JP3408904B2 - 回転式基板処理装置 - Google Patents
回転式基板処理装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶用ガラス角
型基板、半導体ウエハ、カラーフィルタ用ガラス基板な
どの基板（以下「基板」という）にレジスト液、現像液
等の処理液を供給した後、あるいは供給しながら、基板
を回転させることにより基板に所定の処理を施す回転式
基板処理装置に関する。
型基板、半導体ウエハ、カラーフィルタ用ガラス基板な
どの基板（以下「基板」という）にレジスト液、現像液
等の処理液を供給した後、あるいは供給しながら、基板
を回転させることにより基板に所定の処理を施す回転式
基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の回転式基板処理装置のひとつであ
るスピンコータでは、図５に示すように、スピンチャッ
ク１０４に水平保持された基板１０１の表面にノズル１
０２からレジスト液（処理液）を供給した後、図示しな
い駆動機構の駆動力が回転軸１０３によって伝えられて
スピンチャック１０４を回転駆動する。これによりスピ
ンチャック１０４上の基板１０１を回転させてレジスト
液を遠心力で拡散流動させ、均一な膜厚のレジスト膜が
基板１０１上に形成される。
るスピンコータでは、図５に示すように、スピンチャッ
ク１０４に水平保持された基板１０１の表面にノズル１
０２からレジスト液（処理液）を供給した後、図示しな
い駆動機構の駆動力が回転軸１０３によって伝えられて
スピンチャック１０４を回転駆動する。これによりスピ
ンチャック１０４上の基板１０１を回転させてレジスト
液を遠心力で拡散流動させ、均一な膜厚のレジスト膜が
基板１０１上に形成される。
【０００３】このように基板１０１の回転によってレジ
スト液を拡散流動させる際に余剰のレジスト液は周囲に
飛散する。この飛散するレジスト液のミストの大部分は
スピンチャック１０４に保持されながら回転する基板１
０１を取り囲むように設けられたカップ１０５によって
捕らえられ、スピンコータの周囲に及ばないようになっ
ている。
スト液を拡散流動させる際に余剰のレジスト液は周囲に
飛散する。この飛散するレジスト液のミストの大部分は
スピンチャック１０４に保持されながら回転する基板１
０１を取り囲むように設けられたカップ１０５によって
捕らえられ、スピンコータの周囲に及ばないようになっ
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、カップ１０５
の上部には基板１０１をスピンチャック１０４上に搬入
し、またスピンチャック１０４から基板１０１を搬出す
るための開口部１０５ｈが設けられており、その開口部
１０５ｈからレジスト液のミストの一部は基板１０１の
回転により発生する気流とともにカップ１０５の外部に
飛散していた。そのため、カップ１０５の外部に飛散し
たレジスト液のミストはカップ１０５の外周面のみなら
ず、カップ１０５の周囲の他の機構部に付着し、パーテ
ィクル発生の原因となっていた。特にカップ１０５周辺
の機構部の洗浄処理は通常行われず、しかも付着したレ
ジスト液は容易に取り除くことが難しいために、それら
に付着したパーティクルについてはほとんど除去するこ
とができない。
の上部には基板１０１をスピンチャック１０４上に搬入
し、またスピンチャック１０４から基板１０１を搬出す
るための開口部１０５ｈが設けられており、その開口部
１０５ｈからレジスト液のミストの一部は基板１０１の
回転により発生する気流とともにカップ１０５の外部に
飛散していた。そのため、カップ１０５の外部に飛散し
たレジスト液のミストはカップ１０５の外周面のみなら
ず、カップ１０５の周囲の他の機構部に付着し、パーテ
ィクル発生の原因となっていた。特にカップ１０５周辺
の機構部の洗浄処理は通常行われず、しかも付着したレ
ジスト液は容易に取り除くことが難しいために、それら
に付着したパーティクルについてはほとんど除去するこ
とができない。
【０００５】そこで、円筒状の飛散防止部材をカップ１
０５の開口部１０５ｈの周縁部ＣＥの上方に設ける技術
が提案されている。この提案技術によれば、開口部から
