JP2527318B2 - レジスト組成物を回収、再使用するための方法および装置 - Google Patents

レジスト組成物を回収、再使用するための方法および装置

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、シリコンウエハー上に薄膜を形成させる際
に使用したレジスト組成物の残液の回収ならびに再使用
に関する。
さらに詳しく言えば、本発明は上記のレジスト組成物
を回収し、再使用するための方法および装置に関する。
レジスト組成物は、半導体工業、印刷工業等で大量に
使用されている。例えばICを製作する上でレジスト組成
物はシリコンウエハー上にスピンナー等を用いて塗布し
薄膜を形成させるために使用されているが、シリコンウ
エハー上に塗布する際に、使用するレジスト組成物の90
％以上は飛び散り、これを集めた廃液は、処理業者に依
頼し処理されているのが現状である。本発明者らは、資
源の有効利用の観点からこの廃液処理されるレジスト組
成物も回収し、再使用するための方法および装置につ
き、種々研究した結果、本発明により、上記のレジスト
組成物残液を回収し、再使用するための優れた方法なら
びに装置を提供することに成功した。
すなわち、本発明は、シリコンウエハー上に塗布する
にあたつて、飛散したレジスト組成物を回収し、再使用
を可能にする下記の方法および装置を提供するものであ
る。
本発明の方法は、 スピンナーより飛散したレジスト組成物を回収し、 そのレジスト組成物を恒温条件に維持された回収槽
に導き、 回収槽において、そのレジスト組成物の粘度を測定
し、 上記の粘度測定結果に従つて、そのレジスト組成物
が所定の粘度を示すに至るまで溶媒を回収槽に導入し、 そのレジスト組成物の粘度が所定の粘度に達したと
きに、溶媒の供給を停止し、 所定の粘度に達したレジスト組成物を貯蔵槽に移送
し、 必要時に、そのレジスト組成物を貯蔵槽よりシリコ
ンウエハー塗布に再使用するために塗布室へ回送する ことよりなる。
本発明は、また、上記の方法に使用するための装置を
提供するものである。
本発明の装置は、下記ａ）〜ｅ）の要件を備えている
ことを特徴とするレジスト組成物の回収槽よりなる。
ａ）恒温条件に維持するための手段と ｂ）導入されたレジスト組成物の粘度を測定するための
手段と ｃ）上記の組成物の粘度を測定した結果、その粘度が所
定の粘度より高いときに、補給される溶媒を供給するた
めの通路の弁が開かれ粘度が所定の粘度に達したとき
に、前期の弁が閉じるように粘度測定手段と弁とが連動
されており、 ｄ）レジスト組成物の導入路および ｅ）所定の粘度に達したレジスト組成物の排出路 本発明の方法および装置を以下に添付図面を参照し
て、詳細に説明する。
図面において、１は、シリコンウエハーに薄膜を形成
させるためのレジスト組成物の塗布室である。塗布室に
おいてレジスト組成物をシリコンウエハーに塗布する
際、スピンナーにより飛散したレジスト組成物（以下、
残液組成物という）は、一旦、予備回収槽２に導かれ
る。次に、予備回収槽２から残液組成物は、回収槽３に
導かれる回収槽３は、恒温条件に維持するための手段６
と、残液組成物の粘度を経常的に測定するための手段４
を備えており、粘度測定手段４は、残液組成物の粘度の
高低に応じて、溶媒供給槽５からの溶媒の供給を制御す
る弁５′の開閉手段と連動し、回収槽３内の残液組成物
の粘度が所定の粘度より高いときに弁５′が開いて溶媒
が供給され、残液組成物の粘度が所定の粘度に達したと
きに弁５′が閉じて、溶媒の供給が停止されるようにな
つている。
上記の溶媒は、最初にシリコンウエハー上に薄膜を形
成するために使用されるレジスト組成物で用いられてい
る溶媒と、その組成は同一のものであり、上記の所定の
粘度とは、上記の最初に使用するレジスト組成物の粘度
を意味している。
上記の回収槽３において、粘度の調整を了えて、所定
の粘度を有するに至つたレジスト組成物は、貯蔵用タン
ク７に導かれ、再使用するために貯蔵される。この組成
物は貯蔵用タンク７から、随時、使用の要求に応じて、
フイルター11を通過せしめて、組成物中に存在すること
のある好ましくない微粒子などを除去した後、再びシリ
コンウエハー塗布用として塗布室１へ回送される。貯蔵
用タンクは、必要に応じ、好ましくは、複数個（７′で
表わす）設けられる。
上述の予備回収槽２は、本発明の方法および装置にお
いて必須のものではないが、本発明方法の連続操業を可
能にする範囲において設けておくことが好ましい。回収
槽３に導入されるレジスト組成物の量は、秤量計９によ
り調整される。秤量計９としては、通常、液体の容量を
