TWI615336B - 處理液儲存槽 - Google Patents

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蔡文平
劉茂林
李威震
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Abstract

一種處理液儲存槽用以儲存一含有一泡沫的處理液。處理液儲存槽包括一槽體和一液位偵測模組。槽體包括一儲液空間。液位偵測模組連接槽體，液位偵測模組包括一液位管和一偵測件。液位管包括一第一管段和一第二管段。第一管段包括一第一入口、一第一出口和一泡沫儲存管，第一入口的高度高於第一出口，且第一入口連通儲液空間。第二管段包括一第二入口、一第二出口和一處理液流通管，第二入口連通第一出口。一偵測件設於處理液流通管。當處理液由儲液空間流入第一管段時，泡沫停留於泡沫儲存管，且處理液經由第一出口流入處理液流通管。

Description

處理液儲存槽
本發明係關於一種處理液儲存槽，特別是一種可防止處理液的泡沫誤觸液位偵測器而造成誤判液位的處理液儲存槽。
在進行半導體濕式製程時，常會需要用到各式各樣的化學液體，該些化學液體可能會有高揮發性、酸性等危險性質，而需要被儲存於特製的容器，因此，相關廠商遂研發出化學液體的儲存槽。該些儲存槽具有特製的壁面，儲存槽的壁面設計為可以妥善儲存該些化學液體。然而，該些儲存槽的壁面為不透明的材質，使用者無法直接觀看儲存槽內的液體量；因此需要在儲存槽上另外安裝液位管和液位偵測器來檢測液位。液位管和儲存槽內部連通，液位偵測器裝設在液位管上；當化學液體被置入儲存槽內部時，化學液體也會流入液位管，並且液位管和儲存槽內的液體的高度會一樣。當化學液體流入液位管時，液位管上的液位偵測器會偵測到液位變化，以供使用者了解儲存槽內的液位。
然而，當使用者將化學液體倒入儲存槽內時，化學液體可能會受到攪動或反應而產生泡沫，或者化學液體本身即具有泡沫。當化學液體流入液位管時，該些泡沫會浮於化學液體上層，或者該些泡沫會附著在液位管的管壁上，而不會隨著液位變化而升降。因此，若是泡沫提早觸發偵測器或附著在液位偵測器周圍的液位管的管壁上時，會嚴重影響液位偵測器的準確度。
因此，有必要提供一種新的儲存槽，其可以防止處理液的泡沫誤觸液位偵測器而造成誤判液位。
本發明之主要目的係在提供一種可防止處理液的泡沫誤觸液位偵測器而造成誤判液位的處理液儲存槽。
為達成上述之目的，本發明之處理液儲存槽用以儲存含有一泡沫的一處理液。處理液儲存槽包括一槽體和一液位偵測模組。槽體包括一儲液空間。液位偵測模組連接槽體，液位偵測模組包括一液位管和至少一偵測件。液位管連通儲液空間，液位管包括一第一管段和一第二管段。第一管段包括一第一入口、一第一出口和一泡沫儲存管，第一入口和第一出口分別位於泡沫儲存管的兩端，第一入口的高度高於第一出口，且第一入口連通儲液空間。第二管段包括一第二入口、一第二出口和一處理液流通管，第二入口連通第一出口，第二出口的高度高於第一入口。至少一偵測件設於處理液流通管。當處理液由儲液空間流入第一管段時，泡沫停留於泡沫儲存管，且處理液經由第一出口流入處理液流通管。
根據本發明之一實施例，其中第二出口連通儲液空間。
根據本發明之一實施例，其中槽體更包括一液體入口和一液體出口，液體入口提供處理液進入儲液空間，液體出口連通第一入口。
根據本發明之一實施例，其中槽體更包括一側壁，且第一入口設置於側壁。
根據本發明之一實施例，其中槽體更包括一頂壁，且第二出口設置於頂壁或側壁。
根據本發明之一實施例，其中偵測件設於處理液流通管的外表面而不與處理液接觸。
根據本發明之一實施例，其中偵測件為一光遮斷液位偵測器或一靜電容液位偵測器。
根據本發明之一實施例，其中偵測件為光遮斷液位偵測器，則液位管為一可透光管。
