JP4219799B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置1の内部構造を示す縦断面図である。図2,図3は、それぞれ図1におけるII−II位置、III−III位置から見た水平断面図である。図4は、基板処理装置1に付帯する配管等の構成を示す概念図である。まず、図1〜図4を参照しつつ基板処理装置1の装置構成について以下に説明する。
図6は、基板処理装置1における基板Wの搬送経路を破線で示した図である。図1および図6を参照しつつ、以下に基板処理装置1における処理の手順について説明する。なお、上述したとおり、開閉機構21,31,41,51,61,扉33b,43b,53bは、それぞれ昇降機構35,45,55または搬送機構65が通過する時にのみ開放し、その他の時は閉鎖している。また、不活性ガス供給ノズル36,46,56,66からは常に所定量の不活性ガスが供給されると共に、排気ダクト37a,47a,57a,67aからは常に所定量の排気がされている。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上述の例に限定されるものではない。
また、上述の実施の形態においては、2つの搬送機構70(第1搬送手段),65(第2搬送手段)と3つの昇降機構45(第3搬送手段),35(第4搬送手段),55とによって基板Wを搬送する場合について説明したが、上述の形態と同一の搬送経路に沿って基板Wを搬送させることができれば、上述の形態と異なる搬送形態であってもよい。以下には、基板Wの搬送形態について種々の変形例を説明する。
例えば、図8に示したような2つの搬送機構81(第1搬送手段),82(第2搬送手段)によって基板Wを搬送してもよい。搬送機構81は、他装置との間で基板Wの搬送を行うとともに、薬液処理室2の上方位置及び水洗乾燥処理室3の上方位置の間(図8の実線矢印で示した経路)を移動する。また、搬送機構82は、基板搬入口22、基板搬出口32、及び開口部62を介して、基板搬入口22の上方位置、第1薬液槽44、第2薬液槽54、水洗槽34、及び水洗乾燥処理室3の上方位置の間(図8の破線矢印で示した経路)で基板Wの搬送を行う。搬送機構82の昇降及び横行動作は、図示しないレール等を備えた駆動機構によって実現される。なお、搬送機構81は、上述した搬送機構70と同じように一対の保持板で起立姿勢の基板Wを側方から保持し、搬送機構82は、上述した昇降機構35,45,55と同じように3本の保持棒で起立姿勢の基板Wを下方から保持するため、互いに干渉することなく基板Wの受渡しを行うことができる。
また、図9に示したように2つの搬送機構83(第1搬送手段),84(第2搬送手段)によって基板Wを搬送してもよい。搬送機構83は、他装置との間で基板Wの搬送を行うとともに、基板搬入口22及び基板搬出口32を介して、薬液処理室2、薬液処理室2の上方位置、水洗乾燥処理室3の上方位置、及び水洗乾燥処理室3の間(図9の実線矢印で示した経路)を移動する。また、搬送機構84は、開口部62を介して、第1薬液槽44、第2薬液槽54、及び水洗槽34の間(図9の破線矢印で示した経路)で基板Wの搬送を行う。搬送機構83,84の昇降及び横行動作は、それぞれ図示しないレール等を備えた駆動機構によって実現される。なお、搬送機構83は、上述した搬送機構70と同じように一対の保持板で起立姿勢の基板Wを側方から保持し、搬送機構84は、上述した昇降機構35,45,55と同じように3本の保持棒で起立姿勢の基板Wを下方から保持するため、互いに干渉することなく基板Wの受渡しを行うことができる。
また、図10に示したように2つの搬送機構85(第1搬送手段),86(第2搬送手段)によって基板Wを搬送してもよい。搬送機構85は、他装置との間で基板Wの搬送を行うとともに、基板搬入口22及び基板搬出口32を介して、第1薬液槽44、薬液処理室2の上方位置、水洗乾燥処理室3の上方位置、及び水洗槽34の間(図10の実線矢印で示した経路)を移動する。また、搬送機構86は、開口部62を介して、第1薬液槽44、第2薬液槽54、及び水洗槽34の間(図10の破線矢印で示した経路)で基板Wを搬送する。搬送機構85,86の昇降及び横行動作は、それぞれ図示しないレール等を備えた駆動機構によって実現される。なお、搬送機構85は、上述した搬送機構70と同じように一対の保持板で起立姿勢の基板Wを側方から保持し、搬送機構86は、上述した昇降機構35,45,55と同じように3本の保持棒で起立姿勢の基板Wを下方から保持するため、互いに干渉することなく基板Wの受渡しを行うことができる。
また、図11に示したような5つの搬送機構87(第1搬送手段),88(第2搬送手段),89(第3搬送手段),90(第3搬送手段),91(第4搬送手段)によって基板Wを搬送してもよい。搬送機構87は、他装置との間で基板Wの搬送を行うとともに、基板搬入口22及び基板搬出口32を介して、薬液処理室2、薬液処理室2の上方位置、水洗乾燥処理室3の上方位置、及び水洗乾燥処理室3の間(図11の実線矢印で示した経路)を移動する。また、搬送機構88は、開口部62を介して、薬液処理室2及び水洗乾燥処理室3の間(図11の破線矢印AR8で示した経路)で基板Wを搬送する。また、搬送機構89は、薬液処理室2内において、第1薬液槽44内及び第1薬液槽44外の間(図11の破線矢印AR9で示した経路)で基板Wを搬送する。また、搬送機構90は、薬液処理室2内において、第2薬液槽54内及び第2薬液槽54外の間(図11の破線矢印AR0で示した経路)で基板Wを搬送する。また、搬送機構91は、水洗乾燥処理室3内において、水洗槽34内及び水洗槽34外の間(図11の破線矢印AR1で示した経路)で基板Wを搬送する。搬送機構87の昇降及び横行動作は、それぞれ図示しないレール等を備えた駆動機構によって実現される。なお、搬送機構87,88は、上述した搬送機構70と同じように一対の保持板で起立姿勢の基板Wを側方から保持し、搬送機構89,90,91は、上述した昇降機構35,45,55と同じように3本の保持棒で起立姿勢の基板Wを下方から保持するため、搬送機構87,88と搬送機構89,90,91との間では、互いに干渉することなく基板Wの受渡しを行うことができる。
