TWM529937U - 吸附裝置 - Google Patents

Description

吸附裝置

本創作是有關於一種吸附裝置，特別是有關於一種可透過吸嘴來調整面板工件於作業時所產生之翹曲面，使面板工件可平整貼附在平台上，以利製程加工或進行數據量測之吸附裝置。

晶圓（Wafer）是指矽半導體積體電路製作所用的矽晶片，並於其上製作積體電路（integrated circuit, IC），而積體電路之製作過程需要經過數十甚至上百個步驟，如微影、蝕刻、化學沉積等等，而在進行這些製程時，通常會將晶圓置於處理設備之中，與外界做一個隔絕，以提高製程的成功率，並防止製程中所產生的有害物質外露。

以目前習知技術來說，晶圓在處理設備中以待製程處理時，係將晶圓放置在設有複數個槽孔之平台之上，並透過該些槽孔所產生之吸力來吸附固定晶圓，或者晶圓利用真空吸盤貼附於平台，讓晶圓得以進行加工處理之工序或進行晶圓量測，然而，有些製程處理後的晶圓表面翹曲甚至嚴重扭曲，將它放置在平台上並無法與該些槽孔緊密貼合，使得槽孔產生吸力無法将晶圓平整貼附於平台上，如此一來將產生以下缺點：1、當進行量測作業時容易造成數據不準確。2、若要進行加工作業時容易造成晶圓損壞。

有鑑於上述習知技藝之問題，本創作之目的就是在提供一種可透過吸嘴來調整面板工件於作業時所產生之翹曲面，使面板工件可平整貼附在平台上，以利製程加工或數據量測之吸附裝置。

根據本創作之目的，提出一種吸附裝置，其包含：一平台，其頂面係設有複數個貫穿至底面之槽孔；複數個支撐吸嘴，係穿設於平台之槽孔，且支撐吸嘴可活動性地相對平台縱向移動以高於或低於平台之頂面，複數個支撐吸嘴係提供支撐一面板工件；複數個第一調整吸嘴，係穿設於平台之槽孔，第一調整吸嘴可活動性地相對平台縱向移動，以吸附並調整該面板工件；一抽真空模組，係連結該複數個第一調整吸嘴，抽真空模組經控制係執行抽真空作業，以致複數個槽孔產生真空吸力； 一第一驅動件，係連接複數個支撐吸嘴，以驅動支撐吸嘴進行升降。

較佳地，當複數個支撐吸嘴上升高於平台之頂面以支撐面板工件後，第一驅動件係驅動複數個支撐吸嘴下降以移動面板工件至複數個第一調整吸嘴之位置，並透過複數個第一調整吸嘴吸附面板工件，以控制調整面板工件呈平坦狀，且第一驅動件驅動複數個支撐吸嘴下降，以致複數個支撐吸嘴低於平台之頂面，而複數個第一調整吸嘴係接近於平台之頂面。

較佳地，此吸附裝置更包含：一升降件，係設置於平台之一側；一連接件，係連接升降件，且連接件透過升降件可活動性地進行升降位移；複數個磁性柱，係設置於連接件上；一壓環，可活動性地受複數個磁性柱吸附固定；複數個第二調整吸嘴，係設置於平台之頂面，且複數個第二調整吸嘴係相對複數個第一調整吸嘴較靠近於平台之周緣，第二調整吸嘴可活動性地相對平台縱向移動，用以吸附壓環。其中，當複數個第一調整吸嘴吸附面板工件並下降接近於平台之頂面時，連接件係下降以將壓環移動至複數個第二調整吸嘴之位置，以透過複數個第二調整吸嘴吸附壓環，而第二調整吸嘴下降至接近於平台之頂面，進而透過壓環壓制面板工件之周緣。

