JP2855517B2 - コーティング装備のフィルタハウジング - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 20
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 56
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
- B01D46/42—Auxiliary equipment or operation thereof
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
- B05C11/1047—Apparatus or installations for supplying liquid or other fluent material comprising a buffer container or an accumulator between the supply source and the applicator
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
- B01D35/30—Filter housing constructions
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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Description
ォトレジスト（ＰＲ）を塗布するコーティング装備に係
り、さらに詳しくは供給されるフォトレジスト内に含ま
れた異物を漉すためのフィルタハウジングに関する。
を示す概略図であって、ローディングされたカセット内
のウェーハを工程流れに従って必要な時に順次１個ずつ
分離して移送するセンダインデックス１と、センダイン
デックスの動作によって移送されてきたウェーハの表面
にＨＭＤＳガスを一定に塗布してフォトレジストの吸着
力を向上させる吸着ユニット２と、ＨＭＤＳガスが一定
に塗布されたウェーハをフォトレジストの吸着力を向上
させるために、フォトレジストの温度まで冷却させる冷
却板３と、フォトレジストをウェーハの表面にコーティ
ングするコーティングユニット４と、ウェーハを加熱し
て表面にコーティングされたフォトレジストを硬化させ
ソルベント成分を蒸発させるホットプレート５と、フォ
トレジストがコーティングされたウェーハをカセット内
に順次受納するリシーブインデックス６とから構成され
ている。
ウェーハが満たされたカセットをセンダインデックス１
にローディングさせた状態で、スタートスイッチボタン
を押すと、移送手段はカセット内に入っていたウェーハ
を工程流れに従って要求される時期に１個ずつ分離して
吸着ユニット２に移送させる。この動作によって１個の
ウェーハが吸着ユニット２のホットプレート（図示せ
ず）の上面に移送されてくると、ウェーハを真空によっ
て吸着し、ホットプレートの外側に設けられて下降した
カップが上昇する。
ミングされた時間の間ＨＭＤＳガスが塗布されて、工程
を進行すると、上昇していたカップが下降し、ウェーハ
は次の工程の冷却板３に移送されて冷却される。ウェー
ハが初期状態に冷却されると、ウェーハは搬送手段によ
ってコーティングユニット４側に移送されてスピンチャ
ックに吸着固定される。その後、スピンチャックが回転
する状態でノズルを通してフォトレジストが噴射される
と、噴射されたフォトレジストが遠心力によってウェー
ハ上で放射状に広がり、ウェーハの表面にフォトレジス
トが均一にコーティングされる。ウェーハの表面にフォ
トレジストがコーティングされると、ウェーハは移送手
段によってホットプレート５が設けられた側に移送され
て一定の温度に加熱され、ウェーハの表面にコーティン
グされたフォトレジストのソルベント成分が蒸発しなが
ら硬化する。コーティングされたフォトレジストが硬化
すると、ウェーハはリシーブインデックス６に載せられ
ていたカセット内に順次受納されることにより、フォト
レジストのコーティング工程が完了する。
装備におけるウェーハの表面にフォトレジストをコーテ
ィングするコーティングユニット４についてさらに詳細
に説明する。図２は一般的なコーティングユニット４の
構成を示す概略図であり、ウェーハ７の表面にコーティ
ングしようとするフォトレジストが入った容器８と、容
器内のフォトレジストを貯蔵するバッファタンク９と、
容器及びバッファタンク内のフォトレジストを吸引する
ポンプ１０と、ポンプの動作によって移送されるフォト
レジスト内の異物を漉すフィルタハウジング１１と、回
転するウェーハの表面にフォトレジストを噴射するノズ
ル１２と、フィルタハウジングとノズルとの間に設けら
れた空気圧弁１３と、工程を進行するウェーハを真空に
よって吸着するとともに高速で回転させるスピンチャッ
ク１４とから構成されている。
相互連結されている。吸着ユニット２及び冷却板３にお
いて工程を進行するウェーハ７の表面にフォトレジスト
が良く吸着できる条件が設定され、スピンチャック１４
によって移送されて、ウェーハはスピンチャックに真空
吸着する。その後、スピンチャックが回転する状態でポ
ンプ１０の動作でフィルタハウジング１１を通して異物
が完全に除去されたフォトレジストがノズルを通してウ
ェーハ７の上面に噴射されると、フォトレジストはウェ
ーハの表面に均一にコーティングされる。
４で容器８の交替及びポンプ１０の吸引力、そして管路
