TWI246398B

TWI246398B - Copper foil having blackened surface or layer

Info

Publication number: TWI246398B
Application number: TW094102889A
Authority: TW
Inventors: Mikio Hanafusa
Original assignee: Nikko Materials Co Ltd
Priority date: 2004-02-17
Filing date: 2005-01-31
Publication date: 2005-12-21
Also published as: JPWO2005079130A1; US20070141377A1; CN100515167C; KR100852863B1; US7341796B2; KR20070003880A; CN1922947A; TW200529738A; JP4354955B2; WO2005079130A1

Description

1246398 九、發明說明：【發明所屬技術領域】本發明係關於一種具有黑化處理面（層）之銅箔，尤其是關於一種能有效阻隔電磁波、近紅外線、雜散光、外光等而在屏蔽特性上優異，於電漿顯示面板（PDP)用處大之具有黑化處理面（層）之銅箔。【先前技術】最近’具有容易大晝面化、驅動速度快等顯著特徵之籲電藥顯示面板（PDP)正急速使用於各種顯示機器。此電漿顯示面板具有下述構造與功能：以氣體放電來產生私漿，利用該電漿所產生之紫外線範圍線光譜來激發於凡件中所設置之螢光體而產生可見光範圍之光線。如上述，以氣體放電發生電漿時，不僅會產生供螢光體利用之紫外線範圍線光譜，尚會產生近紅外線範圍之廣範圍波長線光譜。电漿顯示面板所產生之上述近紅外線範圍波長，由於 ®與使用於光通訊之波長相近，故若此兩者位置相近則有引 I錯.吳動作之問題，另外，微波及超低頻之發生亦成問題。基於阻隔此種電磁波及近紅外線範圍線光譜之洩漏之目的，一般採用在面板前面設置由鋼馆構成之屏蔽層。此銅箔通常以蝕刻形成細線狀網狀體而構成屏蔽層。又，於該銅屏蔽層上再藉接著劑來被覆pET等樹脂。但’為上述屏蔽層之基本的銅箱由於具有金屬光澤，故會反射由面板外部所射入之光而使晝面對比惡化，此外 1246398 亦會反射由晝面内所產生之光，而減低光透射率面板之明視性變差，此為問題所在。使顯示由於存在如上述之問題，因此對於能有效阻及近紅外線範圍線光譜茂漏之銅羯兹波理。汽知黑化處 S用銅4己知有形成黑色表面被膜之銅箔，通黑處理銅ϋ。但此銅係使用於電子機器中之電路形冉為僅要求具有以樹脂接著性及雷射光穿孔性為主要特性成，對黑化處理被膜之平滑性及Μ性等嚴密的表面狀態= 被要求。 “、』禾但位在電漿顯示面板前面之銅落特性會直接影塑顯_ 面板明視性’因此期望研發能夠滿足此種要求之鋼二’、、不尤其當作電漿顯示面板用銅箔之黑化處理被膜要求種特性，其中特別要求：⑴對比充分，且為黑色；（2^ 夠抑制由外部射入光之反射光及由電漿顯示面板射出光2 反射光；⑺銅羯形成圖案時，能夠容易钮刻成寬度5〜3〇 “、最好ίο㈣，間距100〜5〇Mm之直線狀。由上述可知，以銅箔構成之屏蔽層，不僅具有當作電漿顯示面板保護膜之功能、電磁波防止功能、近紅外線防 ^功能、色調修正功能、雜散光防止功能、外光阻隔功能等，同日守特別要求上述黑化處理被膜之性質、特性等。而先則亚無能夠充分滿足此等功能之電漿顯示面板用銅箔。關於先前技術，於專利文獻！揭示了下述技術：於透明基材如玻璃基板之-面周緣部形成黑框層，纟此面上藉 1246398 第1黏著劑層形成PET(聚對笨二甲酸乙二醇酿）膜之透明胺，再藉接者劑層在PET膜上形成銅層圖案之金屬層圖案，該銅層圖案以包含PET膜周邊部的方式形成，I兩面及側面均被黑化處理。又如專利文獻2揭示了下述技術：在同面上开v成，、通電極與掃描電極而在雙方電極間產生面放電之面放電型電漿顯示面板、電漿顯示組件。另外’專利文獻3係揭示了下述技術：使得於p⑽前面所設置之濾光器之茂漏電磁波阻隔用銅猪網濾光器之透明度提升之濾、光ϋ裝置4外於專利文獻4係揭示了下述技術··在透明高分+贈μ #既々千膜上積層多孔性銅箔，並以濕式蝕刻法蝕刻此銅络形成如格子狀圖案，製作形成有光透射部分之積層體，並將此積層體與透明支持體、防反射膜組合製成電磁波屏蔽層。專利文獻1 專利文獻2 專利文獻3 專利文獻4 •特開2002 - 9484號公報 :特開2000〜89692號公報 .特開2001 - 14731 2號公報 •特開2001〜21 7589號公報【發明内容】本發明乃鑑於上述問題而完成，#目的在於提供—種二能有效阻隔電導近紅外線、雜散光、外光等而在屏蔽特性優異、對比充分卜先寺如立呈見/辰…色，又能抑制由外邛射入光之反射光及由飯刻性優異等特徵，/二顯不面板射出光之反射光’且尤，、农電漿顯示面板（PDP)之用處大之具有黑化處理面（層）之鋼箔。 7 !246398 於是，本發明提供： (1) 一種具有黑化處理面（屑、々早面或雙面被施以黑化處理，且以黑色：△ L * =— 白色·· △ L·氺=〇表示之色差計所〇〇丨丨州疋之黑色處理面之為AL* $ — 70、色飽和度為$15。理面（層）之銅箔，其中銅，黑色處理面之光澤度< (2)如上述（1)之具有黑化處 4之單面或雙面被實以黑化處理 15 〇如上述（1)或（2) ，其 β m β m 中銅箔之單面或雙面之為黑色處理面之粗化粒子為以下，該面之表面粗度Ra為0 5/zm以下、Rt為4 以下、Rz為3· 5 // m以下。、（4)如上述（l)或（2)之具有黑化處理面（層）之鋼箔，以電鑛來被覆Co、Ni - Cu、Co - Cu、Ni - Co - Cu中至少j 種之黑色處理面。夕 (5)如上述（4)之具有黑化處理面（層）之銅箔，其中以 Ni-Cu電鍍處理之Ni附著量為2〇〇〜1〇〇〇即/迅2，式於咳 Ni-Cu電鍍處理後再以Ni或Ni_c〇電鍍處理之電鍍面：

