KR101947193B1 - 처리 컵 및 기판 처리 장치 - Google Patents

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미노루 스기야마
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가부시키가이샤 스크린 세미컨덕터 솔루션즈
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Abstract

기판의 주위가 내컵 및 외컵에 의해 둘러싸여진다. 내컵의 내컵 하부의 상면과 내컵 상부의 하면의 간격이 기판의 외주부측으로부터 바깥쪽을 향해 점차 감소한다. 내컵 하부 및 내컵 상부의 외주부에서 내컵 하부의 상면과 내컵 상부의 하면 사이에 간극이 형성된다. 내컵 하부의 상면과 내컵 상부의 하면 사이에 포집 공간이 형성된다. 간극을 통과한 처리액의 산란을 허용함과 함께 산란하는 처리액을 포획하는 산란 포획 공간이 외컵에 의해 형성된다. 산란 포획 공간의 상부 및 외주부는, 외컵의 하면 및 내측면에 의해 각각 덮인다. 간극을 통과한 처리액은 외컵의 하면에 의해 내측면으로 유도된다.

Description

처리 컵 및 기판 처리 장치{PROCESSING CUP AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
(1) 발명의 분야
본 발명은, 처리 컵 및 이것을 구비한 기판 처리 장치에 관한 것이다.
(2) 관련 기술의 설명
반도체 웨이퍼, 액정 표시 장치용 유리 기판, 포토마스크용 유리 기판 또는 광디스크용 유리 기판 등의 기판에 현상액, 세정액, 린스액 또는 포토레지스트액 등의 처리액을 이용한 처리를 행하기 위해 회전식 기판 처리 장치가 이용된다.
회전식 기판 처리 장치에 있어서는, 기판이 회전 유지부에 의해 수평으로 지지된다. 기판이 회전 유지부에 의해 회전됨과 함께, 이 기판의 상면 중앙부에 처리액이 적하된다. 이것에 의해, 기판이 처리액에 의해 처리된다. 이러한 기판 처리 장치에서는, 기판이 회전할 때의 원심력에 의해 처리액의 일부가 기판의 주변부에 비산하는 것을 방지하기 위해, 회전 유지부의 주위를 둘러싸도록 처리 컵이 설치된다(예를 들면 일본국 특허공개 2002-361155호 공보, 일본국 특허공개 2007-287998호 공보, 일본국 특허공개 2007-311775호 공보, 일본국 특허공개 2009-38083호 공보 및 일본국 특허공개 2012-19025호 공보 참조).
일본국 특허공개 2002-361155호 공보, 일본국 특허공개 2007-287998호 공보, 일본국 특허공개 2007-311775호 공보, 일본국 특허공개 2009-38083호 공보 및 일본국 특허공개 2012-19025호 공보의 기판 처리 장치에 있어서는, 기판의 주변부에 비산한 처리액이, 리턴 기류를 타고 기판에 재부착될 가능성이 있다. 예를 들면, 일본국 특허공개 2007-287998호 공보의 액처리 장치에 있어서는, 기판의 주변부에 기체 고임부가 설치됨으로써, 이러한 리턴 기류가 트랩된다. 이것에 의해, 기판의 주변부에 비산한 처리액이 기판에 재부착되는 것이 억제된다고 기재되어 있다. 그러나, 기판의 주변부에 비산한 처리액이 기판에 재부착되는 것을 확실히 방지할 수 없다.
본 발명의 목적은, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판에 재부착되는 것을 확실히 방지하는 것이 가능한 처리 컵 및 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
(1) 본 발명의 일 국면에 따르는 처리 컵은, 대략 수평 자세로 유지되는 기판에 처리액을 이용한 처리를 행할 때에 기판의 주위를 둘러싸도록 설치되는 처리 컵이며, 기판의 주위를 둘러싸도록 배치되는 제1 컵과, 제1 컵의 주위를 둘러싸도록 배치되는 제2 컵을 구비하고, 제1 컵은, 기판의 주위를 둘러싸도록 배치되는 제1 상면을 가지는 제1 부재와, 기판의 주위를 둘러싸도록 제1 부재의 제1 상면의 윗쪽에 배치되는 제1 하면을 가지는 제2 부재를 포함하며, 제1 및 제2 부재는, 제1 상면과 제1 하면의 간격이 기판의 외주부측으로부터 바깥쪽을 향해 점차 감소함과 함께 제1 및 제2 부재의 외주부에서 제1 상면과 제1 하면 사이에 간극이 형성되도록 구성되고, 제1 상면과 제1 하면 사이에 처리액을 포집하는 제1 포집 공간이 형성되며, 제2 컵은, 간극을 통과한 처리액의 산란을 허용함과 함께 산란하는 처리액을 포획하는 산란 포획 공간을 형성하도록 구성되고, 산란 포획 공간의 상부를 덮는 제2 하면 및 산란 포획 공간의 외주부를 덮는 내측면을 가지며, 제2 하면은, 간극을 통과한 처리액을 내측면으로 유도하도록 형성되는 것이다.
이 처리 컵에 있어서는, 기판의 주위를 둘러싸도록 제1 및 제2 부재가 배치된다. 제1 부재의 제1 상면과 제2 부재의 제1 하면의 간격이 기판의 외주부측으로부터 바깥쪽을 향해 점차 감소한다. 제1 및 제2 부재의 외주부에서 제1 상면과 제1 하면 사이에 간극이 형성된다.
이 경우, 제1 상면과 제1 하면 사이의 간격은, 기판에 가장 가까운 위치에서 가장 크다. 그 때문에, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액은, 제1 상면과 제1 하면 사이에 형성된 제1 포집 공간에 포집된다. 포집된 처리액은, 제1 상면 및 제1 하면을 따라 바깥쪽으로 유도됨으로써 외주부의 간극에 모아져, 간극을 통과한다.
또, 제1 및 제2 부재를 둘러싸도록 제2 컵이 배치된다. 제2 컵에 의해 산란 포획 공간이 형성된다. 산란 포획 공간의 상부 및 외주부는, 제2 컵의 제2 하면 및 내측면에 의해 각각 덮인다. 제1 컵의 간극을 통과한 처리액은, 제2 컵의 산란 포획 공간에서 산란한 후에 제2 컵의 내측면에서 포획된다. 또, 간극을 통과한 처리액의 일부는, 제2 하면에 의해 제2 컵의 내측면으로 유도된다.
이 구성에 의하면, 일단 바깥쪽을 향해 제1 컵의 간극을 통과한 처리액이 제2 컵의 산란 포획 공간에서 충분히 포획되므로, 다시 간극을 통과하여 제1 포집 공간으로 돌아오지 않는다. 그 결과, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판에 재부착되는 것을 확실히 방지할 수 있다.
