JP2024007189A - 液処理装置 - Google Patents

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浩平 川上
Kohei Kawakami
聡 新村
Satoshi Niimura
健太 柴崎
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昇太 上山
Shota Kamiyama
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Abstract

【課題】基板の回転塗布処理時に発生する異物による排気経路の詰まりを抑制する。【解決手段】基板上に塗布液を塗布する液処理装置であって、前記基板を保持して回転させる基板保持部と、該基板保持部に保持された前記基板に前記塗布液を塗布する塗布液供給部と、前記基板保持部に保持される前記基板を囲むカップと、を備え、前記カップは、前記基板保持部の外側に配置された外カップ部と、前記外カップ部の内周側、かつ、前記基板保持部の下方に配置され、下方に延びた壁体を有する内カップ部と、前記外カップ部と前記内カップ部との間に設けられた排気経路と、排気流が通過する複数の開口部が設けられ、前記内カップ部の前記壁体の下方において、該壁体の下端との間に隙間を空けて下方に延びた塗布液捕集部と、を有し、前記塗布液捕集部に前記塗布液の溶剤を供給する溶剤供給部を備える。【選択図】図１

Description

本開示は、液処理装置に関する。
特許文献１は、基板上に塗布液を塗布する液処理装置を開示している。この液処理装置は、基板を保持して回転させる基板保持部と、該基板保持部に保持された基板に塗布液を塗布する塗布液供給部と、基板保持部に保持される基板を囲み得るように、基板保持部の外側に配置されたカップ部と、基板保持部とカップ部の内周面との間に設けられる排気経路と、排気経路の上方に当該排気経路を覆うように設けられ、かつ、上下方向に連通する開口部を有する塗布液捕集部と、塗布液捕集部に塗布液の溶剤を供給する溶剤供給部と、塗布液捕集部の上方に位置し、カップ部の内周面から塗布液捕集部に向けて突出する中継部と、を備えている。
特開２０１９－１４５５６１号公報
本開示にかかる技術は、基板の回転塗布処理時に発生する異物による排気経路の詰まりを抑制する。
本開示の一態様は、基板上に塗布液を塗布する液処理装置であって、前記基板を保持して回転させる基板保持部と、該基板保持部に保持された前記基板に前記塗布液を塗布する塗布液供給部と、前記基板保持部に保持される前記基板を囲むカップと、を備え、前記カップは、前記基板保持部の外側に配置された外カップ部と、前記外カップ部の内周側、かつ、前記基板保持部の下方に配置され、下方に延びた壁体を有する内カップ部と、前記外カップ部と前記内カップ部との間に設けられた排気経路と、排気流が通過する複数の開口部が設けられ、前記内カップ部の前記壁体の下方において、該壁体の下端との間に隙間を空けて下方に延びた塗布液捕集部と、を有し、前記塗布液捕集部に前記塗布液の溶剤を供給する溶剤供給部を備える。
本開示によれば、基板の回転塗布処理時に発生する異物による排気経路の詰まりを抑制することができる。
本実施の形態にかかるレジスト塗布装置の構成の概略を示す縦断面図である。 本実施の形態にかかるレジスト塗布装置の構成の概略を示す横断面図である。 メッシュリングについて説明するためのカップの横断面を示す図である。 メッシュリングの斜視図である。 メッシュリングについて説明するためのカップの縦断面を示す図である。 メッシュリングに供給される溶剤の流れの一例を示す図である。 液受け部について説明するためのカップの縦断面を示す図である。 メッシュリングに供給される溶剤の流れの一例を示す図である。 液受け部の構成例を示す図である。 メッシュリングの斜視図である。 開口部における溶剤の残留状態の一例を示す図である。 メッシュリングの固定構造の一例を説明するための説明図である。 メッシュリングとアタッチメントの取付部を説明するための説明図である。 図１３のＡ部の拡大図である。 メッシュリングに供給される溶剤の流れの一例を示す図である。
例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、基板としての半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という）上に所定の塗布液を塗布して反射防止膜やレジスト膜といった塗布膜を形成する塗布処理が行われる。
