CN203437361U

CN203437361U - 涂胶显影机上盖清洗装置

Info

Publication number: CN203437361U
Application number: CN201320510137.2U
Authority: CN
Inventors: 顾烨; 木建秀
Original assignee: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp
Current assignee: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp
Priority date: 2013-08-20
Filing date: 2013-08-20
Publication date: 2014-02-19
Anticipated expiration: 2023-08-20

Abstract

本实用新型提供一种涂胶显影机上盖清洗装置，其包括底板、清洗盘、清洗盘夹具和若干下部冲洗喷嘴，所述涂胶显影机上盖置于所述底板上，所述涂胶显影机上盖清洗装置还包括上部冲洗喷嘴。本实用新型提供的涂胶显影机上盖清洗装置在现有技术的基础上增加了上部冲洗喷嘴，上部冲洗喷嘴能够从清洗盘的上方将清洗溶剂喷入清洗盘中，清洗溶剂通过清洗盘导流后，从清洗盘周侧的上段喷出，以清洗清洗盘上方的粘附于涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体，从而避免了未清洗干净的涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体落入到晶圆上的风险，同时减少了清洗所需的时间，增加了晶圆的生产质量和效率。

Description

涂胶显影机上盖清洗装置

技术领域

本实用新型涉及一种半导体装置，尤其涉及一种涂胶显影机上盖清洗装置。

背景技术

在涂胶显影机（track）对晶圆上光阻的过程中，需要将涂胶显影机上盖置于晶圆的周围，以阻挡从晶圆上溅出的光阻外泄。正因如此，涂胶显影机上盖每隔一段时间便需要进行清洗，以保证粘附于其上的光阻或其他颗粒晶体不会在晶圆上光阻时落到晶圆上，而影响晶圆的质量和生产效率。如图1所示，现有的涂胶显影机上盖清洗装置一般包括底板1’、清洗盘2’、清洗盘夹具3’和若干下部冲洗喷嘴4’，所述清洗盘夹具3’和若干下部冲洗喷嘴4’均设置于所述底板1’上，所述清洗盘夹具3’位于所述底板1’的中心，所述若干下部冲洗喷嘴4’等间距环设于所述清洗盘夹具3’四周，所述清洗盘2’设置于所述清洗盘夹具3’上，所述涂胶显影机上盖7置于所述底板1’上，所述清洗盘夹具3’位于所述清洗盘2’及所述涂胶显影机上盖7的中心。在清洗时，下部冲洗喷嘴喷4’出的清洗溶剂5’经所述清洗盘2’导流，从清洗盘2’周侧的下段喷出，从而起到清洗涂胶显影机上盖7的内壁的作用。但这种涂胶显影机上盖清洗装置在清洗涂胶显影机上盖7时，从清洗盘2’周侧喷出的清洗溶剂5’喷不到位于清洗盘2’上方的粘附于涂胶显影机上盖7内壁上的光阻或其他颗粒晶体6，这致使其不能完全将涂胶显影机上盖7清洗干净，依然会有涂胶显影机上盖7内壁上的光阻或其他颗粒晶体6落入到晶圆上的风险。

实用新型内容

本实用新型提供一种涂胶显影机上盖清洗装置，以克服不能将涂胶显影机上盖清洗干净的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种涂胶显影机上盖清洗装置，其包括底板、清洗盘、清洗盘夹具和若干下部冲洗喷嘴，所述清洗盘夹具和若干下部冲洗喷嘴均设置于所述底板上，所述清洗盘夹具位于所述底板的中心，所述若干下部冲洗喷嘴等间距环设于所述清洗盘夹具四周，所述清洗盘设置于所述清洗盘夹具上，所述涂胶显影机上盖置于所述底板上，所述清洗盘夹具位于所述清洗盘及所述涂胶显影机上盖的中心，所述涂胶显影机上盖清洗装置还包括上部冲洗喷嘴，所述上部冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的上方。

进一步的，所述清洗盘包括中间导流板、下部环形板和下部环形连接块，所述下部环形板位于所述中间导流板的下方，所述中间导流板和下部环形板通过所述下部环形连接块连接，所述下部环形连接块沿所述中间导流板的外沿设置，所述下部环形连接块的侧面等间距地开有若干下部连接块穿孔。

进一步的，所述下部连接块穿孔的数量为8个。

进一步的，所述清洗盘还包括上部环形板和上部环形连接块，所述上部环形板位于所述中间导流板的上方，所述中间导流板和上部环形板通过所述上部环形连接块连接，所述上部环形连接块沿所述中间导流板的外沿设置，所述上部环形连接块的侧面等间距地开有若干上部连接块穿孔。

