TW306011B - - Google Patents

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TW306011B
TW306011B TW085104617A TW85104617A TW306011B TW 306011 B TW306011 B TW 306011B TW 085104617 A TW085104617 A TW 085104617A TW 85104617 A TW85104617 A TW 85104617A TW 306011 B TW306011 B TW 306011B
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Description

經濟部中央揉準局貝工消費合作杜印製 A7 _B7_ 五、發明説明(1 ) 本發明有關於塗佈裝置,特別的有關於,將被處理體 載置於旋轉夾具上,而對於被處理體表面塗佈處理液之旋 轉盤型之塗佈裝置。 參照圓1說明習用之塗佈裝置。該光阻劑塗佈裝置係 ,在環狀杯2 0 0之內側中心部配置旋轉夾具2 0 2,在 該旋轉夾具2 0 2上載置半導體晶片W,由上方介著光阻 劑噴嘴2 0 4,將光阻劑液滴下於晶片W之表面上*使旋 轉夾具2 0 2旋轉,而與它成一體的令半導體晶片W旋轉 >藉離心力將光阻劑液擴散,由而在晶片表面整體均一的 予以塗佈。 在此光阻劑塗佈過程中,由半導體晶片W飛散至周邊 之光阻劑液即,如實線R所示,碰接於排洩杯2 0 0之上 部內壁之後,引導至杯2 0 0之底部,經由廢液口 2 0 0 a通過配管2 0 6而送至不圓示之廢液槽。又杯2 0 0內 ,設有由中間重壁2 0 1及中間豎立壁2 0 3所形成之曲 折路構造之排氣路200b *該排氣路200b及具有霧 閘之機能•排氣氣體即如虛線G所示,在此排氣路2 0 0 b而除去光阻劑液中之霧粒,引導至杯內周側之排氣室 200c ,經由排氣室200c之排氣口 200d而通過 配管2 0 8送至不圖示之排氣泵。 如上面所說明,依習用裝置時,係在排洩杯2 0 0內 ,分離光阻劑液與排氣氣體,分別由各自之排出口 200a,200d排出•惟與排氣氣體一齊引導至排氣 路2 0 0 b之光阻劑液之霧粒gT 著上述毕間垂壁 本紙張尺度逍用中國國家橾率(CNS) A4规格(210X297公釐)_ 4 _ ' (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
306G11 A7 B7 經濟部中央揉準局負工消费合作杜印製 五、發明説明(2 ) 2 0 1 ,中間直立壁2 0 3一之壁面且乾燥硬化,致使排氣 .--— · 一' 路(霧閘)200b之由光阻劑而阻塞之問題。因此裔要 以稀釋劑等之溶劑而常常清洗排氣路(籌閘),在管理上 ,以及作業上均非常煩雜· 又習用之裝置中,排氣系祗有ON,OF F控制而已 。而處理中如果經常實施排氣,即被處理體之周邊部乃將 比中心部的容易硬化(快凝固),致使膜厚均一性有惡化 之情形。又在非處理中,經常資施排氣時,即光阻劑液等 處理液在排氣系中發生乾燥而凝固,在再用處理時需要清 洗裝置,相反地在非處理時停止排氣時,氣化之溶劑將充_ 滿於排氣系中,構成惡臭之原因,再者氣化之氣體容易引 火,因此在再開處理時非常需要注意,等等有很多問題存 在,特別是在長期的停止裝置時*上述問題將更爲嚴重· 本發明乃鑒於上述習用之塗佈裝置之問題所開發。以 提供一種,可以消除在回收該由被處理體所飛散而來之處 理液之排洩杯內,發生處理液之硬化或阻塞,以資改善維 修性之新穎之塗佈裝置爲目的。 又本發明之另一目的係,提供一種由於採用價廉,且 容易操作之排氣檔門由而達到可調整裝置之排氣置•以資 提髙被處理體之膜厚之均一性,同時在不實施被處理體之 處理之間,可防止裝置之排氣系之處理之凝固,同時可以 防止在排氣系中,充滿氣化之處理液之新穎之塗佈裝置。 爲了解決上述問題,依本發明之第1観黏乃: 提供具備容器:及配置於上述容器內而且昇降及旋轉 (請先聞讀背面之注$項再填寫本頁) t 訂 f • Γ. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 306011 A7 B7 經濟部中央樣準局貝工消费合作社印裝 五、發明説明(3 ) 自如之旋轉載置台;及對於載置於該旋轉載置台上之被處 理體表面,一面供給規定之塗佈液,一面將上述旋轉載置 台旋轉,由而在上述被處理體表面形成規定之塗佈膜之塗 佈膜形成機構而成之塗佈裝置。 該塗佈裝置係具備:將由上述被處理體飛散而被收集 於上述容器之內部之上述塗佈液,以做爲廢液地與排氣一 齊從上述容器排出之排出機構;及從上述排出機構而暫時 的將上述廢液予以貯存之貯存機構;及在於上述貯存機構 中,分離上述廢液及上述排氣之氣液分離機構;以及以在 上述貯存機構中,能貯存規定量之廢液及/或溶劑的調整 廢液之貯存量之儲存童調整機構爲其特徵。 上述塗佈裝置中,上述排出機構係,在於該上述貯存 機構中,在於較貯存了上述最大童之上述廢液之液面而髙 之位置設有開口,上述氣液分離機構乃由,設置於比上述 開口更高位置之排氣口,及設置於比上述開口低之位置之 廢液口而構成。 如上所述,有關本發明之塗佈裝置中*不在排洩杯內 實施氣液分離,而由上述杯介著共同之排出機構,將廢液 與排氣氣體一齊送至貯存機構,而在貯存機構內,藉氣液 分離機構實施廢液與排氣氣髖之分離·所以不會有在杯內 發生廢液之硬化或阻塞•再者也不會如習用裝置,使貯存 機構內變爲空櫃,在本發明之塗佈裝置中經常貯存有規定 置之廢液,因此可以將氣流混合流碰衝於廢液之液面,由 而有效的去除霧粒,可防止貯存機構內之廢液之硬化。 (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) J. S ·! 訂 Γ • L· .!_· 本紙張尺度逋用中困國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 經濟部中央揉準局負工消费合作社印製 A7 B7_ 五、發明説明(4 ) 再者上述排手機構之開口可構成具有推拔狀* 又,上述排出機構之開口係,至少其一部份乃接觸於 上述貯存機構之內壁面,或上述排出機構之開口係,備有 至少連結該開口之一部份與上述貯存機構之內壁面之小片 或,上述排出機構之開口係備有延伸至至少到上述貯存於 上述貯存機構之廢液及/或溶劑之液面之直條片的構成亦 可。又,上述排出機構係至少在上述開口附近備有發生渦 流之渦流發生機構。依此構成時,得不太會發生霧粒之下 可將廢液貯存於貯存機構而使之成爲廢液也。 又爲了解決上述問題,依本發明之第2觀點,可提供 具有: 容器;及配罝於上述容器內而且昇降及旋轉自如之旋 轉載置台;及對於載置於該旋轉載置台上之被處理髖表面 ,一面供給規定之塗佈液,一面將上述旋轉載置台旋轉, 由而在上述被處理體表面形成規定之塗佈膜之塗佈膜形成 機構;及將由上述被處理體飛散而被收集於上述容器之內 部之上述塗佈液,以做爲廢液地與排氣一齊從上述容器排 » 出之排出機構;及從上述排出機構而暫時的將上述廢液予 以貯存之貯存機構;及在於上述貯存機構中,分離上述廢 液及上述排氣之氣液分離機構;以及 以在上述貯存機構中,能貯存規定置之廢液及/或溶 劑的調整廢液之貯存置之儲存量調整機構而成之塗佈裝置 〇 並且本塗佈裝置係,在於實施藉上述氣液分離機構而 本纸法尺度逍用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐1—" I.;-------------訂------ (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局負工消费合作社印裝 A7 _____B7_ 五、發明説明(5 ) 分離之排氣之氣體排出之排出系中,設置排氣植門,而以 該排氣植之開度調整來實施上述排氣置之調整爲其特徵。 因此在不需要使用昂贵之質量流動控制器( massflow-cantroller),而以價格低廉且操作容易之排 氣槽門而可實施排氣量之調整。 再者,爲了解決上述之問題,依本發明之另一觀點時 ,可提供一種塗佈裝置之控制方法,主要係具備有:容器 :及配置於上述容器內而且昇降及旋轉自如之旋轉載置台 ;及對於載置於該旋轉載置台上之被處理體表面,一面供 給規定之塗佈液,一面將上述旋轉載置台旋轉,由而在上 述被處理體表面形成規定之塗佈膜之塗佈膜形成機構;及 將由上述被處理體飛散而被收集於上述容器之內部之上述 塗佈液,以做爲廢液地與排氣一齊從上述容器排出之排出 機構;及從上述排出機構而暫時的將上述廢液予以貯存之 貯存機構;及在於上述貯存機構中,分離上述廢液及上述 排氣之氣液分離機構;及以在上述貯存機構中,能貯存規 定量之廢液及/或溶劑的調整廢液之貯存量之儲存量調整 機構;以及在於實施藉上述氣液分離機構而分離之排氣之 氣體排出之排水系中之可調整開度之排氣植門之塗佈裝置 之控制方法, 而在控制塗佈裝置之排氣時,在未實施被處理體之處 理時,減縮上述排氣檔門之開度,而以該貯存機構之廢液 及/或溶液之不凝固之程度之流量而實施排氣。 依上述構成時,在於停止裝置之情況下仍然有最小限 本紙張幻t適用中國國家橾準(CNSM4跋(210χ297公董)_ _ (請先s讀背面之注意箏項再填寫本頁) 訂 f -- 經濟部中央揉準局負工消费合作社印製 A7 _B7_ 五、發明説明(6 ) 度之排氣情形,因此可消除,在於貯存機構內有積存氣化 之廢液或溶劑,可防止惡臭,減輕引火之危險性,同時實 施排氣之下廢液或溶劑也不會凝固,因此不用清洗裝置之 下可以立即開始處理也。 又在於控制塗佈裝置之排氣時;在決定塗佈在被處理 體表面塗佈膜之膜厚之階段而縮減上述排氣檔門之開度以 減小排氣流量· 該結果,在於決定膜厚之觀點而言*可達到較資施一 般之排氣可減輕被處理體之周邊部之較中心部而凝固的快 之現象,可以使形成於被處理體表面之塗佈膜之膜厚之均 —化β 下面參照附圓詳細的說明有關本發明塗佈'裝置之合宜 之實施形態。 圖2係有關本發明之塗佈裝置適用於光阻劑塗佈組成 (C 0Τ)之一實施形態之概略構成之說明圖。在此光阻 劑塗佈組成(COT)上,在組成底之中央配設環狀杯( D C ),具有排拽杯(Drain cup)之機能。而在其裏面 配置旋轉夾具1 0 2。旋轉夾具1 0 2乃藉真空吸著固定 保持半導體晶片W之狀態下,由驅動馬達1 0 4之旋轉驅 動力而旋轉。驅動馬達1 0 4係昇降移動可能的配置於組 成底板1 0 6。介著例如由鋁製之杯狀突緣構件1 0 8而 結合於例如由空氣氣缸所成之昇降驅動機構110及昇降 導引機構1 1 2。 當塗佈光阻劑時,如圖示,突緣構件1 0 8之下端 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS) A4规格(210X297公釐)~~ (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 4. 