カップ外に飛散しようとするミストは飛散防止部材によ
り補集されるので、カップ外へのミストの飛散を防止す
ることができ、カップ周辺の機構部の汚染を防いで当該
機構部からのパーティクルの発生を防止することができ
る。しかしながら、開口部に飛散防止部材を設けたこと
により、次のような問題が生じる。すなわち、そのレジ
スト液のミストが飛散防止部材によって跳ね返って、ふ
たたび基板上に戻り基板を汚染したり、レジスト液のミ
ストを含んだ気流が飛散防止部材の上部で内側に巻き込
まれて逆流して下降する際に、レジスト液のミストが固
化してパーティクルとなって基板表面に付着して、基板
を汚染するといった問題があった。
０５の開口部１０５ｈの周縁部ＣＥの上方に設ける技術
が提案されている。この提案技術によれば、開口部から
カップ外に飛散しようとするミストは飛散防止部材によ
り補集されるので、カップ外へのミストの飛散を防止す
ることができ、カップ周辺の機構部の汚染を防いで当該
機構部からのパーティクルの発生を防止することができ
る。しかしながら、開口部に飛散防止部材を設けたこと
により、次のような問題が生じる。すなわち、そのレジ
スト液のミストが飛散防止部材によって跳ね返って、ふ
たたび基板上に戻り基板を汚染したり、レジスト液のミ
ストを含んだ気流が飛散防止部材の上部で内側に巻き込
まれて逆流して下降する際に、レジスト液のミストが固
化してパーティクルとなって基板表面に付着して、基板
を汚染するといった問題があった。
【０００６】この発明は、従来技術における上述の問題
の克服を意図しており、カップ周辺を汚すことなく、し
かも基板表面を汚染することもなく基板の処理を行うこ
とができる回転式基板処理装置を提供することを目的と
する。
の克服を意図しており、カップ周辺を汚すことなく、し
かも基板表面を汚染することもなく基板の処理を行うこ
とができる回転式基板処理装置を提供することを目的と
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を回転させてその表面に処理液を供給することにより当
該基板に所定の処理を施す回転式基板処理装置であっ
て、上記目的を達成するため、上面の一部に開口部を備
えるとともに排気配管が取り付けられ、基板の回転に伴
って基板表面から振り切られる処理液を受けるカップ
と、前記カップの外周のほぼ鉛直上方に配置され、前記
開口部から前記カップの外周側に飛散する処理液を受け
る飛散防止手段と、前記飛散防止手段に設けられた通気
孔と、を備え、前記飛散防止手段と前記カップとの間の
空間は前記通気孔を介して前記回転式基板処理装置の外
部側方の空間と通じている。
を回転させてその表面に処理液を供給することにより当
該基板に所定の処理を施す回転式基板処理装置であっ
て、上記目的を達成するため、上面の一部に開口部を備
えるとともに排気配管が取り付けられ、基板の回転に伴
って基板表面から振り切られる処理液を受けるカップ
と、前記カップの外周のほぼ鉛直上方に配置され、前記
開口部から前記カップの外周側に飛散する処理液を受け
る飛散防止手段と、前記飛散防止手段に設けられた通気
孔と、を備え、前記飛散防止手段と前記カップとの間の
空間は前記通気孔を介して前記回転式基板処理装置の外
部側方の空間と通じている。
【０００８】請求項２の発明は、請求項１における前記
通気孔にミスト捕集部材を設けている。請求項３の発明
は、基板を回転させてその表面に処理液を供給すること
により当該基板に所定の処理を施す回転式基板処理装置
であって、上記目的を達成するため、上面の一部に開口
部を備え、基板の回転に伴って基板表面から振り切られ
る処理液を受けるカップと、前記カップの外周のほぼ鉛
直上方に配置され、前記開口部から前記カップの外周側
に飛散する処理液を受ける飛散防止手段と、を備え、前
記飛散防止手段に通気孔を設け、前記通気孔にミスト捕
集部材を設けている。
通気孔にミスト捕集部材を設けている。請求項３の発明
は、基板を回転させてその表面に処理液を供給すること
により当該基板に所定の処理を施す回転式基板処理装置
であって、上記目的を達成するため、上面の一部に開口
部を備え、基板の回転に伴って基板表面から振り切られ
る処理液を受けるカップと、前記カップの外周のほぼ鉛
