JP6057624B2 - カップおよび基板処理装置 - Google Patents
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Description
この場合、第1の上面と第1の下面との間の間隔は、基板に最も近い位置で最も大きい。そのため、基板から外方へ飛散した処理液は、第1の上面と第1の下面との間に形成された第1の捕集空間に捕集される。捕集された処理液は、第1の上面および第1の下面に沿って外方へ導かれることにより外周部の間隙に集められ、間隙を通過する。
また、第1および第2の部材を取り囲むように第2のカップが配置される。第2のカップにより散乱捕獲空間が形成される。散乱捕獲空間の上部および外周部は、第2のカップの第2の下面および内側面によりそれぞれ覆われる。第1のカップの間隙を通過した処理液は、第2のカップの散乱捕獲空間で散乱した後に第2のカップの内側面で捕獲される。また、間隙を通過した処理液の一部は、第2の下面により第2のカップの内側面に導かれる。
この構成によれば、一旦外方へ向かって第1のカップの間隙を通過した処理液が第2のカップの散乱捕獲空間で十分に捕獲されるので、再び間隙を通過して第1の捕集空間に戻ることがない。その結果、基板から外方へ飛散した処理液が基板に再付着することを確実に防止することができる。
また、第2のカップの内側面に衝突した処理液が上方向に拡がるかまたは浮上した場合でも、その処理液は捕捉空間に捕捉される。それにより、十分な量の処理液を第2のカップの散乱捕獲空間および捕捉空間で捕獲または捕捉することができる。
以下、本発明の一実施の形態に係る処理カップを備えた回転式基板処理装置について図面を参照しながら説明する。図1および図2は、本発明の一実施の形態に係る処理カップを備えた回転式基板処理装置の一方向に沿った概略断面図である。図3は、本発明の一実施の形態に係る処理カップを備えた回転式基板処理装置の他の方向における概略断面図である。図4は、図1〜図3の回転式基板処理装置の平面図である。図5は、図1の処理カップのA部の拡大断面図である。なお、図1および図2は図4のB−B線断面図であり、図3は図4のC−C線断面図である。
図7は、基板Wが高速で回転している状態における図1の処理カップCのA部の拡大断面図である。図7に示すように、基板Wが所定の回転速度よりも大きい回転速度で回転される場合には、基板Wの被処理面に供給された高い運動エネルギーを有する処理液が、基板Wの被処理面から上下方向に幅をもって、基板Wの外周部から外方に飛散する。同様に、基板Wが所定の回転速度よりも大きい回転速度で回転されることにより、基板Wの裏面に供給された処理液が、基板Wの裏面から上下方向に幅をもって、基板Wの外周部から外方に飛散する。
本実施の形態に係る基板処理装置100においては、基板Wが回転保持部1により回転される。この状態で、処理液ノズル8,9により基板Wに処理液が供給される。基板Wの回転による遠心力により基板Wから外方へ飛散した処理液は、捕集空間V1に捕集される。捕集された処理液は、内カップ下部41の上面41aおよび内カップ上部42の下面42aに沿って外方へ導かれることにより外周部の間隙Sに集められ、間隙Sを通過する。
(4−1)上記実施の形態において、内カップ上部42の下面42aは外周部に向かって斜め下方に傾斜するが、これに限定されない。内カップ上部42の下面42aは外方に向かって水平に延びていてもよい。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
(6)参考形態