較佳地，此吸附裝置更包含複數個定位柱，係設置於連接件上，且壓環更設有複數個穿孔，各穿孔係分別提供各定位柱對應穿入。

較佳地，此吸附裝置更包含一電控件，係連接抽真空模組、第一驅動件，電控件係傳送控制命令至抽真空模組、第一驅動件，以致分別執行其對應之功能作業。

較佳地，複數個第一調整吸嘴及複數個第二調整吸嘴分別可呈環狀排列設置，以分別形成有至少一環列。

較佳地，第一調整吸嘴及第二調整吸嘴可為可撓性材料所製，以致第一調整吸嘴及第二調整吸嘴分別可活動性地調整吸附面之方向。

較佳地，第一調整吸嘴及第二調整吸嘴舉例來說可為矽膠管。

較佳地，壓環舉例來說可由金屬材料所製。

較佳地，平台設有至少一開槽，而該開槽可為至少一連續之環槽，或該開槽可為至少一不連續之環槽。

為利 貴審查員瞭解本創作之技術特徵、內容與優點及其所能達成之功效，茲將本創作配合附圖，並以實施例之表達形式詳細說明如下，而其中所使用之圖式，其主旨僅為示意及輔助說明書之用，未必為本創作實施後之真實比例與精準配置，故不應就所附之圖式的比例與配置關係解讀、侷限本創作於實際實施上的權利範圍，合先敘明。

請參閱第1圖，其係為本創作之吸附裝置之示意圖。本創作之吸附裝置可透過吸嘴來吸附固定面板工件，並透過吸嘴來調整面板工件之翹曲面使其得以呈平坦化之方式放置在平台之上，該面板工件係為呈薄平之片體，可為晶圓或玻璃面板，當然不限於此。本創作第一實施例，此吸附裝置主要係包含一平台1、複數個支撐吸嘴2、複數個第一調整吸嘴3、一抽真空模組4及一第一驅動件5。平台1的頂面係設有複數個貫穿至底面之槽孔11，而抽真空模組4係設置於平台1之底面下方並對應該些槽孔11，當抽真空模組4經控制以執行抽真空作業時，可使得複數個槽孔11產生真空吸力，進而可透過該真空吸力來吸附面板工件。複數個支撐吸嘴2係設置於平台1，且該些支撐吸嘴2經由第一驅動件5之驅動可進行升降，以可活動性地相對平台1縱向移動以高於或低於平台1之頂面，進而可透過複數個支撐吸嘴2來支撐面板工件。複數個第一調整吸嘴3係設置於平台1之頂面，第一調整吸嘴3可活動性地相對平台1縱向移動，可吸附面板工件，較佳地，該些第一調整吸嘴3係呈環狀排列設置，以分別形成有至少一環列，且一個第一調整吸嘴3可對應設置在平台1之一個槽孔11中，但不以此為限。

進一步，如第6c圖所示，該平台1設有至少一開槽12，而該開槽12可為至少一連續之環槽，或該開槽12可為至少一不連續之環槽，而抽真空模組4係設置於對應該開槽12。當抽真空模組4經控制以執行時，可使得複數個開槽12產生真空吸力，進而可透過該真空吸力來吸附面板工件。

更進一步地，此吸附裝置還可包含有一升降件7、一連接件8、複數個磁性柱9、一壓環10、複數個第二調整吸嘴20及一電控件50。升降件7係設置於平台1之一側，連接件8係連接升降件7，且連接件8透過升降件7可活動性地進行升降位移。複數個磁性柱9係設置於連接件8上，該些磁性柱9可用以活動性地吸附固定壓環10。複數個第二調整吸嘴20係設置於平台1之頂面，且複數個第二調整吸嘴20係相對複數個第一調整吸嘴3較靠近於平台1之周緣，較佳地，該些第二調整吸嘴20係呈環狀排列設置，以分別形成有至少一環列，且一個第二調整吸嘴20可對應設置在平台1之一個槽孔11中，但不以此為限；第二調整吸嘴20可活動性地相對平台1縱向移動，進而可透過該些第二調整吸嘴20來吸附壓環10，並透過壓環10來壓制面板工件之周緣。電控件50係連接抽真空模組4、第一驅動件5，電控件50係傳送控制命令至抽真空模組4、第一驅動件5，以致執行其對應之功能作業。或者，再進一步地，此吸附裝置還可更包含複數個定位柱40，係設置於連接件8上，且壓環10更設有複數個穿孔101，各穿孔101係分別提供各定位柱40對應穿入，以便壓環10可透過該些穿孔101與該些定位柱40來進行快速定位以吸附至磁性柱9上。