１５の連結部機密低下等によってフォトレジスト内にバ
ブルが発生する。そのバブルをフィルタハウジング１１
内で完全に除去しなければ、ウェーハの歩留まりを向上
させることができない。
考えてみる。作業中、容器８内のフォトレジストが一定
量以下になって作業者にメッセージが伝達されると、作
業者はポンプ１０の駆動を中断させ、バッファタンク９
に設けられた弁（図示せず）を止める。その後、使い切
った容器８を分離して除去するとともに新しい容器（フ
ォトレジスタが満たされた容器）に交替した後、バッフ
ァタンク９に設けられたドレイン弁（図示せず）を開放
し、容器の内部へ窒素（Ｎ2） ガスを注入すると、管路
１５及び容器の蓋に固定されたチューブ内に残留してい
た空気がバッファタンク９を介して外部に排出される。
しかし、バッファタンク９を介して管路及びチューブ内
に残留していた空気が完全除去される前に作業者がバッ
ファタンクのドレイン弁を止めると、フォトレジストの
供給時に除去されていない空気がフォトレジスト内に入
り込み、バブルが発生する。なお、ポンプ１０の動作に
よる圧力でフォトレジストを移送するので、微細なバブ
ルの発生は不可避なことである。そして、各構成部品が
管路１５によって連結されるため、これらの連結部をシ
ーリングするＯリングが完璧に機密を保持できない場合
には外部の空気がこれらの隙間を通って流入するので、
バブルが発生する。
解斜視図であり、図４は図３の結合状態を示す縦断面図
である。フィルタハウジング１１の内部には供給される
フォトレジストに含まれた異物を漉すベローズ形のフィ
ルタ１６が内蔵されており、フィルタハウジングの上側
にはハウジングの開口部を密封する蓋１７が取り付けら
れている。蓋１７にはフォトレジストが流入する流入孔
１８と、フィルタリングされたフォトレジストをノズル
１２側に排出させる排出孔１９、そしてフォトレジスト
内に含まれたバブルを外部に排出させるドレイン孔２０
が形成されている。そして、蓋１７の底面にはフィルタ
ハウジング１１との機密を保持するためのＯリング２１
が設けられている。
布するためのウェーハを吸着させた状態で、バッファタ
ンク９とフィルタハウジング１１との間に設けられたポ
ンプ１０を駆動すると、バッファタンク９内に貯蔵され
ていたフォトレジストがフィルタハウジング部１１を通
過しながら異物を除去した後、ノズル１２を通して回転
するウェーハの中心部分に噴射されるので、ウェーハの
表面にフォトレジストがコーティングされる。ウェーハ
の表面にフォトレジストがコーティングされるとき、流
入孔１８を通してフィルタハウジング１１内に流入する
フォトレジストに含まれたバブルは、ドレイン孔２０通
して排出され、別のドレイン筒２２内に溜まることにな
っている。
ング１１の構造は蓋１７の底面が水平面になっている。
動作時にフィルタハウジング１１の上流側の構成部品で
発生したバブルはフィルタハウジングの内部に流入す
る。そのとき、流入孔１８、排出孔１９、そしてドレイ
ン孔２０が同一平面上にあるので、フィルタハウジング
に流入したバブルはドレイン孔２０を通してドレイン筒
２２に迅速に排出できなくなる。すなわち、バブルがフ
ィルタハウジング１１内にとどまる。その場合、フォト
レジストは、空気によってゲル状に固まった状態で排出
孔１９を通してノズルに噴射されるので、フォトレジス
トがウェーハに不均一に塗布されるという問題点が発生
する。また、バブルが排出孔１９を通してフォトレジス
トとともに抜け出す場合には、噴射するフォトレジスト
にパーチクル(particle)が発生するので、この場合にも
フォトレジストがウェーハに不均一に塗布される。
めのもので、その目的はフィルタハウジングの上部を閉
鎖する蓋の構造を改善して、フォトレジスト内にバブル
が含まれた状態でフィルタハウジングの内部に流入して
も、流入したバブルを迅速にドレイン孔に排出させるこ
とにある。
に、本発明のコーティング装備のフィルタハウジング
は、その開口部に取り付けられる蓋に工夫を施してあ
る。すなわち、ふたの底面を一定の角度で傾くように
し、流入孔と排出孔とは同一高さとなる位置に形成させ
る一方、ドレイン孔はこれらの流入孔と排出孔とより上
側の位置に形成させたことを特徴とする。
乃至図７を参照して詳細に説明する。前記図５は本発明
の要部を一実施形態で示した分解斜視図であり、図６は
図５の結合状態を示す縦断面図である。本発明は流入孔
１８、排出孔１９、そしてドレイン孔２０が形成される
蓋１７の底面に一定角度αだけ傾いた傾斜面２３を形成
する。傾斜面２３の水平線上に位置した地点に流入孔１
８と排出孔１９を形成する。その位置はなるべく傾斜面
２３の下側に形成する。そして、流入孔１８と排出孔１
９の上側に位置する傾斜面２３上にはドレイン孔２０を
形成する。蓋１７の底面に形成される傾斜面２３の角度
αは５〜２０°範囲内に設定するのが好ましい。これは
傾斜面２３の角度が５°以内の場合、フィルタハウジン
グ１１内に存在するバブルの除去効率が低下し、２０°
以上の場合にはバブルの除去効率は向上するが、ドレイ
ン孔２０が形成される部分の厚さが極めて薄くなるの
で、安全度が低下するからである。なお、本明細書での
上記した上下とはいうまでもなく動作可能に取り付けら
れた状態での上下である。
に、ドレイン孔２０の下端面に拡管部２４を形成するの
がバブルの迅速な排出に一層有利である。これはフィル
タハウジング１１内のバブルがドレイン孔２０を通して
ドレイン筒２２に排出されるとき、ドレイン孔２０の下