また、図12に示したような5つの搬送機構92(第1搬送手段),93(第2搬送手段),94(第3搬送手段),95(第3搬送手段),96(第4搬送手段)によって基板Wを搬送してもよい。搬送機構92は、他装置との間で基板Wの搬送を行うとともに、基板搬入口22及び基板搬出口32を介して、第1薬液槽44、薬液処理室2の上方位置、水洗乾燥処理室3の上方位置、及び水洗槽34の間(図12の実線矢印で示した経路)を移動する。また、搬送機構93は、開口部62を介して、薬液処理室2及び水洗乾燥処理室3の間(図12の破線矢印AR3で示した経路)で基板Wを搬送する。また、搬送機構94は、薬液処理室2内において、第1薬液槽44内及び第1薬液槽44外の間(図12の破線矢印AR4で示した経路)で基板Wを搬送する。また、搬送機構95は、薬液処理室2内において、第2薬液槽54内及び第2薬液槽54外の間(図12の破線矢印AR5で示した経路)で基板Wを搬送する。また、搬送機構96は、水洗乾燥処理室3内において、水洗槽34内及び水洗槽34外の間(図12の破線矢印AR6で示した経路)で基板Wを搬送する。搬送機構92の昇降及び横行動作は、それぞれ図示しないレール等を備えた駆動機構によって実現される。なお、搬送機構92,93は、上述した搬送機構70と同じように一対の保持板で起立姿勢の基板Wを側方から保持し、搬送機構94,95,96は、上述した昇降機構35,45,55と同じように3本の保持棒で起立姿勢の基板Wを下方から保持するため、搬送機構92,93と搬送機構94,95,96との間では、互いに干渉することなく基板Wの受渡しを行うことができる。
2 薬液処理室(第1処理室)
3 水洗乾燥処理室(第2処理室)
4 第1薬液処理室
5 第2薬液処理室
6 基板搬送室
9 制御部
21,31,41,51,61 開閉機構
22 基板搬入口
32 基板搬出口
34 水洗槽
35,45,55 昇降機構
36,46,56,66 不活性ガス供給ノズル
37a,47a,57a,67a 排気ダクト
38 有機溶剤供給ノズル
42,52,62 開口部
44 第1薬液槽
54 第2薬液槽
65,70,81〜96 搬送機構
W 基板
Claims (18)
- 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
基板に薬液による薬液処理を行う複数の薬液槽を有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第1処理室と、
基板に純水による純水処理を行う水洗槽を有するとともに、基板に乾燥処理を行う乾燥処理部を前記水洗槽の上方に有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第2処理室と、
前記第1処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第1開口部と、
前記第1開口部を開閉する第1シャッタ部材と、
前記第2処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第2開口部と、
前記第2開口部を開閉する第2シャッタ部材と、
前記第1処理室と前記第2処理室との間に形成され、基板の通過が可能な第3開口部と、
前記第3開口部を開閉する第3シャッタ部材と、
前記第1処理室の上方位置及び前記第2処理室の上方位置の間を移動可能であり、基板の搬送を行う第1搬送手段と、
前記第3開口部を介して前記第1処理室及び前記第2処理室の間で基板の搬送を行う第2搬送手段と、
前記第1開口部を介して前記第1処理室の上方位置及び前記複数の薬液槽の間で基板の搬送を行うとともに、前記第1搬送手段及び前記第2搬送手段との間で基板の受渡しを行う第3搬送手段と、
前記第2開口部を介して前記第2処理室の上方位置及び前記水洗槽の間で基板の搬送を行うとともに、前記第1搬送手段及び前記第2搬送手段との間で基板の受渡しを行う第4搬送手段と、
を備え、
前記第1処理室は、前記複数の薬液槽を含む薬液処理部と、前記第2搬送手段により基板の搬送を行わせる搬送室とを有し、
前記薬液処理部と前記搬送室とは互いの雰囲気が開閉機構により遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記薬液処理部を、前記複数の薬液槽のそれぞれを含む複数の薬液単位処理室に仕切り、前記複数の薬液単位処理室のそれぞれの雰囲気を遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内の雰囲気を排気する排気手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
基板に薬液による薬液処理を行う複数の薬液槽を有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第1処理室と、
基板に純水による純水処理を行う水洗槽を有するとともに、基板に乾燥処理を行う乾燥処理部を前記水洗槽の上方に有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第2処理室と、
前記第1処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第1開口部と、
前記第1開口部を開閉する第1シャッタ部材と、
前記第2処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第2開口部と、