Ni + Co 附著里為 250〜i5〇〇mg/m2。 (6) 如上述（4)之具有黑化處理面（層）之銅箔，其中以 Nl — C〇- CU電鍍處理之H + Co附著量為130〜1〇〇〇mg'/m2, 或於該Ni - Co - Cu電鍍處理後再以Ni或M — c〇電鍍處理之電鍍面之Ni + c〇附著量為250〜1 500mg/m2。 (7) 如上述（4)之具有黑化處理面（層）之銅箔，其中以 1246398 C〇 - Cii電鍍處理之c〇附著量為3〇〇〜1〇〇〇mg/m2，或於該

Co - Cu電鍍處理後再以Ni或Nl — c〇電鍍處理之電鍍面之 Ni + Co 附著量為 35〇〜15〇〇mg/m2。 (8) 如上述（4)之具有黑化處理面（層）之銅箔，其中以 Co電鍍處理之Co附著量為1〇〇〇〜5〇〇〇mg/m2，或於該c〇電鍍處理後再以Ni或Ni - Co電鍍處理之電鍍面之N;:c: 附者里為1050〜2000mg/ni2 〇 (9) 如上述（丨）或（2)之具有黑化處理面（層）之鋼箔，其中，銅箱為厚度8〜18//m之電解銅箱或壓延銅箱。 (10) 如上述（1)或⑵之具有黑化處理面（層）之鋼箔，其中’在㈣之黑化處理層上具備有防鏽處理層。/ (11) 如上述(10)之具有黑化處理面(層）之銅箔，防鏽處理層為擇自Cr、Ζη、Ζη Μ· 7 ΛΤ 一中之w以上。卜Νι、Ζηυ所構成群 (12) 如上述⑴或⑺之具有黑化處理其中銅笛為電浆顯示面板用銅謂。 “)之銅泊，發明效杲本發明之具有黑化處理面（声、、效果··能有效阻隔電磁波έ日〜白〃下述顯著，尸-^ 、、、工外線、雜散光、外光等而仕屏敝特性優異、對比充分、 1寺而飯刻性優異。電一不面板射出光之反射光，且【實施方式】本發明之具有黑化處理面 (运）之銅括，係於銅箔之單 9 1246398 面或又面貫施黑化處理。於該黑化處理面 △L氺〜100、白色.ATm _ Λ曰）以黑色. 化成為里色處理面之由 -I不之色差計測定之經黑 $15/、色處理面之色差為…7〇、色餘和度為C* 藉此’能夠得到可右帝光、 #放阻“磁波、近紅外線、雜散蔽特性’且對比充分，呈現濃黑色，又能有效抑制由外部射入本之反射光。先之反射光及由電毁顯示面板射出光再者，该黑色處理面之光澤度為s 15。又’關於上述明度與色飽和度，係依據下述基準。 ^即’ L*a*b顯色系為以mz8729規格化，l冰表 =方：’a*、b*表示色相與色飽和度。a*、b*表示顏古/ ’a*為紅色方向’-a*為綠色方肖，b*為黃色表不，C氺愈小，顏色愈不鮮艶。二色差計測定時’明度L*由基準色(白色或黑色)之 —n )測定。於本說明書，以白色當作基準色，即 ’則△ — 1〇〇表示黑色。關於光澤度，在JIS規格中，於折射率1 567之玻璃二面入射角為6。度時’將反射率1〇%當作光澤度勝所謂光澤度表示光照射於物體表面時之光正反射之 ⑽度測定之。❹市售光澤度計，以測定角本發明之具有黑化處理面(層)之銅落，其單面或雙面 10 1246398 之黑色處理面之粗化粒子為lAm以為‘以下、该面之表面粗度h 如此使表面粗度變小時，能夠㈣g m = y·5#m以下例如，屬一般性電解銅箔之J 又公司fMs 19 —太 v白（日鑛材料股份有限 J衣）之12//m之表面粗度Ra RZ Λ , , , ~ υ·以 m、Rt 為 5· 5// m、 z馮5· l#m，粗化粒子之大小刻時，4闰1 ' m。將此銅落進行钱 J日守，如圖1所示，殘存粗化粒子部分 ^ 4* ρα 不此直線性钱刻。、^月，使黑色處理面之粗化粒+ & 石> 4 士丁见于為1 // m以下，該面之表面粗度Ra為0·5//Π]以