訂 .L. 經濟部中央揉準局員工消費合作社印裝 3〇6〇lt A7 B7 五、發明説明(7 ) 1 0 8 a在開口 1 0 6 a之外周附近而密著於組成底板 106,以密閉組成內部。在旋轉夾具102與不圖示之 晶片運送機構之間,實施半導體晶片W之接交時,以昇降 驅動機構1 1 0將驅動馬達1 0 4或旋榑夾具抬高,因此 突緣構件1 0 8之下端即離開組成底板1 0 6 · 再者在對向於載置於旋轉夾具1 0 2之被處理體W之 處理面之大致中央之上方位置,設置有塗佈液供給噴嘴 1 1 4。該塗佈液供給噴嘴1 1 4即連結於不圖示之槽。 欲行處理時由槽取出規定量之塗佈液(含有稀釋劑等之溶 劑之光阻劑液),而可滴下於被處理液體W之處理面之大 致中央。 環狀杯(排洩杯)D C之內面係由外周壁面,內周壁 面及底面而形成有一個室,在底面設有二個排洩口 120a,120b·又圖示例乃表示有二個排洩口,惟 當然排洩口以一個或多數個均無妨。這些排洩口 1 2. 0 a ,120b乃介著排洩管122a,122b等之排出機 構連接於暫時的貯存廢液之貯存機構124。 排洩管122a,122b之下端部122c, 122d乃如圖3所示,突出到槽124a,124b之 中間•由該先端滴下已成爲廢液之光阻劑液下於被貯存於 槽124a,124b內之廢液(光阻劑液)或溶劑(下 面稱貯存液)144之液面* 再者依本實施之形態時,如圓3所示,例如排洩管 122a,122b之突出於槽124a,124b之部
本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4规格(2丨0 >< 297公釐L (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 订 L·. 經濟部中央梂準局貝工消费合作社印*. A 7 ___ B7__ 五、發明説明(8 ) 份之下端部123a,123b係被構成呈推拔狀,使液 滴之斷落很順暢也。 由於本實施形態時,槽124a ,124b乃同一構 成,所以在圖3中抵表示123a。又槽124a , 1 2 4 b係如圖3中放大表示,乃密閉容器,在其底面設 有廢液 口 126a,126b。廢液口 126a, 126b即分別連接於由配管128a ,128 b,閥 130,廢液處理部(不圓示)所成之排氣系131。又 圖示之例中,廢液傭存機構即抵以二個槽1 2 4 a, 1 2 4 b來代表,惟亦可將這些做爲中間槽,在其下游另 設大容置之廢液貯存槽亦可能。 又在廢液口 126a,126b中設置,該天板部乃 以盲板構成,周圔纘多藪之孔之藍127a,127b· 當在處理中,如有任何不可抗力而被處理體破損時,破損 片有介著排洩管122a,122b而落下於槽124a ,1 2 4 b之可態,而依本資施之形態時,由於在廢液口 126a ,126b 設有藍 127a,127b 時,破損 片不會落下於廢液管· 槽124a ,124b內規定之高度處設有用於檢出 貯存於槽內之液面用之測面感測器Η,Η,Η,L。這些 液面感測器Η,Η,Η,L係分別連結於控制器1 3 2, 控制器1 3 2即回應於來自液面感測器Η,Η,Η,L之 信號以開閉貯存ft調整機構之閥1 3 0,以資經常在槽內 能貯存規定量(感測器L之液面以上,感測器Η以下範圍 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ 297公釐),, -11 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) sf 訂 Γ 經濟部中央揉準扃負工消费合作社印輦 A7 ___B7_ 五、發明説明(9 ) 之量)而可實施液面之調整。該液面之高度即由例如光阻 劑液之種類,排氣童之程度*被設定於最適合於氣液分離 狀態。又感測器Η,Η即防止溢流用感測器,例如可設定 爲貯存液之高度超過感測器Η,Η時,將裝置停止到貯存 液之高度回復至正常狀態爲止。 再者在槽124a,124b之上面,設有排氣口 134a,134b·這些排氣口 134a,134b 係 -- 介著後述之排氣植門1 3 6連接於由排氣泵1 3 8等所構 成之排氣系。可以排氣介著排洩管122a,122b送 至槽124a,124b中之氣液混合流中之排氣氣體。 又雖未圖示,可在排氣管134a,134b中設置 更換自如之網目過濾器等之霧粒閘,以防止霧粒之進入於 排氣泵內* 再者,依本實施例之形態時,在槽124a, 124b之上部,設置t霧溶劑例如稀釋劑之清洗機構( 洗淨機構)140a*140b。 這些清洗機構140a ,140b係,如圖3所示, 在先端部多數地設置了溶劑噴籌用之孔1 4 2 a, 1 4 2 b之噴嘴狀者,視其必要對槽內霧狀地噴溶劑以資 清洗凝固於槽1 2 4 a,1 2 4 b之光阻劑液等之處理液 。又此清洗機構1 4 〇 a ,1 4 0 b等不抵是使用於清洗 槽124a,124b內之用途。當槽124a ,124 b內所貯存之貯存液低至規定置以下時(即液面感測器L 發出警告時),也可用於對於槽124a,124b內供 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐)_,〇 _ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) i,! 