KR102039795B1 - 단일기판 처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 단일기판 처리장치를 공개하였고, 베이스 및 기판 스테이지를 포함한다. 기판 스테이지는 고정축, 지지부 및 완충구조를 포함한다. 고정축은 베이스에 연결되고, 고정축의 내부에는 기압통로가 있다. 지지부는 고정축과 연결되고, 기판을 지지한다. 지지부는 적어도 하나의 구멍을 가지고, 구멍과 기압통로는 서로 연통된다. 완충구조는 지지부에 설치되고 완충구조의 한 표면은 구멍에 대응하고, 다른 한 표면은 기판에 대응한다.

Description

단일기판 처리장치{DEVICE FOR PROCESSING SINGLE SUBSTRATE}
본 발명은 단일기판 처리장치에 관한 것이고, 특히 단일기판 처리장치의 기판 스테이지에 관한 것이다.
고정하고 이끌어 가며, 이로써 기판의 습식처리 과정을 진행한다. 그러나, 기판이 복수의 과정의 가공을 경과한 후, 많은 응력 또는 미세한 스크래치를 누적하게 된다. 따라서, 기판을 스테이지로 전송할 때, 기판이 스테이지와의 접촉력 또는 충돌이 발생할 가능성이 매우 높고, 또는 흡인력을 가동한 후, 기판이 응력 또는 스크래치로 인하여 파손의 발생을 조성한다.
현재, 비록 스테이지상에 연성의 범프를 추가 설치하여 기판과 경질의 스테이지가 직접 접촉하는 것을 피하였지만, 그 효과가 좋지 않다. 그리고, 흡인력을 가동할 때, 기판은 흡인을 받아 여전히 연성의 범프를 지압하고, 연성의 범프는 과도하게 압축된 후, 나타나는 완충효과는 제한적이기에, 적당한 완충을 제공하지 못하고, 따라서 종래의 기술은 확실히 개선할 필요가 있다.
상술한 과제에 기초하여 본 발명은 단일기판 처리장치를 제공하였고, 베이스 및 기판 스테이지를 포함하고, 기판 스테이지는 고정축, 지지부 및 완충구조를 포함하고, 고정축은 베이스에 연결되고, 기압통로가 있으며 지지부는 기압통로와 서로 연통하는 구멍이 있으며, 완충구조는 지지부에 설치되고 완충구조의 한 표면은 구멍에 대응하고, 다른 한 표면은 기판에 대응하여 종래의 스테이지가 적당한 완충효과를 제공하지 못하는 문제를 해결하였다.
본 발명은 단일기판 처리장치를 제공하고, 기판의 습식처리에 사용한다. 단일기판 처리장치는 베이스, 기판 스테이지 및 수집유닛을 포함한다. 기판 스테이지는 고정축, 지지부, 완충구조를 포함한다. 고정축은 베이스에 연결되고, 고정축의 내부에는 기압통로가 있다. 지지부는 고정축에 연결되고 기판을 지지한다. 지지부는 적어도 하나의 구멍이 있고, 구멍과 기압통로는 서로 연통된다. 완충구조는 지지부에 설치되고, 완충구조의 한 표면은 구멍에 대응하고, 다른 한 표면은 기판에 대응한다. 수집유닛은 기판 스테이지의 외측에 설치되고, 습칙처리한 기판의 처리액을 수집한다.
본 발명은 다른 단일기판 처리장치를 제공하고 기판의 교정에 사용한다. 단일기판 처리장치는 베이스, 기판 스테이지 및 교정유닛을 포함한다. 기판 스테이지는 고정축, 지지부 및 완충구조를 포함한다. 고정축은 베이스에 연결되고, 고정축의 내부에는 기압통로가 있다. 지지부는 고정축에 연결되고 기판을 지지하며, 지지부는 적어도 하나의 구멍이 있고, 구멍과 기압통로는 서로 연통된다. 완충구조는 지지부에 설치되고, 완충구조의 한 표면은 구멍에 대응하고 다른 한 표면은 기판에 대응한다. 교정유닛은 기판 스테이지가 기판을 회전하는 것을 제어하고 기판에 대하여 교정한다.