端面に形成された拡管部２４による圧力差によってより
迅速に排出されるようにするためである。
について説明する。まず、コーティングユニット４でウ
ェーハ７の表面にフォトレジストをコーティングするた
め、スピンチャック１４にウェーハ７を吸着させる。こ
のような状態でバッファタンク９とフィルタハウジング
１１との間に設けられたポンプ１０を駆動すると、バッ
ファタンク９内に貯蔵されていたフォトレジストがフィ
ルタハウジング１１を通して異物が除去された後、ノズ
ル１２を通して回転するウェーハの中心部分に噴射され
るので、ウェーハの表面にフォトレジストが塗布され
る。
ハウジング１１の内部に流入するフォトレジストにバブ
ルが含まれていれば、バブルは蓋１７の形状に応じて形
成された空間部２５内の圧力差によって矢印方向のよう
に蓋１７の上向き傾斜面２３に沿ってドレイン孔２０側
に迅速に流動し、ドレイン孔を通して外部に排出され、
別のドレイン筒２２内に溜まる。つまり、フィルタハウ
ジング１１内に残留するバブルは圧力の大きいところか
ら小さいところに移動する原理によって断面積の広い空
間部２５側に位置するドレイン孔２０を通して迅速に排
出される。このようにフィルタハウジング１１内のバブ
ルが同一水平線上に位置した流入孔１８と排出孔１９よ
り上側に位置するドレイン孔２０を通してドレイン筒２
２に排出されるとき、他の実施形態を示した図７のよう
に、ドレイン孔の下端面に拡管部２４が形成されている
場合にはバブルが拡管部２４を介してドレイン孔２０へ
より迅速に排出されるので、排出孔１９を通してノズル
１２側へ供給されるフォトレジストに混入しなくなる。
ィング装備のフィルタハウジング内のバブル除去装置は
次の長所がある。第１に、フィルタハウジング１１内に
残留するバブルがドレイン孔２０を通して迅速に排出さ
れるので、フォトレジストがバブルと接触する時間を最
小化し、これによりフォトレジストが空気と接触してゲ
ル状に変わるのを予防する。第２に、フォトレジストが
排出孔１９を通してノズル１２側へ供給されるとき、バ
ブルが混入しなくなるので、ノズルを通して噴射される
フォトレジストにパーチクルが発生しなくなり、このた
めフォトレジストの均一なコーティング作業が可能にな
る。第３に、フィルタハウジング１１内のバブルを迅速
に排出させることにより、装備の稼働率を向上させて生
産性を向上させる。
図である。
概略図である。
である。
である。
る。
Claims (2)
- 【請求項１】 容器内のレジストをノズルへ導く管路中
に設けられて、レジストに混入した異物を除去するフィ
ルタを備えるとともに、開口部を覆って密封する蓋にレ
ジストをハウジング内に導く流入孔と、異物を除去した
レジストを排出する排出孔と、レジストに混入したバブ
ルを排気するドレイン孔とを形成したフィルタハウジン
グにおいて、前記蓋の底面を一定角度だけ傾いた傾斜面
とし、前記流入孔と排出孔とは傾斜面の同一高さの位置
に配置し、かつ前記ドレイン孔は流入孔と排出孔より上
側の位置に配置し、前記傾斜面の角度（α）を５〜２０
°範囲内に設定したことを特徴とするコーティング装備
のフィルタハウジング。 - 【請求項２】 ドレイン孔の下端面に、上側に行くほど
段々狭くなる拡管部を形成したことを特徴とする請求項
１記載のコーティング装備のフィルタハウジング内のバ
ブル除去装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960004295A KR0179284B1 (ko) | 1996-02-23 | 1996-02-23 | 코우팅장비의 필터하우징내 버블제거장치 |
| KR4295/1996 | 1996-02-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09225220A JPH09225220A (ja) | 1997-09-02 |
| JP2855517B2 true JP2855517B2 (ja) | 1999-02-10 |
Family
ID=19451627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8284570A Expired - Fee Related JP2855517B2 (ja) | 1996-02-23 | 1996-10-08 | コーティング装備のフィルタハウジング |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5711876A (ja) |
| JP (1) | JP2855517B2 (ja) |
| KR (1) | KR0179284B1 (ja) |
| DE (1) | DE19628040C2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6159366A (en) * | 1997-08-21 | 2000-12-12 | Carroll; Randall Scott | No spill, self-bleeding filter |
| US6336960B1 (en) * | 1999-09-28 | 2002-01-08 | Advanced Micro Devices, Inc. | System and method for purging air bubbles from filters |