在上述中，第一調整吸嘴3及第二調整吸嘴20可為可撓性材料所製，舉例來說，第一調整吸嘴3及第二調整吸嘴20可為矽膠管，以致第一調整吸嘴3及第二調整吸嘴20分別可活動性地調整吸附面之方向，藉此來達到面板工件曲面調整之目的，以及藉由第一調整吸嘴3為可撓性之矽膠管，當該些第一調整吸嘴3透過抽真空作業時，第一調整吸嘴3即時收縮而下降，以可活動性地相對平台1縱向移動，進而可透過該第一調整吸嘴3吸附並調整面板工件，以使面板工件可呈平坦之狀態。另外，壓環10舉例來說可由金屬材料所製，但不以此為限。

第一實施例據以實際實施時，此吸附裝置在作動以進行面板工件200吸附及曲面調整時，抽真空模組4係啟動以使平台1之槽孔11產生真空吸力，並可先經由第一驅動件5來驅動複數個支撐吸嘴2上升以高於平台1之頂面，進而透過該些支撐吸嘴2來支撐面板工件200，如第2圖及第3圖所示。接著，當複數個支撐吸嘴2支撐面板工件200後，第一驅動件5係驅動複數個支撐吸嘴2下降以移動面板工件200至複數個第一調整吸嘴3之位置，以透過複數個第一調整吸嘴3來吸附面板工件200，如第4a圖及第4b圖所示，其中，在第一驅動件5之驅動下該些支撐吸嘴2可持續性地下降。由於支撐吸嘴2在支撐面板工件200並下降的過程中，該些第一調整吸嘴3藉由可撓性之矽膠管結構及真空吸力，該些第一調整吸嘴3可變更吸附面之方向來配合面板工件200之翹曲以吸附住，以使面板工件200得以呈平坦狀，接續，複數個支撐吸嘴2持續下降，同時複數個第一調整吸嘴3係以收縮下降，以致複數個支撐吸嘴2低於平台1之頂面，而複數個第一調整吸嘴3係接近於平台1之頂面，讓面板工件200得以平整貼附在平台1之上，如第5a圖及第5b圖所示，再者，並藉由抽真空作業之同時，使開槽12產生真空吸力，有助於克服呈不規則翹曲之面板工件200而能達到更平整貼附在平台1之效益。

此外，面板工件200若為呈現嚴重扭曲者，透過上述結構及步驟使面板工件200貼附於平台1上，但面板工件200仍有部分周缘翹曲，可再藉由壓環10以壓制面板工件200周缘，使面板工件200整個面得以完全平貼於平台1。據以，當複數個第一調整吸嘴3吸附面板工件200並下降接近於平台1之頂面時，連接件8係下降以將壓環10移動至複數個第二調整吸嘴20之位置，以透過複數個第二調整吸嘴20吸附壓環10，並且，複數個第二調整吸嘴20下降至接近於平台1之頂面，進而可利用壓環10來壓制面板工件200之周緣，以使面板工件200可達到更佳之平整化，如第6a圖至第6c圖所示。最後，連接件8係上升以滯留壓環10於面板工件200上，以完成吸附裝置之整體作動，如第7a圖及第7b圖所示，其中，抽真空模組4可在整體作動結束後或是面板工件200經第一調整吸嘴3調整後停止運作，不予限制。

進一步，該些支撐吸嘴2係可連結抽真空模組4，啟動抽真空作業使該些支撐吸嘴2具有吸力，當面板工件200受移動於接觸該些支撐吸嘴2時，即啟動抽真空作業，該些支撐吸嘴2能即時支撐並吸附該面板工件200，尤其適用面板工件200為大尺寸徑面，或為較重之重量，可防止面板工件200滑動移位而滑落受損壞。