上述した塗布処理においては、回転中のウェハにノズルから塗布液を供給し、遠心力によってウェハ上で塗布液を拡散することでウェハ上に塗布膜を形成する、いわゆるスピン塗布法が広く用いられている。スピン塗布法を行うための回転式の液処理装置には、回転するウェハの表面から飛散した塗布液が周囲に飛散することを防止するために、カップと呼ばれる容器が設けられている。このようなカップにおいては、回転するウェハの縁部から飛散してミスト状となった塗布液の舞い上がりによりカップ外を汚染することがないように、カップの底部から排気が行われる。
ところで、近年、高粘度のレジスト液などの塗布液を用いて、ウェハ上に膜厚の大きい塗布膜を形成することが求められる場合がある。このような高粘度の塗布液を用いる場合、塗布液を塗布したウェハを回転させて塗布液を拡散させる際に、ウェハの縁部から塗布液が振り切られて一部が糸状に固化することがある。そして、このような糸状に固化した塗布液（以下、糸状異物という）は、塗布処理を行う過程で複数生成されるため、それらの糸状異物同士が互いに絡み合い、綿状異物となる場合がある。
これらの糸状又は綿状の異物は、排気経路中に詰まることが懸念される。特に、カップ内の底部近傍における排気経路は、カップ内の上部における排気経路よりも狭小な部分が多いことから、上記の異物が詰まりやすい。異物による排気経路の詰まりが生じた場合には、カップ内排気を行うために必要な所望の排気圧を得ることができず、例えばミスト状となった塗布液がカップの上方に舞い上がり、カップ外が汚染されるおそれがある。
そこで、本開示にかかる技術は、基板の回転塗布処理時に発生する異物による排気経路の詰まりを抑制する。
以下、本実施形態にかかる液処理装置について図面を参照しながら説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
図１及び図２はそれぞれ、液処理装置としてのレジスト塗布装置１の構成の概略を示す縦断面図及び横断面図である。図３は、塗布液捕集部としてのメッシュリング１５０について説明するためのカップ１１０の横断面を示す図である。図４は、メッシュリング１５０の斜視図である。
図１及び図２に示すように、レジスト塗布装置１は、内部を密閉可能な処理容器１００を有している。処理容器１００の側面には、基板としてのウェハＷの搬入出口（図示せず）が形成されている。処理容器１００内には、ウェハＷを保持して回転させる基板保持部としてのスピンチャック１０１が設けられている。スピンチャック１０１は、例えばモータなどのチャック駆動部１０２により所定の速度に回転できる。また、チャック駆動部１０２には、例えばシリンダなどの昇降駆動機構が設けられており、スピンチャック１０１は昇降自在になっている。
また、処理容器１００内には、スピンチャック１０１を収容し底部から排気されるカップ１１０が設けられている。カップ１１０は、ウェハＷから飛散又は落下する液体を受け止めて回収するものである。カップ１１０は、スピンチャック１０１に保持されたウェハＷを囲むようにスピンチャック１０１の外側に配置された、外カップ部としてのアウターカップ１２０と、アウターカップ１２０の内周側に位置する、内カップ部としてのインナーカップ１３０と、を含む。
アウターカップ１２０の下部には、下方に向かって延びる筒状の壁体としての側壁１２１が設けられている。また、インナーカップ１３０には、内周端から外周端に向かって下方に傾斜した環状の傾斜壁１３１と、傾斜壁１３１の外周端から下方に延びる筒状の壁体としての側壁１３２が設けられている。傾斜壁１３１は、スピンチャック１０１の下方に配置され、ウェハＷから落下する液体を受ける。側壁１３２は、アウターカップ１２０の側壁１２１の内周面に対向するように配置され、側壁１２１と側壁１３２との間には、排気経路ｄをなす隙間が形成されている。
インナーカップ１３０の下方には、円環状の水平部材１４１と、筒状の垂直部材１４２と、カップ１１０の底部に位置する円環状の底面部材１４３が設けられている。カップ１１０内においては、それらの部材１４１、１４２、１４３と、上述したインナーカップ１３０の側壁１３２とによって囲まれる空間が形成されている。この空間内には、排気経路ｄと連通する排気口１４４を有した筒状壁部１４５が設けられている。筒状壁部１４５は、排気口１４４が上下方向（高さ方向）に向くように配置されていて、筒状壁部１４５の下端の底面部材１４３には、排気管１４６が接続されている。すなわち、カップ１１０内の排気流は、排気経路ｄから筒状壁部１４５を通過して排出される。
