CN203561823U - 一种涂胶机室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种涂胶机室，包括胶杯、涂胶机台，所述涂胶机台包括晶片和吸盘，晶片设置于吸盘上，所述胶杯为圆台状，其横截面为T形，所述吸盘的位置与胶杯内侧顶端的间距为0.6―1.5cm，晶片边缘与胶杯侧壁的最短距离为2―4cm，在整个涂布过程中，使用了新型的胶杯外壳装置，相比原来的胶杯，外壳大小，高度，及斜面的改良，彻底的解决了第五步中甩出的光刻胶反溅回晶片表面造成缺陷，提升了涂布光刻胶这一步工艺中的良率及降低返工率。
Description
技术领域
本实用新型属于LED外延衬底图形制造领域，特别是涉及一种涂胶机室。
背景技术
目前LED外延衬底图形制造最重要的一环为光刻工艺，光刻工艺用以定义图形，而光刻工艺的步骤为涂胶，曝光，显影；其中涂胶的质量决定了整个光刻工艺的良率及整条光刻工艺线的返工率。涂胶工艺是由涂胶机室以喷头喷洒涂布光刻胶配合高转速马达旋转晶片而完成,而马达在高转速下离心力会造成光刻胶的溅射，由于机台涂胶室顶部外壳设计不良或物理尺寸的限制易导致溅射的光刻胶回溅至晶片而造成大量的涂胶缺陷导致良率低或返工率增加。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种涂胶机室，以解决现有存在的光刻胶回溅造成的严重缺陷问题。
本实用新型的技术方案如下：
一种涂胶机室包括胶杯、涂胶机台，所述涂胶机台包括晶片和吸盘，晶片设置于吸盘上，胶杯为圆台状，其横截面为T形。
上述吸盘的位置与胶杯内侧顶端的间距为0.6―1.5cm，晶片边缘与胶杯侧壁的最短距离为2―4cm。
上述胶杯内侧壁的斜面角度为30-60度。
上述胶杯内侧壁的斜面角度为45度。
上述晶片与胶杯内侧顶端的间距为1cm。
上述晶片边缘与胶杯侧壁的最短距离为3cm。
本实用新型的优点：
在整个涂布过程中，使用了新型的胶杯外壳装置，相比原来的胶杯，外壳大小，高度，及斜面的改良，彻底的解决了第五步中甩出的光刻胶反溅回晶片表面造成缺陷，提升了涂布光刻胶这一步工艺中的良率及降低返工率。
附图说明
图1为本实用新型胶杯结构以及晶片边缘与胶杯内侧壁的距离示意图；
图2至图6为涂胶流程图；
其中：1—晶片；2—胶杯；3—晶片边缘到胶杯边缘距离；4—吸盘；5—光刻胶管；6—转子；7—真空；8—光刻胶回收；9—去边液。
具体实施方式
如图1所示，一种涂胶机室，包括胶杯2、晶片1，胶杯2内侧壁为斜面，其主要目的是光刻胶在高速甩到外壳内壁上时，由于外壳内壁是斜面，胶在甩开时会发生和内壁的碰撞反射而向下运动，不会溅在晶片1上；晶片1与胶杯2内侧顶端的间距为0.6―1.5cm，本实施例选择晶片1与胶杯2内侧顶端的间距为1cm，晶片边缘与胶杯侧壁的最短距离为2―4cm，本实施例晶片1边缘与胶杯2侧壁的距离为3cm，其主要目的在于增加涂胶室顶部与晶片1或蓝宝石制造过程时的距离，在高速旋转的过程不会发生回溅的现象；胶杯2侧壁斜面角度为45度，胶在甩开时会发生和内壁的碰撞反射而向下运动，不会溅在晶片1上。
如图2至6所示，可以非常清楚直观的看出LED图形化制作过程中黄光工艺中非常重要的一步涂胶工艺的整个过程，涂胶工艺质量尤为重要，因为是黄光工艺的第一步，对提升黄光工艺的良率起着决定性的作用。
下面就对这个过程进行一一说明。
第一步：吸盘4高速旋转起来，同时胶嘴开始滴胶；
第二步：吸盘4匀速旋转，晶片1上的光刻胶慢慢涂布整个晶片1；
第三步：吸盘4继续旋转,使晶片1表面涂布上一层厚度均匀的光刻胶；
第四步:胶杯2底部晶片1边缘去边液阀打开,进行去边；
第五步:高速旋转甩干晶片1。
在整个涂布过程中，使用了新型的胶杯2外壳装置，相比原来的胶杯，外壳大小，高度，及斜面的改良，彻底的解决了第五步中甩出的光刻胶反溅回晶片表面造成缺陷，提升了涂布光刻胶这一步工艺中的良率。
本实用新型与现有技术相比，可完全解决涂布所造成的回溅缺陷，有效提升在线的良率及降低返工率。
Claims (6)
1.一种涂胶机室，包括胶杯、涂胶机台，所述涂胶机台包括晶片和吸盘，晶片设置于吸盘上，其特征在于：所述胶杯为圆台状，其横截面为T形。
2.根据权利要求1所述的涂胶机室，其特征在于：所述吸盘的位置与胶杯内侧顶端的间距为0.6―1.5cm，晶片边缘与胶杯侧壁的最短距离为2―4cm。
3.根据权利要求1或2所述的涂胶机室，其特征在于：所述胶杯内侧壁的斜面角度为30-60度。
4.根据权利要求3所述的涂胶机室，其特征在于：所述胶杯内侧壁的斜面角度为45度。
5.根据权利要求3所述的涂胶机室，其特征在于：所述晶片与胶杯内侧顶端的间距为1cm。
6.根据权利要求3所述的涂胶机室，其特征在于：所述晶片边缘与胶杯侧壁的最短距离为3cm。
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN105319855A (zh) * | 2014-06-25 | 2016-02-10 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 胶头和胶管一体化运动结构 |
| CN107783374A (zh) * | 2017-11-24 | 2018-03-09 | 西安立芯光电科技有限公司 | 一种控制光刻胶溅射的涂胶机系统 |
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2013
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|---|---|---|---|---|
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| CN105319855B (zh) * | 2014-06-25 | 2020-02-07 | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 | 胶头和胶管一体化运动结构 |
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