理面又は層を有する銅箔は、さらに銅箔の片面あるいは両面に黒色になる処理面の粗化粒子を１μｍ以下、該面の表面粗度Ｒａを０．５μｍ以下、Ｒｔが３．０μｍ以下、Ｒｚ３．０μｍ以下とする。このように、表面粗度を小さくすることにより、エッチング精度を向上させることができる。
例えば、一般的な電解銅箔であるＪＴＣ箔（(株)日鉱マテリアルス゛製）の１２μｍの表面粗度は、Ｒａが０．７μｍ、Ｒｔが５.５μｍ、Ｒｚ５.1μｍで粗化粒子の大きさが２μｍである。この銅箔をエッチングすると、図１の様に粗化粒子部が残り、直線的にエッチングされない。
本発明では、黒色になる処理面の粗化粒子が１μｍ以下で、該面の表面粗度Ｒａが０．５μｍ以下、Ｒｔが４．０μｍ以下、Ｒｚ３．５μｍ以下である場合には図２に示すように幅５〜３０μｍ、ピッチが１００〜５００μｍで直線状に容易にエッチングすることが可能となる。

黒化処理面又は層を有する銅箔は、例えば電気めっきによりＣｏ，Ｎｉ，Ｎｉ−Ｃｏ，Ｎｉ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ｃｕ，Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｕの少なくとも１種以上を被覆することにより、黒化面又は層を形成できる。
その好適な例としては、次の１）〜４）を挙げることができる。しかし、必ずしもこの例に制限されることはなく、必要に応じて、他の処理を行っても良い。
１）Ｎｉの付着量が２００〜１０００ｍｇ／ｍ^２であるＮｉ−Ｃｕめっき処理した黒化処理面又は層、又は前記Ｎｉ−Ｃｕめっき処理後に、めっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が、２５０〜１５００ｍｇ／ｍ^２であるＮｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理した黒化処理面又は層
２）Ｎｉ＋Ｃｏの付着量が１３０〜１０００ｍｇ／ｍ^２であるＮｉ−Ｃｏ−Ｃｕめっき処理した黒化処理面又は層、又は前記Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｕ処理後に、めっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が、２５０〜１５００ｍｇ／ｍ^２であるＮｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理した黒化処理面又は層

３）Ｃｏ付着量が３００から１０００ｍｇ／ｍ^２であるＣｏ−Ｃｕめっき処理した黒化処理面又は層、又は前記Ｃｏ−Ｃｕめっき処理後に、めっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が３５０〜１５００ｍｇ／ｍ^２であるＮｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理した黒化処理面又は層
４）Ｃｏ付着量が１０００〜５０００ｍｇ／ｍ^２であるＣｏめっき処理した黒化処理面又は層、又は前記Ｃｏめっき処理後に、めっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が１０５０〜２０００ｍｇ／ｍ^２であるＮｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理した黒化処理面又は層

黒化面又は層を形成するための、めっき液及びめっき条件並びにかぶせめっき液及びめっき条件を示すと、次の通りである。
［黒化面又は層を形成するための、めっき液及びめっき条件］
（Ｃｏめっき液）
Ｃｏ：５〜３０ｇ／Ｌ
ｐＨ：２〜４
液温：２０〜６０
電流密度：１０〜５０Ａ／ｄｍ^２
（Ｃｕ−Ｃｏめっき液）
Ｃｕ：５〜３０ｇ／Ｌ
Ｃｏ：１０〜３０ｇ／Ｌ
ｐＨ：２〜４
液温：２０〜６０
電流密度：３０〜５０Ａ／ｄｍ^２
（Ｃｕ−Ｎｉめっき液）
Ｃｕ：５〜３０ｇ／Ｌ
Ｎｉ：１０〜３０ｇ／Ｌ
ｐＨ：２〜４
液温：２０〜５５
電流密度：３０〜５５Ａ／ｄｍ^２
（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｃｏめっき液）
Ｃｕ：５〜３０ｇ／Ｌ
Ｎｉ：５〜３０ｇ／Ｌ
Ｃｏ：５〜３０ｇ／Ｌ
ｐＨ：２〜４
液温：２０〜６０
電流密度：３０〜６０Ａ／ｄｍ^２