(2) 제1 부재의 아래쪽에 처리액을 포집하는 제2 포집 공간이 형성되어도 된다.
기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 부재의 아래쪽으로 비산하는 경우가 있다. 이 경우에서도, 제1 부재의 아래쪽으로 비산한 처리액은, 제2 포집 공간에 포집된다. 이것에 의해, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판에 재부착되는 것을 보다 확실히 방지할 수 있다.
(3) 제2 컵은, 산란 포획 공간의 주연부 상에 처리액을 포착하는 포착 공간을 더 형성하도록 구성되어도 된다.
제2 컵의 내측면에 충돌한 처리액이 상방향으로 퍼지거나 또는 부상한 경우에서도, 그 처리액은 포착 공간에 포착된다. 그것에 의해, 충분한 양의 처리액을 제2 컵의 산란 포획 공간 및 포착 공간에서 포획 또는 포착할 수 있다.
(4) 제1 부재의 제1 상면, 제2 부재의 제1 하면 및 간극은, 공통의 축을 중심으로 하는 회전 대칭인 형상을 가져도 된다.
이 경우, 처리 컵을 회전식 기판 처리 장치에 설치할 수 있다. 기판을 회전시키면서 기판 상에 처리액을 이용한 처리를 행하는 경우에, 기판으로부터 전체 방향으로 비산한 처리액을 제1 포집 공간에 확실히 포집할 수 있다. 또, 제1 포집 공간에 포집되어 간극을 통과한 처리액을, 산란 포획 공간에 있어서 확실히 포획할 수 있다.
(5) 산란 포획 공간은, 공통의 축을 중심으로 하는 비원형 형상을 가져도 된다. 이 경우, 처리 컵을 전체적으로 대형화하지 않고, 산란 포획 공간을 원형 형상을 가지는 산란 포획 공간보다 크게 할 수 있다. 이것에 의해, 처리 컵 내에서 다량의 처리액을 이용한 처리를 행한 경우에서도, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판에 재부착되는 것을 확실히 방지할 수 있다.
(6) 산란 포획 공간은, 공통의 축에 수직인 단면에 있어서 직사각형 형상을 가져도 된다. 이 경우, 산란 포획 공간의 네 코너의 용적이 커진다. 그것에 의해, 처리 컵을 전체적으로 대형화하지 않고, 산란 포획 공간을 원형 형상을 가지는 산란 포획 공간보다 확실히 크게 할 수 있다. 따라서, 처리 컵 내에서 다량의 처리액을 이용한 처리를 행한 경우에서도, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판에 재부착되는 것을 확실히 방지할 수 있다.
(7) 제1 부재의 제1 상면은, 바깥쪽을 향해 기판의 상면에 대해 제1 각도로 윗쪽으로 경사지도록 형성되어도 된다. 이 경우, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액을 제1 포집 공간에 용이하게 포집할 수 있다.
(8) 제1 각도는, 5도 이상 20도 이하여도 된다. 이 경우, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액을 제1 부재의 제1 상면과 제2 부재의 제1 하면 사이의 간극을 확실히 통과시킬 수 있음과 함께, 제1 부재의 제1 상면에 닿은 처리액이 기판으로 튕겨 돌아오는 것을 확실히 방지할 수 있다.
(9) 제2 부재의 제1 하면은, 바깥쪽을 향해 기판의 상면과 평행하게 연장되거나 또는 기판의 상면에 대해 제2 각도로 아래쪽으로 경사지도록 형성되어도 된다.
이 경우, 제2 부재의 제1 하면에 부착된 처리액이 바깥쪽으로 비산하는 힘 또는 중력에 의해 제1 하면을 타고 제1 포집 공간으로 유도된다. 이것에 의해, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액을 제1 포집 공간에 용이하게 포집할 수 있다.
(10) 제2 각도는, 0도보다 크고 20도 이하여도 된다. 이 경우, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액을 제1 부재의 제1 상면과 제2 부재의 제1 하면 사이의 간극을 확실히 통과시킬 수 있음과 함께, 제2 부재의 제1 하면에 닿은 처리액이 기판으로 튕겨 돌아오는 것을 확실히 방지할 수 있다.
(11) 제2 하면은, 바깥쪽을 향해 기판의 상면과 평행하게 연장되거나 또는 기판의 상면에 대해 제3 각도로 아래쪽으로 경사지도록 형성되어도 된다.
이 경우, 간극을 통과하여 제2 하면에 부착된 처리액이, 바깥쪽으로 비산하는 힘 또는 중력에 의해 제2 하면을 타고 내측면으로 유도된다. 이것에 의해, 간극을 통과한 처리액을 산란 포획 공간에 확실히 포획할 수 있다.
(12) 제3 각도는, 0도보다 크고 20도 이하여도 된다. 이 경우, 간극을 통과하여 제2 하면에 닿은 처리액이 제1 포집 공간으로 튕겨 돌아오는 것을 확실히 방지할 수 있다.
(13) 기판의 반경 방향에 있어서 산란 포획 공간의 최대 길이는, 제1 포집 공간의 최대 길이보다 커도 된다.
이 경우, 산란 포획 공간에 있어서 다량의 처리액을 포획할 수 있다. 따라서, 다량의 처리액이 제1 컵의 간극을 통과한 경우에서도, 제2 컵의 내측면에서 제1 포집 공간의 방향으로 튕겨 돌아온 처리액이 다시 간극을 통과하여 제1 포집 공간으로 돌아오는 것이 확실히 방지된다.
(14) 제2 컵은, 산란 포획 공간의 하부를 덮는 제2 상면을 더 가지며, 제2 하면과 제2 상면의 간격이 제1 하면 및 제1 상면의 외주부측으로부터 바깥쪽을 향해 점차 감소해도 된다.
이 경우, 제1 컵의 간극을 통과한 처리액은, 제2 상면 및 제2 하면에 의해 제2 컵의 내측면에 확실히 유도된다. 이것에 의해, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판에 재부착되는 것을 확실히 방지할 수 있다.
(15) 처리 컵은, 산란 포획 공간 내의 처리액을 폐액계로 유도하는 폐액구를 더 구비해도 된다. 이 경우, 산란 포획 공간에서 포획된 처리액을 확실히 배출할 수 있다.