订 經濟部中央樣率爲負工消费合作社印装 A7 ___ B7_ 五、發明説明(10 ) 給貯存液(溶劑)之用途· 再者對於排洩管122a,122b內之清洗,即亦 可採用如圖4所示之排洩管1 2 2 a /之構造,在排洩管 122a之內壁面上部設置多數之溶劑噴出口 144ά , 視其必要將來自溶劑供給系1 4 6 a之稀釋劑等之溶劑送 至該噴出口 1 44 a之構造。當然該設於排洩管1 2 2 a /之溶劑供給系1 4 6 a,也與上述清洗機構1 4 2 a — 樣,可用於當貯存於槽124a·124b內之貯存液低 至規定量以下(即由液面感測器L而發出警告時),對槽 124a,124b內供給貯存液之用途。 再者又參照圓3 ·關於排洩管12 2a ,122b之 開口端 123a ,123b 與排洩口 134a ,134b 之高度位置關係而言,將後者設定爲高於前者•由此構成 ,將介由排洩管122a,122b而導入於槽124a ,1 2 4b內之氣液混合流中,可經排氣口 1 3 4 a , 1 3 4 b而抵排出已去除廢液之液體及霧粒部,之氣體部 份。再者如前已說明槽124a,124b之廢液口 126a,126b乃設置於低於排洩管12 2a, 122b之開口端123a,123b之位置,因此經排 洩管122a,122b而導入於楢124a,124b 中之氣液混合流中,經廢液口 1 2 6 a ,1 2 6 b介著廢 液系1 3 1而祗排出廢液部份•如上所述,依本實施之形 態時’在槽124a,124b中有效的可行氣液混合流 之氣液分離,由分別成一系之排氣系或廢液液1 3 1而排 氏張XJ1逍用中國國家揉率(CNS)A4ft^( 210X297公着)~ (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 7 306011 A7 B7 五、發明説明(11 ) 出於裝置外部也。 又依本實施之形態時,由排洩管122a ,122b 而對於規定置貯存於槽124a,124b內之貯存液中 I縯的會流<入,因此可在槽內廢液硬j之情形。並且 在於從排洩管122a,122b中導入於槽124a, 1 2 4 b內之過程所發生之霧狀之液滴,也碰衝於槽 1 2 4 a,1 2 4 b內之貯存液之液面而成被吸著溶解之 狀態,因此包含霧粒之氣液之分離得於有效的被實施。又 必要時,可利用該用於加熱貯存於槽124a,12 4b 內之貯存液部份之加熱器,或被調整溫度之液體等等而設 置加熱裝置由而降低粘度,以資更有效的防止廢液之硬化 也可能。 經濟部中央標準局負工消费合作社印裝 (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 下面參照圖2及圈5說明有關本實施形態之塗佈裝置 之排氣系。此排氣系係如圈5A,5B中詳細的覼示,設 置有藉椭園形狀之空氣流限制構件1 3 7而可流通於 排氣系之排氣置之136·該排氣檔門136乃 回應於來自控制器1 3 2之信號而在全開至全閉之間自由 的可調整開度者。又圓示之例時,空氣流限制構件1 3 7 係呈椭園形狀(參照圓5A) *因此如圖5B所示,空氣 流限制構件1 3 7乃在全閉狀態時即對於空氣流方向而傾 斜的接觸於排氣管1 3 9之內壁,因此與以往之具有對於 空氣流方向垂直方向的接觸於排氣管之內壁之構造之排氣 檔門更可提髙密閉性* 再者,有關本實施形態之塗佈裝置上可能適用之排氣 本紙張尺度逋用中國國家橾率(CNS ) A4规格(210X297公釐〉~~ -14 - 經濟部中央橾準局貞工消费合作社印製 A7 ____B7_ 五、發明説明(12 ) 檔門並不限定於圖5所示,例如圓6所示構造之排氣檔門 1 3 6 >也可使用。此排氣植門1 3 6 /即具備有髙低不 同地配置之二個空氣流限制葉片137a ,137b,各 葉片1 3 7 a ,1 3 7b即在全閉狀態時可接觸於在排氣 管139 >之內壁對應於各葉片137a,137b地設 置之段階部139a,139b ·由此構成而達其密閉性 之提高· 有關本實施形態之塗佈裝置上可適用之排氣檔門係具 有上述之構成,因此不需要使用如質置流動控制器等價高 ‘之裝置之下,得以以下述之模式來運轉。 (a )惰轉模式 有關本實施形態之塗佈裝置中,槽124a ,124 b內經常貯存有一定量之貯存液144。惟在裝置並沒有 實施處理時,特別是由長期休假或調整生產置等理由而長 期間的須使裝置停止時,即得於惰轉模式來驅動塗佈裝置 。在此惰轉模式中,排氣檑門1 3 6係被調整爲槽1 2 4 a ,1 2 4 b內所貯存之貯存液1 4 4之不含乾燥凝固程 度之流置來實度排氣之開度。關於此開度即參考槽1 2 4 a,124b之容置,貯存液144之種類,裝置之停止 期間而予以設定· 如上所述,在裝置沒有實施處理之間,由於以惰轉模 式進行排氣,所以在槽124a,124b內不積存蒸發 氣化之貯存液1 4 4之狀態下可以排氣。又該排氣也以最 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐)_ (請先W讀背面之注意事項再填寫本筲) —Γ· s '! 訂
