CN107634004A - 一种防止液体迸溅起雾的挡水机构 - Google Patents

Abstract

本发明属于半导体行业晶片的高压清洗、显影、蚀刻等湿法处理领域，具体地说是一种防止液体迸溅起雾的挡水机构，安装在底层收集杯上，电机输出轴上连接有位于挡水机构内的承片台，晶片吸附在所述承片台上、随承片台由所述电机驱动旋转；挡水机构包括外层挡水罩、防溅网及内层挡水罩，外层挡水罩安装在底层收集杯上，防溅网位于外层挡水罩内、并与外层挡水罩相连接，电机的上方设有防止液体进入电机的内层挡水罩，内层挡水罩位于防溅网内、安装在底层收集杯上，内层挡水罩的顶部位于晶片边缘的下方。本发明通过防溅网和外层挡水罩组成的内衬套结构对飞溅出晶片的化学液进行两次衰减，防止了迸溅现象和起雾现象，从根本上杜绝了晶片的二次污染。

Description

一种防止液体迸溅起雾的挡水机构

技术领域

本发明属于半导体行业晶片的高压清洗、显影、蚀刻等湿法处理领域，具体地说是一种防止液体迸溅起雾的挡水机构。

背景技术

在半导体晶片的湿法加工工艺过程中，如高压清洗、显影、蚀刻等，是靠喷嘴向旋转中的晶片喷洒化学液而完成的。晶片表面的化学液在离心力的作用下被甩出，并飞溅在挡水罩上，由于这部分化学液具有较高的动能，因此会在接触到挡水罩时发生返溅；返溅的化学液有一部分会落在正在加工的晶片正面或背面，进而对晶片产生了污染。同时，由于返溅的存在，会在晶片加工区域产生雾气，甩干后的晶片会重新沾染雾气而产生二次污染，降低了晶片良率和产能。基于以上背景，目前需要一种可靠的挡水机构，能够防止化学液迸溅和雾气的产生。

发明内容

为了解决湿法工艺中化学液返溅和起雾的问题，本发明的目的在于提供一种防止液体迸溅起雾的挡水机构。该挡水机构通过防溅网将飞溅出的液体进行缓冲，起到防溅和防起雾的作用。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：

本发明安装在底层收集杯上，电机输出轴上连接有位于挡水机构内的承片台，晶片吸附在所述承片台上、随承片台由所述电机驱动旋转；所述挡水机构包括外层挡水罩、防溅网及内层挡水罩，其中外层挡水罩安装在所述底层收集杯上，所述防溅网位于外层挡水罩内、并与外层挡水罩相连接，所述电机的上方设有防止液体进入电机的内层挡水罩，该内层挡水罩位于防溅网内、安装在所述底层收集杯上，所述内层挡水罩的顶部位于所述晶片边缘的下方；所述晶片表面的液体在晶片旋转过程中在离心力作用下飞溅到防溅网上，通过所述防溅网缓冲液体的冲击力，实现防止迸溅和雾气的产生。

其中：所述防溅网分为上部及下部，该上部为锥台状，所述下部为圆柱状，所述上部及下部上均开有孔；所述上部及下部与外层挡水罩的内壁形状一致，直径小于该外层挡水罩的内壁，即所述防溅网与外层挡水罩之间留有间隙，所述上部的顶端通过螺栓固接于外层挡水罩上；所述防溅网由金属丝编织而成，该防溅网上的孔沿圆周方向多列均匀排布。

本发明的优点与积极效果为：

1.本发明通过防溅网和外层挡水罩组成的内衬套结构对飞溅出晶片的化学液进行两次衰减，防止了迸溅现象和起雾现象，从根本上杜绝了晶片的二次污染。

2.本发明所产生的防溅效果防止了化学液迸溅到喷嘴及其他结构而造成结露滴落到晶片，产生不良影响。

3.本发明结构简单，安装与操作方便，成本低。

附图说明

图1为本发明外部整体结构立体图；

图2为本发明的内部剖视图；

图3为本发明防溅网的结构示意图；

其中：1为外层挡水罩，2为防溅网，3为内层挡水罩，4为晶片，5为承片台，6为底层收集杯，7为电机，8为上部，9为下部。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步详述。