アウターカップ１２０の側壁１２１と、垂直部材１４２との間における底面部材１４３には、回収した液体を排出する排液口１４７が形成されており、この排液口１４７には排液管１４８が接続されている。
インナーカップ１３０の側壁１３２の下方においては、塗布液捕集部としてのメッシュリング１５０が設けられている。このメッシュリング１５０は、インナーカップ１３０の側壁１３２と、底面部材１４３との間において、レジスト液を捕集するものである。メッシュリング１５０の材料は、例えばステンレス鋼などの金属が用いられるが、溶剤に対する耐薬性を有した材料であれば特に限定されない。
メッシュリング１５０は、そのメッシュリング１５０の上端と、インナーカップ１３０の側壁１３２の下端との間に隙間が空いた状態でカップ１１０に対して固定されている。この隙間の大きさの上限は、塗布液捕集部としてのメッシュリング１５０の機能を損なわない範囲で任意に設定することができ、例えば１０ｍｍ以下に設定される。なお、カップ１１０に対するメッシュリング１５０の固定方法は、特に限定されないが、好ましい固定方法については後述する。
また、カップ１１０の半径方向における側壁１３２の外周面の位置と、メッシュリング１５０の外周面の位置は略同一となっている。これらの位置関係は、インナーカップ１３０の外周面に沿って流下する溶剤がメッシュリング１５０に落下する位置となるように、インナーカップ１３０の形状等に応じて適宜変更される。
図３及び図４に示すように、メッシュリング１５０は、上面部と下面部が開口した筒状の部品である。図４に示すように、メッシュリング１５０の側壁１５１には、排気流が通過する複数の開口部１５２が設けられている。これらの開口部１５２は、側壁１５１の外周面から内周面まで貫通する貫通孔である。また、これらの開口部１５２は、側壁１５１の周方向に沿って間隔をおいて形成され、図３及び図４に示した例では、各開口部１５２が千鳥状に配置されている。
図５は、メッシュリング１５０について説明するためのカップの縦断面を示す図であり、図５中の白抜き矢印は排気流の方向を示している。図５に示すように、排気経路ｄを流れる排気流は、メッシュリング１５０の開口部１５２を通過し、排気口１４４（図１）に向かう。一方で、レジスト塗布処理の際にインナーカップ１３０の外周面に沿って流下したレジスト液又は糸状に固化したレジスト液は、メッシュリング１５０の開口部１５２を通過し難く、側壁１５１に留まる。これにより、綿状の異物となり得るレジスト液がメッシュリング１５０に捕集される。
なお、本実施の形態では、メッシュリング１５０の形状が円筒形であるが、メッシュリング１５０の形状は、カップ１１０の形状に応じて適宜変更される。また、メッシュリング１５０の開口部１５２の数や大きさ、配置等は、レジスト液の捕集能力やカップ１１０内の排気能力、カップ１１０の形状等に応じて適宜決定されるが、好ましい開口部１５２の形状については後述する。
図２に示したように、アウターカップ１２０のＸ方向負方向（図２の下方向）側には、Ｙ方向（図２の左右方向）に沿って延伸するレール１６０が形成されている。レール１６０は、例えばアウターカップ１２０のＹ方向負方向（図２の左方向）側の外方からＹ方向正方向（図２の右方向）側の外方まで形成されている。レール１６０には、２本のアーム１６１、１６２が設けられている。
第１のアーム１６１には、塗布液としてレジスト液を供給する、塗布液供給部としてのレジスト液供給ノズル１６３が支持されている。レジスト液供給ノズル１６３が供給するレジスト液は、例えば５０ｃｐ以上の高粘度を有する。第１のアーム１６１は、移動機構としてのノズル駆動部１６４により、レール１６０上を移動自在である。これにより、レジスト液供給ノズル１６３は、アウターカップ１２０のＹ方向正方向側の外方に設置された待機部１６５からアウターカップ１２０内のウェハＷの中心部上方を通って、アウターカップ１２０のＹ方向負方向側の外側に設けられた待機部１６６まで移動できる。また、ノズル駆動部１６４によって、第１のアーム１６１は昇降自在であり、レジスト液供給ノズル１６３の高さを調節できる。
第２のアーム１６２には、ウェハＷ上にシンナー等の有機溶剤を供給する溶剤供給ノズル１６７が支持されている。第２のアーム１６２は、移動機構としてのノズル駆動部１６９によってレール１６０上を移動自在となっている。これにより、溶剤供給ノズル１６７は、アウターカップ１２０のＹ方向正方向側の外側に設けられた待機部１６８から、アウターカップ１２０内のウェハＷの中心部上方まで移動できる。待機部１６８は、待機部１６５のＹ方向正方向側に設けられている。また、ノズル駆動部１６９によって、第２のアーム１６２は昇降自在であり、溶剤供給ノズル１６７の高さを調節できる。