直上方に配置され、前記開口部から前記カップの外周側
に飛散する処理液を受ける飛散防止手段と、を備え、前
記飛散防止手段に通気孔を設け、前記通気孔にミスト捕
集部材を設けている。
【０００９】
【００１０】
【１．実施の形態の機構的概略構成と装置配列】以下、
図面を参照しつつ本発明の実施の形態にかかる回転式基
板処理装置について、その一例であるスピンコータの構
成・動作を詳細に説明する。図１は、本発明の実施の形
態のスピンコータ１の断面を示した説明図である。この
スピンコータ１は基板上にレジスト液を回転塗布するた
めの装置である。図示のように、このスピンコータ１
は、基板１０を吸引保持するスピンチャック１３と、こ
のスピンチャック１３を回転軸１４を介して回転駆動し
てスピンチャック１３上の基板１０を回転させる回転駆
動部１５と、図示しないノズルによって供給されたレジ
スト液が基板１０の回転によって装置周辺に飛散するこ
とを防止するとともに、この基板１０から振り切られる
レジスト液を受けて排液として装置外に排出するカップ
１２と、カップ１２の開口部１２ｈを通過したレジスト
液が飛散するのを防ぐための飛散防止部材１１とを備え
ている。
図面を参照しつつ本発明の実施の形態にかかる回転式基
板処理装置について、その一例であるスピンコータの構
成・動作を詳細に説明する。図１は、本発明の実施の形
態のスピンコータ１の断面を示した説明図である。この
スピンコータ１は基板上にレジスト液を回転塗布するた
めの装置である。図示のように、このスピンコータ１
は、基板１０を吸引保持するスピンチャック１３と、こ
のスピンチャック１３を回転軸１４を介して回転駆動し
てスピンチャック１３上の基板１０を回転させる回転駆
動部１５と、図示しないノズルによって供給されたレジ
スト液が基板１０の回転によって装置周辺に飛散するこ
とを防止するとともに、この基板１０から振り切られる
レジスト液を受けて排液として装置外に排出するカップ
１２と、カップ１２の開口部１２ｈを通過したレジスト
液が飛散するのを防ぐための飛散防止部材１１とを備え
ている。
【００１１】このカップ１２は、側方でレジスト液を受
ける側壁部分１２ａと、基板１０から流下するレジスト
液を下方において受け止めるとともに、そのレジスト液
と側壁部分１２ａによって回収されたレジスト液を併せ
て排出し、さらに基板１０の回転により発生した気流を
受けて排気する受け皿部分１２ｂ，１２ｃとからなって
いる。
ける側壁部分１２ａと、基板１０から流下するレジスト
液を下方において受け止めるとともに、そのレジスト液
と側壁部分１２ａによって回収されたレジスト液を併せ
て排出し、さらに基板１０の回転により発生した気流を
受けて排気する受け皿部分１２ｂ，１２ｃとからなって
いる。
【００１２】図２は飛散防止部材とカップとを示す分解
斜視図である。カップ１２の側壁部分１２ａの上部は同
図から分かるように円錐台状に形成されており、さらに
その円錐台の上面の中央には基板１０をスピンチャック
１３との間で搬入および搬出するための開口部１２ｈが
設けられている。この開口部１２ｈは図１から分かるよ
うにカップ１２の側壁部分１２ａの外周部分ＯＲから基
板サイズに合わせ距離ＤＯだけ内側に設けられている。
斜視図である。カップ１２の側壁部分１２ａの上部は同
図から分かるように円錐台状に形成されており、さらに
その円錐台の上面の中央には基板１０をスピンチャック
１３との間で搬入および搬出するための開口部１２ｈが
設けられている。この開口部１２ｈは図１から分かるよ
うにカップ１２の側壁部分１２ａの外周部分ＯＲから基
板サイズに合わせ距離ＤＯだけ内側に設けられている。
【００１３】また、カップ１２の受け皿部分１２ｂには
側壁部分１２ａによって受け止められた余剰のレジスト
液と、基板１０の外縁部から下方に滴下したレジスト液
とを集めて排液として装置外に排出する配管ＰＡと、基
板１０の回転に伴って発生したレジスト液のミストを含
む気流を排気するための配管ＰＢ，ＰＣが取り付けられ
ている。
側壁部分１２ａによって受け止められた余剰のレジスト
液と、基板１０の外縁部から下方に滴下したレジスト液
とを集めて排液として装置外に排出する配管ＰＡと、基