本創作第二實施例如第8a圖至第8d圖所示，此吸附裝置主要係包含一平台1、複數個支撐吸嘴2、至少一開槽12、一升降件7、一連接件8、複數個磁性柱9、一壓環10及數個第二調整吸嘴20、抽真空模組4及一第一驅動件5。複數個支撐吸嘴2係設置於平台1，且該些支撐吸嘴2經由第一驅動件5之驅動可進行升降，以可活動性地相對平台1縱向移動以高於或低於平台1之頂面，進而可透過複數個支撐吸嘴2來支撐面板工件，該平台1設有至少一開槽12，而該開槽12可為至少一連續之環槽，或該開槽12可為至少一不連續之環槽，而抽真空模組4係設置於對應該開槽12。當抽真空模組4經控制以執行時，可使得複數個開槽12產生真空吸力，進而可透過該真空吸力來吸附面板工件。

進一步，升降件7係設置於平台1之一側，連接件8係連接升降件7，且連接件8透過升降件7可活動性地進行升降位移。複數個磁性柱9係設置於連接件8上，該些磁性柱9可用以活動性地吸附固定壓環10。複數個第二調整吸嘴20係設置於平台1之頂面，且複數個第二調整吸嘴20係相對複數個第一調整吸嘴3較靠近於平台1之周緣，較佳地，該些第二調整吸嘴20係呈環狀排列設置，以分別形成有至少一環列，且一個第二調整吸嘴20可對應設置在平台1之一個槽孔11中，但不以此為限；第二調整吸嘴20可活動性地相對平台1縱向移動，進而可透過該些第二調整吸嘴20來吸附壓環10，並透過壓環10來壓制面板工件之周緣。

而且，壓環10更設有複數個穿孔101，各穿孔101係分別提供各定位柱40對應穿入，以便壓環10可透過該些穿孔101與該些定位柱40來進行快速定位以吸附至磁性柱9上。

第二實施例據以實際實施時，此吸附裝置在作動以進行面板工件吸附及曲面調整時，抽真空模組4係啟動以使平台1之開槽12產生真空吸力，並可先經由第一驅動件5來驅動複數個支撐吸嘴2上升以高於平台1之頂面，進而透過該些支撐吸嘴2來支撐面板工件200。接著，第一驅動件5係驅動複數個支撐吸嘴2下降以移動面板工件200至該開槽12之位置，以透過該開槽12來吸附面板工件200，其中，在第一驅動件5之驅動下該些支撐吸嘴2可持續性地下降低於平台1之頂面。

此外，面板工件200若為呈現嚴重扭曲者，透過上述結構及步驟使面板工件200貼附於平台1上，但面板工件200仍有部分周缘翹曲，可再藉由壓環10以壓制面板工件200周缘，使面板工件200整個面得以完全平貼於平台1。據以，當複數個支撐吸嘴2支撐面板工件200並下降接近於平台1之頂面時，連接件8係下降以將壓環10移動至複數個第二調整吸嘴20之位置，以透過複數個第二調整吸嘴20吸附壓環10，並且，複數個第二調整吸嘴20收縮下降至接近於平台1之頂面，進而可利用壓環10來壓制面板工件200之周緣，以使面板工件200可達到更佳之平整化。最後，連接件8係上升以滯留壓環10於面板工件200上，以完成吸附裝置之整體作動。

綜上所述，本創作之吸附裝置透過平台上所設置之支撐吸嘴與調整吸嘴可克服面板工件被抽真空吸附時所造成之翹曲或扭曲，使得面板工件可平整貼附在平台。另外還可進一步利用壓環來壓制面板工件，使面板工件於平台上可獲得更佳平整化之效果，以利對面板工件進行製程加工或是進行數據量測。當然，該平台係可為圓形，或為方形，或為多角形，或為不規則形。

綜觀上述，可見本創作在突破先前之技術下，確實已達到所欲增進之功效，且也非熟悉該項技藝者所易於思及，再者，本創作申請前未曾公開，且其所具之進步性、實用性，顯已符合專利之申請要件，爰依法提出專利申請，懇請  貴局核准本件創作專利申請案，以勵創作，至感德便。

以上所述之實施例僅係為說明本創作之技術思想及特點，其目的在使熟習此項技藝之人士能夠瞭解本創作之內容並據以實施，當不能以之限定本創作之專利範圍，即大凡依本創作所揭示之精神所作之均等變化或修飾，仍應涵蓋在本創作之專利範圍內。