測定する際に使用される液面センサー、静電センサーな
ど、電気的にその液量を感知する装置が好ましい。その
秤量計９による感知により、認識された量は信号によつ
て伝達され、予備回収槽２から回収槽３へのレジスト組
成物の移送が制御される。
回収槽３内において、レジスト組成物は、恒温維持手
段６により、一定温度に保持される。この恒温維持手段
６としては通常は、電子的手段により回収槽３内を恒温
に維持するための手段が用いられる。恒温に維持された
レジスト組成物は、粘度測定手段４により、連続的にそ
の粘度が測定される。測定された粘度に従い、溶媒供給
用の弁５′が開閉するように、粘度測定手段４′と弁
５′の開閉手段とが連動されている。塗布作業に使用さ
れた後に回収された上記のレジスト組成物は、溶媒が蒸
散して、粘度が高くなつているので、原のレジスト組成
物の粘度に戻るまで、溶媒が、回収槽３に供給される。
溶媒の種類、処方は、原のレジスト組成物における溶媒
処方に応じて決められる。回収槽内のレジスト組成物の
粘度が原のレジスト組成物の粘度に達したときに、粘度
測定手段４からの信号により、弁５′が閉じて、溶媒の
回収槽３への供給が停止される。上記において、本発明
方法における系中のレジスト組成物又は溶媒の移動は、
通常、これらの移送に用いられている手段例えば、ポン
プを用いるか又は、窒素ガスによる圧送などの方法が適
宜選択して行うことにより達成される。回収槽３内にお
いて粘度が調整された後のレジスト組成物は、貯蔵タン
ク（7,7′）に移送され、再使用のために貯蔵される。
本発明の方法および装置により、スピンナーによるコ
ーテイングの際に、飛散したレジスト組成物は、廃棄さ
れることなく、ほとんどすべてが回収され、その粘度を
調整するこにより、所定の配合処方のレジスト組成物に
再生される。したがつて、本発明は、資源の有効利用と
ともに省力化、コストの低減などに極めて優れた成果を
もたらすものである。
【図面の簡単な説明】
添付の第１図面は、本発明の方法および装置を概念的に
表示した図である。 １……スピンナーによるコーテイング室 ２……予備回収槽、３……回収槽 ４……粘度測定手段、５……溶媒槽 ６……恒温維持手段、７……貯蔵タンク ８……温度計、９……秤量計 10……ポンプ、11……フイルター 12……予備タンク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 島内 四郎 東京都世田谷区上祖師谷２−５−13 (56)参考文献 特開 昭57−166033（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−166721（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−90604（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−118306（ＪＰ，Ａ)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】シリコンウエハー上に塗布するにあたつ
    て、スピンナーより飛散したレジスト組成物を回収し、
    そのレジスト組成物を恒温条件に維持された回収槽に導
    き、回収槽においてそのレジスト組成物の粘度を測定し
    ながら、その測定された粘度に応じて、そのレジスト組
    成物が所定の粘度を示すに至るまで溶媒を回収槽に導入
    し、そのレジスト組成物の粘度が所定の粘度に達したと
    きに、溶媒の供給を停止し、所定の粘度に達したレジス
    ト組成物を貯蔵槽に移送し、その貯蔵槽から、必要時に
    そのレジスト組成物を再使用するために取り出すことか
    らなることを特徴とするレジスト組成物の回収、再使用
    方法。
  2. 【請求項２】レジスト組成物の回収槽であつて、 ａ）その槽内の温度を恒温に維持するための手段と ｂ）その槽内に導入されたレジスト組成物の粘度を測定
    するための手段と ｃ）その回収槽に溶媒が供給されるための溶媒導入路と ｄ）レジスト組成物の導入路と ｅ）レジスト組成物の排出路と ｆ）上記ｂ）の粘度測定手段により粘度が測定された結
    果、その粘度が所定の粘度より高いときに、上記ｃ）の
    溶媒導入路が開き、その粘度が所定の粘度に達したとき
    に、上記ｃ）の溶媒導入路が閉じるようにする手段 とを備えてなることを特徴とするレジスト組成物の回収
    槽。
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