Α [馬 4· m 以下、RZ 4戈5 // m以下時，則如圖2 〜qn 口所不此夠容易蝕刻成寬度5 3〇//m、間距100〜5〇〇//m之直線狀。具有黑化處理面（層）之銅箱，能以例如電鑛來被覆 ^NUi-Coii — Cu、、c〇—Cu、Ni c〇_Cu 中之至少1種來形成黑化面（層）。例理電或其適合例可舉例如下述（丨）〜（4)。但不必限定於此等，可視情況進行其他處理。 (1)以Ni附著量為200〜1〇〇〇邺/1112之Ni_ Cu電鍍處之黑化處理面（層或於上述Ni-Cu電錢處理後再以鍍面之Ni + Co附著量為25〇〜15〇〇mg/m2的方式進行Ni Ni - Co電鍍處理之黑化處理面（層）。 1246398 面（層）。 (3) 以Co附著量為300〜l〇〇〇mg/m2之方式進行c0 _ Cu 電鍍處理之黑化處理面（層），或於上述Co - Cu電鍛處理後再以電鍍面之Ni + Co附著量為350〜1 500mg/m2之方式進行N i或N i - Co電鍍處理之黑化處理面（層）。 (4) 以Co附著量為1〇〇〇〜5000mg/m2之方式進行c〇帝鍍處理之黑化處理面（層），或於上述co電鍍處理後再以^ + Co附著量為1〇5〇〜2000mg/m2之方式進行Ni戈電鐘處理之黑化處理面（層）。為形成黑化面（層）所使用之電鑛液盥恭 wm、免鍍條件及# 電鍍液與電鍍條件如下述。伋層 [开> 成黑化面（層）之電錢液與電鑛條件] (Co電鍍液）

Co ·· 5〜30g/L pH : 2〜4 液 '温· 2 0〜6 0 °C 電流密度：10〜50A/dm2 (Cu - Co電鍍液）

Cu : 5〜30g/L Co : 10〜30g/L pH : 2〜4 液溫· 2 0〜6 0 °C 電流密度：30〜50A/dm2 (Cu - Ni電鍍液） 12 1246398

Cu : 5〜30g/L Ni : 10〜30g/L pH : 2 〜4 液溫：20〜55°C 電流密度：30〜55A/dm2 (Cu - Ni - Co 電鍵液）

Cu : 5〜30g/L Ni : 5〜30g/L > Co ·· 5〜30g/L pH : 2 〜4 液溫：2 0〜6 0 °C 電流密度：30〜60A/dm2 [覆層電鍍液與電鍍條件] (Ni電鍍液）

Ni : 10〜30g/L pH : 2〜3

> 液溫：20〜60°C 電流密度：0. 1〜5A/dm2 (Ni - Co電鍍液）

Ni : 5〜30g/L Co : 5〜30g/L pH : 2〜4 液溫：20〜60°C 電流密度：0. 1〜5A/dm2 13 1246398 本發明之具有黑化處理」之銅箔，可使用厘疮〜1一之電解銅箱或麼延銅落。用厚度可於其上再進行覆層電〜Co之電鍍液。覆層電 $成黑色電錢層後或在可再形成防鏽處理層。 Zn - Ni、Zn - Ni — p 所形成本發明之黑色電鍍層後鍍。此覆層電鍍使用含有Ni或鍍之方法或處理液並無特別限制黑色電錢層上形成覆層電鍍層後至於此防鏽處理層可擇自Cr、Ζη 構成群中之1種以上。又化處理面(層)之電鍍處理，可使用電鑛方法。里色==處理面（層）之㈣量少時不能獲得充分之 '，、、色但過夕吟平滑性變差，蝕刻特性變劣。於上述電鍍處理面上之兮妙士 _ — 上之°亥防鏽處理，當然須要不損宝於電水顯不面板用鋼箔所適用之銅箔、口乂争考神古八、分σ 寺丨生’而本發明之防滿足此等條件。又，該防鏽處理對本發明之里化，理被膜之阻隔電磁波、近紅外線、雜散光、外光等: 屏蔽4寸性，耐條紋不均性，蝕刻性，盥 /、掉粉相關之剝離性寻枭乎無影響’能夠提升防鏽效果。本發明之防鏽處理可應用下述 k电緞處理。以下為苴代表例。又’此防鏽處理僅為例示-適合例，本發明不受此例之限制。 (C r防鑛）