(16) 본 발명의 다른 국면에 따르는 기판 처리 장치는, 기판에 처리를 행하는 기판 처리 장치이며, 기판을 대략 수평 자세로 유지하여 회전시키는 회전 유지부와, 회전 유지부에 의해 유지되는 기판의 제1 면에 처리액을 공급하는 제1 처리액 공급계와, 회전 유지부에 의해 유지되는 기판의 주위를 둘러싸도록 설치되는 상기의 처리 컵을 구비하는 것이다.
이 기판 처리 장치에 있어서는, 기판이 회전 유지부에 의해 수평 자세로 유지되어 회전된다. 또, 제1 처리액 공급계에 의해 기판의 제1 면에 처리액이 공급된다. 기판의 회전에 의한 원심력에 의해 기판의 제1 면으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액은, 제1 상면과 제1 하면 사이에 형성된 제1 포집 공간에 포집된다. 포집된 처리액은, 제1 상면 및 제1 하면을 따라 바깥쪽으로 유도됨으로써 외주부의 간극에 모아져, 간극을 통과한다.
제1 컵의 간극을 통과한 처리액은, 제2 컵의 산란 포획 공간에서 산란한 후에 제2 컵의 내측면에서 포획된다. 또, 간극을 통과한 처리액의 일부는, 제2 하면에 의해 제2 컵의 내측면으로 유도된다.
이 구성에 의하면, 일단 바깥쪽을 향해 제1 컵의 간극을 통과한 처리액이 제2 컵의 산란 포획 공간에서 충분히 포획되므로, 다시 간극을 통과하여 제1 포집 공간으로 돌아오지 않는다. 그 결과, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판에 재부착되는 것을 확실히 방지할 수 있다.
(17) 기판 처리 장치는, 회전 유지부에 의해 유지되는 기판의 제1 면의 반대측의 제2 면에 처리액을 공급하는 제2 처리액 공급계와, 회전 유지부에 의해 유지되는 기판의 제2 면에 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급계를 더 구비해도 된다.
이 경우, 제2 처리액 공급계에 의해 기판의 제2 면에 공급된 처리액에는, 처리 가스 공급계에 의해 기판의 제2 면에 공급된 처리 가스에 의해 바깥쪽으로 향하는 힘이 부가된다. 기판의 회전에 의한 원심력에 바깥쪽으로 향하는 힘이 부가됨으로써, 기판의 제2 면으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액은, 제2 컵의 산란 포획 공간에 확실히 포획된다. 그 결과, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판에 재부착되는 것을 확실히 방지할 수 있다.
본 발명에 의하면, 기판으로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판에 재부착되는 것을 확실히 방지하는 것이 가능한 처리 컵 및 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.
도 1은, 본 발명의 일실시의 형태에 관련된 처리 컵을 구비한 회전식 기판 처리 장치의 한방향을 따른 개략 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 일실시의 형태에 관련된 처리 컵을 구비한 회전식 기판 처리 장치의 한방향을 따른 개략 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 일실시의 형태에 관련된 처리 컵을 구비한 회전식 기판 처리 장치의 다른 방향에 있어서의 개략 단면도이다.
도 4는, 도 1~도 3의 회전식 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 5는, 도 1의 처리 컵의 A부의 확대 단면도이다.
도 6은, 회전 유지부의 평면도이다.
도 7은, 기판이 고속으로 회전하고 있는 상태에 있어서의 도 1의 처리 컵의 A부의 확대 단면도이다.
도 8은, 기판이 저속으로 회전하고 있는 상태에 있어서의 도 1의 처리 컵의 A부의 확대 단면도이다.
(1) 기판 처리 장치
이하, 본 발명의 일실시의 형태에 관련된 처리 컵을 구비한 회전식 기판 처리 장치에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다. 도 1 및 도 2는, 본 발명의 일실시의 형태에 관련된 처리 컵을 구비한 회전식 기판 처리 장치의 한방향을 따른 개략 단면도이다. 도 3은, 본 발명의 일실시의 형태에 관련된 처리 컵을 구비한 회전식 기판 처리 장치의 다른 방향에 있어서의 개략 단면도이다. 도 4는, 도 1~도 3의 회전식 기판 처리 장치의 평면도이다. 도 5는, 도 1의 처리 컵의 A부의 확대 단면도이다. 또한, 도 1 및 도 2는 도 4의 B-B선 단면도이며, 도 3은 도 4의 C-C선 단면도이다.
도 1~도 3에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치(100)는, 기판 W를 수평 자세로 유지하여 회전하는 회전 유지부(1)를 구비한다. 회전 유지부(1)는 모터(3)의 회전축(2)의 선단에 부착되어, 연직축의 둘레에서 회전 구동된다.
회전 유지부(1)에 유지된 기판 W의 주위를 둘러싸도록, 비산 방지용 내컵(4)이 설치되어 있다. 내컵(4)의 주위를 둘러싸도록, 비산 방지용의 외컵(5) 및 컵 지지 부재(13)가 설치되어 있다. 내컵(4), 외컵(5) 및 컵 지지 부재(13)는, 회전축(2)에 대해 회전 대칭인 형상을 가진다. 이것에 의해, 내컵(4) 및 외컵(5)을 회전식의 기판 처리 장치(100)에 설치할 수 있다. 내컵(4) 및 외컵(5)은, 회전축(2)의 둘레에서 회전하지 않도록 설치된다. 내컵(4)과 외컵(5)에 의해 처리 컵 C가 구성된다.
외컵(5)은 컵 지지 부재(13)에 의해 지지된다. 내컵(4)에는 지지 프레임(11)을 통하여 실린더(10)가 접속되어 있다. 이 실린더(10)의 동작에 의해 내컵(4)을 상하 방향으로 이동시킬 수 있다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 내컵(4)의 상단을 기판 W보다 아래쪽의 위치로 이동시킬 수 있다. 이하, 도 1에 나타내는 바와 같이, 내컵(4)을 가장 높은 위치로 이동시킨 상태를 승(昇)상태라고 부른다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 내컵(4)을 가장 낮은 위치로 이동시킨 상태를 강(降)상태라고 부른다.
내컵(4)은, 내컵 하부(41) 및 내컵 상부(42)로 이루어진다. 내컵 하부(41) 및 내컵 상부(42)의 외연부는 회전축(2)에 수직인 단면(이하, 수평 단면이라고 부른다)에 있어서 대략 원형 형상을 가짐과 함께, 내컵 하부(41) 및 내컵 상부(42)의 내연부는 수평 단면에 있어서 대략 원형 형상을 가진다. 즉, 내컵 하부(41) 및 내컵 상부(42)는 수평 단면에 있어서 대략 원환 형상을 가진다. 내컵 상부(42)의 중앙부에는 원형의 개구부(42b)가 형성된다.