| US6460404B1 (en) * | 2000-10-12 | 2002-10-08 | Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. | Apparatus and method for detecting bad edge bead removal in a spin-on-glass coater tool |
| KR100669867B1 (ko) * | 2001-05-30 | 2007-01-17 | 삼성전자주식회사 | 포토레지스트 조성물의 필터링 장치 |
| KR101398437B1 (ko) * | 2012-09-14 | 2014-05-27 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 도금 장치 |
| CN114870628A (zh) * | 2021-02-05 | 2022-08-09 | 中国科学院微电子研究所 | 过滤装置及具有其的光刻胶涂布系统 |
| US20220396402A1 (en) * | 2021-06-12 | 2022-12-15 | Pakorn PANAJCHARIYA | Mason Jar Lid |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2700030C2 (de) * | 1977-01-03 | 1982-02-25 | Heinz Dipl.-Ing. 7300 Esslingen Schuster | Verfahren und Vorrichtung zur biologischen Filtrierung von Wasser |
| US4690621A (en) * | 1986-04-15 | 1987-09-01 | Advanced Control Engineering | Filter pump head assembly |
| US4861466A (en) * | 1988-04-14 | 1989-08-29 | Nalge Company | Pressure filter assembly with bleed valve |
| US4915597A (en) * | 1988-12-19 | 1990-04-10 | Micron Technology, Inc. | Filter pump head assembly improvements |
| US5167837A (en) * | 1989-03-28 | 1992-12-01 | Fas-Technologies, Inc. | Filtering and dispensing system with independently activated pumps in series |
| US5262068A (en) * | 1991-05-17 | 1993-11-16 | Millipore Corporation | Integrated system for filtering and dispensing fluid having fill, dispense and bubble purge strokes |
| JP2570168B2 (ja) * | 1994-04-07 | 1997-01-08 | 日本電気株式会社 | ろ過装置 |
-
1996
- 1996-02-23 KR KR1019960004295A patent/KR0179284B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-06-06 US US08/659,523 patent/US5711876A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-11 DE DE19628040A patent/DE19628040C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-08 JP JP8284570A patent/JP2855517B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19628040C2 (de) | 1998-02-12 |
| DE19628040A1 (de) | 1997-08-28 |
| JPH09225220A (ja) | 1997-09-02 |
| KR0179284B1 (ko) | 1999-03-20 |
| KR970061327A (ko) | 1997-09-12 |
| US5711876A (en) | 1998-01-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S631 | Written request for registration of reclamation of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313631 |
|
| S633 | Written request for registration of reclamation of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313633 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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