JP6784546B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
11 上カップ
12 下カップ
13 スピンチャック
15 回転駆動機構
31 ノズルヘッド
32 窒素ガス吐出部
33 ノズルヘッド
41 第1窒素ガス吐出ノズル
42 処理液吐出ノズル
43 処理液吐出ノズル
44 処理液吐出ノズル
45 第2窒素ガス吐出ノズル
61 HFと純水の混合液の供給源
62 純水の供給源
63 SC1の供給源
64 窒素ガスの供給源
100 開口部
101 壁部
102 傾斜面
103 反射防止部材
104 傾斜面
W 半導体ウエハ
Claims (9)
- 外形が略円形の形状を有する基板の主面を略水平とした状態で保持するとともに、前記基板を当該基板の中心を回転中心として回転させるスピンチャックと、
前記スピンチャックに保持されて回転する基板の周縁部に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、
前記スピンチャックに保持されて回転する基板の外周部に配設され、前記基板より飛散する処理液を捕獲するカップと、
を備えた基板処理装置において、
前記スピンチャックに保持されて回転する基板の表面より上方において、前記基板より飛散した処理液が前記カップと衝突する衝突位置と前記基板との間に配設され、前記カップと衝突した処理液が前記スピンチャックに保持されて回転する基板の表面に到達することを防止するための反射防止部材を備え、
前記反射防止部材は、前記カップの基板側の端縁から下方に延びる円筒状の壁部を備えるとともに、
前記壁部における前記処理液吐出ノズルと対向する領域に開口部が形成され、
前記開口部は、前記基板の回転中心と前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置とを結ぶ直線の延長上の位置より前記基板の回転方向の上流側の位置から、前記基板の回転方向の下流側の位置に亘って形成され、
前記開口部の前記基板の回転方向の上流側の端縁は、前記基板の回転中心と前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置とを結ぶ直線の延長上の位置より前記基板の回転方向の上流側に配置されるとともに、
前記開口部の前記基板の回転方向の下流側の端縁は、前記基板の回転中心と前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置とを結ぶ直線の延長上の位置より前記基板の回転方向の下流方向に離隔した位置に配置され、
前記開口部の前記基板の回転方向の下流側の端縁は、前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置から、前記基板の回転中心と前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置とを結ぶ直線が前記基板の周縁と交差する位置における前記基板の外周により構成される円の接線方向の位置より前記基板の回転方向の下流方向に配置されることを特徴とする基板処理装置。 - 外形が略円形の形状を有する基板の主面を略水平とした状態で保持するとともに、前記基板を当該基板の中心を回転中心として回転させるスピンチャックと、
前記スピンチャックに保持されて回転する基板の周縁部に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、
前記スピンチャックに保持されて回転する基板の外周部に配設され、前記基板より飛散する処理液を捕獲するカップと、
を備えた基板処理装置において、
前記スピンチャックに保持されて回転する基板の表面より上方において、前記基板より飛散した処理液が前記カップと衝突する衝突位置と前記基板との間に配設され、前記カップと衝突した処理液が前記スピンチャックに保持されて回転する基板の表面に到達することを防止するための反射防止部材を備え、
前記反射防止部材は、前記カップの基板側の端縁から下方に延びる円筒状の壁部を備えるとともに、
前記壁部における前記処理液吐出ノズルと対向する領域に開口部が形成され、
前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置よりも前記基板の回転方向の上流側の位置において、前記スピンチャックに保持されて回転する基板の周縁部に気体を吐出する気体吐出ノズルをさらに備え、
前記開口部の前記基板の回転方向の上流側の端縁は、前記基板の回転中心と前記気体吐出ノズルによる前記基板への気体の供給位置とを結ぶ直線の延長上の位置より前記基板の回転方向の上流側に配置される基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置において、
前記開口部は、前記基板の回転中心と前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置とを結ぶ直線の延長上の位置より前記基板の回転方向の上流側の位置から、前記基板の回転方向の下流側の位置に亘って形成される基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置において、
前記開口部の前記基板の回転方向の上流側の端縁は、前記基板の回転中心と前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置とを結ぶ直線の延長上の位置より前記基板の回転方向の上流側に配置されるとともに、
前記開口部の前記基板の回転方向の下流側の端縁は、前記基板の回転中心と前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置とを結ぶ直線の延長上の位置より前記基板の回転方向の下流方向に離隔した位置に配置される基板処理装置。 - 請求項4に記載の基板処理装置において、
前記開口部の前記基板の回転方向の下流側の端縁は、前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置から、前記基板の回転中心と前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置とを結ぶ直線が前記基板の周縁と交差する位置における前記基板の外周により構成される円の接線方向の位置より前記基板の回転方向の下流方向に配置される基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記処理液吐出ノズルによる前記基板への処理液の供給位置よりも前記基板の回転方向の上流側の位置において、前記スピンチャックに保持されて回転する基板の周縁部に気体を吐出する気体吐出ノズルをさらに備える基板処理装置。 - 請求項1から請求項6のいずれか一つに記載の基板処理装置において、
前記スピンチャックに保持されて回転する基板の周縁部の上方の処理液供給位置と、前記スピンチャックに保持されて回転する基板の上方から離隔した退避位置との間を揺動可能なアームの先端に複数の処理液吐出ノズルが配設され、前記複数の処理液吐出ノズルが選択的に使用される基板処理装置。 - 請求項1から請求項7のいずれか一つに記載の基板処理装置において、
前記カップは、前記基板より飛散する処理液が衝突する衝突面を備え、
前記衝突面は、上部が前記スピンチャックに保持されて回転する基板に近接し、下部が前記スピンチャックに保持されて回転する基板から離隔する傾斜面から構成される基板処理装置。 - 請求項1から請求項8のいずれか一つに記載の基板処理装置において、
前記壁部の下端部は、上部が前記スピンチャックに保持されて回転する基板に近接し、下部が前記スピンチャックに保持されて回転する基板から離隔する傾斜面を有する基板処理装置。
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