根據本發明之一實施例，液位管更包含一第三管段，第三管段包括一第三入口和一第三出口，第三入口連通第一出口，第三出口連通第二入口。
根據本發明之一實施例，其中第三管段是一直管或一彎管。
為能讓 貴審查委員能更瞭解本發明之技術內容，特舉較佳具體實施例說明如下。
以下請一併參考圖1至圖3關於本發明之第一實施例之處理液儲存槽。圖1係本發明之第一實施例之處理液儲存槽之示意圖；圖2係本發明之第一實施例之處理液儲存槽之部分剖面圖；圖3係本發明之第一實施例之液位升高的處理液儲存槽之部分剖面圖。
在本發明之第一實施例之中，如圖1和圖2所示，處理液儲存槽100用以儲存一處理液A，並且可以供使用者準確得了解處理液儲存槽100內的處理液A的液位。處理液A例如為一化學液體，其含有一泡沫B，泡沫B的比重小於處理液A之流體部分的比重，故泡沫B會懸浮於處理液A的表面上。
在本發明之第一實施例之中，處理液儲存槽100包括一槽體90和一液位偵測模組1。槽體90用以儲存處理液A，槽體90包括一儲液空間91、一液體入口92、一液體出口93、一側壁94和一頂壁95。儲液空間91用以容納和儲存處理液A。液體入口92位於頂壁95並連通儲液空間91，液體入口92用以輸入處理液A至儲液空間91。液體出口93位於側壁94並連通液位偵測模組1的管段；然而，液體出口93的所在位置並不限於設在側壁94，液體出口93也可以設在槽體90的底部。
在本發明之第一實施例之中，液位偵測模組1連接槽體90，液位偵測模組1用以偵測儲液空間91內的處理液A的液位高低，以供使用者了解儲液空間91內的處理液A的容量。液位偵測模組1包括一液位管10和至少一偵測件20。液位管10連通儲液空間91，液位管10用以讓儲液空間91內的處理液A流入，並使泡沫B和處理液A分離。液位管10包括一第一管段11和一第二管段12。
在本發明之第一實施例之中，第一管段11包括一第一入口111、一第一出口112和一泡沫儲存管113，第一入口111和第一出口112分別位於泡沫儲存管113的兩端，第一入口111的高度高於第一出口112，第一入口111設置於側壁94，且第一入口111連通液體出口93和儲液空間91。第二管段12包括一第二入口121、一第二出口122和一處理液流通管123，第二入口121連通第一出口112，第二出口122的高度高於第一入口111；然而，第一入口111的所在位置並不限於設在側壁94，第一入口111也可以設在槽體90的底部。第一入口111用以供處理液A從儲液空間91流入泡沫儲存管113。泡沫儲存管113是一向下延伸的管段，當處理液A由儲液空間91流入第一管段11之泡沫儲存管113時，由於泡沫B之比重小於處理液A之流體部分的比重，因此泡沫B會停留於泡沫儲存管113的頂部，泡沫B無法沿著向下延伸的泡沫儲存管113流動，只有處理液A之流體部分可以繼續沿著向下延伸的泡沫儲存管113流經第一出口112而進入處理液流通管123。因此，泡沫儲存管113可以防止泡沫B流入第二管段12，並且儲存泡沫B。
在本發明之第一實施例之中，第一管段11和第二管段12用以供處理液A從第一入口111流入且由第一出口112流出並繼續流至處理液流通管123。第一實施例之第二出口122連接頂壁95而連通儲液空間91；然而，第二出口122不限定為連接頂壁95，第二出口122也可以設計為連接側壁94而連通儲液空間91。若是第二管段12內的處理液A之液位高度達到第二出口122的高度時，處理液A可以回流至儲液空間91。