Cr(Cr03) · 2〜l〇g/L pH : 3〜4. 5 液溫：40〜60°C 14 1246398 電流密度：〇·5〜5A/dm2 電鍍時間：0 · 5〜1 0秒 (Zn- Ni 防鏽） zn : 15〜30g/L Ni : 5〜1〇g/L PH : 3〜4· 5 液溫· 3 0// 4 5 C 電流密度：〇· 1〜5A/dm2 電鐘時間：0 · 5〜10秒實施例其次，根據實施例說明本發明。又本實施例僅例示一適合例，但本發明不受此等實施例之任何限制。因此，包含於本發明技術思想之變形、其他實施例或形態，均屬本發明之範圍。又，為與本發明對照比較，記述比較例於後段。 (實施例1〜2 8 )

種電鍍浴形成黑色將厚度9、12、及18”之電解銅羯或壓延銅镇經脫脂、水洗、酸洗、水洗後，使用上述各包鍍層。其電錢條件如表1所示。

脫脂1用一般驗性脫脂液「GN清潔液87」：30g/L 以15A/dm2、5秒、肌、不鏽鋼陽極進行電解脫脂。又酸洗使用H2SG4 : ⑽g/L，於室溫進行1Q秒鐘。 15 1246398 表1 電鍍液覆蓋電鍍液銅结銅箔厚度 (//m) 電流密度 (A/dm2) 時間 (sec) 液溫 (°C) pH 實施例1 Cu - Ni — ①M面 18 40 1.5 40 2.5 實施例2 Cu - Ni — ①M面 12 40 1.5 40 2.5 實施例3 Cu-Ni — ①Μ面 9 35 2.2 40 2.5 實施例4 Cu-Ni Ni - Co ②Μ面 18 40 1.5 40 2.5 實施例5 Cu-Ni Ni - Co ②Μ面 12 40 1.5 40 2.5 實施例6 Cu-Ni Ni - Co ②Μ面 9 35 2.2 40 2.5 實施例7 Cu-Ni — ②S面 12 45 1.5 40 2.5 實施例8 Cu-Ni — ②S面 9 45 1.5 40 2.5 實施例9 Cu - Ni — 壓延 18 45 1.5 40 2.5 實施例10 Cu-Ni — 壓延 12 45 1.5 40 2.5 實施例11 Cu-Ni - Co — ①Μ面 12 40 1.8 40 2.5 · 實施例12 Cu-Ni - Co — ①Μ面 12 40 4.5 40 2.5 實施例13 Cu-Ni - Co — ①Μ面 12 60 1.0 40 2.5 實施例14 Cu-Ni - Co Ni ②Μ面 18 45 1.8 40 2.5 實施例15 Cu-Ni - Co Ni ②Μ面 12 45 1.8 40 2.5 實施例16 Cu-Ni - Co Ni ②Μ面 9 45 1.8 40 2.5 實施例17 Cu-Ni - Co — ②S面 12 50 1.8 40 2.5 實施例18 Cu - Ni - Co — ②S面 9 50 1.8 40 2.5 實施例19 Cu-Ni - Co — 壓延 18 50 1.8 40 2.5 實施例20 Cu-Ni - Co — 壓延 12 50 1.8 40 2.5 實施例21 Cu - Co Ni-Co ①Μ面 18 50 1.5 37 2.5 實施例22 Cu - Co Ni - Co ①Μ面 12 50 1.5 37 2.5 實施例23 Cu - Co Ni-Co ①Μ面 9 50 1.5 37 2.5 實施例24 Cu - Co Ni-Co ②Μ面 18 50 1.5 37 2.5 實施例25 Cu - Co Ni-Co ②Μ面 12 50 1.5 37 2.5 實施例26 Co Ni-Co ②Μ面 12 20 2.0 37 2.5 實施例27 Co Ni-Co ②Μ面 12 20 6.0 37 2.5 . 實施例28 Co Ni-Co ②Μ面 12 30 4.0 37 2.5 比較例29 Cu-Ni — ①Μ面 18 20 1.5 40 2.5 比較例30 Cu-Ni — ①Μ面 12 40 0.8 40 2.5 比較例31 Cu-Ni Ni-Co ②Μ面 18 30 1.0 40 2.5 比較例32 Cu-Ni Ni-Co ②Μ面 12 20 1.5 40 2.5 比較例33 Cu - Ni Ni-Co ②Μ面 9 20 1.0 40 2.5 比較例34 Cu-Ni — ②S面 12 20 1.5 40 2.5 比較例35 Cu-Ni — ②S面 9 30 1.5 40 2.5 比較例36 Cu-Ni - Co — ①Μ面 12 40 1.0 40 2.5 比較例37 Cu-Ni - Co — ①Μ面 12 40 0.8 40 2.5 比較例38 Cu-Ni - Co — ①Μ面 12 20 1.5 40 2.5 16 1246398 其結果示如表2。於表2分別列示電鍍層種類、有無後層電鍍及其種類、色差△ L、色飽和度、光澤度、反射特性、粗度（Ra、Rt、Rz)、蝕刻性、Ni量、c〇量。如表2所示，於本發明之實施例j〜28，其色差△ l均優於基準值（一 70以下），且色飽和度、光澤度、反射特性、粗度（Ra、Rt、RZ)、㈣性等均表現優良值，故具備適合之黑色電鍍面(層）。此等岣滿足電漿顯示面板用銅箔之條