(6−1)第1の参考形態に係る処理カップは、略水平姿勢で保持される基板に処理液を用いた処理を行う際に基板の周囲を取り囲むように設けられる処理カップであって、基板の周囲を取り囲むように配置される第1のカップと、第1のカップの周囲を取り囲むように配置される第2のカップとを備え、第1のカップは、基板の周囲を取り囲むように配置される第1の上面を有する第1の部材と、基板の周囲を取り囲むように第1の部材の第1の上面の上方に配置される第1の下面を有する第2の部材とを含み、第1および第2の部材は、第1の上面と第1の下面との間隔が基板の外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに第1および第2の部材の外周部で第1の上面と第1の下面との間に間隙が形成されるように構成され、第1の上面と第1の下面との間に処理液を捕集する第1の捕集空間が形成され、第2のカップは、間隙を通過した処理液の散乱を許容するとともに散乱する処理液を捕獲する散乱捕獲空間を形成するように構成され、散乱捕獲空間の上部を覆う第2の下面および散乱捕獲空間の外周部を覆う内側面を有し、第2の下面は、間隙を通過した処理液を内側面に導くように形成されるものである。
この処理カップにおいては、基板の周囲を取り囲むように第1および第2の部材が配置される。第1の部材の第1の上面と第2の部材の第1の下面との間隔が基板の外周部側から外方に向かって漸次減少する。第1および第2の部材の外周部で第1の上面と第1の下面との間に間隙が形成される。
この場合、第1の上面と第1の下面との間の間隔は、基板に最も近い位置で最も大きい。そのため、基板から外方へ飛散した処理液は、第1の上面と第1の下面との間に形成された第1の捕集空間に捕集される。捕集された処理液は、第1の上面および第1の下面に沿って外方へ導かれることにより外周部の間隙に集められ、間隙を通過する。
また、第1および第2の部材を取り囲むように第2のカップが配置される。第2のカップにより散乱捕獲空間が形成される。散乱捕獲空間の上部および外周部は、第2のカップの第2の下面および内側面によりそれぞれ覆われる。第1のカップの間隙を通過した処理液は、第2のカップの散乱捕獲空間で散乱した後に第2のカップの内側面で捕獲される。また、間隙を通過した処理液の一部は、第2の下面により第2のカップの内側面に導かれる。
この構成によれば、一旦外方へ向かって第1のカップの間隙を通過した処理液が第2のカップの散乱捕獲空間で十分に捕獲されるので、再び間隙を通過して第1の捕集空間に戻ることがない。その結果、基板から外方へ飛散した処理液が基板に再付着することを確実に防止することができる。
(6−2)第1の部材の下方に処理液を捕集する第2の捕集空間が形成されてもよい。
基板から飛散する処理液が第1の部材の下方に飛散する場合がある。この場合でも、第1の部材の下方に飛散した処理液は、第2の捕集空間に捕集される。これにより、基板から外方へ飛散した処理液が基板に再付着することをより確実に防止することができる。
(6−3)第2のカップは、散乱捕獲空間の周縁部上に処理液を捕捉する捕捉空間をさらに形成するように構成されてもよい。
第2のカップの内側面に衝突した処理液が上方向に拡がるかまたは浮上した場合でも、その処理液は捕捉空間に捕捉される。それにより、十分な量の処理液を第2のカップの散乱捕獲空間および捕捉空間で捕獲または捕捉することができる。
(6−4)第1の部材の第1の上面、第2の部材の第1の下面および間隙は、共通の軸を中心とする回転対称な形状を有してもよい。
この場合、処理カップを回転式基板処理装置に設けることができる。基板を回転させつつ基板上に処理液を用いた処理を行う場合に、基板から全方向へ飛散した処理液を第1の捕集空間に確実に捕集することができる。また、第1の捕集空間に捕集されて間隙を通過した処理液を、散乱捕獲空間において確実に捕獲することができる。
(6−5)散乱捕獲空間は、共通の軸を中心とする非円形状を有してもよい。この場合、処理カップを全体的に大型化することなく、散乱捕獲空間を円形状を有する散乱捕獲空間よりも大きくすることができる。これにより、処理カップ内で多量の処理液を用いた処理を行った場合でも、基板から外方へ飛散した処理液が基板に再付着することを確実に防止することができる。