본 발명의 실시예에 따라, 완충구조는 적어도 하나의 이동식 완충부를 포함하고, 이동식 완충부는 구멍을 덮으며, 기판 스테이지는 이동식 완충부가 제1고도 및 제2고도 사이에서 이동을 제어하는 제어유닛을 더 포함한다.
본 발명의 실시예에 따라, 제어유닛이 이동식 완충부가 제1고도로 상승하는 것을 제어할 때, 이동식 완충부는 기판과 접촉하고, 제어유닛이 이동식 완충부가 제2고도로 하강하는 것을 제어할 때, 이동식 완충부는 기판과 부압구역을 형성하고, 이동식 완충부는 기판을 흡착한다.
본 발명의 실시예에 따라, 완충구조는 적어도 하나의 고정식 완충부를 더 포함하고, 제어유닛이 이동식 완충부가 제2고도로 하강하는 것을 제어할 때, 이동식 완충부는 기판과 부압구역을 형성하고, 고정식 완충부는 기판과 접촉한다.
본 발명의 실시예에 따라, 제어유닛이 기압제어유닛일 때, 기압통로가 부압상태 및 비부압상태 사이의 전환을 제어하여 이동식 완충부가 제1고도와 제2고도 사이에서의 이동을 제어한다.
본 발명의 실시예에 따라, 기압제어유닛이 기압통로가 부압상태로 전환하는 것을 제어할 때, 이동식 완충부는 제2고도로 하강하여 고정축과 이동식 완충부는 공동으로 기판을 흡착한다.
본 발명의 실시예에 따라, 고정축은 기판 스테이지의 중앙구역에 설치하고, 기압통로의 개구는 지지부의 중앙구역에 위치하고, 이동식 완충부는 개구의 외부에 설치되며, 기압제어유닛이 기압통로가 부압상태로 전환하는 것을 제어할 때, 이동식 완충부는 제2고도로 하강하고, 기압통로의 개구는 이동식 완충부와 공동으로 기판을 흡착한다.
본 발명의 실시예에 따라, 이동식 완충부는 환형구조이고, 기압통로의 개구의 외부에 둘러싸여 설치된다.
본 발명의 실시예에 따라, 기판 스테이지는 기판 스테이지의 외측벽에 설치되는 외환 완충구조를 더 포함하고, 외환 완충구조의 상단은 기판과 접촉한다.
본 발명의 실시예에 따라, 단일기판 처리장치는 베이스에 설치되고, 기판 스테이지의 외부에 둘러싸여 설치되는 유체세척유닛을 더 포함한다.
본 발명의 실시예에 따라, 단일기판 처리장치는 베이스에 회전식으로 설치되고, 유체세척유닛의 외부에 둘러싸여 설치되는 유체가속유닛을 더 포함한다.
상기 내용과 같이, 본 발명의 단일기판 처리장치에 따라 기판에 대하여 습식처리(제1실시예) 또는 교정(제2실시예)을 하여도, 베이스 및 기판 스테이지를 포함한다. 여기서, 기판 스테이지는 고정축, 지지부 및 완충구조를 포함하고, 고정축은 베이스에 연결되고, 기압통로가 있으며 지지부는 기압통로와 서로 연통되는 구멍이 있다. 완충구조는 지지부에 설치되고, 완충구조의 한 표면은 구멍에 대응하고, 다른 한 표면은 기판에 대응하며, 기압통로가 부압상태일 때, 완충구조에 대하여 부압의 흡인력을 동시에 생성하여 완충구조가 구멍의 방향으로 이동 또는 압축하게 한다. 이로써, 기판에 생기는 추가의 응력을 피할 수 있어, 기판을 완충하고, 기판의 파열을 피하는 효과에 도달하며, 고정기판을 흡착하는 것을 겸비하게 한다.
본 명세서 내에 포함됨.
도 1A는 본 발명의 제1실시예의 단일기판 처리장치의 설명도이다.
도 1B는 도 1A의 기판 캐리어의 입체 설명도이다.
도 2A는 도 1의 기판 스테이지의 확대도이다.
도 2B는 도 2A의 기압통로가 부압상태에서의 설명도이다.
도 3은 도 2의 완충구조의 다른 실시형태의 설명도이다.
도 4는 도 1A의 기판 스테이지의 다른 실시형태의 설명도이다.