溶剤供給ノズル１６７から供給される溶剤は、レジスト液がウェハＷ上で拡散し易くするためにレジスト液の塗布前に行われるプリウェット処理の際に、ウェハＷ上に供給されるプリウェット液として機能する。また、溶剤供給ノズル１６７からの溶剤は、プリウェット処理の際にウェハＷから振り切られてインナーカップ１３０に落下し、落下した溶剤は、そのインナーカップ１３０の外周面に沿って流下する。
また、図１に示したように、インナーカップ１３０とスピンチャック１０１との間には、ウェハＷの裏面にシンナー等の有機溶剤を供給するバックリンス液供給ノズル１７０が設けられている。バックリンス液供給ノズル１７０から供給される溶剤は、ウェハＷ上にレジスト液を拡散する際等にウェハＷの裏面側に回り込むことを防止するために、ウェハＷの裏側の端部に供給される。ウェハＷの裏面側に供給された溶剤は、インナーカップ１３０に落下し、インナーカップ１３０の外周面に沿って流下する。
図６は、メッシュリング１５０に供給される溶剤の流れの一例を示す図であり、図中の太線矢印は溶剤の流れる方向を模式的に示している。図６に示すように、インナーカップ１３０の外周面に沿って流下した溶剤は、インナーカップ１３０の側壁１３２を伝い、メッシュリング１５０に落下する。これにより、メッシュリング１５０に溶剤が供給される。
このように、インナーカップ１３０の外周面に沿って流下する溶剤がメッシュリング１５０に供給されることになるため、インナーカップ１３０の外周面に溶剤を供給する手段は、メッシュリング１５０に溶剤を供給する溶剤供給部として機能する。
本実施の形態では、上述した溶剤供給ノズル１６７及びバックリンス液供給ノズル１７０が、溶剤供給部として機能する。溶剤供給部は、これらのノズル１６７、１７０であることに限定されず、例えばインナーカップ１３０の内部に設けられた溶剤吐出孔（図示せず）からインナーカップ１３０の外周面に溶剤を吐出する機構であってもよい。この場合においても、インナーカップ１３０の外周面に沿って流下する溶剤がメッシュリング１５０に供給される。すなわち、メッシュリング１５０に溶剤を供給する溶剤供給部の構成は特に限定されない。
図１に示すように、レジスト塗布装置１は、制御部２００を備えている。制御部２００は、例えばＣＰＵやメモリ等を備えたコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、レジスト塗布装置１におけるウェハＷに対する一連のレジスト塗布処理を制御する各種のプログラムが格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体Ｈに記録されていたものであって、当該記憶媒体Ｈから制御部２００にインストールされたものであってもよい。記憶媒体Ｈは一時的記憶媒体か非一時的記憶媒体かを問わない。プログラムの一部または全ては専用ハードウェア（回路基板）で実現してもよい。
本実施形態にかかるレジスト塗布装置１は、以上のように構成されている。このレジスト塗布装置１では、インナーカップ１３０の側壁１３２の下方に配置されたメッシュリング１５０によって、レジスト塗布処理の際にインナーカップ１３０の外周面に沿って流下したレジスト液又は糸状に固化したレジスト液を捕集できる。
そして、例えばレジスト塗布処理の前又は後のタイミングでウェハＷに供給され溶剤が、インナーカップ１３０の外周面に沿って流下することによって、メッシュリング１５０に溶剤を供給できる。このメッシュリング１５０に供給された溶剤が、捕集されたレジスト液又はレジスト液の固化物に接触することで、レジスト液の希釈又はレジスト液の固化物が溶解する。これにより、メッシュリング１５０に捕集されたレジスト液又はレジスト液の固化物が排液され易い状態となり、排液口１４７から排出される。その結果、排気口１４４や排気管１４６等の排気経路における異物の詰まりを抑制できる。
以上、レジスト塗布装置１の概略構成について説明した。次に、メッシュリング１５０の他の構成例について説明する。
（液受け部）
図７は、液受け部１５３について説明するためのカップ１１０の縦断面を示す図である。図８は、メッシュリング１５０に供給される溶剤の流れの一例を示す図である。
図７に示すように、メッシュリング１５０は、側壁１５１の上端部に液受け部１５３を有することが好ましい。液受け部１５３は、円環状に形成された水平部であり、液受け部１５３の外周端は、側壁１５１の外周面よりも外側（アウターカップ１２０側）に突出している。また、液受け部１５３の外周端は、インナーカップ１３０の側壁１３２の外周面よりもさらに外側に位置している。