내컵 하부(41)는, 승상태에 있어서는, 기판 W의 아래쪽의 공간의 주위를 둘러싸도록 배치된다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 내컵(4)이 강상태에 있는 경우에는, 기판 W는 내컵 상부(42)의 개구부(42b)의 윗쪽에 위치한다. 내컵 하부(41)는 상면(41a) 및 측면(41b)을 가진다. 측면(41b)은, 상면(41a)의 외연부로부터 아래쪽으로 연장되도록 형성된다.
내컵 상부(42)는, 승상태에 있어서는, 기판 W의 윗쪽의 공간의 주위를 둘러싸고 또한 내컵 하부(41)의 윗쪽에 위치하도록 배치된다. 내컵 상부(42)는 하면(42a)을 가진다.
도 5에 나타내는 바와 같이, 내컵 하부(41)의 상면(41a)은, 외주부를 향해 비스듬하게 위쪽으로 경사진다. 수평면에 대한 내컵 하부(41)의 상면(41a)의 경사 각도는 θ1이다. 본 실시의 형태에 있어서, 경사 각도 θ1은, 예를 들면 5도 이상 20도 이하이다. 내컵 상부(42)의 하면(42a)은, 외주부를 향해 비스듬하게 아래쪽으로 경사진다. 수평면에 대한 내컵 상부(42)의 하면(42a)의 경사 각도는 θ2이다. 본 실시의 형태에 있어서, 경사 각도 θ2는, 예를 들면 0도보다 크고 20도 이하이다.
내컵 하부(41)의 상면(41a)과 내컵 상부(42)의 하면(42a) 사이에 공간 V1이 형성된다. 또, 내컵 하부(41)의 아래쪽에 공간 V2가 형성된다. 이하, 공간 V1, V2를 각각 포집 공간 V1, V2라고 부른다.
내컵 하부(41)의 상면(41a)과 내컵 상부(42)의 하면(42a)의 간격은, 기판 W의 외주부측으로부터 바깥쪽을 향해 점차 감소한다. 내컵 하부(41)의 상면(41a) 및 내컵 상부(42)의 하면(42a)의 외주부에서 내컵 하부(41)의 상면(41a) 및 내컵 상부(42)의 하면(42a) 간에 간극 S가 형성된다. 내컵 하부(41)와 내컵 상부(42)가 각각 독립적으로 상하 방향으로 이동 가능하게 구성되어도 된다. 이 경우, 간극 S의 상하 방향의 길이를 조정할 수 있다. 간극 S의 상하 방향의 길이는, 예를 들면 1mm~5mm이며, 본 실시의 형태에 있어서는 2mm이다.
도 1~도 3에 나타내는 바와 같이, 외컵(5)은, 외컵 상부(51), 외컵 측부(52), 외컵 중부(53), 및 외컵 하부(54)로 이루어진다. 외컵 상부(51), 외컵 측부(52) 및 외컵 중부(53)의 외연부는 수평 단면에 있어서 대략 직사각형 형상을 가지며, 외컵 상부(51), 외컵 측부(52) 및 외컵 중부(53)의 내연부는 수평 단면에 있어서 대략 원형 형상을 가진다. 외컵 하부(54)의 외연부 및 내연부는 수평 단면에 있어서 대략 원형 형상을 가진다. 즉, 외컵 하부(54)는 수평 단면에 있어서 대략 원환 형상을 가진다. 외컵 상부(51)의 중앙부에는 원형의 개구부(51d)(도 2 참조)가 형성된다. 내컵(4)이 승상태에 있는 경우에는, 외컵 상부(51)의 개구부(51d) 내에 내컵 상부(42)가 감합된다.
외컵 상부(51)는, 내컵 하부(41) 및 내컵 상부(42)를 둘러싸도록 배치된다. 외컵 상부(51)는 하면(51a)을 가진다. 도 5에 나타내는 바와 같이, 외컵 상부(51)의 하면(51a)은, 외주부를 향해 비스듬하게 아래쪽으로 경사진다. 수평면에 대한 외컵 상부(51)의 하면(51a)의 경사 각도는 θ3이다. 본 실시의 형태에 있어서, 경사 각도 θ3은, 예를 들면 0도보다 크고 20도 이하이다.
외컵 상부(51)의 외연부에 홈부(51b)가 형성됨으로써, 후술하는 공간 V3의 주연부 상에 공간 V4가 형성된다. 이하, 공간 V4를 포착 공간 V4라고 부른다. 외컵 상부(51)의 내연부에는, 내컵(4)이 승상태가 된 경우에 내컵 상부(42)를 걸기 위한 상측 걸림부(51c)(도 2 참조)가 형성된다.
외컵 중부(53)는, 기판 W보다 낮은 위치이며 또한 내컵 하부(41) 또는 내컵 상부(42)를 둘러싸도록 배치된다. 외컵 중부(53)는 상면(53a)을 가진다. 외컵 중부(53)의 상면(53a)은, 외주부를 향해 비스듬하게 위쪽으로 경사진다. 수평면에 대한 외컵 중부(53)의 상면(53a)의 경사 각도는 θ4이다. 본 실시의 형태에 있어서, 경사 각도 θ4는, 예를 들면 5도 이상 20도 이하이다. 외컵 중부(53)의 상면(53a)과 외컵 상부(51)의 하면(51a)의 간격은, 기판 W의 외주부측으로부터 바깥쪽을 향해 점차 감소한다. 외컵 중부(53)의 내연부에는, 내컵(4)이 강상태가 된 경우에 내컵 상부(42)를 걸기 위한 하측 걸림부(53b)가 형성된다.
외컵 측부(52)는, 외컵 상부(51)의 외연부와 외컵 중부(53)의 외연부를 접속하고 또한 내컵 하부(41) 또는 내컵 상부(42)를 둘러싸도록 배치된다. 외컵 측부(52)는 내측면(52a)을 가진다. 외컵 하부(54)는, 외컵 중부(53)의 내연부의 하측 걸림부(53b)로부터 아래쪽으로 연장되고 또한 내컵 하부(41) 또는 내컵 상부(42)를 둘러싸도록 배치된다.
이하, 외컵 상부(51)의 대략 직사각형 형상의 외연부에 있어서의 각 측변의 중앙부를 측변 중앙부라고 부르고, 외컵 상부(51)의 대략 직사각형 형상의 외연부에 있어서의 모서리부를 컵 모서리부라고 부른다. 간극 S의 바깥쪽에 있어서, 외컵 상부(51)의 하면(51a), 외컵 측부(52)의 내측면(52a) 및 외컵 중부(53)의 상면(53a)에 둘러싸지도록 공간 V3이 형성된다. 이하, 공간 V3을 산란 포획 공간 V3이라고 부른다.