［かぶせめっき液及びめっき条件］
（Ｎｉめっき液）
Ｎｉ：１０〜３０ｇ／Ｌ
ｐＨ：２〜３
液温：２０〜６０
電流密度：０．１〜５Ａ／ｄｍ^２
（Ｎｉ−Ｃｏめっき液）
Ｎｉ：５〜３０ｇ／Ｌ
Ｃｏ：５〜３０ｇ／Ｌ
ｐＨ：２〜４
液温：２０〜６０
電流密度：０．１〜５Ａ／ｄｍ^２

本発明の黒化処理面又は層を有する銅箔としては、８〜１８μｍの電解銅箔又は圧延銅箔を使用することができる。
本発明の黒色めっき層を形成した後、その上にさらに、かぶせめっきを形成することができる。このかぶせめっきはニッケル又はニッケル−コバルトを含有するものを使用する。かぶせめっきの手法または処理液は特に制限されるものではない。黒色めっき層を形成した後又は黒色めっき層にかぶせめっき層を形成した後、さらに防錆処理層を形成することができる。この防錆処理層としては、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｚｎ−Ｎｉ、Ｚｎ−Ｎｉ−Ｐから選択した１種以上を選択することができる。
黒化処理面又は層を形成するめっき処理としては、電気めっきを使用することができる。また、各種黒化処理面又は層の量は少ないと十分な黒色が得られず、多いと平滑性が悪くなりエッチング特性が悪くなる。
この防錆処理は、前記めっき処理の面上に、プラズマディスプレーパネル用銅箔に適用される銅箔としての特性を損なわないことが要求されるのは当然であり、本発明の防錆処理はこれらの条件を十分に満たしている。なお、この防錆処理は、本発明の黒化処理被膜の電磁波、近赤外線、迷光、外光等を遮断するシールド特性、耐スジむらの発生、エッチング性、耐粉落ちによる剥離性には殆ど影響がなく、防錆効果を上げることができる。

本発明の防錆処理は、次のようなめっき処理が適用できる。以下はその代表例である。なお、この防錆処理は好適な一例を示すのみであり、本発明はこれらの例に制限されない。
（Ｃｒ防錆）
Ｃｒ（ＣｒＯ_３）：２〜１０ｇ／Ｌ
ｐＨ：３〜４．５
液温：４０〜６０°Ｃ
電流密度：０．５〜５Ａ／ｄｍ^２
めっき時間：０．５〜１０秒
（Ｚｎ−Ｎｉ防錆）
Ｚｎ：１５〜３０ｇ／Ｌ
Ｎｉ：５〜１０ｇ／Ｌ
ｐＨ：３〜４．５
液温：３０〜４５°Ｃ
電流密度：０．１〜５Ａ／ｄｍ^２
めっき時間：０．５〜１０秒

次に、実施例に基づいて説明する。なお、本実施例は好適な一例を示すもので、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。したがって、本発明の技術思想に含まれる変形、他の実施例又は態様は、全て本発明に含まれる。
なお、本発明との対比のために、後段に比較例を掲載した。

（実施例１−２８）
厚さ９、１２及び１８μｍの電解銅箔または圧延銅箔を、脱脂・水洗・酸洗・水洗を行なった後、上記各種のめっき浴を用いて黒色めっき層を形成した。表１に、めっき条件を示す。
脱脂には、一般的なアルカリ脱脂液であるＧＮクリーナー８７：３０ｇ／Ｌを使用し、１５Ａ／ｄｍ^２、５秒、４０°Ｃ、ステンレスアノードを用いて電解脱脂を行なった。また、酸洗は、Ｈ_２ＳＯ_４：１００ｇ／Ｌを使用し、１０秒、室温で実施した。

この結果を表２に示す。表２には、めっき層の種類、かぶせめっきの存非（種類）、色差ΔＬ、彩度、光沢度、反射特性、粗さ（Ｒａ、Ｒｔ、Ｒｚ）、エッチング性、Ｎｉ量、Ｃｏ量を示す。
表２に示すように、本発明の実施例１−２８では、いずれも色差ΔＬが基準値よりも良好（−７０以下）であり、また彩度、光沢度、反射特性、粗さ（Ｒａ、Ｒｔ、Ｒｚ）、エッチング性はいずれも良好な値を示しており、好適な黒色めっき面又は層めっき層を備えている。これらはプラズマディスプレーパネル用銅箔の条件を満たしている。