前記第2開口部を開閉する第2シャッタ部材と、
前記第1処理室と前記第2処理室との間に形成され、基板の通過が可能な第3開口部と、
前記第3開口部を開閉する第3シャッタ部材と、
前記第1処理室の上方位置及び前記第2処理室の上方位置の間を移動可能であり、基板の搬送を行う第1搬送手段と、
前記第1開口部、前記第2開口部、及び前記第3開口部を介して、前記第1処理室の上方位置、前記複数の薬液槽、前記水洗槽、及び前記第2処理室の上方位置の間で基板の搬送を行うとともに、前記第1搬送手段との間で基板の受渡しを行う第2搬送手段と、
を備え、
前記第1処理室は、前記複数の薬液槽を含む薬液処理部と、前記第2搬送手段により基板の搬送を行わせる搬送室とを有し、
前記薬液処理部と前記搬送室とは互いの雰囲気が開閉機構により遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4に記載の基板処理装置であって、
前記薬液処理部を、前記複数の薬液槽のそれぞれを含む複数の薬液単位処理室に仕切り、前記複数の薬液単位処理室のそれぞれの雰囲気を遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4または請求項5に記載の基板処理装置であって、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内の雰囲気を排気する排気手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
基板に薬液による薬液処理を行う複数の薬液槽を有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第1処理室と、
基板に純水による純水処理を行う水洗槽を有するとともに、基板に乾燥処理を行う乾燥処理部を前記水洗槽の上方に有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第2処理室と、
前記第1処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第1開口部と、
前記第1開口部を開閉する第1シャッタ部材と、
前記第2処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第2開口部と、
前記第2開口部を開閉する第2シャッタ部材と、
前記第1処理室と前記第2処理室との間に形成され、基板の通過が可能な第3開口部と、
前記第3開口部を開閉する第3シャッタ部材と、
前記第1開口部及び前記第2開口部を介して、前記第1処理室、前記第1処理室の上方位置、前記第2処理室の上方位置、及び前記第2処理室の間を移動可能であり、基板の搬送を行う第1搬送手段と、
前記第3開口部を介して前記複数の薬液槽及び前記水洗槽の間で基板の搬送を行うとともに、前記第1搬送手段との間で基板の受渡しを行う第2搬送手段と、
を備え、
前記第1処理室は、前記複数の薬液槽を含む薬液処理部と、前記第2搬送手段により基板の搬送を行わせる搬送室とを有し、
前記薬液処理部と前記搬送室とは互いの雰囲気が開閉機構により遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7に記載の基板処理装置であって、
前記薬液処理部を、前記複数の薬液槽のそれぞれを含む複数の薬液単位処理室に仕切り、前記複数の薬液単位処理室のそれぞれの雰囲気を遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7または請求項8に記載の基板処理装置であって、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内の雰囲気を排気する排気手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
基板に薬液による薬液処理を行う複数の薬液槽を有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第1処理室と、
基板に純水による純水処理を行う水洗槽を有するとともに、基板に乾燥処理を行う乾燥処理部を前記水洗槽の上方に有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第2処理室と、
前記第1処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第1開口部と、
前記第1開口部を開閉する第1シャッタ部材と、
前記第2処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第2開口部と、
前記第2開口部を開閉する第2シャッタ部材と、
前記第1処理室と前記第2処理室との間に形成され、基板の通過が可能な第3開口部と、
前記第3開口部を開閉する第3シャッタ部材と、
前記第1開口部及び前記第2開口部を介して、前記複数の薬液槽、前記第1処理室の上方位置、前記第2処理室の上方位置、及び前記水洗槽の間を移動可能であり、基板の搬送を行う第1搬送手段と、
前記第3開口部を介して前記複数の薬液槽及び前記水洗槽の間で基板の搬送を行うとともに、前記第1搬送手段との間で基板の受渡しを行う第2搬送手段と、
を備え、
前記第1処理室は、前記複数の薬液槽を含む薬液処理部と、前記第2搬送手段により基板の搬送を行わせる搬送室とを有し、
前記薬液処理部と前記搬送室とは互いの雰囲気が開閉機構により遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項10に記載の基板処理装置であって、