상기와 같이, 내컵 하부(41) 및 내컵 상부(42)의 외연부는 수평 단면에 있어서 대략 원형 형상을 가지며, 외컵 상부(51), 외컵 측부(52) 및 외컵 중부(53)의 외연부는 수평 단면에 있어서 대략 직사각형 형상을 가진다. 따라서, 산란 포획 공간 V3은, 수평 단면에 있어서 직사각형 형상을 가진다. 도 3의 컵 모서리부에 있어서의 산란 포획 공간 V3은, 도 1의 측변 중앙부에 있어서의 산란 포획 공간 V3보다 크다. 또, 기판 W의 반경 방향에 있어서 산란 포획 공간 V3의 최대 길이는, 포집 공간 V1의 최대 길이보다 크다.
컵 지지 부재(13)에 폐액구(7)가 설치되어 있다. 폐액구(7)는 배기구로서도 이용된다. 폐액구(7)는, 공장 내의 폐기계 P4에 접속된다. 폐기계 P4는, 폐액 설비 및 배기 설비를 포함한다. 처리 컵 C 내에서 이용된 처리액 및 처리 가스는, 컵 지지 부재(13)의 폐액구(7)로부터 폐기계 P4에 배출된다.
회전 유지부(1)의 아래쪽에는, 회전축(2) 및 모터(3)를 둘러싸도록 정류판(6)이 배치되어 있다. 정류판(6)은, 도시하지 않는 고정 부재에 의해 컵 지지 부재(13)의 내주부에 고정되어 있다. 이 정류판(6)은, 외주부를 향해 비스듬하게 아래쪽으로 경사지는 경사면을 가진다.
기판 W 상에 처리액을 토출하는 처리액 노즐(9)이, 상하 운동 가능하며 또한 기판 W의 윗쪽 위치와 외컵(5) 밖의 대기 위치 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있다. 본 실시의 형태에 있어서는, 처리액 노즐(9)로부터 공급되는 처리액은, 예를 들면 현상액이다. 처리액은, 세정액이어도 되고, 린스액(예를 들면 순수)이어도 되며, 기판 W에 반사 방지막을 형성하기 위한 약액이어도 되며, 저점도의 레지스트액이어도 된다. 처리액은, 낮은 점도(예를 들면 10cP 이하)를 가지는 것이 바람직하지만, 이것에 한정되지 않는다.
처리액 노즐(9)은 처리액 공급관 T1을 통하여 처리액 공급원 P1에 접속되어 있다. 처리액 공급관 T1에는 밸브 v1이 끼워 넣어져 있다. 밸브 v1이 개방됨으로써, 처리액 공급원 P1로부터 처리액 공급관 T1을 통해 처리액 노즐(9)에 처리액이 공급된다.
기판 W는, 피처리면이 윗쪽으로 향해진 상태로 회전 유지부(1)에 의해 수평 자세로 유지된다. 이 상태로, 기판 W가 회전 유지부(1)에 의해 회전됨과 함께, 처리액 노즐(9)로부터 기판 W의 피처리면의 중앙부에 처리액이 토출된다. 그것에 의해, 기판 W의 피처리면의 중앙부에 토출된 처리액이, 기판 W의 회전에 수반하는 원심력에 의해 기판 W의 피처리면의 전체로 퍼진다.
기판 처리 장치(100)에 있어서는, 기판 W의 피처리면과는 반대측의 면(이하, 이면이라고 부른다)에 처리액을 공급할 수 있다. 기판 W의 이면에 처리액을 토출하는 처리액 노즐(8)이, 기판 W의 이면의 아래쪽에 설치되어 있다. 본 실시의 형태에 있어서는, 처리액 노즐(8)로부터 공급되는 처리액은, 예를 들면 세정액이다.
처리액 노즐(8)은 처리액 공급관 T2를 통하여 처리액 공급원 P2에 접속되어 있다. 처리액 공급관 T2에는 밸브 v2가 끼워 넣어져 있다. 밸브 v2가 개방됨으로써, 처리액 공급원 P2로부터 처리액 공급관 T2를 통해 처리액 노즐(8)에 처리액이 공급된다.
이 상태로, 기판 W가 회전 유지부(1)에 의해 회전됨과 함께, 처리액 노즐(8)로부터 기판 W의 이면의 중앙부에 처리액이 토출된다. 그것에 의해, 기판 W의 이면의 중앙부에 토출된 처리액이, 기판 W의 회전에 수반하는 원심력에 의해 기판 W의 이면의 전체로 퍼진다.
도 6은, 회전 유지부(1)의 평면도이다. 도 6에 나타내는 바와 같이, 회전 유지부(1)에는 복수(본 예에서는 4개)의 개구 H가 형성되어 있다. 복수의 개구 H는, 도 1~도 3의 회전축(2) 및 모터(3)의 내부에 삽입 통과되는 처리 가스 공급관 T3을 통하여 처리 가스 공급원 P3에 접속되어 있다.
처리 가스 공급관 T3에는 밸브 v3이 끼워 넣어져 있다. 밸브 v3이 개방됨으로써, 처리 가스 공급원 P3으로부터 처리 가스 공급관 T3을 통해 복수의 개구 H로부터 기판 W의 이면에 처리 가스가 공급된다. 본 실시의 형태에 있어서는, 복수의 개구 H로부터 공급되는 처리 가스는, 예를 들면 질소 가스이다. 처리 가스는, 헬륨 가스 또는 아르곤 가스 등의 다른 불활성 가스여도 된다. 복수의 개구 H로부터 기판 W의 이면에 처리 가스가 공급됨으로써, 처리액 노즐(8)로부터 기판 W의 이면에 토출된 처리액의 기판 W의 이면 전체에 대한 확산이 보조된다.
기판 처리 장치(100)는, 제어부(12)를 구비한다. 제어부(12)는, 모터(3)의 회전 속도를 제어한다. 그것에 의해, 회전 유지부(1)에 의해 유지된 기판 W의 회전 속도가 제어된다. 또, 제어부(12)는, 밸브 v1~v3의 개폐를 제어한다. 그것에 의해, 처리액 및 처리 가스의 공급 타이밍이 제어된다. 또한, 제어부(12)는, 실린더(10)를 제어한다. 그것에 의해, 내컵(4)의 상하 방향의 위치가 승상태와 강상태 사이에서 조정된다.