도 5는 본 발명의 제1실시예의 단일기판 처리장치의 다른 실시형태의 설명도이다.
도 6은 본 발명의 제2실시예의 단일기판 처리장치의 설명도이다.
도 7은 본 발명의 제2실시예의 단일기판 처리장치의 다른 실시형태의 평면도다.
귀 심사위원이 본 발명의 기술내용을 더 이해하게 하기 위하여, 아래와 같이 바람직한 구체적 실시예를 예로 들어 설명한다.
도 1A는 본 발명의 제1실시예의 단일기판 처리장치의 설명도이고, 도 1B는 도 1A의 기판 캐리어의 입체 설명도이며, 아래에 도 1A 및 도 1B를 동시에 참고하기 바란다. 먼저, 제1실시예의 단일기판 처리장치(1)는 기판(90)에 대하여 습식처리 하는데 사용할 수 있고, 여기서 단일기판 처리장치(1)는 베이스(10), 기판 스테이지(20) 및 수집유닛(30)을 포함한다. 기판 스테이지(20)는 기판(90)을 지지하고 고정시키며, 수집유닛(30)은 기판 스테이지(20)의 외측에 설치되어 승강할 수 있어 기판(90)이 습식처리 후에 분출하는 처리액(100)(도 5를 먼저 참고)을 수집하고, 수집유닛(30)에 관한 형식 및 구동방법은 본 발명에서 한정하지 않는다.
본 실시예에서, 기판 스테이지(20)는 고정축(21), 지지부(22) 및 완충구조(23)를 포함한다. 여기서, 기판 스테이지(20)는 고정축(21)으로 베이스(10)에 연결되고, 지지부(22)는 고정축(21)에 연결되며 기판(90)을 지지하고 고정한다. 본 실시예의 기판 스테이지(20)는 부압흡착의 방식으로 기판(90)을 고정하고, 대응하게 고정축(21)의 내부에는 기압통로(211)가 있으며, 기압통로(211)의 개구(212)는 지지부(22)에 설치된다. 바람직하게, 고정축(21)은 기판 스테이지(20)의 중앙구역에 설치되고, 기압통로(211)의 개구(212)는 지지부(22)의 중앙구역에 위치하며, 예를 들면, 지지부(22)의 중심에 위치한다.
상세하게 설명하면, 본 실시예의 기판 스테이지(20)는 제어유닛(24)(도 1A는 블록도로 간단하게 표시)을 더 포함하고, 바람직하게 기압제어유닛이며, 기압통로(211)가 부압상태 및 비부압상태 사이에서의 전환을 제어할 수 있어, 기압통로(211) 내의 압력을 조절하여 기판(90)을 완충하게 지지하고, 흡착의 방식을 이용하여 기판(90)을 고정할 수 있다. 구체적으로, 기판 스테이지(20)가 기판(90)을 지지하지 않을 때, 기압통로(211)는 비부압상태(외부 대기압력의 상압상태, 또는 대기압력보다 큰 정압상태를 포함)이고, 기판(90)이 지지부(22)에 위치한 후, 제어유닛(24)은 기압통로(211)의 내부압력을 부압상태로 전환하여 기판(90)을 흡착하고 고정할 수 있다. 또한, 본 실시예의 단일기판 처리장치(1)는 습식처리과정에 사용되고, 바람직하게, 고정축(21)은 베이스(10)에 회전되어 연결될 수 있어 기판 스테이지(20)가 기판(90)을 고정하고 회전시킬 수 있다.
도 2A는 도 1의 기판 캐리어의 확대도이고, 도 2A와 같이 기압통로(211)는 비부압상태이고, 도 2A를 참고하기 바란다. 본 실시예의 지지부(22)는 적어도 하나의 구멍(221)이 있고, 구멍(221)은 기압통로(211)와 서로 연통된다. 또한, 완충구조(23)는 지지부(22)에 설치되고, 완충구조(23)의 한 표면은 구멍(221)에 대응하며, 다른 표면은 기판(90)에 대응한다. 바람직하게, 본 실시예의 완충구조(23)는 탄성재질이고, 예를 들면 연성 실리카 겔 또는 고무류 등일 수 있으며 변형을 나타내는 재질일 수 있다. 외관상의 설계는 압축의 구조형태로 설계할 수 있고, 도 2A와 같이 완충구조(23)부분(이동식 완충부(231))는 반원형 또는 아치형이고, 여기서 이동식 완충부(231)는 이 상태에서 기판(90)을 완충하게 지지한다. 또한, 완충구조(23)는 전기전도재질, 예를 들면 금속 또는 흑연 등 재질일 수 있고, 정전기 제거의 기능을 겸비한다. 또한, 완충구조(23) 제작중에 탄소를 첨가하여 완충구조(23)의 전기저항값을 조절하여 정전기 제거재료로 되게 하여 정전기량 응집을 방지하고, 기판(90)이 회전할 때 공기 또는 액체와 마찰하여 생성되는 정전기를 감소할 수 있다.