I 經 中 央 橾 準 局 貝 合 作 杜 印 製 A7 ____B7_五、發明説明(13 ) 小限度的予以實施,所以貯存液1 4 4也不會在槽 124a ,124b內而凝固•又例如也可以構成爲當長 期之裝置之停止中,如貯存液1 4 4降低至規定量時,介 著清洗機構1 4 2 a而適當的捕充溶劑也可能。 (b )膜厚調整模式 如前面說明,如在處理中如果以經常排氣模式實施排 氣時,由噴嘴114滴下之塗佈液乃,該靠近排洩口 120a,120b之晶片之周邊域將比其中心乾的快, 由而形成塗佈膜之膜厚之不均一之虞•於是依本實施之形 態時,即塗佈液滴下之後暫時地縮減排氣植門1 3 6之開 度,減少排氣量,由而晶體整體地使塗佈膜均一的乾燥而 使塗佈膜之膜厚均一化。並且塗佈膜之膜厚被決定之後* 再開啓排氣檔門1 3 6回復至通常排氣模式。又關於膜厚 調整模式時之時間以及排氣置即酌情該滴下之塗佈液之置 ,被處理體之尺寸,排氣系之容置來決定。 下面說明上述裝置之動作。首先以昇降裝置11 0從 排洩杯DC (下面簡稱杯)使旋轉夾具1 0 2,由不圖示 之運送臂交接被處理體,例如半導體晶片W,而在旋轉夾 具1 0 2連通真空抽吸。接著使旋轉夾具1 0 2下降,將 旋轉夾具1 0 2密著於組成之底板1 0 6。接著從噴嘴 11 4規定量的將塗佈液(光阻劑液)滴下於晶片W之中 央部。在此間排氣系係以通常排氣模式的予以運轉。 然後駆動颶動裝置1 0 4對於旋轉夾具1 0 2賦予旋 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) --Γ· s' ! 訂 本紙張尺度逋用中國困家揉车(CNS)A4*l格( 210X297公釐)_ 16 _ 經濟部中央揉隼局βζ工消费合作杜印装 A7 ___B7_ 五、發明説明(14 ) 轉驅動力。由而以離心力將載置於旋轉夾具1 0 2之晶片 W狀之光阻劑液拉伸,塗佈於晶片W之表面,於是形成規 定之膜厚之塗佈膜之光阻劑層。該時依本實施之形態時, 調整排氣檔門1 3 6之開度,以膜厚調整模式來運轉排氣 系,由而可形成均一之光阻劑層也。形成了光阻劑層之後 ,排氣系即再度以通常排氣模式來運轉。然後停止旋轉夾 具1 0 2之旋轉,再度以昇降機構1 1 0使旋轉夾具 1 0 2上升*交接於不圖示之運送臂,再將新晶片W運至 旋轉夾具1 0 2。 又在塗佈處理中,由離心中而從晶片W甩飛而成不要 之廢液之光阻劑液即成爲液滴或霧粒而由杯D C接取,或 由形成於杯D C內之排氣流所運送聚集於底部,由設於杯 DC底部之排洩口 120 a,120b,或與排氣氣體( 由杯DC底部之排洩口 120a,120b之排氣而流入 於杯D C內之來自外部之空氣,以及由光阻劑液中之溶劑 之氣化之上述各種混合氣體)一齊被抽吸,通過排洩管 122a,122b 而送至槽 124a,124b ·該時 依本寶施之形態時由於從排洩管1 2 2 a * 1 2 2 b對於 槽124 a,12 4 b連mm吹送氣液混合_流,因此可防 ,― 、丨·_ __ 止在槽124a,124b內之廢液之硬化之情形,並且 從排洩管122a ,122b內導入於槽124a , 1 2 4 b之過程中所發生之霧粒狀之液滴而言,也由於形 成碰衝於槽124a,124b內之貯存液面,呈被吸著 溶解之狀態,因此有效的可實施包括籌粒之去除之氣液之 本紙張又度逋用中國國家標準(CNS)八4规格( 210X297公釐)1(7 " (請先Μ讀背面之注$項再填寫本頁) 訂 經濟部中央橾準局員工消费合作社印製 3〇6〇11 A7 B7 五、發明説明(15 ) 分離·並且經.氣液分離之氣液混合流之中,廢液即由廢液 口 126a,126b介著廢液系131送至廢液處理部 ,而去除霧粒之排氣氣體即介著排氣系從排氣口 1 3 6 a ,1 3 6 b所排氣· 再者,在上述塗佈裝置中,如果在裝置上不實施處理 時,特別是由於長期放暇或調整生產置等原因而不得不長 期間停止裝置之運轉時,可以驅動惰轉模式•以惰轉模式 而實施排氣之故,在槽124a ,124b內不會稹存蒸 發氣化之貯存液1 4 4,而可實施排氣。而該排氣置也以 最小限的予以實施因此在貯存液1 4 4也不會在槽1 2 4 a ,124b內凝固硬化。 上述塗佈裝置雖得以用做單獨之裝置之方式來應用, 惟亦可以組入於例如圖7所示之L C D基板之塗佈•現象 處理裝置中而使用。圓7中標號7 1之載置平台,在此平 台上將載置收納有多數片處理前之基板之載置架C 1.及處 理後之基板之載置台C2 · 72係運出入夾子,73, 73即基板運送用主臂,75即接交台。 主臂7 3或7 4之運送路之兩側設有刷式洗淨裝置 81,噴射水洗部82,塗佈裝置83,接合處理部84 ,冷卻處理部8 5以及加熱處理部8 6,顯像處理部8 7 ,而在塗佈顯像處理部之右端部側即介著運送入夾子9 1 ,接交台9 2而連結用曝光裝置9 3。 於上述構成之塗佈•顯像處理裝置中,收容於卡匣( 載置台)C 1內之未處理之基板係’藉運出入夾子7 2取 本紙張尺度逍用中國國家揉率(CNS ) A4规格(210X297公釐)_ 18 J ^ |丨"丨 f ' ί (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 r 經滌部中央標準局貝工消费合作社印装 A7 ________B7__ 五、發明説明(16 ) 出之後,交接於主臂7 3,送至刷子式洗淨部8 1 ,經刷 子式洗淨部8 1內以刷子清淨之基板部,視其必要在噴射 水洗淨部8 2內,以髙壓噴射水之洗淨,而後基板在接合 處理部8 4中施以疏水化處理,經冷卻處理部8 5冷卻, 在於塗佈裝置8 3塗佈形成光阻劑膜。即塗佈形成感光膜 •而後以曝光裝置9 3曝光出規定之圖樣。曝光後之基板 即運送至顯像處理部8 7內,藉有關本發明之脫氣機構 3 0 0所脫氣之顯像所顯像之後,以潤濕液來沖洗顯像液 完成顯像處理。 上面乃參照附圖說明了有關本發明之塗佈裝置之實施 之形態,惟本發明並不侷限於上述之例。