(2) 처리 컵에 의한 처리액의 처리
도 7은, 기판 W가 고속으로 회전하고 있는 상태에 있어서의 도 1의 처리 컵 C의 A부의 확대 단면도이다. 도 7에 나타내는 바와 같이, 기판 W가 소정의 회전 속도보다 큰 회전 속도로 회전되는 경우에는, 기판 W의 피처리면에 공급된 높은 운동 에너지를 가지는 처리액이, 기판 W의 피처리면으로부터 상하 방향으로 폭을 갖고, 기판 W의 외주부로부터 바깥쪽으로 비산한다. 마찬가지로, 기판 W가 소정의 회전 속도보다 큰 회전 속도로 회전됨으로써, 기판 W의 이면에 공급된 처리액이, 기판 W의 이면으로부터 상하 방향으로 폭을 갖고, 기판 W의 외주부로부터 바깥쪽으로 비산한다.
내컵 하부(41)의 상면(41a)과 내컵 상부(42)의 하면(42a) 사이의 간격은, 기판 W에 가장 가까운 위치에서 가장 크다. 그 때문에, 기판 W로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액은, 내컵 하부(41)의 상면(41a)과 내컵 상부(42)의 하면(42a) 사이에 형성된 포집 공간 V1에 포집된다. 포집된 처리액은, 내컵 하부(41)의 상면(41a) 및 내컵 상부(42)의 하면(42a)을 따라 바깥쪽으로 유도됨으로써 외주부의 간극 S에 모아져, 간극 S를 통과한다.
여기서, 도 5에 나타내는 바와 같이, 내컵 하부(41)의 상면(41a)은 경사 각도 θ1로 윗쪽으로 경사져 있으므로, 기판 W로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액을 포집 공간 V1에 용이하게 포집할 수 있다. 경사 각도 θ1을 5도 이상 20도 이하로 함으로써, 기판 W로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액을 내컵(4)의 간극 S를 확실히 통과시킬 수 있다. 또, 내컵 하부(41)의 상면(41a)에 닿은 처리액이 기판 W로 튕겨 돌아오는 것을 확실히 방지할 수 있다.
마찬가지로, 내컵 상부(42)의 하면(42a)은 경사 각도 θ2로 아래쪽으로 경사져 있으므로, 내컵 상부(42)의 하면(42a)에 부착된 처리액이 바깥쪽으로 비산하는 힘 또는 중력에 의해 하면(42a)을 타고 포집 공간 V1로 유도된다. 이것에 의해, 기판 W로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액을 포집 공간 V1에 용이하게 포집할 수 있다. 경사 각도 θ2를 0도보다 크고 20도 이하로 함으로써, 기판 W로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액을 내컵(4)의 간극 S를 확실히 통과시킬 수 있다. 또, 내컵 상부(42)의 하면(42a)에 닿은 처리액이 기판 W로 튕겨 돌아오는 것을 확실히 방지할 수 있다.
내컵(4)의 간극 S를 통과한 처리액은, 외컵(5)의 산란 포획 공간 V3에서 산란한 후에 외컵(5)의 외컵 측부(52)의 내측면(52a)에서 포획된다. 또, 외컵 상부(51)의 하면(51a)과 외컵 중부(53)의 상면(53a)의 간격이 내컵 상부(42)의 하면(42a) 및 내컵 하부(41)의 상면(41a)의 외주부측으로부터 바깥쪽을 향해 점차 감소한다. 그 때문에, 내컵(4)의 간극 S를 통과한 처리액의 일부는, 외컵 상부(51)의 하면(51a) 및 외컵 중부(53)의 상면(53a)에 의해 외컵 측부(52)의 내측면(52a)으로 확실히 유도된다.
여기서, 도 5에 나타내는 바와 같이, 외컵 상부(51)의 하면(51a)은 경사 각도 θ3으로 아래쪽으로 경사져 있으므로, 내컵(4)의 간극 S를 통과하여 외컵 상부(51)의 하면(51a)에 부착된 처리액이 바깥쪽으로 비산하는 힘 또는 중력에 의해 하면(51a)을 타고 외컵 측부(52)의 내측면(52a)으로 유도된다. 이것에 의해, 간극 S를 통과한 처리액을 산란 포획 공간 V3에 확실히 포획할 수 있다. 경사 각도 θ3을 0도보다 크고 20도 이하로 함으로써, 내컵(4) 간극 S를 통과하여 외컵 상부(51)의 하면(51a)에 닿은 처리액이 포집 공간 V1로 튕겨 돌아오는 것을 확실히 방지할 수 있다.
복수의 처리액의 덩어리가 산란 포획 공간 V3에서 충돌 및 산란한 경우에는, 처리액의 미스트가 발생하는 경우가 있다. 이러한 경우에서도, 처리액의 미스트는, 바깥쪽을 향해 간극 S를 통과하는 처리액의 흐름에 의해 밀려 되돌아온다. 　그것에 의해, 처리액의 미스트가 다시 간극 S를 통과하여 내컵 하부(41)의 상면(41a)과 내컵 상부(42)의 하면(42a) 사이의 포집 공간 V1로 돌아오는 것이 방지된다.
내컵(4)이 승상태에 있는 경우에는, 내컵 상부(42)는, 외컵 상부(51)의 상측 걸림부(51c)에 의해 걸어진다. 여기서, 내컵 상부(42)와 외컵 상부(51)는 근접하고 있다. 그 때문에, 내컵 상부(42)와 외컵 상부(51) 사이의 간극으로부터 처리액의 미스트가 방출되는 것이 방지된다.
산란 포획 공간 V3에서 포획된 처리액은, 중력에 의해 도 1의 컵 지지 부재(13)의 바닥부에 낙하한 후, 폐액구(7)로부터 폐기계 P4에 배출된다. 이것에 의해, 산란 포획 공간 V3에서 포획된 처리액을 확실히 배출할 수 있다.
처리 컵 C의 컵 모서리부에 있어서의 산란 포획 공간 V3은, 측변 중앙부에 있어서의 산란 포획 공간 V3보다 크다. 그것에 의해, 처리 컵 C를 전체적으로 대형화하지 않고, 산란 포획 공간 V3을 확실히 크게 할 수 있다. 측변 중앙부에 있어서의 산란 포획 공간 V3에 방출된 처리액은, 컵 모서리부에 있어서의 산란 포획 공간 V3으로 확산될 수 있다. 따라서, 처리 컵 C 내에서 다량의 처리액을 이용한 처리를 행한 경우에서도, 기판 W로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판 W에 재부착되는 것을 확실히 방지할 수 있다.