기압통로(211)가 부압상태일 때, 구멍(221)과 기압통로(211)는 서로 연통되기에, 동시에 완충구조(23)에 대하여 부압의 흡인력은 생성할 수 있어 완충구조(23)가 구멍(221)의 방향으로 이동 또는 압축되게 하고, 도 2B와 같이, 도 2B는 도 2A의 기압통로가 부압상태에서의 설명도이다. 이로써 기판(90)에서 생성되는 추가의 응력을 피하여 기판(90)을 완충하게 지지하는 효과 및 기판(90)을 흡착 고정하는데 도달한다.
상세하게 설명하면, 완충구조(23)는 이동식 완충부(231)를 포함하고, 즉 앞에서 설명한 탄성재질이며, 단면은 압축가능한 구조(예를 들면, 반원형, 또는 아치형 구조)이다. 이동식 완충부(231)는 구멍(221)을 덮기에 제어유닛(24)은 기압통로(211)가 부압상태 및 비부압상태 사이에서의 전환을 제어할 때, 이동식 완충부(231)이 제1고도(H1)와 제2고도(H2) 사이에서의 이동을 동시에 제어할 수 있다. 설명할 것은, 이는 이동식 완충부(231)의 중점이 제1고도(H1)와 제2고도(H2) 사이에서 이동하는 것을 가리키고, 구멍(221)의 밑변을 기준으로 제1고도(H1) 및 제2고도(H2)를 정의한다.
도 2A와 같이, 이동식 완충부(231)의 재질특성에 의하여, 제어유닛(24)이 기압통로(211)가 비부압상태(예를 들면, 상압 또는 정압)로 전환하는 제어를 하는 동시에 구멍(221)으로 이동식 완충부(231)에 기압을 제공하여 이동식 완충부(231)의 중점이 제1고도(H1)로 상승하는 것을 제어한다. 이때, 이동식 완충부(231)는 기판(90)과 접촉하고, 기판(90)을 지지하는데 일부분 힘을 제공하고, 기판(90)이 경질의 지지부(22)와 접촉을 피할 수 있다. 또한 이때의 기판 스테이지(20)가 기판(90)을 흡착하지 않았기에, 기판(90)은 기판 스테이지(20)를 자유롭게 수출입할 수 있다.
도 2B와 같이, 제어유닛(24)이 기압통로(211)를 부압상태로 전환하는 동시에 이동식 완충부(231)에 나타나는 변형을 제어하여, 이동식 완충부(231)의 중점이 제2고도(H2)로 하강하게 한다. 이때, 고정축(21)의 기압통로(211)는 개구(212)를 통하여 기판(90)을 흡착하고, 동시에, 기판(90)이 지지부(20)에 밀착되어 있어 이동식 완충부(231)와 기판(90) 사이에 부압구역(V)을 형성하여 기판(90)을 흡착하는데 협조할 수 있다. 다시 말해서, 고정축(21)과 이동식 완충부(231)는 기판(90)을 공동으로 흡착하고, 이로써 기판(90)을 기판 스테이지(20)에 고정시켜 습식처리과정을 계속할 수 있다. 기압의 제어를 통하여 이동식 완충부(231)를 상승 또는 하강시켜 기판(90)을 완충하는 효과에 도달하고, 기판(90)이 응력 또는 스크래치에 의하여 파손되는 것을 감소할 수 있다. 기압통로(211)의 개구(212)는 지지부(22)의 중심에 설치하고, 이동식 완충부(231)와 기판을 공동으로 흡착하여 기판(90)이 회전으로 생기는 변위를 더 방지할 수 있다.