なお、側壁１５１と液受け部１５３は、一体成形によって得られた一体物であってもよいし、複数部品が組み付けられて構成されたものであってもよい。液受け部１５３は、水平形状でなくてもよいが、例えばステンレス鋼などの金属板の加工によって側壁１５１と液受け部１５３を１つの部品として成形する場合には、加工容易性の観点から水平形状であることが好ましい。
図８に示すように、液受け部１５３が設けられている場合には、インナーカップ１３０の外周面に沿って流下する溶剤が、側壁１３２の下端から液受け部１５３に落下する。このため、液受け部１５３が存在しない場合に側壁１５１に到達しないような溶剤も、液受け部１５３で受け止めて回収することができる。
そして、液受け部１５３に落下した溶剤は、液受け部１５３の上面（液受け面１５３ａ）の内周端又は外周端に向かって流れる。液受け面１５３ａの内周端に向かう溶剤は、内周端から側壁１５１の内周面に供給される。一方、液受け面１５３ａの外周端に向かう溶剤は、外周端から液受け部１５３の下面を伝って、側壁１５１の外周面に供給される。
このように、メッシュリング１５０が液受け部１５３を有する場合には、インナーカップ１３０の外周面に沿って流下する溶剤をより多く回収して、メッシュリング１５０に供給することができる。このため、メッシュリング１５０に捕集されたレジスト液の希釈又はレジスト液の固化物の溶解が促進され、排気経路への異物の詰まりを抑制する効果を高めることができる。
なお、液受け部１５３の形状は、図８に示したようなＬ字状に限定されず、例えばＴ字状であってもよい。一方で、カップ１１０内の排気が行われている間は、メッシュリング１５０の外周側から内周側に向かう方向（図８の左から右に向かう方向）に排気流が形成されている。このため、液受け部１５３がＴ字状である場合には、液受け部１５３の内周端を伝う溶剤が排気流の影響を受けて側壁１５１に到達し難くいことがある。
したがって、図８に示したように、液受け部１５３の外周端がインナーカップ１３０の側壁１３２よりも外側に突出している場合には、液受け部１５３の内周端と、側壁１５１の内周面は段差なく連続していることが好ましい。これにより、Ｔ字状の液受け部と比較すると、液受け部１５３の内周端から側壁１５１に溶剤が供給され易くなる。
また、液受け部１５３の形状は、例えば図９（ａ）～（ｄ）に示す形状であってもよい。
図９（ａ）は、液受け部１５３の外周端部と、側壁１５１の外周面とが傾斜面１５３ｂによって接続される例である。前述の図８に示した液受け部１５３においては、図８中の点線矢印のように、液受け部１５３の外周端から溶剤の一部が落下し、側壁１５１に溶剤が供給されない場合もある。一方、図９（ａ）に示した傾斜面１５３ｂを有する液受け部１５３によれば、液受け面１５３ａの外周端から流下する溶剤が、傾斜面１５３ｂに沿って流れ易くなるため、側壁１５１への溶剤の供給量を増加させることができる。
図９（ｂ）は、液受け部１５３の外周端部に、液受け部１５３から上方に延びた側壁１５４が設けられた例である。側壁１５４は、筒状の壁体であり、インナーカップ１３０の外周面に沿って流下する溶剤は、側壁１５４よりも内周側の液受け面１５３ａに落下する。そして、液受け面１５３ａに落下した溶剤は、側壁１５４が存在することによって液受け面１５３ａの外周端から落下せずに、液受け面１５３ａの内周端側に向かって流れる。すなわち、図９（ｂ）に示した液受け部１５３によれば、液受け面１５３ａの外周端から落下しない分の溶剤も側壁１５１に供給することができる。
図９（ｃ）は、液受け面１５３ａの外周端が内周端よりも高く、液受け面１５３ａが外周端から内周端に向かって下方に傾斜している例である。図９（ｃ）に示した液受け部１５３によれば、液受け面１５３ａに落下した溶剤が、液受け面１５３ａの内周端に向かって流下する一方で、液受け面１５３ａの外周端からは落下し難くなる。これにより、メッシュリング１５０の液受け面１５３ａから側壁１５１の内周面に向かう溶剤の供給量を増加させることができる。
図９（ｄ）は、液受け面１５３ａの外周端が内周端よりも低く、液受け面１５３ａが外周端から内周端に向かって上方に傾斜している例である。図９（ｄ）に示した液受け部１５３によれば、液受け面１５３ａに落下した溶剤が、液受け面１５３ａの外周端に向かって流下する一方で、液受け面１５３ａの内周端からは落下し難くなる。これにより、メッシュリング１５０の液受け面１５３ａから側壁１５１の外周面に向かう溶剤の供給量を増加させることができる。