또, 기판 W의 반경 방향에 있어서, 산란 포획 공간 V3의 최대 길이는, 포집 공간 V1의 최대 길이보다 크기 때문에, 산란 포획 공간 V3에 있어서 다량의 처리액을 포획할 수 있다. 따라서, 다량의 처리액이 내컵(4)의 간극 S를 통과한 경우에서도, 외컵 측부(52)의 내측면(52a)에서 포집 공간 V1의 방향으로 튕겨 돌아온 처리액이 다시 간극 S를 통과하여 포집 공간 V1로 돌아오는 것이 확실히 방지된다.
또한, 산란 포획 공간 V3의 주연부 상에 포착 공간 V4가 형성되어 있다. 이것에 의해, 외컵 측부(52)의 내측면(52a)에 충돌한 처리액이 상방향으로 퍼지거나 또는 부상한 경우에서도, 그 처리액은 포착 공간 V4에 포착된다. 그것에 의해, 충분한 양의 처리액을 외컵(5)의 산란 포획 공간 V3 및 포착 공간 V4에서 포획 또는 포착할 수 있다.
또, 도 6의 회전 유지부(1)의 복수의 개구 H로부터 기판 W의 이면에 처리 가스가 공급된다. 이 경우, 처리액 노즐(8)에 의해 기판 W의 이면에 공급된 처리액에는, 처리 가스 공급원 P3에 의해 기판 W의 이면에 공급된 처리 가스에 의해 바깥쪽으로 향하는 힘이 부가된다. 기판 W의 회전에 의한 원심력에 바깥쪽으로 향하는 힘이 부가됨으로써, 기판 W의 이면에 공급된 처리액은, 기판 W의 이면으로부터 상하 방향으로 폭을 갖고, 기판 W의 외주부로부터 바깥쪽으로 비산한다.
여기서, 처리 가스가 공급된 경우의 처리액의 상하 방향의 폭은, 처리 가스가 공급되지 않는 경우의 처리액의 상하 방향의 폭보다 작다. 이것에 의해, 기판 W의 외주부로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액은, 외컵(5)의 산란 포획 공간 V3에 확실히 포획된다.
도 8은, 기판 W가 저속으로 회전하고 있는 상태에 있어서의 도 1의 처리 컵 C의 A부의 확대 단면도이다. 도 8에 나타내는 바와 같이, 기판 W가 소정의 회전 속도 이하의 회전 속도로 회전되는 경우에는, 기판 W의 피처리면에 공급된 낮은 운동 에너지를 가지는 처리액이, 중력에 의해 기판 W의 피처리면의 외주부로부터 아래쪽으로 낙하한다. 마찬가지로, 기판 W가 소정의 회전 속도 이하의 회전 속도로 회전됨으로써, 기판 W의 이면에 공급된 처리액이, 기판 W의 이면의 외주부로부터 아래쪽으로 낙하한다.
기판 W의 외주부로부터 아래쪽으로 낙하한 처리액은, 내컵 하부(41)의 아래쪽의 포집 공간 V2에 포집된다. 이것에 의해, 기판 W로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판 W에 재부착되는 것을 방지할 수 있다. 또, 기판 W의 외주부로부터 아래쪽으로 낙하한 처리액은, 높은 운동 에너지를 갖지 않기 때문에, 포집 공간 V2에서 복수의 처리액의 덩어리가 충돌 및 산란한 경우에서도, 튕겨 돌아온 처리액이 기판 W에 재부착되는 것이 방지된다. 포집 공간 V2에 포집된 처리액은, 컵 지지 부재(13)의 폐액구(7)로부터 폐기계 P4에 배출된다.
(3) 효과
본 실시의 형태에 관련된 기판 처리 장치(100)에 있어서는, 기판 W가 회전 유지부(1)에 의해 회전된다. 이 상태로, 처리액 노즐(8, 9)에 의해 기판 W에 처리액이 공급된다. 기판 W의 회전에 의한 원심력에 의해 기판 W로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액은, 포집 공간 V1에 포집된다. 포집된 처리액은, 내컵 하부(41)의 상면(41a) 및 내컵 상부(42)의 하면(42a)을 따라 바깥쪽으로 유도됨으로써 외주부의 간극 S에 모아져, 간극 S를 통과한다.
내컵(4)의 간극 S를 통과한 처리액은, 외컵(5)의 산란 포획 공간 V3에서 산란한 후에 외컵 측부(52)의 내측면(52a)에서 포획된다. 또, 간극 S를 통과한 처리액의 일부는, 외컵 상부(51)의 하면(51a)에 의해 외컵 측부(52)의 내측면(52a)으로 유도된다.
이 구성에 의하면, 일단 바깥쪽을 향해 내컵(4)의 간극 S를 통과한 처리액이 외컵(5)의 산란 포획 공간 V3에서 충분히 포획되므로, 다시 간극 S를 통과하여 포집 공간 V1로 돌아오지 않는다. 그 결과, 기판 W로부터 바깥쪽으로 비산한 처리액이 기판 W에 재부착되는 것을 확실히 방지할 수 있다.
(4) 다른 실시의 형태
(4-1) 상기 실시의 형태에 있어서, 내컵 상부(42)의 하면(42a)은 외주부를 향해 비스듬하게 아래쪽으로 경사지지만, 이것에 한정되지 않는다. 내컵 상부(42)의 하면(42a)은 바깥쪽으로 향해 수평으로 연장되어 있어도 된다.
(4-2) 상기 실시의 형태에 있어서, 외컵 상부(51)의 하면(51a)은 외주부를 향해 비스듬하게 아래쪽으로 경사지지만, 이것에 한정되지 않는다. 외컵 상부(51)의 하면(51a)은 바깥쪽을 향해 수평으로 연장되어 있어도 된다.
(4-3) 상기 실시의 형태에 있어서, 산란 포획 공간 V3은 수평 단면에 있어서 직사각형 형상을 가지지만, 이것에 한정되지 않는다. 산란 포획 공간 V3은, 수평 단면에 있어서 다각형, 긴 원형 또는 타원형 등의 다른 비원형 형상을 가져도 된다. 처리 컵 C를 대형화해도 되는 경우는, 산란 포획 공간 V3은, 수평 단면에 있어서 원형 형상을 가져도 된다.
(4-4) 상기 실시의 형태에 있어서, 회전 유지부(1)에는 복수의 개구 H가 형성되어, 회전 유지부(1)의 개구 H로부터 처리 가스가 공급되지만, 이것에 한정되지 않는다. 기판 W의 이면의 아래쪽에 다른 처리 가스 공급용의 노즐이 설치되어, 처리 가스 공급용의 노즐로부터 기판 W의 이면에 처리 가스가 공급되어도 된다. 이 경우, 회전 유지부(1)에 복수의 개구 H는 설치되지 않아도 된다.