(6−6)散乱捕獲空間は、共通の軸に垂直な断面において矩形状を有してもよい。この場合、散乱捕獲空間の四隅の容積が大きくなる。それにより、処理カップを全体的に大型化することなく、散乱捕獲空間を円形状を有する散乱捕獲空間よりも確実に大きくすることができる。したがって、処理カップ内で多量の処理液を用いた処理を行った場合でも、基板から外方へ飛散した処理液が基板に再付着することを確実に防止することができる。
(6−7)第1の部材の第1の上面は、外方に向かって基板の上面に対して第1の角度で上方に傾斜するように形成されてもよい。この場合、基板から外方へ飛散した処理液を第1の捕集空間に容易に捕集することができる。
(6−8)第1の角度は、5度以上20度以下であってもよい。この場合、基板から外方へ飛散した処理液を第1の部材の第1の上面と第2の部材の第1の下面との間の間隙を確実に通過させることができるとともに、第1の部材の第1の上面に当たった処理液が基板に跳ね返ることを確実に防止することができる。
(6−9)第2の部材の第1の下面は、外方に向かって基板の上面と平行に延びまたは基板の上面に対して第2の角度で下方に傾斜するように形成されてもよい。
この場合、第2の部材の第1の下面に付着した処理液が外方に飛散する力または重力により第1の下面を伝って第1の捕集空間に導かれる。これにより、基板から外方へ飛散した処理液を第1の捕集空間に容易に捕集することができる。
(6−10)第2の角度は、0度よりも大きく20度以下であってもよい。この場合、基板から外方へ飛散した処理液を第1の部材の第1の上面と第2の部材の第1の下面との間の間隙を確実に通過させることができるとともに、第2の部材の第1の下面に当たった処理液が基板に跳ね返ることを確実に防止することができる。
(6−11)第2の下面は、外方に向かって基板の上面と平行に延びまたは基板の上面に対して第3の角度で下方に傾斜するように形成されてもよい。
この場合、間隙を通過して第2の下面に付着した処理液が、外方に飛散する力または重力により第2の下面を伝って内側面に導かれる。これにより、間隙を通過した処理液を散乱捕獲空間に確実に捕獲することができる。
(6−12)第3の角度は、0度よりも大きく20度以下であってもよい。この場合、間隙を通過して第2の下面に当たった処理液が第1の捕集空間に跳ね返ることを確実に防止することができる。
(6−13)基板の径方向において、散乱捕獲空間の最大長さは、第1の捕集空間の最大長さよりも大きくてもよい。
この場合、散乱捕獲空間において多量の処理液を捕獲することができる。したがって、多量の処理液が第1のカップの間隙を通過した場合でも、第2のカップの内側面で第1の捕集空間の方向に跳ね返った処理液が再び間隙を通過して第1の捕集空間に戻ることが確実に防止される。
(6−14)第2のカップは、散乱捕獲空間の下部を覆う第2の上面をさらに有し、第2の下面と第2の上面との間隔が第1の下面および第1の上面の外周部側から外方に向かって漸次減少してもよい。
この場合、第1のカップの間隙を通過した処理液は、第2の上面および第2の下面により第2のカップの内側面に確実に導かれる。これにより、基板から外方へ飛散した処理液が基板に再付着することを確実に防止することができる。
(6−15)処理カップは、散乱捕獲空間内の処理液を廃液系に導く廃液口をさらに備えてもよい。この場合、散乱捕獲空間で捕獲された処理液を確実に排出することができる。
(6−16)第2の参考形態に係る基板処理装置は、基板に処理を行う基板処理装置であって、基板を略水平姿勢で保持して回転させる回転保持部と、回転保持部により保持される基板の第1の面に処理液を供給する第1の処理液供給系と、回転保持部により保持される基板の周囲を取り囲むように設けられる上記の処理カップとを備えるものである。
この基板処理装置においては、基板が回転保持部により水平姿勢で保持され回転される。また、第1の処理液供給系により基板の第1の面に処理液が供給される。基板の回転による遠心力により基板の第1の面から外方へ飛散した処理液は、第1の上面と第1の下面との間に形成された第1の捕集空間に捕集される。捕集された処理液は、第1の上面および第1の下面に沿って外方へ導かれることにより外周部の間隙に集められ、間隙を通過する。