（開口部の形状例）
次に、開口部１５２の他の形状例について説明する。図１０は、メッシュリング１５０の斜視図である。
図１０に示す開口部１５２は、矩形状であって、開口部１５２の上端及び下端に短辺側が位置している。また、開口部１５２は、メッシュリング１５０の側壁１５１の上端部から下端部まで延びていて、各開口部１５２は、メッシュリング１５０の周方向に沿って間隔をおいて配置されている。
開口部１５２がこのような形状である場合には、メッシュリング１５０に供給される溶剤によって開口部１５２が閉塞される状態を抑制し、カップ内排気において、所望の排気圧を維持し易くすることができる。以下、図１１を参照しながら、この理由について説明する。
図１１は、開口部１５２における溶剤の残留状態の一例を示す図であり、図中の黒丸は開口部１５２に残留する溶剤を模式的に示している。
メッシュリング１５０に供給された溶剤は、排液されずにメッシュリング１５０の側壁１５１又は開口部１５２に付着したまま残ることがある。このとき、図１１（ａ）に示したように、開口部１５２の上端形状が、例えば楕円形や円形等のように水平でない場合には、側壁１５１の上方から下方に向かって流れる溶剤が開口部１５２を通過する際に、開口部１５２に溶剤の液膜が形成され易い。
上記の液膜によって閉塞された開口部１５２ａが存在しても、液膜が形成されずに開放されている開口部１５２ｂも存在するため、前述したレジスト塗布処理を行うことはできる。しかし、閉塞された開口部１５２ａが存在すると、排気流が通過できる開口部１５２ｂの数が相対的に減少するため、カップ内排気における所望の排気圧の維持が困難となる。このため、カップ内の排気能力を許容範囲内で維持しながら、レジスト塗布処理を行うためには、閉塞した開口部１５２ａの液膜除去のためのメンテナンス頻度を増加させる必要がある。
これに対し、図１１（ｂ）に示すように、開口部１５２の上端形状が水平形状であれば、開口部１５２が閉塞するような液膜が形成され難くなる。このため、開口部１５２の上端は、水平に形成されていることが好ましい。
また、開口部１５２は、図１１（ｂ）に示したように矩形状であって、短辺側が開口部１５２の上端と下端に位置していることが好ましい。これにより、メッシュリング１５０に供給される溶剤による液膜の形成をさらに抑制できる。
一方、図１１（ｂ）のように矩形状の開口部１５２がメッシュリング１５０の高さ方向に複数配置される場合には、高さ方向に並ぶ各々の開口部１５２にそれぞれ溶剤の液滴が形成されることがある。
このため、矩形状の開口部１５２は、前述の図１０及び図１１（ｃ）に示すように、メッシュリング１５０の側壁１５１の上端部から下端部まで延びていることが好ましい。これにより、高さ方向に並ぶ開口部１５２の数が減少し、溶剤の液滴が発生し易い箇所自体が減少する。その結果、開口部１５２に溶剤の液滴が形成されたとしても、メッシュリング１５０全体としての開口面積の減少を抑えることができる。このため、メッシュリング１５０のメンテナンス頻度を減少させても、所望の排気圧を維持し易くすることができる。
（メッシュリングの固定）
次に、メッシュリング１５０の固定方法の一例について説明する。
図１２は、メッシュリング１５０の固定構造を説明するための説明図であり、その固定構造の一部断面が示されている。図１３は、メッシュリング１５０とアタッチメント１８０の取付部を説明するための説明図である。図１４は、図１３のＡ部の拡大図である。図１５は、メッシュリング１５０に供給される溶剤の流れの一例を示す図であり、図中の太線矢印は溶剤の流れる方向を模式的に示している。
図１２に示す例では、アタッチメント１８０を介してメッシュリング１５０が筒状壁部１４５に固定されている。アタッチメント１８０は、円環状の上面部１８１と、上面部１８１の外周端から下方に延びた側壁部１８２を有する。アタッチメント１８０の材料は、例えばステンレス鋼などの金属が用いられるが、溶剤に対する耐薬性を有した材料であれば特に限定されない。
このアタッチメント１８０を筒状壁部１４５に取り付ける際には、アタッチメント１８０を筒状壁部１４５の上端部に被せることによって、上面部１８１が筒状壁部１４５の上面に接し、側壁部１８２の内周面が筒状壁部１４５の外周面に接した状態となる。すなわち、アタッチメント１８０は、筒状壁部１４５の上端部に嵌合する形状を有し、筒状壁部１４５の上端部に対して着脱自在に構成されている。