(5) 청구항의 각 구성 요소와 실시의 형태의 각 부의 대응 관계
이하, 청구항의 각 구성 요소와 실시의 형태의 각 부의 대응의 예에 대해서 설명하지만, 본 발명은 하기의 예에 한정되지 않는다.
상기 실시의 형태에 있어서는, 기판 W가 기판의 예이며, 처리 컵 C가 처리 컵의 예이며, 내컵(4)이 제1 컵의 예이며, 외컵(5)이 제2 컵의 예이며, 내컵 하부(41)가 제1 부재의 예이며, 내컵 상부(42)가 제2 부재의 예이다. 상면(41a)이 제1 상면의 예이며, 하면(42a)이 제1 하면의 예이며, 상면(53a)이 제2 상면의 예이며, 하면(51a)이 제2 하면의 예이며, 내측면(52a)이 내측면의 예이며, 폐액구(7)가 폐액구의 예이다.
간극 S가 간극의 예이며, 포집 공간 V1, V2가 각각 제1 및 제2 포집 공간의 예이며, 산란 포획 공간 V3이 산란 포획 공간의 예이며, 포착 공간 V4가 포착 공간의 예이며, 경사 각도 θ1~θ3이 각각 제1~제3 각도의 예이다. 기판 처리 장치(100)가 기판 처리 장치의 예이며, 회전 유지부(1)가 회전 유지부의 예이며, 처리액 노즐(9, 8)이 각각 제1 및 제2 처리액 공급계의 예이며, 개구 H가 처리 가스 공급계의 예이다.
청구항의 각 구성 요소로서, 청구항에 기재되어 있는 구성 또는 기능을 가지는 다른 여러 가지의 요소를 이용할 수도 있다.

Claims (17)

  1. 수평 자세로 유지되는 기판에 처리액을 이용한 처리를 행할 때에 기판의 주위를 둘러싸도록 설치되는 처리 컵으로서,
    기판의 주위를 둘러싸도록 배치되는 제1 컵과,
    상기 제1 컵의 주위를 둘러싸도록 배치되는 제2 컵을 구비하고,
    상기 제1 컵은, 상기 기판의 주위를 둘러싸도록 배치되는 제1 상면을 가지는 제1 부재와, 상기 기판의 주위를 둘러싸도록 상기 제1 부재의 상기 제1 상면의 윗쪽에 배치되는 제1 하면을 가지는 제2 부재를 포함하며,
    상기 제1 및 제2 부재는, 상기 제1 상면과 상기 제1 하면의 간격이 상기 기판의 외주부측으로부터 바깥쪽을 향해 점차 감소함과 함께 상기 제1 및 제2 부재의 외주부에서 상기 제1 상면과 상기 제1 하면 사이에 간극이 형성되도록 구성되고,
    상기 제1 상면과 상기 제1 하면 사이에 처리액을 포집하는 제1 포집 공간이 형성되며,
    상기 제2 컵은, 상기 간극을 통과한 처리액의 산란을 허용함과 함께 산란하는 처리액을 포획하는 산란 포획 공간을 형성하도록 구성되고, 상기 산란 포획 공간의 상부를 덮는 제2 하면 및 상기 산란 포획 공간의 외주부를 덮는 내측면을 가지며, 상기 제2 하면은, 상기 간극을 통과한 처리액을 상기 내측면으로 유도하도록 형성되는, 처리 컵.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 부재의 아래쪽에 처리액을 포집하는 제2 포집 공간이 형성되는, 처리 컵.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 컵은, 상기 산란 포획 공간의 주연부 상에 처리액을 포착하는 포착 공간을 더 형성하도록 구성되는, 처리 컵.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 제1 부재의 상기 제1 상면, 상기 제2 부재의 상기 제1 하면 및 상기 간극은, 공통의 축을 중심으로 하는 회전 대칭인 형상을 가지는, 처리 컵.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 산란 포획 공간은, 상기 공통의 축을 중심으로 하는 비원형 형상을 가지는, 처리 컵.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 산란 포획 공간은, 상기 공통의 축에 수직인 단면에 있어서 직사각형 형상을 가지는, 처리 컵.
  7. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 제1 부재의 상기 제1 상면은, 바깥쪽을 향해 상기 기판의 상면에 대해 제1 각도로 윗쪽으로 경사지도록 형성되는, 처리 컵.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 제1 각도는 5도 이상 20도 이하인, 처리 컵.
  9. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 부재의 상기 제1 하면은, 바깥쪽을 향해 상기 기판의 상면과 평행하게 연장되거나 또는 상기 기판의 상면에 대해 제2 각도로 아래쪽으로 경사지도록 형성되는, 처리 컵.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 제2 각도는 0도보다 크고 20도 이하인, 처리 컵.
  11. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 하면은, 바깥쪽을 향해 상기 기판의 상면과 평행하게 연장되거나 또는 상기 기판의 상면에 대해 제3 각도로 아래쪽으로 경사지도록 형성되는, 처리 컵.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 제3 각도는 0도보다 크고 20도 이하인, 처리 컵.
  13. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 기판의 반경 방향에 있어서 상기 산란 포획 공간의 최대 길이는, 상기 제1 포집 공간의 최대 길이보다 큰, 처리 컵.
  14. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 컵은, 상기 산란 포획 공간의 하부를 덮는 제2 상면을 더 가지며, 상기 제2 하면과 상기 제2 상면의 간격이 상기 제1 하면 및 상기 제1 상면의 외주부측으로부터 바깥쪽을 향해 점차 감소하는, 처리 컵.
  15. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 산란 포획 공간 내의 처리액을 폐액계로 유도하는 폐액구를 더 구비하는, 처리 컵.
  16. 기판에 처리를 행하는 기판 처리 장치로서,
    기판을 수평 자세로 유지하여 회전시키는 회전 유지부와,
    상기 회전 유지부에 의해 유지되는 기판의 제1 면에 처리액을 공급하는 제1 처리액 공급계와,
    상기 회전 유지부에 의해 유지되는 기판의 주위를 둘러싸도록 설치되는 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 처리 컵을 구비하는, 기판 처리 장치.
  17. 청구항 16에 있어서,
    상기 회전 유지부에 의해 유지되는 기판의 제1 면의 반대측의 제2 면에 처리액을 공급하는 제2 처리액 공급계와,
    상기 회전 유지부에 의해 유지되는 기판의 상기 제2 면에 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급계를 더 구비하는, 기판 처리 장치.
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