JP5913937B2 - カップおよび基板処理装置 - Google Patents
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Description
さらに、カップは、間隙より上方で第2の部材と第3の部材の内面との間の隙間を閉塞する閉塞部材をさらに備える。第1および第2の部材の外周部の間隙を通過した処理液が第3の部材の内面と第1および第2の部材の外周部との間で浮上した場合でも、その処理液が閉塞部材により受け止められる。それにより、第3の部材の内面と第1および第2の部材の外周部との間で浮上した処理液のミストが第2の部材と第3の部材の内面との間の隙間を通してカップの外部まで拡散することを十分に防止することができる。
この場合、第1の部材の上面と第2の部材の下面との間の間隔は、基板に最も近い位置で最も大きい。そのため、基板から外方へ飛散した処理液は、第1の部材の上面と第2の部材の下面との間に捕集される。捕集された処理液は、第1の部材の上面および第2の部材の下面に沿って外方へ導かれることにより外周部の間隙に集められ、間隙を通過する。間隙を通過した処理液は、第3の部材の内面で受け止められる。第3の部材の内面は間隙から離間している。そのため、第3の部材の内面で跳ね返った処理液は、外方に向かって間隙を通過する処理液の流れにより押し戻される。それにより、一旦外方へ向かって間隙を通過した処理液が再び間隙を通過して第1の部材の上面と第2の部材の下面と間の空間に戻ることが防止される。
また、第1の部材の外周部側の上面と第2の部材の外周部側の下面とにより形成される間隙は、第1の部材の内周部側の上面と第2の部材の内周部側の下面との間の間隔よりも狭い。そのため、第3の部材の内面で跳ね返った処理液が、再び間隙を通過して第1の部材の上面と第2の部材の下面との間の空間に戻ることがより確実に防止される。
これらの結果、基板から外方へ飛散した処理液をカップで十分に受け止めることができるとともに、カップで受け止められた処理液が基板まで跳ね返ることを防止することができる。
さらに、第1および第2の部材の外周部の間隙を通過した処理液が第3の部材の内面と第1および第2の部材の外周部との間で浮上した場合でも、その処理液は下降流により下方に押し戻される。それにより、第3の部材の内面と第1および第2の部材の外周部との間で浮上した処理液のミストが第2の部材と第3の部材の内面との間の隙間を通してカップの外部まで拡散することを十分に防止することができる。
(1)基板処理装置
図1は、第1の実施の形態に係るカップを備えた回転式基板処理装置の概略断面図である。図1に示すように、基板処理装置100は、基板Wを水平姿勢で保持して回転する回転保持部1を備える。回転保持部1はモータ3の回転軸2の先端に取り付けられ、鉛直軸の周りで回転駆動される。
図2は、基板Wが停止している状態における図1のカップ5のA部の拡大断面図である。
図3は、基板Wが回転している状態における図1のカップ5のA部の拡大断面図である。図3に示すように、基板Wが回転されることにより、処理液が、基板Wの被処理面(上面)から上下方向に幅をもって、基板Wの外周部から外方に飛散する。カップ中部51の下面51aとカップ下部52の上面52aとの間隔は基板Wに最も近い位置で最も大きい。それにより、基板Wの外周部から外方に飛散した処理液は、カップ中部51の下面51aとカップ下部52の上面52a,52bとの間に確実に捕集される。
第2の実施の形態に係るカップについて、第1の実施の形態に係るカップ5と異なる点を説明する。図4は、第2の実施の形態に係るカップを備えた回転式基板処理装置の概略断面図である。
(1)上記実施の形態において、カップ中部51の下面51aは外周部に向かって斜め下方に直線状に傾斜するが、これに限定されない。カップ中部51の下面51aは外周部に向かって斜め下方に曲線状に傾斜していてもよい。また、カップ下部52の上面52aは外周部に向かって斜め上方に直線状に傾斜するが、これに限定されない。カップ下部52の上面52aは外周部に向かって斜め上方に曲線状に傾斜していてもよい。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
2 回転軸
3 モータ
4 カップ支持部材
5 カップ
6 整流板
7 廃液口
8 排気口
9 処理液ノズル
10 シリンダ
11 支持フレーム
12 制御部
51 カップ中部
51a,53a 下面