본 실시예에서, 이동식 완충부(231)는 환형구조이고, 동심원의 방식으로 기압통로(211)의 개구(212)의 외부에 둘러싸여 설치되며 도 1B와 같다. 기타 실시예에서, 이동식 완충부(231a)는 복수의 유닛으로 조성된 환형구조일 수 있고, 도 3과 같이, 도 3은 도 2의 완충구조의 다른 실시형태의 설명도이다. 다시 말해서, 도 1B의 이동식 완충부(231)는 연속된 환형구조이고, 도 3의 이동식 완충부(231a)는 불연속적인 분할된 구조이며, 그 구조형태는 본 발명에서 한정하지 않는다.
도 2A 및 도 2B를 참고하면, 바람직하게, 완충구조(23)는 적어도 하나의 고정식 완충부(232)를 포함하고, 본 실시예는 복수 개의 고정식 완충부(232)를 예로 들어 설명하고, 지지부(22)에 설치된다. 고정식 완충부(232)의 설치는 기판(90)을 흡착할 때의 완충효과를 증가할 수 있다. 상세하게 설명하면, 제어유닛(24)이 이동식 완충부(231)의 중점을 제2고도(H2)로 하강하는 것을 제어할 때, 고정식 완충부(232)는 기판(90)과 접촉할 수 있어 기판(90)과 경질된 지지부(22)의 접촉면적을 감소시킨다. 따라서, 기판(90)이 흡착상태에 있을 때, 고정식 완충부(232)에 의하여 양호한 완충효과에 도달할 수 있다.
본 발명은 고정식 완충부(232)의 수량 및 설치방식에 대하여 특별한 한정을 하지 않고, 바람직하게, 두 개 이상의 고정식 완충부(232)가 있을 수 있고, 이동식 완충부(231)의 내측 및 외측에 각각 설치된다. 다시 말해서, 두 개 이상의(앞에서 설명한 이동식 완충부(231)의 내측 및 외측) 고정식 완충부(232)는 홈형태 구조를 공동으로 형성할 수 있고, 홈 내에 이동식 완충부(231)를 설치할 수 있다. 또한, 이동식 완충부(231)의 배열방식과 같이, 고정식 완충부(232)는 연속적 또는 불연속적의 구조(도 1B는 불연속적 환형구조이고, 마찬가지로 개구(212)를 원심으로 동심원식 배열을 예로 든다)일 수 있다.
도 4는 도 1A의 기판 스테이지의 다른 실시형태의 설명도이고, 도 4를 참고하기 바란다. 기판(90b)에 오목 또는 볼록한 불규칙의 라디안이 있을 때, 기판 스테이지(20b)는 기판 스테이지(20b)의 외측벽(201b)에 설치한 외환 완충구조(25b)를 더 포함하고, 외환 완충구조(25b)의 상단 에지(251b)는 기판(90b)과 접촉한다. 외환 완충구조(25b)의 상단 에지(251b)는 평평하지 않은 기판(90b)과 서로 접촉하여, 기판(90b)의 지지를 협조하는 외에, 기판 스테이지(20b)와 기판(90b)사이에 밀폐의 공간을 형성하게 하여, 고정축(21b)의 기압통로(211b)가 개구(212b)를 통하여 기판(90b)을 흡착할 수 있고, 불규칙 라디안의 기판(90b)이 제조과정에서 생기는 파열의 상황을 감소할 수 있다. 본 실시예에서, 외환 완충구조(25b)는 지지부(22b)의 외측벽(201b)에 설치되고, 외환 완충구조(25b)의 밑부분의 두께는 비교적 두껍다. 외환 완충구조(25b)는 기타 구조형태일 수 있고, 본 발명은 한정하지 않으며, 단지 외환 완충구조(25b)의 상단 에지(251b)를 기판(90b)에 접촉시켜 기판 스테이지(20b)와 기판(90b)사이에 밀폐의 공간을 형성하게 하면 된다.