进一步的，所述上部连接块穿孔的数量为8个。

进一步的，每个所述上部连接块穿孔分别与对应的所述下部连接块穿孔位于同一竖直平面内。

进一步的，所述清洗盘还包括夹块，所述夹块设置于所述中间导流板下底面的中心，所述清洗盘夹具与所述夹块连接。

进一步的，所述清洗盘夹具为真空圆形吸盘。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型提供的涂胶显影机上盖清洗装置在现有技术的基础上增加了上部冲洗喷嘴，上部冲洗喷嘴能够从清洗盘的上方将清洗溶剂喷入清洗盘中，清洗溶剂通过清洗盘导流后，从清洗盘周侧的上段喷出，以清洗清洗盘上方的粘附于涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体，从而避免了未清洗干净的涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体落入到晶圆上的风险，同时减少了清洗所需的时间，增加了晶圆的生产质量和效率。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步说明：

图1为现有技术中涂胶显影机上盖清洗装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的涂胶显影机上盖清洗装置的结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的涂胶显影机上盖清洗装置中清洗盘的主视图；

图4为本实用新型实施例提供的涂胶显影机上盖清洗装置中清洗盘的俯视图。

在图1至图4中，

1’、1：底板；2’、2：清洗盘；21：中间导流板；22：下部环形板；23：下部环形连接块；24：上部环形板；25：上部环形连接块；26：下部连接块穿孔；27：上部连接块穿孔；28：夹块；3’、3：清洗盘夹具；4’、4：下部冲洗喷嘴；5’、5：清洗溶剂；6：光阻或其他颗粒晶体；7：涂胶显影机上盖；8：上部冲洗喷嘴。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的涂胶显影机上盖清洗装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

本实用新型的核心思想在于，提供一种涂胶显影机上盖清洗装置，其包括底板、清洗盘、清洗盘夹具和若干下部冲洗喷嘴，所述清洗盘夹具和若干下部冲洗喷嘴均设置于所述底板上，所述清洗盘夹具位于所述底板的中心，所述若干下部冲洗喷嘴等间距环设于所述清洗盘夹具四周，所述清洗盘设置于所述清洗盘夹具上，所述涂胶显影机上盖置于所述底板上，所述清洗盘夹具位于所述清洗盘及所述涂胶显影机上盖的中心，所述涂胶显影机上盖清洗装置还包括上部冲洗喷嘴，所述上部冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的上方。本实用新型提供的涂胶显影机上盖清洗装置在现有技术的基础上增加了上部冲洗喷嘴，上部冲洗喷嘴能够从清洗盘的上方将清洗溶剂喷入清洗盘中，清洗溶剂通过清洗盘导流后，从清洗盘周侧的上段喷出，以清洗清洗盘上方的粘附于涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体，从而避免了未清洗干净的涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体落入到晶圆上的风险，同时减少了清洗所需的时间，增加了晶圆的生产质量和效率。

请参考图2至图4，图2为本实用新型实施例提供的涂胶显影机上盖清洗装置的结构示意图；图3为本实用新型实施例提供的涂胶显影机上盖清洗装置中清洗盘的主视图；图4为本实用新型实施例提供的涂胶显影机上盖清洗装置中清洗盘的俯视图。

如图2所示，本实用新型实施例提供一种涂胶显影机上盖清洗装置，其包括底板1、清洗盘2、清洗盘夹具3和若干下部冲洗喷嘴4，所述清洗盘夹具3和若干下部冲洗喷嘴4均设置于所述底板1上，所述清洗盘夹具3位于所述底板1的中心，所述若干下部冲洗喷嘴4等间距环设于所述清洗盘夹具3四周，所述清洗盘2设置于所述清洗盘夹具3上，所述涂胶显影机上盖7置于所述底板1上，所述清洗盘夹具3位于所述清洗盘2及所述涂胶显影机上盖7的中心，所述涂胶显影机上盖清洗装置还包括上部冲洗喷嘴8，所述上部冲洗喷嘴8设置于所述清洗盘2的上方。

本实用新型实施例提供的涂胶显影机上盖清洗装置在现有技术的基础上增加了上部冲洗喷嘴8，上部冲洗喷嘴8能够从清洗盘2的上方将清洗溶剂5喷入清洗盘2中，清洗溶剂5通过清洗盘2导流后，从清洗盘2周侧的上段喷出，以清洗清洗盘2上方的粘附于涂胶显影机上盖7内壁上的光阻或其他颗粒晶体6，从而避免了未清洗干净的涂胶显影机上盖7内壁上的光阻或其他颗粒晶体6落入到晶圆上的风险，同时减少了清洗所需的时间，增加了晶圆的生产质量和效率。