51b,53b 突出縁
52 カップ下部
52a,52b 上面
53 カップ上部
54 カップ底部
55 側壁部
55a 内周面
56〜58 支持部
100 基板処理装置
510,530 開口部
S 隙間
W 基板
Claims (10)
- 略水平姿勢で保持される基板に処理液を用いた処理を行う際に基板の周囲を取り囲むように設けられるカップであって、
前記基板の周囲を取り囲むように配置される上面を有する第1の部材と、
前記基板の周囲を取り囲むように前記第1部材の前記上面の上方に配置される下面を有する第2の部材と、
前記第1および第2の部材の周囲を取り囲むように設けられる第3の部材と、
閉塞部材とを備え、
前記第1および第2の部材は、前記上面と前記下面との間隔が前記基板の外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに前記第1および第2の部材の外周部で前記上面と前記下面との間に間隙が形成されるように構成され、
前記第3の部材は、前記間隙の外方で前記間隙から離間しかつ前記間隙を取り囲むように形成される内面を有し、
前記閉塞部材は、前記間隙より上方で前記第2の部材と前記第3の部材の前記内面との間の隙間を閉塞し、
前記第1の部材の前記上面の内縁部は、前記第2の部材の前記下面の内縁部よりも外方に位置する、カップ。 - 前記第3の部材の前記内面は、前記間隙の下端よりも下方から前記間隙の上端よりも上方まで延びるように形成される、請求項1記載のカップ。
- 略水平姿勢で保持される基板に処理液を用いた処理を行う際に基板の周囲を取り囲むように設けられるカップであって、
前記基板の外周部よりも外方において前記基板の周囲を取り囲むように配置される上面を有する第1の部材と、
前記基板の外周部よりも外方において前記基板の周囲を取り囲むように前記第1部材の前記上面の上方に配置される下面を有する第2の部材と、
前記第1および第2の部材の周囲を取り囲むように設けられる第3の部材とを備え、
前記第1および第2の部材は、前記上面と前記下面との間隔が前記基板の外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに前記第1および第2の部材の外周部で前記上面と前記下面との間に間隙が形成されるように構成され、
前記第3の部材は、前記間隙の外方で前記間隙から離間しかつ前記間隙を取り囲むように形成される内面を有し、
前記第3の部材の前記内面は、前記第1の部材の外周部よりも下方の位置から前記第2の部材の外周部よりも上方の位置まで連続的に延びるように形成され、
前記第1の部材の外周部における端面および前記第2の部材の外周部における端面が前記第3の部材の前記内面と対向し、
前記第1の部材の外周部における端面および前記第2の部材の外周部における端面と前記第3の部材の前記内面との間に下降流が通過可能な隙間が形成され、
前記第1の部材の前記上面の内縁部は、前記第2の部材の前記下面の内縁部よりも外方に位置する、カップ。 - 前記第1の部材の前記上面、前記第2の部材の前記下面、前記間隙および前記第3の部材の前記内面は、共通の軸を中心とする回転対称な形状を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のカップ。
- 前記第2の部材の前記下面は、外方に向かって前記基板の上面に対して斜め下方に傾斜するように形成される、請求項1〜4のいずれか一項に記載のカップ。
- 前記第2の部材の前記下面は、前記基板の上面に対して5度以上20度以下の角度をなすように形成される、請求項5記載のカップ。
- 前記第1の部材の前記上面の少なくとも内周部側の領域は、外方に向かって前記基板の上面に対して斜め上方に傾斜するように形成される、請求項1〜6のいずれか一項に記載のカップ。
- 前記第1の部材の前記上面は、前記基板の上面に対して5度以上20度以下の角度をなすように形成される、請求項7記載のカップ。
- 基板に処理を行う基板処理装置であって、
基板を略水平姿勢で保持して回転させる回転保持部と、
前記回転保持部により保持される基板上に処理液を供給する処理液供給系と、
前記回転保持部により保持される基板の周囲を取り囲むように設けられる請求項1〜8のいずれか一項に記載のカップとを備える、基板処理装置。 - 前記処理液の粘度は、10cP以下である、請求項9記載の基板処理装置。
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