板１０の回転に伴って発生したレジスト液のミストを含
む気流を排気するための配管ＰＢ，ＰＣが取り付けられ
ている。
【００１４】また、飛散防止部材１１はカップ１２の側
壁部分１２ａの外周の鉛直上方に設けられている。した
がってカップ１２の開口部１２ｈから飛散防止部材１１
までは距離ＤＯだけ隔たっている。この距離ＤＯは、図
１の矢符ＭＡ，ＭＢに示すように基板１０の回転により
飛散したレジスト液のミストが跳ね返って開口部１２ｈ
に戻るのを防止するのに十分な距離になっている。
壁部分１２ａの外周の鉛直上方に設けられている。した
がってカップ１２の開口部１２ｈから飛散防止部材１１
までは距離ＤＯだけ隔たっている。この距離ＤＯは、図
１の矢符ＭＡ，ＭＢに示すように基板１０の回転により
飛散したレジスト液のミストが跳ね返って開口部１２ｈ
に戻るのを防止するのに十分な距離になっている。
【００１５】また、飛散防止部材１１の下方の四方に切
り欠き部１１ｈが設けられており、カップ１２に組み付
けられると通気孔として機能する。通気孔がないと飛散
防止部材１１とカップ１２ａの表面とで形成される空間
によどみが生じ、レジストミストあるいはパーティクル
を含んだ気流の滞留が発生し、基板に悪影響を及ぼす。
また、回転と同時に発生するレジストを含んだ気流の一
部が開口部１２ｈを通じて流出し、矢符ＥＡ，ＥＢのよ
うに外部に排出されずに逆流するのを防ぐことができ、
常に基板周囲の気流を清浄に保つことができる。
り欠き部１１ｈが設けられており、カップ１２に組み付
けられると通気孔として機能する。通気孔がないと飛散
防止部材１１とカップ１２ａの表面とで形成される空間
によどみが生じ、レジストミストあるいはパーティクル
を含んだ気流の滞留が発生し、基板に悪影響を及ぼす。
また、回転と同時に発生するレジストを含んだ気流の一
部が開口部１２ｈを通じて流出し、矢符ＥＡ，ＥＢのよ
うに外部に排出されずに逆流するのを防ぐことができ、
常に基板周囲の気流を清浄に保つことができる。
【００１６】さらに、図２に示すようにこのスピンコー
タ１では、飛散防止部材１１とカップ１２は着脱自在に
構成されており、さらにカップ１２の受け皿部分１２
ｂ，１２ｃとカップ１２の側壁部分１２ａとに分解する
ことができる構成となっている。そのため、洗浄の際に
はカップ１２を各部に分解することにより、各部材ごと
に洗浄することができる。
タ１では、飛散防止部材１１とカップ１２は着脱自在に
構成されており、さらにカップ１２の受け皿部分１２
ｂ，１２ｃとカップ１２の側壁部分１２ａとに分解する
ことができる構成となっている。そのため、洗浄の際に
はカップ１２を各部に分解することにより、各部材ごと
に洗浄することができる。
【００１７】
【２．実施の形態の装置の動作および特徴】以下におい
て前項の説明のように構成されたスピンコータ１の動作
および特徴について説明していく。
て前項の説明のように構成されたスピンコータ１の動作
および特徴について説明していく。
【００１８】図１において、まず、スピンチャック１３
の上面に水平に吸引保持された基板１０表面に図示しな
いノズルからレジスト液が供給される。続いて、回転駆
動部１５を作動させることで回転軸１４を回転させ、そ
の回転軸１４の他端に固着されたスピンチャック１３を
回転させることによって基板１０が回転する。そして、
それによって基板１０上に供給されていたレジスト液が
遠心力により拡散流動され、膜厚の均一なレジスト膜が
形成される。
の上面に水平に吸引保持された基板１０表面に図示しな
いノズルからレジスト液が供給される。続いて、回転駆
動部１５を作動させることで回転軸１４を回転させ、そ
の回転軸１４の他端に固着されたスピンチャック１３を
回転させることによって基板１０が回転する。そして、
それによって基板１０上に供給されていたレジスト液が
遠心力により拡散流動され、膜厚の均一なレジスト膜が
形成される。
【００１９】そして、このような基板１０の回転は高速
であるため、この回転の際に余剰に供給されていたレジ
スト液は遠心力によって周囲に飛散される。この飛散さ
れたレジスト液の多くはカップ１２の側壁部分１２ａの
内面に捕らえられ、側壁部分１２ａの内面を伝わって受
け皿部分１２ｂに至り、一カ所に集められて最終的に配