第1のカップの間隙を通過した処理液は、第2のカップの散乱捕獲空間で散乱した後に第2のカップの内側面で捕獲される。また、間隙を通過した処理液の一部は、第2の下面により第2のカップの内側面に導かれる。
この構成によれば、一旦外方へ向かって第1のカップの間隙を通過した処理液が第2のカップの散乱捕獲空間で十分に捕獲されるので、再び間隙を通過して第1の捕集空間に戻ることがない。その結果、基板から外方へ飛散した処理液が基板に再付着することを確実に防止することができる。
(6−17)基板処理装置は、回転保持部により保持される基板の第1の面の反対側の第2の面に処理液を供給する第2の処理液供給系と、回転保持部により保持される基板の第2の面に処理ガスを供給する処理ガス供給系とをさらに備えてもよい。
この場合、第2の処理液供給系により基板の第2の面に供給された処理液には、処理ガス供給系により基板の第2の面に供給された処理ガスにより外方へ向かう力が付加される。基板の回転による遠心力に外方へ向かう力が付加されることにより、基板の第2の面から外方へ飛散した処理液は、第2のカップの散乱捕獲空間に確実に捕獲される。その結果、基板から外方へ飛散した処理液が基板に再付着することを確実に防止することができる。
2 回転軸
3 モータ
4 内カップ
5 外カップ
6 整流板
7 廃液口
8,9 処理液ノズル
10 シリンダ
11 支持フレーム
12 制御部
13 カップ支持部材
41 内カップ下部
41a,53a 上面
41b 側面
42 内カップ上部
42a,51a 下面
42b,51d 開口部
51 外カップ上部
51b 溝部
51c 上係止部
52 外カップ側部
52a 内側面
53 外カップ中部
53b 下係止部
54 外カップ下部
100 基板処理装置
C 処理カップ
H 開口
P1,P2 処理液供給源
P3 処理ガス供給源
P4 廃棄系
S 間隙
T1,T2 処理液供給管
T3 処理ガス供給管
V1,V2 捕集空間
V3 散乱捕獲空間
V4 捕捉空間
v1〜v3 バルブ
W 基板
θ1〜θ4 傾斜角度
Claims (17)
- 略水平姿勢で保持される基板に処理液を用いた処理を行う際に基板の周囲を取り囲むように設けられる処理カップであって、
基板の周囲を取り囲むように配置される第1のカップと、
前記第1のカップの周囲を取り囲むように配置される第2のカップとを備え、
前記第1のカップは、前記基板の周囲を取り囲むように配置される第1の上面を有する第1の部材と、前記基板の周囲を取り囲むように前記第1の部材の前記第1の上面の上方に配置される第1の下面を有する第2の部材とを含み、
前記第1および第2の部材は、前記第1の上面と前記第1の下面との間隔が前記基板の外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに前記第1および第2の部材の外周部で前記第1の上面と前記第1の下面との間に間隙が形成されるように構成され、
前記第1の上面と前記第1の下面との間に処理液を捕集する第1の捕集空間が形成され、
前記第2のカップは、前記間隙を通過した処理液の散乱を許容するとともに散乱する処理液を捕獲する散乱捕獲空間を形成するように構成され、前記散乱捕獲空間の上部を覆う第2の下面および前記散乱捕獲空間の外周部を覆う内側面を有し、前記第2の下面は、前記間隙を通過した処理液を前記内側面に導くように形成され、
前記第1の上面の最外端部および前記第2の下面の最外端部は、基板の端部よりも外方に位置し、
前記第1の上面と前記第1の下面との間の間隙は、前記第1の上面と前記第1の下面の最外端部との間において最も小さい、処理カップ。 - 前記第1の部材の下方に処理液を捕集する第2の捕集空間が形成される、請求項1記載の処理カップ。
- 略水平姿勢で保持される基板に処理液を用いた処理を行う際に基板の周囲を取り囲むように設けられる処理カップであって、
基板の周囲を取り囲むように配置される第1のカップと、