进一步的，如图3及图4所示，所述清洗盘2包括中间导流板21、下部环形板22和下部环形连接块23，所述下部环形板22位于所述中间导流板21的下方，所述中间导流板21和下部环形板22通过所述下部环形连接块23连接，所述下部环形连接块23沿所述中间导流板21的外沿设置，所述下部环形连接块23的侧面等间距地开有8个下部连接块穿孔26；所述清洗盘2还包括上部环形板24和上部环形连接块25，所述上部环形板24位于所述中间导流板21的上方，所述中间导流板21和上部环形板24通过所述上部环形连接块25连接，所述上部环形连接块25沿所述中间导流板21的外沿设置，所述上部环形连接块25的侧面等间距地开有8个上部连接块穿孔27；每个所述上部连接块穿孔27分别与对应的所述下部连接块穿孔26位于同一竖直平面内。

在本实施例中，处于同一竖直平面内的对应的所述上、下部连接块穿孔27、26共有8对，如图4所示，图4中0、3、6、9点方向上的4对上、下部连接块穿孔27、26水平设置，0点到3点之间及6点到9点之间的上、下部连接块穿孔27、26呈俯角设置，向下的偏角为15°，3点到6点之间及9点到0点之间的上、下部连接块穿孔27、26呈仰角设置，向上的偏角为15°，通过上述设置上、下部连接块穿孔27、26的设置方法，增大了该涂胶显影机上盖清洗装置纵向的清洗范围，使其能够将涂胶显影机上盖7的内壁进行彻底清洗干净。

该涂胶显影机上盖清洗装置在对涂胶显影机上盖7进行清洗时，先控制下部冲洗喷嘴4向下部环形板22的缺口内喷射清洗溶剂5，清洗溶剂5进入到下部环形连接块23的下部连接块穿孔26内，并从其中喷出，清洗位于清洗盘2下方的粘附于涂胶显影机上盖7内壁上的光阻或其他颗粒晶体6；同时，控制上部冲洗喷嘴8向上部环形板24的缺口内喷射清洗溶剂5，清洗溶剂5进入到上部环形连接块25的上部连接块穿孔27内，并从其中喷出，清洗位于清洗盘2上方和下方的粘附于涂胶显影机上盖7内壁上的光阻或其他颗粒晶体6，最终将整个涂胶显影机上盖7内壁清洗干净。

进一步的，所述清洗盘2还包括夹块28，所述夹块28设置于所述中间导流板21下底面的中心，所述清洗盘夹具3与所述夹块28连接，以对所述清洗盘2起到更牢固的固定作用，使其不会因为上、下部冲洗喷嘴8、4的溶剂喷射压力而产生位移，保证了清洗的质量与效率。

在本实施例中，所述清洗盘夹具3为真空圆形吸盘（chuck），在平时晶圆进行涂胶显影的过程中，晶圆会吸附在该真空圆形吸盘上均匀涂（上光阻），在生产停止时，可将清洗盘2放置于该真空圆形吸盘上，该真空圆形吸盘是可旋转的，并可调节其转速，因此其能够配合清洗溶剂及上、下部连接块穿孔27、26甩出角度和流速，以对涂胶显影机上盖7的内壁进行彻底的清洗。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些改动和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。

Claims

1.一种涂胶显影机上盖清洗装置，包括底板、清洗盘、清洗盘夹具和若干下部冲洗喷嘴，所述清洗盘夹具和若干下部冲洗喷嘴均设置于所述底板上，所述清洗盘夹具位于所述底板的中心，所述若干下部冲洗喷嘴等间距环设于所述清洗盘夹具四周，所述清洗盘设置于所述清洗盘夹具上，所述涂胶显影机上盖置于所述底板上，所述清洗盘夹具位于所述清洗盘及所述涂胶显影机上盖的中心，其特征在于，还包括上部冲洗喷嘴，所述上部冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的上方。

2.根据权利要求1所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述清洗盘包括中间导流板、下部环形板和下部环形连接块，所述下部环形板位于所述中间导流板的下方，所述中间导流板和下部环形板通过所述下部环形连接块连接，所述下部环形连接块沿所述中间导流板的外沿设置，所述下部环形连接块的侧面等间距地开有若干下部连接块穿孔。

3.根据权利要求2所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述下部连接块穿孔的数量为8个。

4.根据权利要求2所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述清洗盘还包括上部环形板和上部环形连接块，所述上部环形板位于所述中间导流板的上方，所述中间导流板和上部环形板通过所述上部环形连接块连接，所述上部环形连接块沿所述中间导流板的外沿设置，所述上部环形连接块的侧面等间距地开有若干上部连接块穿孔。

5.根据权利要求4所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述上部连接块穿孔的数量为8个。

6.根据权利要求5所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，每个所述上部连接块穿孔分别与对应的所述下部连接块穿孔位于同一竖直平面内。

7.根据权利要求2所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述清洗盘还包括夹块，所述夹块设置于所述中间导流板下底面的中心，所述清洗盘夹具与所述夹块连接。

8.根据权利要求1-7任一项所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述清洗盘夹具为真空圆形吸盘。