1‧‧‧平台
11‧‧‧槽孔
12‧‧‧開槽
200‧‧‧面板工件
2‧‧‧支撐吸嘴
3‧‧‧第一調整吸嘴
4‧‧‧抽真空模組
5‧‧‧第一驅動件
7‧‧‧升降件
8‧‧‧連接件
9‧‧‧磁性柱
10‧‧‧壓環
101‧‧‧穿孔
20‧‧‧第二調整吸嘴
40‧‧‧定位柱
50‧‧‧電控件

第1圖 為本創作之吸附裝置之示意圖。          第2圖 為本創作之吸附裝置於作動時之第一示意圖。          第3圖 為本創作之吸附裝置於作動時之第二示意圖。          第4a圖 為本創作之吸附裝置於作動時之第三示意圖。          第4b圖 係為第4a圖之局部放大示意圖。          第5a圖 為本創作之吸附裝置於作動時之第四示意圖。          第5b圖 係為第5a圖之局部放大示意圖。          第6a圖 為本創作之吸附裝置於作動時之第五示意圖。          第6b圖 係為第6a圖之局部放大示意圖。          第6c圖 係為本創作之局部立體結構示意圖。          第7a圖 為本創作之吸附裝置於作動時之第六示意圖。          第7b圖 係為第7a圖之局部放大示意圖。          第8a圖 為本創作之吸附裝置第二實施例於作動時之第一示意圖。          第8b圖 為本創作之吸附裝置第二實施例於作動時之第二示意圖。          第8c圖 為本創作之吸附裝置第二實施例於作動時之第三示意圖。          第8d圖 為本創作之吸附裝置第二實施例於作動時之第四示意圖。

1‧‧‧平台

11‧‧‧槽孔

12‧‧‧開槽

2‧‧‧支撐吸嘴

3‧‧‧第一調整吸嘴

4‧‧‧抽真空模組

5‧‧‧第一驅動件

7‧‧‧升降件

8‧‧‧連接件

9‧‧‧磁性柱

10‧‧‧壓環

101‧‧‧穿孔

20‧‧‧第二調整吸嘴

40‧‧‧定位柱

50‧‧‧電控件

Claims (19)