도 5는 본 발명의 제1실시예의 단일기판 처리장치의 다른 실시형태의 설명도이고, 도 5를 참고하기 바란다. 설명할 것은, 본 명세서의 습식처리에 사용되는 기판처리장치(1, 1c)를 제1실시예로 부를 수 있고, 교정에 사용되는 기판처리장치(1d, 1e)는 제2실시예(후속에서 진일보로 설명)로 부른다. 본 실시예에서, 단일기판 처리장치(1c)는 베이스(10c)에 설치되고, 기판 스테이지(20c)의 외부에 둘러싸여 설치되는 유체세척유닛(40c)을 더 포함한다. 습식처리과정에서, 유체세척유닛(40c)은 필요한 처리액(100)을 제공하여 기판(90c)을 세척하고, 세척 후의 처리액(100)은 기판 스테이지(20c) 외부의 수집유닛(도면의 간략화를 위하여 도시하지 않았고, 도 1A의 수집유닛(30)을 참고할 수 있음)에 배출되어 수집한다. 바람직하게, 단일기판 처리장치(1c)는 베이스(10c)에 회전식으로 설치되고, 유체세척유닛(40c)의 외부에 둘러싸여 설치되는 유체가속유닛(50c)을 더 포함한다. 여기서, 유체가속유닛(50c)은 회전속도를 제어할 수 있고, 기판 스테이지(20c)에 대하여 회전하며, 유체가속유닛(50c)은 기판 스테이지(20c)에서 회전하여 배출하는 처리액(100)을 받은 후, 진일보로 가속회전하여 처리액(100)을 수집유닛(30)(앞에서 설명과 같고, 도(1A)를 참고)으로 외부 배출하여 처리액(100)이 효과적으로 배출되는 효과에 도달한다.
도 6은 본 발명의 제2실시예의 단일기판 처리장치의 설명도이고, 도 6을 참고하기 바란다. 제2실시예의 단일기판 처리장치(1d)는 기판(90d)에 대한 교정에 사용된다. 단일기판 처리장치(1d)는 베이스(10d), 기판 스테이지(20d) 및 교정유닛(60d)을 포함한다. 기판 스테이지(20d)는 마찬가지로 고정축(21d)으로 베이스(10d)에 연결되고, 기판 스테이지(20d)의 요소구조 및 그 연결관계, 및 기판 스테이지(20d)가 기판(90d)을 지지하고 고정하는 작동에 대하여 제1실시예의 기판 스테이지(20, 20a, 20b, 20c)를 참고할 수 있기에 여기서 더 이상 설명하지 않는다.
본 실시예의 교정유닛(60d)은 광학검측유닛이고, 베이스(10d)에 설치되고, 기판 스테이지(20d)의 위측에 위치하여 기판 스테이지(20d)를 지지하고 고정하는 기판(90d)에 대하여 교정한다. 교정유닛(60d)은 광학의 방식을 이용하여 기판(90d)의 포지셔닝을 검측하여 교정하고(예를 들면, 전체 기판 검측 또는 기판의 가장자리를 검측할 수 있다), 교정유닛(60d)은 기판 스테이지(20d)가 기판(90d)을 회전 및 기판 스테이지(20d)의 변위를 제어할 수 있어, 기판(90d)에 대하여 교정한다. 여기서, 교정유닛(60d)의 광학검측은 단일 광학요소(도 6을 참고)에 설치할 수 있고, 복수의 광확요소를 설치할 수도 있으며, 예를 들면 광전송요소에 광수신요소를 배합하여 파라 자리의 광학검측(미도시)에 도달하며, 본 발명의 한정하지 않는다.