在本發明之第一實施例之中，偵測件20以三個為例，分別設於第二管段12的不同高度上，以分別偵測不同高度的液位，且三個偵測件20可設計為和外部電腦(圖未示)電性連接，以將偵測到的液位傳送給外部電腦以供使用者了解液位高低。三個偵測件20設於第二管段12之處理液流通管123的外表面而不與處理液流通管123內流動的處理液A接觸。本發明之偵測件20為一光遮斷液位偵測器，且液位管10為一可透光管以配合光遮斷液位偵測器運作。光遮斷液位偵測器之偵測件20是一種會朝處理液流通管123發射水平光線的偵測器，並且光遮斷液位偵測器會偵測該水平光線是否受到遮斷，藉此，若是光遮斷液位偵測器偵測該水平光線被處理液流通管123裡的處理液A遮斷，則表示處理液A的液位已經到達該發射水平光線之光遮斷液位偵測器之偵測件20的高度。然而，偵測件20之種類並不以光遮斷液位偵測器為限，其亦可為靜電容液位偵測器，靜電容液位偵測器可以偵測處理液流通管123裡的電容值的變化，因此，當處理液A升高至靜電容液位偵測器的偵測範圍時，靜電容液位偵測器會偵測到電容值被處理液A影響而改變，藉此可偵測到處理液A之液位。另外，偵測件20之數量並不以三個為限，其數量可依照設計需求而改變。
處理液儲存槽100儲存處理液A時，如圖1至圖2所示，可以從液體入口92輸入處理液A，讓處理液A流入儲液空間91。當儲液空間91內的處理液A的液位高度達到液體出口93時，處理液A會從液體出口93流入液位偵測模組1。如圖2和圖3所示，當處理液A由儲液空間91流入第一管段11後，由於泡沫B的比重小於處理液A之流體部分之比重，因此泡沫B不會向下流動至第一出口112，泡沫B會停留於泡沫儲存管113的頂端，處理液A之流體部分會經由第一出口112而持續流入第二管段12。藉由連通管原理，儲液空間91裡的處理液A的高度和流入第二管段12裡的處理液A的高度會保持一致。當處理液A流入第二管段12之後，若是處理液A的液位高度達到設於處理液流通管123上的偵測件20的偵測範圍內，則偵測件20可以偵測到處理液A的液位，並將偵測到的液位傳輸給外部電腦，以提供槽體90內的處理液A的液位高低資訊。 如圖4和圖5所示，本發明之第二實施例與第一實施例的差別在於，在第二實施例之處理液儲存槽100a之中，液位偵測模組1a之液位管10a更包含一第三管段13，第三管段13包括一第三入口131和一第三出口132，第三入口131連通第一出口112，第三出口132連通第二入口121。泡沫儲存管113a與處理液流通管123a的整體長度可配合第三管段13而變更。第三管段13是一直管，第一管段11a和第二管段12a透過第三管段13a的銜接，可使管線設計上更加靈活；如圖6所示，本發明之第三實施例與第二實施例的差別在於，在第三實施例之處理液儲存槽100b之液位偵測模組1b之液位管10b之中，第三管段13b為U型的彎管結構，藉由U型的彎管之第三管段13b，液體可以更流暢得流入第二管段12b。於本發明中，液位管10(10a、10b)係為了說明處理液A和泡沫B的流動方式而定義不同管段，然而，液位管10(10a、10b)可為一體成形的管體(包含不同管段)，或亦可由不同管段連接而成的管體，並不以本案之舉例為限。
藉由本發明之處理液儲存槽100之結構，泡沫B會停留於泡沫儲存管113，而無法沿著向下延伸的泡沫儲存管113而進入處理液流通管123。因此，泡沫B不會進入第二管段12而影響偵測件20偵測液位高低，且偵測件20可以準確得偵測到液位高低以供使用者了解處理液儲存槽100裡的處理液A的容量。
需注意的是，上述僅為實施例，而非限制於實施例。譬如 此不脫離本發明基本架構者，皆應為本專利所主張之權利範圍，而應以專利申請範圍為準。
1、1a、1b‧‧‧液位偵測模組
10、10a、10b‧‧‧液位管
11、11a、11b‧‧‧第一管段
111‧‧‧第一入口
112、112a‧‧‧第一出口
113、113a‧‧‧泡沫儲存管
12、12a、12b‧‧‧第二管段
121、121a‧‧‧第二入口
122‧‧‧第二出口
123、123a‧‧‧處理液流通管
13、13b‧‧‧第三管段
131‧‧‧第三入口