17 1246398 1246398 (比較例29〜38) 將居度9、1 2、及18 // m之電解銅羯經脫脂、水洗、酉变、、士死、水洗後，使用上述各種鍍浴形成黑色電鍍層。其電錢條件如同表1所示。脫脂與實施例相同，使用一般鹼性脫脂液「GN清潔液 J」· 30g/L，以15 A/dm2、5秒、40°C、不鏽鋼陽極進行電解脫脂。又，酸洗使用ISO4 ·· 1〇〇g/L，於室溫進行1〇秒鐘。承其結果示如表3。於表3分別列示電鍍層種類、有無是層电鍍及其種類、色差△ L、色飽和度、光澤度、反射斗寸性、粗度（Ra、Rt、Rz)、蝕刻性、Ni量、c〇量。如表3所示，除比較例37外，其餘之色差均較基準值（一70 )差。而比較例37之色飽和度較基準值大，其結果不佳。凡色差AL與色飽和度較色差基準值（_7〇)、色飽和度基準值c(15)差之樣品，屏蔽特性差，不適合當作電漿顯示面板用銅箔。尤其比較例29、3〇其色飽和度差，反射特性惡化。 19 1246398

Co mg/m2 〇 Ο s s s Q Q CH) OO CT) LO LO LO Ni mg/m2 CO οο CNI οο OO CT> CNI CTD 03 LO o 二蝕刻性〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇 N 〇 LO οο <〇 οο CH) OO 〇〇 οα CSI co CO co CD LO CO CO 〇· OO OO CD CJ5 〇〇〇口 oi CO oi οο oi CO OO CD 〇· g CO 卜〇 05 CD CO CQ 〇· OO CO o οο CO CD 03 CNI <=> CO OO o 呀 CNI o 卜 CD 〇· 反射特性 X X 〇〇〇〇〇〇〇〇光澤度 CD LO CN1 23.8 卜 ο LO o 卜 Ο OO 〇· cn> CD 卜 o LO 〇· 卜 ο 色飽和度 [(a*)2+(b*)2]1/2 〇〇 CO CN1 卜· 呀 od od CO od od CO OO 卜 CD cn m <1 CO CO co 1 CO 一 CO 1 ◦ s 1 呀 LO CD 1 03 呀· CO 1 § 1 (Nl oi co 1 un o I 05 LO 1 οα od LO t 覆層電鍍液 1 1 1 Q 1 cS 1 s 1 1 1 1 1 電鍍液 1 θ 1 5 1 c3 1 3 1 5 1 c3 1 θ 1 1 3 θ 1 1 5 θ 1 1 θ 比較例29 比較例30 比較例31 比較例32 比較例33 比較例34 比較例35 比較例36 比較例37 比較例38