도 7은 본 발명의 제2실시예의 단일기판 처리장치의 다른 실시형태의 평면도고, 도 7을 참고하기 바란다. 본 실시예의 단일기판 처리장치(1e)는 기판(90e)에 대한 교정에 사용되고, 손상이 있는 기판(예를 들면, 기판에 트위스트 또는 이상한 돌기가 있음)에 적용할 수도 있다. 단일기판 처리장치(1e)는 베이스(10e), 기판 스테이지(20e) 및 교정유닛(60e)을 포함하고, 마찬가지로 기판 스테이지(20e)는 베이스(10e)에 연결되고, 연결방식 및 기판 스테이지(20e)의 요소구조 및 그 기판(90e)의 지지작동에 대하여 제1실시예의 기판 스테이지(20, 20a, 20b, 20c)를 참고할 수 있기에 여기서 더 이상 설명하지 않는다. 본 실시예에서, 교정유닛(60e)은 세 개의 원기둥이고, 베이스(10e)에 설치된다. 기판(90e)에 손상이 없으면, 교정유닛(60e)(세 개 원기둥)은 한번에 정확하게 기판(90e)을 클램프할 수 있어, 기판교정을 완료한다. 교정유닛(60e)의 세 개 원기둥이 한번에 정확하게 기판(90e)을 클램프 하지 못하면, 교정유닛(60e)은 기판 스테이지(20e)가 기판(90e)을 회전하는 것을 제어할 수 있으며, 기판(90e)에 대하여 복수의 클램프를 한다. 구체적으로, 기판 스테이지(20e)의 매번 기판(90e)을 예정된 각도로 회전하는 것을 제어할 때, 동시에 클램프 유닛(본 실시예는 세 개의 원기둥)이 기판(90a)에 대한 한번의 클램프(따라서, 매번 예정된 각도로 회전하면 기판(90e)에 대하여 한번의 클램프를 하고, 복수로 나누어 기판(90e)에 대하여 교정한다)를 제어한다. 주의할 것은, 상기 예정각도는 특별한 제한이 없고, 요구에 따라 결정할 수 있으며, 교정유닛(60e)은 기판 스테이지(20e) 회전의 차수도 제어하지만 제한하지 않고, 단지 기판(90e)의 기판교정과정을 완료할 때까지 하면 된다.
상기 내용을 종합하면, 본 발명의 단일기판 처리장치에 따라, 기판에 대하여 습식처리(제1실시예) 또는 교정(제2실시예)을 하여도, 베이스 및 기판 스테이지를 포함한다. 여기서, 기판 스테이지는 고정축, 지지부 및 완충구조를 포함하고, 고정축은 베이스에 연결되고, 기압통로가 있으며 지지부는 기압통로와 서로 연통되는 구멍이 있다. 완충구조는 지지부에 설치되고, 완충구조의 한 표면은 구멍에 대응하고, 다른 한 표면은 기판에 대응하며, 기압통로가 부압상태일 때, 완충구조에 대하여 부압의 흡인력을 동시에 생성하여 완충구조가 구멍의 방향으로 이동 또는 압축하게 한다. 이로써, 기판에 생기는 추가의 응력을 피할 수 있어, 기판을 완충하고, 기판의 파열을 피하는 효과에 도달하며, 고정기판을 흡착하는 것을 겸비하게 한다.
주의할 것은, 상기 내용은 단지 본 발명의 바람직한 실시예이고, 이로써 본 발명의 실시범위를 한정하여서는 안되며, 본 발명신청의 특허범위 및 특허 명세서 내용에 따른 간단한 동등한 효과의 변화와 수정은 모두 본 발명의 특허범위에 속한다.
1, 1c, 1d, 1e: 단일기판 처리장치
10, 10c, 10d, 10e: 베이스
20, 20a, 20b, 20c, 20d, 20e: 기판 스테이지
201b: 외측벽
21, 21b, 21c, 21d: 고정축
211, 211b: 기압통로
212, 212b: 개구
22, 22b: 지지부
221: 구멍
23, 23a, 23b, 23c: 완충구조
231, 231a, 231b: 이동식 완충부
232, 232a, 232b: 고정식 완충부
24: 제어유닛
25b: 외환 완충구조
251b: 상단 에지
30: 수집유닛
40c: 유체세척유닛
50c: 유체가속유닛
60d, 60e: 교정유닛
90, 90b, 90c, 90d, 90e: 기판
100: 처리액
H1: 제1고도
H2: 제2고도
V: 부압구역

Claims (11)

  1. 기판에 대하여 습식처리 하는 단일기판 처리장치에 있어서,
    베이스;
    기판 스테이지; 및
    상기 기판 스테이지 외측에 설치되어 상기 기판이 습식처리한 처리액을 수집하는 수집유닛
    을 포함하고,
    상기 기판 스테이지는,
    상기 베이스에 연결되는 고정축;
    상기 고정축에 연결하고 상기 기판을 지지하는 지지부; 및
    상기 지지부에 설치되는 완충구조
    를 포함하며,
    상기 고정축의 내부에 기압통로가 있고,
    상기 지지부는 적어도 하나의 구멍이 있고, 상기 구멍과 상기 기압통로는 서로 연통되며,
    상기 완충구조의 한 표면은 상기 구멍에 대응하고, 다른 한 표면은 상기 기판에 대응하고,
    상기 완충구조는 적어도 하나의 이동식 완충부를 포함하고, 상기 이동식 완충부는 상기 구멍을 덮으며,
    상기 기판 스테이지는,
    상기 이동식 완충부가 제1고도 및 제2고도 사이에서 이동하도록 제어하는 제어유닛을 더 포함하는 단일기판 처리장치.