管ＰＡを通して装置外に排出される。また、カップ１２
の側壁部分１２ａの上部に設けられた開口部１２ｈを通
じてカップ１２の斜め上方に矢符ＭＡおよびＭＢのよう
に飛散されたレジスト液のミストは、飛散防止部材１１
の内面に捕らえらるので、レジスト液のミストが周辺の
他の機構部にまで至って汚染することがない。さらに、
飛散防止部材１１に飛散してきたミストの一部は飛散防
止部材１１により跳ね返され、基板１０側に戻ろうとす
るがこのスピンコータ１では飛散防止部材１１とカップ
１２上面の開口部１２ｈの周縁部とは距離ＤＯだけ離れ
ているため、跳ね返されたレジスト液のミストは再び開
口部１２ｈを通過して基板１０上に至ることがなく、基
板１０表面の汚染を効果的に防止することができる。
であるため、この回転の際に余剰に供給されていたレジ
スト液は遠心力によって周囲に飛散される。この飛散さ
れたレジスト液の多くはカップ１２の側壁部分１２ａの
内面に捕らえられ、側壁部分１２ａの内面を伝わって受
け皿部分１２ｂに至り、一カ所に集められて最終的に配
管ＰＡを通して装置外に排出される。また、カップ１２
の側壁部分１２ａの上部に設けられた開口部１２ｈを通
じてカップ１２の斜め上方に矢符ＭＡおよびＭＢのよう
に飛散されたレジスト液のミストは、飛散防止部材１１
の内面に捕らえらるので、レジスト液のミストが周辺の
他の機構部にまで至って汚染することがない。さらに、
飛散防止部材１１に飛散してきたミストの一部は飛散防
止部材１１により跳ね返され、基板１０側に戻ろうとす
るがこのスピンコータ１では飛散防止部材１１とカップ
１２上面の開口部１２ｈの周縁部とは距離ＤＯだけ離れ
ているため、跳ね返されたレジスト液のミストは再び開
口部１２ｈを通過して基板１０上に至ることがなく、基
板１０表面の汚染を効果的に防止することができる。
【００２０】さらに、上述したように、基板１０の回転
によってレジスト液のミストを含んだ気流が生じ、その
一部が矢符ＥＡおよびＥＢに示すように開口部１２ｈを
通過し、飛散防止部材１１とカップ１２ａの表面で構成
される空間に流出し、その後ダウンフローＤＦの影響を
受けて逆流し、再び下降する。ところがこの実施の形態
のスピンコータ１では飛散防止部材１１の下部に４つの
通気孔１１ｈが設けられているため、これらの通気孔１
１ｈを通じて上記の流出した気流がスピンコータ１の側
方に放出されるため、流出した気流の逆流によってレジ
スト液の固化したパーティクルが基板１０の表面に運ば
れるのを防止することができ、基板１０の汚染を効果的
に阻止することができる。このとき気流ＥＡ、ＥＢ中に
含まれるレジストミストは微量であり、そのほとんどが
スピンコータ１の側方に放出される経路途中でカップ１
２の表面に衝突、付着するのでスピンコータ１の周辺を
汚すことはない。
によってレジスト液のミストを含んだ気流が生じ、その
一部が矢符ＥＡおよびＥＢに示すように開口部１２ｈを
通過し、飛散防止部材１１とカップ１２ａの表面で構成
される空間に流出し、その後ダウンフローＤＦの影響を
受けて逆流し、再び下降する。ところがこの実施の形態
のスピンコータ１では飛散防止部材１１の下部に４つの
通気孔１１ｈが設けられているため、これらの通気孔１
１ｈを通じて上記の流出した気流がスピンコータ１の側
方に放出されるため、流出した気流の逆流によってレジ
スト液の固化したパーティクルが基板１０の表面に運ば
れるのを防止することができ、基板１０の汚染を効果的
に阻止することができる。このとき気流ＥＡ、ＥＢ中に
含まれるレジストミストは微量であり、そのほとんどが
スピンコータ１の側方に放出される経路途中でカップ１
２の表面に衝突、付着するのでスピンコータ１の周辺を
汚すことはない。
【００２１】以上のように、この実施の形態のスピンコ
ータ１では周辺の他の機構部を汚すことがなく、さらに
基板１０表面をレジスト液のミストや、パーティクルで
汚染することがないという効果を有している。
ータ１では周辺の他の機構部を汚すことがなく、さらに
基板１０表面をレジスト液のミストや、パーティクルで
汚染することがないという効果を有している。
【００２２】
【３．変形例】この実施の形態の回転式基板処理装置
（スピンコータ１）では飛散防止部材１１とカップ１２