図１３及び図１４に示すように、側壁部１８２には、その側壁部１８２の外周面から外方に突出した、メッシュリング１５０を取り付けるための取付部１８３が設けられている。この取付部１８３は、側壁部１８２の下端部に設けられているため、取付部１８３の上面は、側壁部１８２の上端よりも低い位置にある。また、取付部１８３は、側壁部１８２の周方向に沿って間隔をおいて２箇所形成されている。
メッシュリング１５０の内周面には、上記の２つの取付部１８３と同様の間隔で形成された、アタッチメント１８０を取り付けるための取付部としてブラケット部１５５が設けられている。ブラケット部１５５は、側壁１５１の上端部の内周面から下方に延びる壁体１５６と、壁体１５６の下端部から内方に突出した水平な壁体１５７を有する。すなわち、ブラケット部１５５は、壁体１５６と壁体１５７によってＬ字状に形成されている。
メッシュリング１５０にアタッチメント１８０を取り付ける際には、ブラケット部１５５の壁体１５７の上に、アタッチメント１８０の取付部１８３が重ねられ、固定具としてのボルト１８４によって互いに固定される。そして、メッシュリング１５０が取り付けられたアタッチメント１８０を、筒状壁部１４５（図１２）の上端部に被せることによって、筒状壁部１４５にメッシュリング１５０が固定される。
以上のような筒状壁部１４５にメッシュリング１５０を固定する構造であれば、レジスト塗布装置１を新規に製造する場合のみならず、メッシュリング１５０を有しない既存のレジスト塗布装置に対してもメッシュリング１５０を取り付けることができる。
また、筒状壁部１４５に対して着脱自在にメッシュリング１５０を固定する構造であれば、メッシュリング１５０の交換や清掃等のメンテンナンスを容易に行うことができる。これに加え、複数のレジスト塗布装置でメッシュリング１５０を兼用することも可能となる。
また、上記のメッシュリング１５０の固定方法においては、液受け部１５３に落下した溶剤が、側壁１５１に流れる一方で、ブラケット部１５５の形成箇所においては、図１５に示すように、溶剤が液受け部１５３からブラケット部１５５に流れる。そして、ブラケット部１５５に流れた溶剤は、壁体１５６、１５７に沿って流れ、壁体１５７から落下して排液される。すなわち、メッシュリング１５０とアタッチメント１８０との取付部が、アタッチメント１８０の上端よりも低い位置にあるため、メッシュリング１５０からアタッチメント１８０側に流れた溶剤が、排気口１４４（図１２）に流入することを抑制できる。
以上、アタッチメント１８０を介してメッシュリング１５０を筒状壁部１４５に固定する方法について説明した。
なお、メッシュリング１５０は、筒状壁部１４５との固定部（図１２の例ではアタッチメント１８０）を除き、カップ１１０に対して非接触となるように固定されることが好ましい。これにより、メッシュリング１５０とカップ１１０との間におけるレジスト液の滞留が抑制され、レジスト液の固化に起因する各部品間の固着を抑制できる。
特に、メッシュリング１５０と、カップ１１０の底面部材１４３（図１）とが非接触であれば、溶剤によって希釈されたレジスト液又は溶剤によって溶解した糸状又は綿状異物の溶解液が排液され易くなる。
また、メッシュリング１５０と筒状壁部１４５は、アタッチメント１８０を設けずに固定されてもよい。この場合、メッシュリング１５０と筒状壁部１４５との固定部（図示せず）は、筒状壁部１４５の上端よりも低い位置にあることが好ましい。これにより、メッシュリング１５０と筒状壁部１４５との固定部に流れ込む溶剤が、筒状壁部１４５の上端を超えずに排液され易くなり、排気口１４４への溶剤の流入が抑制される。
以上、レジスト塗布装置１を例に挙げて本開示にかかる液処理装置について説明した。なお、本開示にかかる液処理装置は、半導体ウェハ以外の処理対象基板、例えばＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）基板やフォトマスク用のマスクレチクルなどの基板の液処理装置にも適用できる。
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲、本開示の技術的範囲に属する構成例及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。例えば、上記実施形態の構成要件は任意に組み合わせることができる。当該任意の組み合せからは、組み合わせにかかるそれぞれの構成要件についての作用及び効果が当然に得られるとともに、本明細書の記載から当業者には明らかな他の作用及び他の効果が得られる。
また、本明細書に記載された効果は、あくまで説明的または例示的なものであって限定的ではない。つまり、本開示に係る技術は、上記の効果とともに、又は、上記の効果に代えて、本明細書の記載から当業者には明らかな他の効果を奏しうる。