  2. 기판에 대하여 교정하는 단일기판 처리장치에 있어서,
    베이스;
    기판 스테이지; 및
    상기 기판 스테이지가 상기 기판을 회전하는 것을 제어하고, 상기 기판에 대하여 교정하는 교정유닛
    을 포함하고,
    상기 기판 스테이지는,
    상기 베이스에 연결되는 고정축;
    상기 고정축에 연결하고 상기 기판을 지지하는 지지부; 및
    상기 지지부에 설치되는 완충구조
    를 포함하며,
    상기 고정축의 내부에 기압통로가 있고,
    상기 지지부는 적어도 하나의 구멍이 있고, 상기 구멍과 상기 기압통로는 서로 연통되며,
    상기 완충구조의 한 표면은 상기 구멍에 대응하고, 다른 표면은 상기 기판에 대응하고,
    상기 완충구조는 적어도 하나의 이동식 완충부를 포함하고, 상기 이동식 완충부는 상기 구멍을 덮으며,
    상기 기판 스테이지는,
    상기 이동식 완충부가 제1고도 및 제2고도 사이에서 이동하도록 제어하는 제어유닛을 더 포함하는 단일기판 처리장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제어유닛이 상기 이동식 완충부가 상기 제1고도로 상승하는 것을 제어할 때, 상기 이동식 완충부는 상기 기판과 접촉하고, 상기 제어유닛이 상기 이동식 완충부가 상기 제2고도로 하강하는 것을 제어할 때, 상기 이동식 완충부는 상기 기판과 부압구역을 형성하고, 상기 이동식 완충부는 상기 기판을 흡착하는 단일기판 처리장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 완충구조는 적어도 하나의 고정식 완충부를 더 포함하고, 상기 제어유닛이 상기 이동식 완충부가 상기 제2고도로 하강하는 것을 제어할 때, 상기 이동식 완충부는 상기 기판과 상기 부압구역을 형성하고, 상기 고정식 완충부는 상기 기판과 접촉하는 단일기판 처리장치.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제어유닛이 기압제어유닛일 때, 상기 기압통로가 부압상태 및 비부압상태 사이의 전환을 제어하여 상기 이동식 완충부가 상기 제1고도와 상기 제2고도 사이에서의 이동을 제어하는 단일기판 처리장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 고정축은 상기 기판 스테이지의 중앙구역에 설치하고, 상기 기압통로의 개구는 상기 지지부의 중앙구역에 위치하고, 상기 이동식 완충부는 상기 개구의 외부에 설치되며, 상기 기압제어유닛이 상기 기압통로가 상기 부압상태로 전환하는 것을 제어할 때, 상기 이동식 완충부는 상기 제2고도로 하강하고, 상기 기압통로의 개구는 상기 이동식 완충부와 공동으로 상기 기판을 흡착하는 단일기판 처리장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 이동식 완충부는 환형구조이고, 상기 기압통로의 상기 개구의 외부에 둘러싸여 설치되는 단일기판 처리장치.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 기판 스테이지는 상기 기판 스테이지의 외측벽에 설치되는 외환 완충구조를 더 포함하고, 상기 외환 완충구조의 상단은 상기 기판과 접촉하는 단일기판 처리장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 베이스에 설치되고, 상기 기판 스테이지의 외부에 둘러싸여 설치되는 유체세척유닛을 더 포함하는 단일기판 처리장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 베이스에 회전식으로 설치되고, 상기 유체세척유닛의 외부에 둘러싸여 설치되는 유체가속유닛을 더 포함하는 단일기판 처리장치.
  11. 삭제
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