1. 一種吸附裝置，其包含： 一平台(1)，其頂面係設有複數個貫穿至底面之槽孔(11)； 複數個支撐吸嘴(2)，係穿設於該平台(1)之槽孔(11)，且該支撐吸嘴(2)可活動性地相對該平台(1)縱向移動以高於或低於該平台(1)之頂面，該複數個支撐吸嘴(2)係提供支撐一面板工件(200)； 複數個第一調整吸嘴(3)，係穿設於該平台(1)之槽孔(11)，該第一調整吸嘴(3)可活動性地相對該平台(1)縱向移動，以吸附並調整該面板工件(200)； 一抽真空模組(4)，係連結該複數個第一調整吸嘴(3)，該抽真空模組(4)經控制係執行抽真空作業，以致該複數個第一調整吸嘴(3)產生真空吸力； 一第一驅動件(5)，係連接該複數個支撐吸嘴(2)，以驅動該支撐吸嘴(2)進行升降。
2. 如請求項1所述之吸附裝置，其中該抽真空模組(4)連結該複數個支撐吸嘴(2)。
3. 如請求項1或2所述之吸附裝置，其更包含：一升降件(7)，係設置於該平台(1)之一側；一連接件(8)，係連接該升降件(7)，且該連接件(8)透過該升降件(7)可活動性地進行升降位移；複數個磁性柱(9)，係設置於該連接件(8)上；一壓環(10)，可活動性地受該複數個磁性柱(9)吸附固定；複數個第二調整吸嘴(20)，係穿設於該平台(1)之槽孔(11)，且該複數個第二調整吸嘴(20)係相對該複數個第一調整吸嘴(3)較靠近於該平台(1)之周緣，該第二調整吸嘴(20)可活動性地相對該平台(1)縱向移動，用以吸附該壓環(10)。
4. 如請求項3所述之吸附裝置，其更包含複數個定位柱(40)，係設置於該連接件(8)上，且該壓環(10)更設有複數個穿孔(101)，各該穿孔(101)係分別提供各該定位柱(40)對應穿入。
5. 如請求項3所述之吸附裝置，其更包含一電控件(50)，係連接該抽真空模組(4)、該第一驅動件(5)，以控制分別執行其對應之功能作業。
6. 如請求項3所述之吸附裝置，其中該複數個第一調整吸嘴(3)及該複數個第二調整吸嘴(20)分別係呈環狀排列設置，以分別形成有至少一環列。
7. 如請求項3所述之吸附裝置，其中該第一調整吸嘴(3)及該第二調整吸嘴(20)係為可撓性材料所製，以致該第一調整吸嘴(3)及該第二調整吸嘴(20)長度可活動性收縮及延展，並分別可活動性地調整吸附面之方向。
8. 如請求項7所述之吸附裝置，其中該第一調整吸嘴(3)及該第二調整吸嘴(20)係為矽膠管。
9. 如請求項3所述之吸附裝置，其中該壓環(10)係由金屬材料所製。
10. 如請求項1或2所述之吸附裝置，其中該平台(1)設有至少一開槽(12)，而該開槽(12)可為至少一連續之環槽，或該開槽(12)可為至少一不連續之環槽。
11. 一種吸附裝置，其包含： 一平台(1)，其頂面係設有複數個貫穿至底面之槽孔(11)； 複數個支撐吸嘴(2)，係穿設於該平台(1)之槽孔(11)，且該支撐吸嘴(2)可活動性地相對該平台(1)縱向移動以高於或低於該平台(1)之頂面，該複數個支撐吸嘴(2)係提供支撐一面板工件(200)； 至少一開槽(12)，係設於該平台(1)，而該開槽(12) 貫穿該平台(1) ； 一升降件(7)，係設置於該平台(1)之一側； 一連接件(8)，係連接該升降件(7)，且該連接件(8)透過該升降件(7)可活動性地進行升降位移； 複數個磁性柱(9)，係設置於該連接件(8)上； 一壓環(10)，其係可活動性地受該複數個磁性柱(9)吸附固定； 複數個第二調整吸嘴(20)，係設置於該平台(1)之槽孔(11) ； 一抽真空模組(4)，係連結該複數個第二調整吸嘴(20)，該抽真空模組(4)經控制係執行抽真空作業，以致該複數個第二調整吸嘴(20)產生真空吸力； 一第一驅動件(5)，係連接該複數個支撐吸嘴(2)，以驅動該支撐吸嘴(2)進行升降。
12. 如請求項11所述之吸附裝置，其更包含複數個第一調整吸嘴(3)，係穿設於該平台(1)之槽孔(11)，該第一調整吸嘴(3)可活動性地相對該平台(1)縱向移動，以吸附並調整該面板工件(200)。
13. 如請求項12所述之吸附裝置，其中該複數個第一調整吸嘴(3)係呈環狀排列設置，以形成有至少一環列。
14. 如請求項12所述之吸附裝置，其中該第一調整吸嘴(3)及該第二調整吸嘴(20)係為可撓性材料所製，以致該第一調整吸嘴(3)及該第二調整吸嘴(20)分別可活動性地調整吸附面之方向。
15. 如請求項14所述之吸附裝置，其中該第一調整吸嘴(3)及該第二調整吸嘴(20)係為矽膠管。
16. 如請求項11所述之吸附裝置，其中該複數個第二調整吸嘴(20)係呈環狀排列設置，以形成有至少一環列。
17. 如請求項11所述之吸附裝置，其中該壓環(10)係由金屬材料所製。
18. 如請求項11所述之吸附裝置，其中該連接件(8)設有複數個定位柱(40)，且該壓環(10)更設有複數個穿孔(101)，各該穿孔(101)係分別提供各該定位柱(40)對應穿入。
19. 如請求項11所述之圓吸附裝置，其更包含一電控件(50)，係連接該抽真空模組(4)、該第一驅動件(5)，以控制其分別執行其對應之功能作業。