（比較例２９−３８）
厚さ９、１２及び１８μｍの電解銅箔を、脱脂・水洗・酸洗・水洗を行なった後、上記各種のめっき浴を用いて、黒色めっき層を形成した。めっきの条件を、同様に表１に示す。
脱脂には、実施例と同様に、一般的なアルカリ脱脂液であるＧＮクリーナー８７：３０ｇ／Ｌを使用し、１５Ａ／ｄｍ２、５秒、４０°Ｃ、ステンレスアノードを用いて電解脱脂を行なった。また、酸洗は、Ｈ_２ＳＯ_４：１００ｇ／Ｌを使用し、１０秒、室温で実施した。

この結果を表３に示す。表３には、めっき層の種類、かぶせめっきの存非（種類）、色差ΔＬ、彩度、光沢度、反射特性、粗さ（Ｒａ、Ｒｔ、Ｒｚ）、エッチング性、Ｎｉ量、Ｃｏ量を示す。
表３に示すように、比較例３７を除き、いずれも色差ΔＬが基準値（−７０）よりも悪化した。比較例３７は彩度が基準値よりも大きく悪い結果となった。
色差ΔＬ及び彩度が、色差ΔＬ基準値（−７０）、彩度基準値ｃ（１５）よりも悪化しているものは、シールド性が劣り、プラズマディスプレーパネル用銅箔としては不適合である。特に、比較例２９、３０は彩度が悪く、反射特性が悪化している。

本発明のプラズマディスプレーパネル（ＰＤＰ）用銅箔は、電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れ、かつ
コントラストが十分であり、かつ濃黒化色を備え、また外部からの入射光の反射光及びプラズマディスプレーパネルからの出射光の反射光を抑制でき、さらにエッチング性に優れているので、特にプラズマディスプレーパネル（ＰＤＰ）用銅箔として有用である。

Claims (12)

1. 銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものであり、黒；ΔＬ＊＝−１００、白；ΔＬ＊＝０、で表される色差計で測定された黒色に処理された面の色差ΔＬ＊≦−７０であり、彩度Ｃ＊≦１５であることを特徴とする黒化処理面又は層を有する銅箔。
2. 銅箔の片面又は両面に黒色になる処理が施されたものであり、黒色に処理された面の光沢度≦１５であることを特徴とする請求項１記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。
3. 銅箔の片面あるいは両面に黒色になる処理面の粗化粒子が１μｍ以下で、該面の表面粗度Ｒａが０．５μｍ以下、Ｒｔが４．０μｍ以下、Ｒｚ３．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。
4. 電気めっきによりＣｏ，Ｎｉ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ｃｕ，Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｕの少なくとも１種以上を被覆した黒色処理面であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。
5. Ｎｉ−Ｃｕめっき処理のＮｉの付着量が２００〜１０００ｍｇ／ｍ^２であるか、又はこのＮｉ−Ｃｕめっき処理後に、Ｎｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理しためっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が、２５０〜１５００ｍｇ／ｍ^２であることを特徴とする請求項４記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。
6. Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｕめっき処理のＮｉ＋Ｃｏの付着量が１３０〜１０００ｍｇ／ｍ^２であるか、又はこのＮｉ−Ｃｏ−Ｃｕ処理後にＮｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理しためっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が、２５０〜１５００ｍｇ／ｍ^２であることを特徴とする請求項４記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。
7. Ｃｏ−Ｃｕめっき処理のＣｏ付着量が３００から１０００ｍｇ／ｍ^２であるか、又はＣｏ−Ｃｕめっき処理後にＮｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理しためっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が３５０〜１５００ｍｇ／ｍ^２であることを特徴とする請求項４記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。
8. Ｃｏめっき処理のＣｏ付着量が１０００〜５０００ｍｇ／ｍ^２であるか、又はＣｏめっき処理後にＮｉ又はＮｉ−Ｃｏめっき処理しためっき面のＮｉ＋Ｃｏ付着量が１０５０〜２０００ｍｇ／ｍ^２であることを特徴とする請求項４記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。
9. 銅箔が８〜１８μｍの電解銅箔又は圧延銅箔であることを特徴とする請求項1〜８のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。
10. 黒色になる処理した層の上に防錆処理層を備えていることを特徴とした請求項１〜９のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。
11. 防錆処理層がＣｒ、Ｚｎ、Ｚｎ−Ｎｉ、Ｚｎ−Ｎｉ−Ｐから選択した１種以上であることを特徴とする請求項１０記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。
12. プラズマディスプレー用銅箔であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の黒化処理面又は層を有する銅箔。
    

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