如是該業者即當 然在申請專利範困所述之範疇內仍可想到各種之變更例及 修正例,而這些例子仍應屬未發明之技術之範圍。 例如,排洩管122a,122b之下端開口部 123a,123b之構造而言,不限於構成爲推拔狀, 也可以如圖8所示,設置至少連通該開口部1 2 3 a之一 部份與槽1 2 4 a之內壁面之小片1 2 5,或如圖9所示 ,設置延伸至到達貯存於槽1 2 4 a內之貯存液1 4 4液 面之直條片127。或如圓10所示亦可採用在槽124 a ,124b內構成排洩管122a ,122b之開口部 123a ,123b由而將介經排洩管122a ,122 b而連績的流入之氣流混合流順暢地導入於槽1 2 4 a , 124b內之貯存液144· 再者排洩管122a,122b之下端開口部123 本紙張尺度適用中國國家棵準(CNS)A4规格(210X297公釐)_ 19 _ " !>-IΗ----「'?1 (請先Η讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 M濟部中央標準局負工消费合作社印製 A7 ____B7_ 五、發明説明(17 ) a,123b之構造,也可以採如圖11〜圓13所示, 例如將將排洩管122a,122b之突出於槽124a ’ 1 2 4 b之部份之下端部內側設置螺旋溝1 4 0或螺旋 突起部亦可以。 例如圖1 1所示之例時,即在排洩管1 2 2 a /之突 出於槽(不圖示)之部份之下端部內側旋製有螺旋溝 140,沿著上述螺旋溝140將從杯DC之排洩口 1 2 0 a流出之氣液混合流流下使成爲渦旋流由而使廢液 不易滯留於排洩管1 2 2 a >內,由而防止排洩管 1 2 2 a >之阻塞,同時確實且順暢地碰衝於貯存在槽 124a,124b內之貯存液之液面。該結果在廢液之 液面上可促進霧粒之分離。同時搖動廢液液面以資攪拌, 因此可防止在槽124a,124b內之廢液之凝固硬化 •同時由渦流所致之離心力而在排洩管內也可以實施某一 程度之氣液分離· 再者螺設於上述排洩管1 2 2 a內部之螺旋溝1 4 0 即不限於如前面所述之設於排洩管1 2 2 a,1 2 2b內 之開口端附近,設於排洩管1 2 2 a >之全長亦可。該時 形成螺旋溝1 4 0乏螺旋形成部亦做爲排洩管1 2 2 a, 1 2 2 b之別體,介著適當之接頭而裝卸自如地安裝亦可 能。 又,上述實施例係藉由在排洩管122a ,122b 內之開口端附近形成蜾旋溝1 4 0之方式來形成渦流*惟 本發明並不侷限於上述實施例,例如圖1 2〜圖1 4所示 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS>A4規格(210X297公釐)_ _ (請先Μ讀背面之注f項再填寫本頁) Γ 气1! 訂 r 經濟部中央揉準局貝工消费合作社印装 A7 _B7__ 五、發明説明(18 ) ,在排洩管12 2a,122b內之內壁’設置螺旋狀之 突起部亦可能·又圖12〜圖14中,圓12A,13A ,1 4A係有關上述各實施例之排洩管1 2 2 a ’ 122b之一部份之透視斜視圖,圖12B,13B, 14B即上述各實施例之排洩管122a,122b之平 面圖。 首先說明圖12所示之實施形態。圚12中顯示帶狀 之一層(一支)螺旋狀突起1 4 6之配置於排洩管 122a#內之構造。依此構成時,即導入於排洩管 1 2 2 內之氣液混合流會沿著螺旋狀突起部1 4 6而 流,因此會形成朝下方向之旋渦流。圖1 3顯示二層(二 條)帶狀地形成之螺旋狀突起部148a,148b之被 配置於排洩管1 2 2 a 〃內之別之實施之形態•依此構成 時,由二重之螺旋狀突起部148a,148b而更可促 進渦旋流之形成•配置於排洩管內之螺旋狀突起部也不一 定如圖1 2及圔1 3所示之連績形成,例如如圖1 4所示 ,斜方向地配置如如形成螺旋狀之一部份之多數之突起片 150a ,150b,由而可替代連縯之螺旋狀突起部之 作用做爲形成渦旋流之構成亦可。 再者,如圓2及圖3所示之資施例中*爲了在槽 124a,124b中貯存規定量之貯存水144而設置 了電氣性之液面感測器HH,Η,L,惟本發明並不侷限 於該例,以圓1 5所示之機械的構成來貯存規定置之貯存 水1 44之構造亦可•依此構造時,廢液口 1 5 0係在槽 本紙張尺度逋用中國國家揉率(CNS>A4规格(210X297公釐)_ 91 _ I.---^-----「s^"I (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂 經濟部中央橾準局負工消费合作社印装 A7 B7 五、發明説明(19 ) 1 24a內抵突出L之髙度,所以貯存水1 44即抵能在 槽1 24a內貯存到髙度L ·又依此實施中,在廢液口 1 5 0上設置有與圓1 2中以檫號1 2 7 a所示之相同構 成之蓋1 5 2,以防止晶片W之破損片之進入於廢液系· 惟依此構成時,可能發生貯存水1 4 4完全沒有之可能· 因此欲不斷地保持最低之貯存置時,需要另設機械性或電 氣感測器,因此本資施例乃可適用於*所貯存於槽 1 2 4 a內之貯存水1 4 4之氣化凝固之可能性較少之顯 像-置上合宜· 以上係說明有關本發明之塗佈裝置之合宜之資施形態 。惟上述實施形態中之各部份之構造,形狀等係一種例示 而已,當然仍可予以種種變更以及修正。例如上述實施例 係,將本發明適用於半導體晶片上塗佈光阻劑液塗佈裝置 之例。