前記薬液処理部を、前記複数の薬液槽のそれぞれを含む複数の薬液単位処理室に仕切り、前記複数の薬液単位処理室のそれぞれの雰囲気を遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項10または請求項11に記載の基板処理装置であって、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内の雰囲気を排気する排気手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
基板に薬液による薬液処理を行う複数の薬液槽を有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第1処理室と、
基板に純水による純水処理を行う水洗槽を有するとともに、基板に乾燥処理を行う乾燥処理部を前記水洗槽の上方に有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第2処理室と、
前記第1処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第1開口部と、
前記第1開口部を開閉する第1シャッタ部材と、
前記第2処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第2開口部と、
前記第2開口部を開閉する第2シャッタ部材と、
前記第1処理室と前記第2処理室との間に形成され、基板の通過が可能な第3開口部と、
前記第3開口部を開閉する第3シャッタ部材と、
前記第1開口部及び前記第2開口部を介して、前記第1処理室、前記第1処理室の上方位置、前記第2処理室の上方位置、及び前記第2処理室の間を移動可能であり、基板の搬送を行う第1搬送手段と、
前記第3開口部を介して前記第1処理室及び前記第2処理室の間で基板の搬送を行う第2搬送手段と、
前記第1処理室内において、前記複数の薬液槽内及び前記複数の薬液槽外の間で基板の搬送を行うとともに、前記第1搬送手段及び第2搬送手段との間で基板の受渡しを行う第3搬送手段と、
前記第2処理室内において、前記水洗槽内及び前記水洗槽外の間で基板の搬送を行うとともに、前記第1搬送手段及び前記第2搬送手段との間で基板の受渡しを行う第4搬送手段と、
を備え、
前記第1処理室は、前記複数の薬液槽を含む薬液処理部と、前記第2搬送手段により基板の搬送を行わせる搬送室とを有し、
前記薬液処理部と前記搬送室とは互いの雰囲気が開閉機構により遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項13に記載の基板処理装置であって、
前記薬液処理部を、前記複数の薬液槽のそれぞれを含む複数の薬液単位処理室に仕切り、前記複数の薬液単位処理室のそれぞれの雰囲気を遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項13または請求項14に記載の基板処理装置であって、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内の雰囲気を排気する排気手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
基板に薬液による薬液処理を行う複数の薬液槽を有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第1処理室と、
基板に純水による純水処理を行う水洗槽を有するとともに、基板に乾燥処理を行う乾燥処理部を前記水洗槽の上方に有し、外部との雰囲気の遮断が可能な第2処理室と、
前記第1処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第1開口部と、
前記第1開口部を開閉する第1シャッタ部材と、
前記第2処理室の上部に形成され、基板の通過が可能な第2開口部と、
前記第2開口部を開閉する第2シャッタ部材と、
前記第1処理室と前記第2処理室との間に形成され、基板の通過が可能な第3開口部と、
前記第3開口部を開閉する第3シャッタ部材と、
前記第1開口部及び前記第2開口部を介して、前記複数の薬液槽、前記第1処理室の上方位置、前記第2処理室の上方位置、及び前記水洗槽の間を移動可能であり、基板の搬送を行う第1搬送手段と、
前記第3開口部を介して前記第1処理室及び前記第2処理室の間で基板の搬送を行う第2搬送手段と、
前記第1処理室内において、前記複数の薬液槽内及び前記複数の薬液槽外の間で基板の搬送を行うとともに、前記第1搬送手段及び前記第2搬送手段との間で基板の受渡しを行う第3搬送手段と、
前記第2処理室内において、前記水洗槽内及び前記水洗槽外の間で基板の搬送を行うとともに、前記第1搬送手段及び前記第2搬送手段との間で基板の受渡しを行う第4搬送手段と、
を備え、
前記第1処理室は、前記複数の薬液槽を含む薬液処理部と、前記第2搬送手段により基板の搬送を行わせる搬送室とを有し、
前記薬液処理部と前記搬送室とは互いの雰囲気が開閉機構により遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項16に記載の基板処理装置であって、
前記薬液処理部を、前記複数の薬液槽のそれぞれを含む複数の薬液単位処理室に仕切り、前記複数の薬液単位処理室のそれぞれの雰囲気を遮断可能であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項16または請求項17に記載の基板処理装置であって、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
前記第1処理室内及び前記第2処理室内の雰囲気を排気する排気手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (3)
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