の受け皿部分１２ｂ，１２ｃとカップ１２の側壁部分１
２ａとの４つの部分に分解することができる構成とした
が、図３に示すように飛散防止部材１１とカップ１２の
受け皿部分１２ｂとを一体化させることも可能であり、
さらにカップ１２の側壁部分１２ａと受け皿部分１２ｂ
も飛散防止部材１１とともに一体化してしまうことも可
能である。
（スピンコータ１）では飛散防止部材１１とカップ１２
の受け皿部分１２ｂ，１２ｃとカップ１２の側壁部分１
２ａとの４つの部分に分解することができる構成とした
が、図３に示すように飛散防止部材１１とカップ１２の
受け皿部分１２ｂとを一体化させることも可能であり、
さらにカップ１２の側壁部分１２ａと受け皿部分１２ｂ
も飛散防止部材１１とともに一体化してしまうことも可
能である。
【００２３】また、この実施の形態の回転式基板処理装
置ではカップ１２と飛散防止部材１１とを一体化させて
切り欠き部１１ｈを通気孔として機能させているが、図
４に示すように、切り欠き部１１ｈの内側にミスト捕集
部材１１ｒを設けることもできる。このミスト捕集部材
１１ｒは図示しない支持部材によって支持されている。
また、このミスト捕集部材１１ｒは４つの切り欠き部１
１ｈのすべてに設けられている。このような構成にする
ことにより、レジスト液のミストを含んだ気流はミスト
捕集部材１１ｒ間を通過し、その通過途中で気流に含ま
れるレジスト液のミストの大半をミスト捕集部材１１ｒ
に衝突させ、捕集することができ、カップ１２周辺の他
の機構部に対するレジスト液のミストによる汚染をさら
に抑制することができる。
置ではカップ１２と飛散防止部材１１とを一体化させて
切り欠き部１１ｈを通気孔として機能させているが、図
４に示すように、切り欠き部１１ｈの内側にミスト捕集
部材１１ｒを設けることもできる。このミスト捕集部材
１１ｒは図示しない支持部材によって支持されている。
また、このミスト捕集部材１１ｒは４つの切り欠き部１
１ｈのすべてに設けられている。このような構成にする
ことにより、レジスト液のミストを含んだ気流はミスト
捕集部材１１ｒ間を通過し、その通過途中で気流に含ま
れるレジスト液のミストの大半をミスト捕集部材１１ｒ
に衝突させ、捕集することができ、カップ１２周辺の他
の機構部に対するレジスト液のミストによる汚染をさら
に抑制することができる。
【００２４】また、この実施の形態の回転式基板処理装
置ではレジスト液の基板表面への塗布を対象としている
が、本発明の回転式基板処理装置はそれに限定されるも
のではなく、現像液やエッチング液等を含む処理液一般
を基板表面に供給して所定の基板処理するものを対象と
している。
置ではレジスト液の基板表面への塗布を対象としている
が、本発明の回転式基板処理装置はそれに限定されるも
のではなく、現像液やエッチング液等を含む処理液一般
を基板表面に供給して所定の基板処理するものを対象と
している。
【００２５】また、この実施の形態の回転式基板処理装
置では飛散防止部材１１を円筒状としたが本発明はそれ
に限られるものではなく、たとえば、上部を円錐台等の
形状にしたものであってもよい。
置では飛散防止部材１１を円筒状としたが本発明はそれ
に限られるものではなく、たとえば、上部を円錐台等の
形状にしたものであってもよい。
【００２６】さらに、この実施の形態の回転式基板処理
装置では飛散防止部材１１の下部の四方に切り欠き部１
１ｈを設けたが、切り欠き部１１ｈの数は４つに限定さ
れるものではなく、たとえば三方に設ける等の構成でも
よい。
装置では飛散防止部材１１の下部の四方に切り欠き部１
１ｈを設けたが、切り欠き部１１ｈの数は４つに限定さ
れるものではなく、たとえば三方に設ける等の構成でも
よい。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１ないし請
求項３の発明ではカップの外周のほぼ鉛直上方に飛散防
止手段を設けることにより、処理液のミストがカップ外
に至ることがないためカップ周辺の汚染を防止すること
ができる。また、飛散防止手段とカップの開口部との間
に十分な距離があるため飛散防止手段によって跳ね返っ
た処理液のミストが基板に戻るのを防いで、その表面へ
の再付着を防止している。
求項３の発明ではカップの外周のほぼ鉛直上方に飛散防