惟本發明亦可適用於I C D基板等等其他被處理體 上之塗佈液之塗佈裝置或顯像裝置· 如上所述,依本發明之塗佈裝置時,不在排洩杯內實 施氣液分離,而由上述杯介著共同之排出機構,將廢液與 排氣氣體一齊送至貯存機構,而在貯存機構內,藉氣液分 離機構實施廢液與排氣氣體之分離·所以不會有在杯內發 生廢液之硬化或阻塞。再者也不會如習用裝置,使貯存機 構內變爲空榧,在本發明之塗佈裝置中經常貯存有規定S 之廢液•因此可以將氣流混合流碰衝於廢液之液面,由而 有效的去除霧粒,可防止貯存機構內之廢液之凝固硬化。 又,依本發明時,在於實施藉上述氣液分離機構而分 本纸張尺度通用中國國家揉準(CNS ) A4规格(210X297公釐) ^ϋ- m 1^1 1^1 I ^^1 1^1 i (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂 306011 A7 B7__ 五、發明説明(2〇 ) (請先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁) 離之排氣之氣體排出之排出系中,設置排氣檔門,而以該 排氣檑之開度調整來實施上述排氣量之調整,因此在不需 要使用昂贵之質量流動控制器(massflow-cantroller) ,而以價格低廉且操作容易之排氣檔門而可實施排氣量之 調整。 例如在未實施被處理髖之處理時,縮減上述排氣槍門 之開度,而以該貯存機構之廢液及/或溶液之不凝固之程 度之流置而實施排氣,在於停止裝置之情況下仍然有最小 限度之排氣情形,因此可消除,在於貯存機構內有稹存氣 化之廢液或溶劑,可防止惡臭,減輕引火之危險性,同時 實施排氣之下廢液或溶劑也不會凝固,因此不用清洗裝置 之下可以立即開始處理也。 又在於控制塗佈裝置之排氣時;在決定塗佈在被處理 體表面塗佈膜之膜厚之階段而縮減上述排氣植門之開度以 減小排氣流1:。 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印裝 該結果,在於決定膜厚之觀點而言,可達到較習用裝 置,換言之實施一般之排氣,可減輕被處理《之周邊部之 較中心部而凝固的快之現象,可以使形成於被處理體表面 之塗佈膜之膜厚之均一化· 圖式之簡單說明 第1圖係習用之塗佈裝置之概略的斷面圖。 第2圖係表示本發明塗佈裝置之一實施例之概略構成 之構成圈· 本紙張尺度適用中國國家樑準(CNS > A4规格(210X297公釐} „〇 -Zo - 正修 月 2 1 坪 8民 案 請 中 利頁 專正 I修 書 S明 046说 851文 第曰 μ 煩請委員明示本案是否變更實質内容 經濟部中央橾準局貝工消费合作杜印製 五、發明説明( 21) 第 3 圖 係 可 適 用 於 本 發 明 塗 佈 裝 置 之 廢 液 貯 存槽 之 一 實 施 形 態 概 略 ikkC m 面 圓 0 第 4 圖 係 可 適 用 於 本 發 明 塗 佈 裝 置 之 排 洩 管 之 另 — 資 施 形 態 概 略 me ΡΓ 面 圚 0 第 5 A > 5 B 圖 係 可 適 用 於 本 發 明 塗 佈 裝 置 之 排 氣 檔 門 之 另 — 實 施 形 態 說 明 圖 9 其 中 圖 5 A 係 空 氣 流 限 制 構 件 之 略 平 面 圖 0 圖 5 B 係 排 氣 檔 門 之 略 斷 面 圖 〇 第 6 圖 係 可 適 用 於 本 發 明 塗 佈 裝 置 之 排 氣 檑 門 之 別 之 實 施 形 態 概 略 斷 面 圖 0 第 7 ran η 係 組 合 有 本 發 明 塗 佈 裝 置 之 塗 佈 ♦ 顯 影 處 理 裝 置 之 實 施 形 態 概 略 mr. ΒγΓ 面 圖 0 第 8 圇 係 可 適 用 於 本 發 明 塗 佈 裝 置 之 排 洩 管 構 造 之 實 施 形 態 概 略 me 面 ΠΒΠ 圆 0 第 9 tSu 係 可 適 用 於 本 發 明 塗 佈 裝 之 排 洩 管 構 造 之 另 一 實 施 形 態 概 略 斷 面 圖 0 第 1 0 圖 係 可 適 用 於 本 發 明 塗 佈 裝 置 之 排 洩 管 之 另 一 實 施 形 態 概 略 斷 面 圖 0 第 1 1 圖 係 可 適 用 於 本 發 明 塗 佈 裝 置 之 渦 流 發 生 碰搶 概稱 一 實 施 例 形 態 概 略 &\ 面 圚 0 第 1 2 A > 1 2 Β 圖 係 可 適 用 於 本 發 明 塗 佈 裝 置 之 渦 流 發 生 機 m 構 — 實 施 例 形 態 概 略 說 明 圖 , 其 中 圖 1 2 A 係 — 部 份 透 視 斜 視 QB 0 圖 1 2 Β 係 平 面 圖 0 第 1 3 A 9 1 3 Β 圖 係 可 適 用 於 本 發 明 塗 佈 裝 置 之 λ〇ι m (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4规格(210X297公釐) A7 B7 五、發明説明(22) 流發生機構之另一實施形態概略說明圓,其中 第1 3 A係一部份透視斜視圖。圇1 3 B係平面圖。 第1 4 A,1 4 B圖係可適用於本發明塗佈裝置之渦 流發生機構之另一實施形態槪略說明圖,其中 圖1 4 A係一部份透視斜視圖,圖1 4 B係平面圖。 第1 5圖係在本發明之塗佈裝置之貯存機構中貯存規 定量之貯存水用之別的構成之概略斷面圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央梂準局貝工消费合作社印氧 本紙張尺度適用中國國家橾率(CNS ) A4規格(210X297公釐) -25 -