如图1、图2所示，本发明的挡水机构包括外层挡水罩1、防溅网2及内层挡水罩3，其中外层挡水罩1及防溅网2组成了内衬套挡水结构，外层挡水罩1安装在底层收集杯6上，防溅网2位于外层挡水罩1内、并与外层挡水罩1相连接；电机7的输出轴上连接有位于防溅网2内的承片台5，晶片4吸附在承片台5上、随承片台5由电机7驱动旋转。内层挡水罩3位于防溅网2内，安装在底层收集杯6上，并且该内层挡水罩3位于电机7的上方，防止液体进入电机7，避免导致电机7短路；内层挡水罩3的顶部位于晶片4边缘的下方。

如图3所示，防溅网2由金属丝(如304不锈钢或316不锈钢)编织而成，分为上部8及下部9，该上部8为锥台状，下部9为圆柱状，上部8及下部9与外层挡水罩1的内壁形状一致，直径小于该外层挡水罩1的内壁，即防溅网2与外层挡水罩1之间留有间隙，上部8的顶端通过螺栓固接于外层挡水罩1上。上部8及下部9上均开有孔，孔是沿圆周方向多列均匀排布的，使防溅网2对液体飞溅的缓冲效果更好。

本发明的工作原理为：

当进行湿法工艺时，待处理的晶片4吸附在承片台5上，在电机7的带动下做旋转运动；喷嘴喷洒出的化学液落在晶片4的表面进行工艺处理，在离心力的作用下化学液甩离晶片4的表面，而飞溅向防溅网2。防溅网2是由金属丝编织而成的致密的孔隙结构(目数可为30～50目)，化学液接触到防溅网2后动能被金属丝衰减，而透过防溅网2的孔隙继续运动到外层挡水罩1的内壁，此时的化学液已有大部分的动能损耗；再经过外层挡水罩1内壁的反射，从防溅网2反向通过，又一次经历防溅网2的衰减作用，这样就防止了化学液迸溅的发生；同时，由于防溅网2的衰减作用，防止了起雾现象的产生。

Claims (4)

1.一种防止液体迸溅起雾的挡水机构，安装在底层收集杯上，电机输出轴上连接有位于挡水机构内的承片台，晶片吸附在所述承片台上、随承片台由所述电机驱动旋转；其特征在于：所述挡水机构包括外层挡水罩(1)、防溅网(2)及内层挡水罩(3)，其中外层挡水罩(1)安装在所述底层收集杯(6)上，所述防溅网(2)位于外层挡水罩(1)内、并与外层挡水罩(1)相连接，所述电机(7)的上方设有防止液体进入电机(7)的内层挡水罩(3)，该内层挡水罩(3)位于防溅网(2)内、安装在所述底层收集杯(6)上，所述内层挡水罩(3)的顶部位于所述晶片(4)边缘的下方；所述晶片(4)表面的液体在晶片(4)旋转过程中在离心力作用下飞溅到防溅网(2)上，通过所述防溅网(2)缓冲液体的冲击力，实现防止迸溅和雾气的产生。

2.按权利要求1所述防止液体迸溅起雾的挡水机构，其特征在于：所述防溅网(2)分为上部(8)及下部(9)，该上部(8)为锥台状，所述下部(9)为圆柱状，所述上部(8)及下部(9)上均开有孔。

3.按权利要求2所述防止液体迸溅起雾的挡水机构，其特征在于：所述上部(8)及下部(9)与外层挡水罩(1)的内壁形状一致，直径小于该外层挡水罩(1)的内壁，即所述防溅网(2)与外层挡水罩(1)之间留有间隙，所述上部(8)的顶端通过螺栓固接于外层挡水罩(1)上。

4.按权利要求1所述防止液体迸溅起雾的挡水机构，其特征在于：所述防溅网(2)由金属丝编织而成，该防溅网(2)上的孔沿圆周方向多列均匀排布。