止手段を設けることにより、処理液のミストがカップ外
に至ることがないためカップ周辺の汚染を防止すること
ができる。また、飛散防止手段とカップの開口部との間
に十分な距離があるため飛散防止手段によって跳ね返っ
た処理液のミストが基板に戻るのを防いで、その表面へ
の再付着を防止している。
【００２８】さらに、飛散防止手段に設けられた通気孔
から、あふれ出したレジストミストを含む気流や、滞留
する気流をカップ外に放出できるので、同じく基板表面
への再付着を防止できる。
から、あふれ出したレジストミストを含む気流や、滞留
する気流をカップ外に放出できるので、同じく基板表面
への再付着を防止できる。
【００２９】また、請求項２の発明によれば、通気孔に
ミスト捕集部材を設けたので、ミストとを含んだ気流が
カップ外に流出するミストを効果的に防止することで、
外部雰囲気の汚染を防止することができる。
ミスト捕集部材を設けたので、ミストとを含んだ気流が
カップ外に流出するミストを効果的に防止することで、
外部雰囲気の汚染を防止することができる。
【図１】本発明にかかる回転式基板処理装置の一実施形
態を示す断面図である。
態を示す断面図である。
【図２】カップと飛散防止部材とを示す分解斜視図であ
る。
る。
【図３】本発明にかかる回転式基板処理装置の変形例の
部分斜視図である。
部分斜視図である。
【図４】本発明にかかる回転式基板処理装置のさらに別
の変形例の部分拡大図である。
の変形例の部分拡大図である。
【図５】従来の回転式基板処理装置を示す図である。
１ 回転式基板処理装置
１０ 基板
１１ 飛散防止部材
１１ｈ 切り欠き部
１１ｒ ミスト捕集部材
１２ カップ
１２ａ 側壁部分
１２ｂ 受け皿部分
１２ｃ 受け皿部分
１２ｈ 開口部
１３ スピンチャック
１４ 回転軸
１５ 回転駆動部
ＤＯ カップの開口部と飛散防止部材との間の距離
ＯＲ 外周部分
ＰＡ，ＰＢ，ＰＣ 配管
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 奥田 誠一郎
京都市伏見区羽束師古川町322番地 大
日本スクリーン製造株式会社 洛西事業
所内
(56)参考文献 特開 昭63−233529（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−49615（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−132211（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−183208（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−176120（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−91926（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−287123（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−174848（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−49072（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−139652（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/027
G03F 7/16 502
H01L 21/304
Claims (3)
- 【請求項１】 基板を回転させてその表面に処理液を供
給することにより当該基板に所定の処理を施す回転式基
板処理装置において、 上面の一部に開口部を備えるとともに排気配管が取り付
けられ、基板の回転に伴って基板表面から振り切られる
処理液を受けるカップと、 前記カップの外周のほぼ鉛直上方に配置され、前記開口
部から前記カップの外周側に飛散する処理液を受ける飛
散防止手段と、前記飛散防止手段に設けられた通気孔と、 を備え、前記飛散防止手段と前記カップとの間の空間は前記通気