Claims (1)

  1. 3〇6〇χχ A8 B8 C8 D8 申請專利範園 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印*. l .—種塗佈裝置,具備: 容器;及 配置於上述容器內而且昇降及旋轉自如之旋轉載置台 .;及 對於載置於該旋轉載置台上之被處理體表面,一面供 給規定之塗佈液,一面將上述旋轉載置台旋轉,由而在上 述被處理體表面形成規定之塗佈膜之塗佈膜形成機構;及 將由上述被處理體飛散而被收集於上述容器之內部之 上述塗佈液,以做.爲廢液地與排氣一齊從上述容器排出之 排出機構:及 從上述排出機構而暫時的將上述廢液予以貯存之貯存 機構;及 在於上述貯存機構中,分離上述廢液及上述排氣之氣 液分離機構;以及 以在上述貯存機構中*能貯存規定量之廢液及/或溶 劑的調整廢液之貯存量之傭存量調整機構者。 2. 如申請專利範圓第1項所述之塗佈裝置,其中上 述排出機構係,在於該上述貯存機構中,在於較貯存了上 述最大置之上述廢液之液面而高之位置設有開口,上述氣 液分離機構乃由,設置於比上述開口更高位置之排氣口, 及設置於比上述開口低之位置之廢液口所成者β 3. 如申請專利範園第1項所述之塗佈裝置,其中上 述排出機構之開口係備有推拔者· 4. 如申請專利範圍第1項所述之塗佈裝置,其中上 (請先闖讀背面之注f項再填寫本頁) f. 訂 <Γ! 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > Α4規格(210Χ297公釐) -26 - A8 B8 C8 D8 3〇6〇h π、申請專利範固 述排出機構之開口係,至少其一部份乃接觸於上述貯存機 構之內壁面者· (請先Η讀背面之注f項再填寫本頁) 5. 如申請專利範圍第1項所述之塗佈裝置,其中上 述排出機構之開口係,備有至少連結該開口之一部份與上 述貯存機構之內壁面之小片者· 6. 如申請專利範画第1項所述之塗佈裝置,其中上 述排出機構之開口係備有延伸至至少到上述貯存於上述貯 存機構之廢液及/或溶劑之液面之直條片者· 7. 如申請專利範圏第1項所述之塗佈裝置,其中上 述排出機構係至少在上述開口附近備有發生渦流之渦流發 生機構者。 8 .—種塗佈裝置,具備: 容器;及 配置於上述容器內而且昇降及旋轉自如之旋轉載置台 ;及 經濟部中央揉準局負工消费合作社印— 對於載置於該旋轉載置台上之被處理髏表面,一面供 給規定之塗佈液,一面將上述旋轉載置台旋轉,由而在上 述被處理體表面形成規定之塗佈膜之塗佈膜形成機構:及 將由上述被處理體飛散而被收集於上述容器之內部之 上述塗佈液,以做爲廢液地與排氣一齊從上述容器排出之 排出機構;及 從上述排出機構而暫時的將上述廢液予以貯存之貯存 機構:及 在於上述貯存機構中,分釀上述廢液及上述排氣之氣 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -27 - 經濟部中夹榣率局貝工消费合作社印製 B8 C8 ___ D8 六、申請專利範圍 液分離機構;以及 以在上述貯存機構中,能貯存規定童之廢液及/或溶 劑的調整廢液之貯存置之儲存置調整機構者, 在於實施藉上述氣液分離機構而分離之排氣之氣體排 出之排出系中,設置排氣檔門,而以該排氣檑之開度調整 來實施上述排氣置之調整者。 9 . 一種塗佈裝置之控制方法,主要係具備有: 容器;及 配置於上述容器內而且昇降及旋轉自如之旋轉載置台 :及 對於載置於該旋轉載置台上之被處理體表面,一面供 給規定之塗佈液,一面將上述旋轉載置台旋轉*由而在上 述被處理體表面形成規定之塗佈膜之塗佈膜形成機構;及 將由上述被處理體飛散而被收集於上述容器之內部之 上述塗佈液,以做爲廢液地與排氣一齊從上述容器排出之 排出機構;及 從上述排出機構而暫時的將上述廢液予以貯存之貯存 機構;及 在於上述貯存機構中,分離上述廢液及上述排氣之氣 液分離機構;以及 以在上述貯存機構中*能貯存規定量之廢液及/或溶 劑的調整廢液之貯存量之傭存童調整機構;以及 在於實施藉上述氣液分離機構而分離之排氣之氣體排 出之排水系中之可調整開度之排氣植門之塗佈裝置之控制 本紙張尺度逋用中國國家梯率(CNS ) A4规格(Ϊ10Χ297公釐) " -28 - ^^1 ΙΛΙ ml 1.· n ml I I m ^^1 paj m 1 1 - \) (請先聞讀背面之注$項再填寫本頁) A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 方法中,其特徴爲, 在未實施被處理體之處理時•減縮上述排氣檔門之開 度,而以該貯存機構之廢液及/或溶液之不凝固之程度之 流量而實施排氣者。 10_如申請專利範圃第9項所述之塗佈裝置之控制 方法,其中在決定塗佈在被處理體表面塗佈膜之膜厚之階 段而縮減上述排氣植門之開度以減小排氣流置者。 ____^ S (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) • 1-· 11 · 訂 《! 經濟部中央揉準局貝工消费合作社印製 本紙張尺度適用中國國家楳準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _ 29 _
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