132‧‧‧第三出口
20‧‧‧偵測件
90‧‧‧槽體
91‧‧‧儲液空間
92‧‧‧液體入口
93‧‧‧液體出口
94‧‧‧側壁
95‧‧‧頂壁
100、100a、100b‧‧‧處理液儲存槽
A‧‧‧處理液
B‧‧‧泡沫
圖1係本發明之第一實施例之處理液儲存槽之示意圖。 圖2係本發明之第一實施例之處理液儲存槽之部分剖面圖。 圖3係本發明之第一實施例之液位升高的處理液儲存槽之部分剖面圖。 圖4係本發明之第二實施例之處理液儲存槽之示意圖。 圖5係本發明之第二實施例之處理液儲存槽之部分剖面圖。 圖6係本發明之第三實施例之處理液儲存槽之示意圖。
123‧‧‧處理液流通管
20‧‧‧偵測件
1‧‧‧液位偵測模組
10‧‧‧液位管
11‧‧‧第一管段
12‧‧‧第二管段
122‧‧‧第二出口
90‧‧‧槽體
92‧‧‧液體入口
94‧‧‧側壁
95‧‧‧頂壁
100‧‧‧處理液儲存槽

Claims (10)

  1. 一種處理液儲存槽，用以儲存一含有一泡沫的處理液，該處理液儲存槽包括： 一槽體，包括一儲液空間；以及 一液位偵測模組，連接該槽體，該液位偵測模組包括： 一液位管，連通該儲液空間，該液位管包括： 一第一管段，包括一第一入口、一第一出口和一泡沫儲存管，該第一入口和該第一出口分別位於該泡沫儲存管的兩端，該第一入口的高度高於該第一出口，且該第一入口連通該儲液空間；以及 一第二管段，包括一第二入口、一第二出口和一處理液流通管，該第二入口連通該第一出口，該第二出口的高度高於該第一入口；以及 一偵測件，設於該處理液流通管； 其中當該處理液由該儲液空間流入該第一管段時，該泡沫停留於該泡沫儲存管，且該處理液經由該第一出口流入該處理液流通管。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之處理液儲存槽，其中該第二出口連通該儲液空間。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之處理液儲存槽，其中該槽體更包括一液體入口和一液體出口，該液體入口提供該處理液進入該儲液空間，該液體出口連通該第一入口。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之處理液儲存槽，其中該槽體更包括一側壁，且該第一入口設置於該側壁。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之處理液儲存槽，其中該槽體更包括一頂壁，且該第二出口設置於該頂壁或該側壁。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之處理液儲存槽，其中該偵測件設於該處理液流通管的外表面而不與該處理液接觸。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之處理液儲存槽，其中該偵測件為一光遮斷液位偵測器或一靜電容液位偵測器。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之處理液儲存槽，其中該偵測件為該光遮斷液位偵測器，則該液位管為一可透光管。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之處理液儲存槽，其中該液位管更包含一第三管段，該第三管段包括一第三入口和一第三出口，該第三入口連通該第一出口，該第三出口連通該第二入口。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之處理液儲存槽，其中該第三管段是一直管或一彎管。
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