孔を介して前記回転式基板処理装置の外部側方の空間と
通じている ことを特徴とする回転式基板処理装置。 - 【請求項２】 請求項１における前記通気孔にミスト捕
集部材を設けたことを特徴とする回転式基板処理装置。 - 【請求項３】 基板を回転させてその表面に処理液を供
給することにより当該基板に所定の処理を施す回転式基
板処理装置において、 上面の一部に開口部を備え、基板の回転に伴って基板表
面から振り切られる処理液を受けるカップと、 前記カップの外周のほぼ鉛直上方に配置され、前記開口
部から前記カップの外周側に飛散する処理液を受ける飛
散防止手段と、 を備え、 前記飛散防止手段に通気孔を設け、前記通気孔にミスト
捕集部材を設けたことを特徴とする回転式基板処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30018795A JP3408904B2 (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 回転式基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30018795A JP3408904B2 (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 回転式基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09148218A JPH09148218A (ja) | 1997-06-06 |
| JP3408904B2 true JP3408904B2 (ja) | 2003-05-19 |
Family
ID=17881786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30018795A Expired - Lifetime JP3408904B2 (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 回転式基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3408904B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180028372A (ko) * | 2016-09-08 | 2018-03-16 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4180304B2 (ja) * | 2002-05-28 | 2008-11-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
| KR100594119B1 (ko) * | 2004-06-29 | 2006-06-28 | 삼성전자주식회사 | 기판 표면 처리 장치 |
| KR100757846B1 (ko) * | 2006-03-29 | 2007-09-11 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
| JP6077769B2 (ja) * | 2011-09-02 | 2017-02-08 | 東京応化工業株式会社 | 基板処理装置 |
-
1995
- 1995-11-17 JP JP30018795A patent/JP3408904B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180028372A (ko) * | 2016-09-08 | 2018-03-16 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 |
| KR101962542B1 (ko) | 2016-09-08 | 2019-07-18 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09148218A (ja) | 1997-06-06 |
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