1246398 產業上可利用性本發明之電漿顯示面板（PDP)用銅箱’可有效阻隔電磁波、近紅外線、雜散光、外光等而在屏蔽特性優異，且對比充分，呈現濃黑&，又能抑制由外部射入光之反射光及由電漿顯示面板射出光之反射光，並钱刻性優異，故當作電漿顯示面板（PDP)用銅箔用處大。【圖式簡單說明】圖1係粗化粒子大小為2"之顯微鏡照片。扪冶蝕刻面之電子圖2係粗化粒子大小為i "以下之電子顯微鏡照片。解鋼箔蝕刻面之【主要元件付號說明】

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Claims

^46398 十、申請專利範圍： 1 · 一種具有黑化處理面（層）之銅箔，其特徵在於，係將鋼箔之單面或雙面施以黑化處理而成，且以黑色△ L 1 〇〇、白色·△ L·氺=〇表示之色差計所測定之黑色處理面之色差為AL氺70、色飽和度為c*g15。〜2 ·如申請專利範圍第1項之具有黑化處理面（層）之銅、冷，係將銅落之單面或雙面施以黑化處理而成，該黑色處王里面之光澤度^ 15。 • 3 ·如申請專利範圍第1或2項之具有黑化處理面（層）之銅箔，其中，銅箔之單面或雙面之黑色處理面之粗化粒子為1/ΖΠ1以下，該面之表面粗度Ra為〇 5#m以下、Rt 為4· 0# m以下、RZ為3· 5// m以下。 4 ·如申請專利範圍第1或2項之具有黑化處理面（層）之鋼箔，其中該黑色處理面，係以電鍍來被覆C〇、N丨—Cu、 Co ~ Cu、Ni - Co - Cu中至少1種而形成。 5 ·如申請專利範圍第4項之具有黑化處理面（層）之銅 _箱，其中，以Ni - Cu電鍍處理之Ni附著量為200〜 1 000mg/m2，或於該Ni _ Cu電鍍處理後再以Ni或Ni - Co 電鍍處理之電鍍面之Ni + Co附著量為250〜1 500mg/m2。 6 ·如申請專利範圍第4項之具有黑化處理面（層）之銅箔，其中，以Ni - Co - Cu電鍍處理之Ni + Co附著量為13〇〜1 000mg/m2,或於該Ni - Co - Cu電鍍處理後再以Ni或Ni ~ Co電鍍處理之電鍵面之Ni + Co附著量為250〜1500 mg/m2。 7 ·如申請專利範圍第4項之具有黑化處理面（層）之銅 22 1246398 箔，其中，以Co - Cu電鍍處理之C〇附著量為3〇〇〜 1000mg/m，或於該c〇-Cu電鍵處理後再以Ni或Ni - Co 電鍍處理之電鍍面之Ni + Co附著量為350〜1 500mg/m2。 8 ·如申請專利範圍第4項之具有黑化處理面（層）之銅泊’其中，以Co電鍍處理之Co附著量為1〇〇〇〜5〇〇〇mg/m2，或於該Co電鍍處理後再以Ni或Ni — c〇電鍍處理之電鍍面之Ni + Co附著量為1〇5〇〜2〇〇〇mg/m2。 9 ·如申請專利範圍第丨或2項之具有黑化處理面（層）銅名其中，銅箔為厚度8〜18//m之電解銅箔或壓延銅箔。 1〇·如申請專利範圍第1或2項之具有黑化處理面（層）之銅、泊，jMl φ , yj- 八T 在鋼、治之黑化處理層上具備有防鏽處理層。 11 ·如申請專利範圍第10項之具有黑化處理面（層）之銅箔，苴中，阮义杳古 9 '、防鐘處理層為擇自Cr、Zn、Zn_ Ni、Zn- Ni -p所構成群中l種以上。

亡如申請專利範園第1或2項之具有之銅泊’該鋼ϋ為電渡顯示面板用銅箱。十一、圖式：如次頁 23