前記第1のカップの周囲を取り囲むように配置される第2のカップとを備え、
前記第1のカップは、前記基板の周囲を取り囲むように配置される第1の上面を有する第1の部材と、前記基板の周囲を取り囲むように前記第1の部材の前記第1の上面の上方に配置される第1の下面を有する第2の部材とを含み、
前記第1および第2の部材は、前記第1の上面と前記第1の下面との間隔が前記基板の外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに前記第1および第2の部材の外周部で前記第1の上面と前記第1の下面との間に間隙が形成されるように構成され、
前記第1の上面と前記第1の下面との間に処理液を捕集する第1の捕集空間が形成され、
前記第2のカップは、前記間隙を通過した処理液の散乱を許容するとともに散乱する処理液を捕獲する散乱捕獲空間を形成するように構成され、前記散乱捕獲空間の上部を覆う第2の下面および前記散乱捕獲空間の外周部を覆う内側面を有し、前記第2の下面は、前記間隙を通過した処理液を前記内側面に導くように形成され、
前記第2のカップは、前記散乱捕獲空間の周縁部上に処理液を捕捉する捕捉空間をさらに形成するように構成される、処理カップ。 - 前記第1の部材の前記第1の上面、前記第2の部材の前記第1の下面および前記間隙は、共通の軸を中心とする回転対称な形状を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の処理カップ。
- 前記散乱捕獲空間は、前記共通の軸を中心とする非円形状を有する、請求項4記載の処理カップ。
- 前記散乱捕獲空間は、前記共通の軸に垂直な断面において矩形状を有する、請求項5記載の処理カップ。
- 前記第1の部材の前記第1の上面は、外方に向かって前記基板の上面に対して第1の角度で上方に傾斜するように形成される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の処理カップ。
- 前記第1の角度は、5度以上20度以下である、請求項7記載の処理カップ。
- 前記第2の部材の前記第1の下面は、外方に向かって前記基板の上面と平行に延びまたは前記基板の上面に対して第2の角度で下方に傾斜するように形成される、請求項1〜8のいずれか一項に記載の処理カップ。
- 前記第2の角度は、0度よりも大きく20度以下である、請求項9記載の処理カップ。
- 前記第2の下面は、外方に向かって前記基板の上面と平行に延びまたは前記基板の上面に対して第3の角度で下方に傾斜するように形成される、請求項1〜10のいずれか一項に記載の処理カップ。
- 前記第3の角度は、0度よりも大きく20度以下である、請求項11記載の処理カップ。
- 前記基板の径方向において、前記散乱捕獲空間の最大長さは、前記第1の捕集空間の最大長さよりも大きい、請求項1〜12のいずれか一項に記載の処理カップ。
- 前記第2のカップは、前記散乱捕獲空間の下部を覆う第2の上面をさらに有し、前記第2の下面と前記第2の上面との間隔が前記第1の下面および前記第1の上面の外周部側から外方に向かって漸次減少する、請求項1〜13のいずれか一項に記載の処理カップ。
- 前記散乱捕獲空間内の処理液を廃液系に導く廃液口をさらに備える、請求項1〜14のいずれか一項に記載の処理カップ。
- 基板に処理を行う基板処理装置であって、
基板を略水平姿勢で保持して回転させる回転保持部と、
前記回転保持部により保持される基板の第1の面に処理液を供給する第1の処理液供給系と、
前記回転保持部により保持される基板の周囲を取り囲むように設けられる請求項1〜15のいずれか一項に記載の処理カップとを備える、基板処理装置。 - 前記回転保持部により保持される基板の第1の面の反対側の第2の面に処理液を供給する第2の処理液供給系と、
前記回転保持部により保持される基板の前記第2の面に処理ガスを供給する処理ガス供給系とをさらに備える、請求項16記載の基板処理装置。
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