なお、以下のような構成例も本開示の技術的範囲に属する。
（１）基板上に塗布液を塗布する液処理装置であって、
前記基板を保持して回転させる基板保持部と、
該基板保持部に保持された前記基板に前記塗布液を塗布する塗布液供給部と、
前記基板保持部に保持される前記基板を囲むカップと、を備え、
前記カップは、
前記基板保持部の外側に配置された外カップ部と、
前記外カップ部の内周側、かつ、前記基板保持部の下方に配置され、下方に延びた壁体を有する内カップ部と、
前記外カップ部と前記内カップ部との間に設けられた排気経路と、
排気流が通過する複数の開口部が設けられ、前記内カップ部の前記壁体の下方において、該壁体の下端との間に隙間を空けて下方に延びた塗布液捕集部と、を有し、
前記塗布液捕集部に前記塗布液の溶剤を供給する溶剤供給部を備える、液処理装置。
（２）前記塗布液捕集部の上端部に、前記壁体から落下する前記溶剤を受ける液受け部を有する、（１）に記載の液処理装置。
（３）前記液受け部は、前記壁体の外周面よりも外側に突出している、（２）に記載の液処理装置。
（４）前記液受け部の形状は、水平である、（２）又は（３）に記載に液処理装置。
（５）前記開口部の上端形状は、水平である、（１）～（４）のいずれかに記載の液処理装置。
（６）前記開口部は、矩形状であり、短辺側が該開口部の上端及び下端に位置している、（１）～（５）のいずれかに記載の液処理装置。
（７）前記複数の開口部は、前記塗布液捕集部の上端部から下端部まで延び、
各開口部は、前記塗布液捕集部の周方向に沿って間隔をおいて配置されている、（１）～（６）のいずれかに記載の液処理装置。
（８）前記内カップ部の下方に設けられ、前記排気経路と連通する排気口を有した筒状壁部を備え、
前記塗布液捕集部は、前記筒状壁部に固定されている、（１）～（７）のいずれかに記載の液処理装置。
（９）前記塗布液捕集部は、前記筒状壁部との固定部を除き、前記カップに対して非接触である、（８）に記載の液処理装置。
１ レジスト塗布装置
１０１ スピンチャック
１１０ カップ
１２０ アウターカップ
１３０ インナーカップ
１３２ 側壁
１５０ メッシュリング
１５２ 開口部
１６３ レジスト液供給ノズル
１６７ 溶剤供給ノズル
１７０ バックリンス液供給ノズル
ｄ 排気経路
Ｗ ウェハ

Claims (9)

  1. 基板上に塗布液を塗布する液処理装置であって、
    前記基板を保持して回転させる基板保持部と、
    該基板保持部に保持された前記基板に前記塗布液を塗布する塗布液供給部と、
    前記基板保持部に保持される前記基板を囲むカップと、を備え、
    前記カップは、
    前記基板保持部の外側に配置された外カップ部と、
    前記外カップ部の内周側、かつ、前記基板保持部の下方に配置され、下方に延びた壁体を有する内カップ部と、
    前記外カップ部と前記内カップ部との間に設けられた排気経路と、
    排気流が通過する複数の開口部が設けられ、前記内カップ部の前記壁体の下方において、該壁体の下端との間に隙間を空けて下方に延びた塗布液捕集部と、を有し、
    前記塗布液捕集部に前記塗布液の溶剤を供給する溶剤供給部を備える、液処理装置。
  2. 前記塗布液捕集部の上端部に、前記壁体から落下する前記溶剤を受ける液受け部を有する、請求項１に記載の液処理装置。
  3. 前記液受け部は、前記壁体の外周面よりも外側に突出している、請求項２に記載の液処理装置。
  4. 前記液受け部の形状は、水平である、請求項３に記載に液処理装置。
  5. 前記開口部の上端形状は、水平である、請求項１～４のいずれか一項に記載の液処理装置。
  6. 前記開口部は、矩形状であり、短辺側が該開口部の上端及び下端に位置している、請求項１～４のいずれか一項に記載の液処理装置。
  7. 前記複数の開口部は、前記塗布液捕集部の上端部から下端部まで延び、
    各開口部は、前記塗布液捕集部の周方向に沿って間隔をおいて配置されている、請求項６に記載の液処理装置。
  8. 前記内カップ部の下方に設けられ、前記排気経路と連通する排気口を有した筒状壁部を備え、
    前記塗布液捕集部は、前記筒状壁部に固定されている、請求項１～４のいずれか一項に記載の液処理装置。
  9. 前記塗布液捕集部は、前記筒状壁部との固定部を除き、前記カップに対して非接触である、請求項８に記載の液処理装置。


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